CN110520389A - 包括具有含银ir反射系统和锌基阻挡层的低e涂层的涂覆制品 - Google Patents

包括具有含银ir反射系统和锌基阻挡层的低e涂层的涂覆制品 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种涂覆制品，该涂覆制品包括玻璃基底上的银(Ag)基红外(IR)反射层，该银基红外反射层被提供为相邻于并且接触至少一个金属或基本上金属的含锌(Zn)阻挡层，从而改善低E涂层的化学耐久性特性。在某些示例性实施方案中，银基层可夹置在第一金属或基本上金属的锌阻挡层或含锌阻挡层与第二金属或基本上金属的锌阻挡层或含锌阻挡层之间。IR反射层和锌基阻挡层为低发射率(低E)涂层的一部分。

Description

包括具有含银IR反射系统和锌基阻挡层的低E涂层的涂覆 制品
本专利申请涉及包括银(Ag)基红外(IR)反射层的涂覆制品，该银基红外反射层被提供为相邻于并且接触至少一个金属或基本上金属的锌(Zn)基阻挡层，从而改善低E涂层的化学耐久性特性。在某些示例性实施方案中，银基层可夹置在第一金属或基本上金属的锌(Zn)阻挡层或含锌阻挡层与第二金属或基本上金属的锌阻挡层或含锌阻挡层之间。IR反射层和锌基阻挡层为低发射率(低E)涂层的一部分，并且可夹置在至少透明电介质层之间。此类低E涂层可用于诸如单片窗、绝缘玻璃(IG)窗单元等应用。
背景技术和发明内容
涂覆制品在本领域中已知用于窗应用，诸如绝缘玻璃(IG)窗单元、车窗、单片窗和/或类似应用。在某些示例性情况中，涂覆制品的设计者通常力图实现高可见光透射率、基本上中性的颜色、低发射率(或发射性)、低薄层电阻(Rs)、IG窗单元环境中的低U值、和/或低比电阻率的组合。高可见光透射率和基本上中性的颜色可允许涂覆制品用于其中需要这些特性的应用中，诸如在建筑或车窗应用中，而低发射率(低-E)、低薄层电阻和低比电阻率特性允许此类涂覆制品可阻挡大量的IR辐射，从而减少例如车辆或建筑物内部的不期望的加热。
具有至少一个银基IR反射层的低E涂层在本领域中是已知的。例如，参见美国专利5,344,718、6,576,349、8,945,714、9,371,684、9,028,956、9,556,070、8,945,714、9,028,983，其均据此以引用方式并入本文。处于玻璃上的低E涂层被广泛用于商业建筑和住宅建筑中以进行节能。双Ag低E涂层因其优异的低发射率性能和优异的太阳辐射得热控制而为一种优势低E产品。
然而，常规的具有银IR反射层的低E涂层具有与化学耐久性和/或环境耐久性相关的问题，这对其应用有所限制。一个原因在于尤其是对于双银型低E涂层，银IR反射层并不是非常稳定。一旦Ag腐蚀或受损，银的光学、电学和热(发射率)特性就下降。例如，具有玻璃/Si3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4堆叠的太阳能控制低E涂层提供了有效的太阳能控制，但不能适度地经受诸如HCl酸环境条件之类的化学环境。虽然市场上存在着一些耐用的低E涂层，但尤其是就约1.0或更小的不期望的低光-太阳能增益比(LSG)值而言，它们的性能较差。LSG值越高，节能程度越高。LSG计算为Tvis/SHGC，其中SHGC根据NRFC 2001。
本发明的示例性实施方案通过提供如下低E涂层来解决这些问题：银耐久性(例如化学耐久性)得到改善，同时维持高LSG值。本发明的示例性实施方案涉及包括银(Ag)基红外(IR)反射层的涂覆制品，该银基红外反射层被提供为相邻于并且接触至少一个金属或基本上金属的锌(Zn)基阻挡层，从而改善低E涂层的化学耐久性特性。在某些示例性实施方案中，银基层可夹置在第一金属或基本上金属的锌(Zn)阻挡层或含锌阻挡层与第二金属或基本上金属的锌阻挡层或含锌阻挡层之间。IR反射层和锌基阻挡层为低发射率(低E)涂层的一部分，并且可夹置在至少透明电介质层之间。已经令人惊奇地发现提供直接介于第一金属或基本上金属的锌阻挡层或含锌阻挡层与第二金属或基本上金属的锌阻挡层或含锌阻挡层之间并且与它们相邻的银基IR反射层，提供了银基IR反射层和总体涂层的改善的耐腐蚀性和化学耐久性，同时维持良好的光学和发射率特性，诸如至少1.10(更优选地至少1.20，并且有时至少1.30)的高LSG值。
在本发明的一个示例性实施方案中，提供了制备涂覆制品的方法，该涂覆制品包括由玻璃基底支撑的涂层，所述方法包括：使第一电介质层沉积在玻璃基底上；使包含银的红外(IR)反射层沉积在玻璃基底上定位在至少第一电介质层上方；使金属或基本上金属的含锌阻挡层沉积在玻璃基底上包含银的IR反射层上方并且直接接触包含银的IR反射层；使第二电介质层沉积在玻璃基底上定位在至少IR反射层和含锌阻挡层上方；并且其中涂层具有不大于的薄层电阻(Rs)和不大于0.2的法向发射率(En)。
在本发明的一个示例性实施方案中，提供了涂覆制品，其包括由玻璃基底支撑的涂层，该涂层包括：处于玻璃基底上的第一电介质层；金属或基本上金属的第一含锌阻挡层，其处于玻璃基底上的至少第一电介质层上方；包含银的红外(IR)反射层，其在玻璃基底上定位在第一含锌阻挡层上方并且直接接触第一含锌阻挡层；金属或基本上金属的第二含锌阻挡层，其处于玻璃基底上包含银的IR反射层上方并且直接接触包含银的IR反射层，使得包含银的IR反射层定位在第一含锌阻挡层与第二含锌阻挡层之间并且直接接触第一含锌阻挡层和第二含锌阻挡层；第二电介质层，其在玻璃基底上定位在至少第一阻挡层和第二阻挡层以及IR反射层上方；并且其中涂层具有不大于(更优选地不大于并且最优选地不大于)的薄层电阻(Rs)以及不大于0.2(更优选地不大于0.15，并且最优选地不大于0.11)的法向发射率(En)。
附图说明
图1为根据本发明的示例性实施方案的涂覆制品的截面图。
图2是根据本发明的另一示例性实施方案的涂覆制品的截面图。
具体实施方式
现在参考附图，其中相同的附图标号在若干视图中表示相同的部件。
本发明的示例性实施方案涉及包括支撑低E涂层的玻璃基底1的涂覆制品。低E涂层被设计成具有改善的银耐久性(例如化学耐久性)，同时维持高LSG值。本发明的示例性实施方案涉及包括至少一个银(Ag)基红外(IR)反射层9的涂覆制品，该银基红外反射层被提供为相邻于并且接触至少一个金属或基本上金属的锌(Zn)基阻挡层10a和/或10b，从而改善低E涂层的化学耐久性特性。在某些示例性实施方案中，银基IR反射层9可夹置在第一金属或基本上金属的锌(Zn)阻挡层或含锌阻挡层10a与第二金属或基本上金属的锌阻挡层或含锌阻挡层10b之间。IR反射层9和锌基阻挡层10a，10b为低发射率(低E)涂层的一部分，并且可夹置在至少透明电介质层诸如层2、13和/或15之间。已经令人惊奇地发现提供直接介于第一金属或基本上金属的锌阻挡层或含锌阻挡层10a与第二金属或基本上金属的锌阻挡层或含锌阻挡层10b之间并且与它们相邻的银基IR反射层9，提供了银基IR反射层9和总低E涂层的改善的耐腐蚀性和化学耐久性，同时维持良好的光学和发射率特性，诸如至少1.10(更优选地至少1.20，并且有时至少1.30)的高LSG值。对这些LSG值单片地测量。此类涂覆制品可用于诸如单片窗、绝缘玻璃(IG)窗单元等应用。
图1是根据本发明的示例性实施方案的涂覆制品的截面图。涂覆制品包括玻璃基底1(例如，具有约1.0mm至10.0mm厚、更优选地约1.0mm至6.0mm厚的透明、绿色、青铜色、或蓝绿色玻璃基底)，以及直接地或间接地设置在基底1上的多层低E涂层(或层系统)25。如图1所示，低E涂层25为或者包括氮化硅(例如Si3N4，或某些其他合适的化学计量)透明电介质层2或含有氮化硅的透明电介质层2、含有氧化锌的透明电介质层7(例如ZnOx，其中“x”可为约1；或ZnAlOx)、金属或基本上金属的银IR(红外)反射层9或含有银的IR反射层9、直接提供于银基IR反射层9两侧并且接触银基IR反射层9两侧的锌基阻挡层10a和10b、Ni和/或Cr的氧化物和/或氮化物(例如NiCrOx)阻挡层11或包含Ni和/或Cr的氧化物和/或氮化物的阻挡层11、以及含氧化锡透明电介质层13和含氮化硅透明电介质层15的外涂层或者包括含氧化锡透明电介质层13和含氮化硅透明电介质层15的外涂层。含氮化硅层2和/或15还可包含Al、氧等，并且氧化锡层13同样还可包含其他材料，诸如氮、锌等。在本发明的某些示例性实施方案中，也可在涂层中提供其他层和/或材料，并且在某些示例性实例中也可去除或分离某些层。例如，在本发明的某些示例性实施方案中，氧化锆外涂层(未示出)可提供在层15之上。又如，在本发明的某些示例性实施方案中，可省略层10a或层10b。此外，在本发明的某些示例性实施方案中，上面讨论的一个或多个层可掺杂有其他材料。
图2是根据本发明的另一示例性实施方案的涂覆制品的截面图。图2与图1相同，不同之处是在图2实施方案中，层7和11为NiCr和/或NiCrOx，并且图1的层13被省略。在图1和图2实施方案两者中，低E涂层25包括至少一个银基IR反射层9，该银基IR反射层9被提供为相邻于并且接触至少一个金属或基本上金属的锌基阻挡层10a和/或10b，从而改善低E涂层的化学耐久性。
常规的银基低E涂层诸如在HCl和CASS溶剂中具有如上所述的化学耐久性问题。腐蚀机制为电偶腐蚀：当具有不同电势的两种金属在导电腐蚀性液体中电接触时，发生双金属腐蚀。两种金属的共同作用提高了阳极的腐蚀速率，并且减少或甚至抑制了阴极的腐蚀。因此，阳极材料将腐蚀得更快，并且阴极的腐蚀受到抑制。在本发明的示例性实施方案中，银IR反射层9处于阴极位置，使得阴极银9将受到阳极材料10a，10b的保护。根据本发明的示例性实施方案，金属或基本上金属的锌10a，10b被提供为直接相邻银9，以保护低E堆叠中的银免受化学腐蚀。
需注意，“基本上”金属意指具有不超过10％氧含量，更优选地不超过5％氧含量(原子％)的金属。在本发明的示例性实施方案中，基本上金属的Zn基层10a和10b可含有0-10％氧和/或氮，更优选地0-5％氧和/或氮(原子％)。
在单片情况下，涂覆制品仅包括一个基底诸如玻璃基底1(参见图1-2)。然而，例如本文的单片涂覆制品可用于诸如IG窗单元(其包括多个玻璃基底)的装置中。示例性IG窗单元例如在美国专利号5,770,321、5,800,933、6,524,714、6,541,084和US 2003/0150711中示出和描述，其公开内容在此通过引用并入本文。示例性IG窗单元可包括例如图1-2中所示的涂覆玻璃基底1，该涂覆玻璃基底通过间隔物、密封剂等与另一玻璃基底耦接，其间限定有间隙。在IG单元实施方案中，基底之间的该间隙在某些情况下可填充有气体，诸如氩气(Ar)。示例性IG单元可包括一对间隔开的基本上透明的玻璃基底，其各自为约3mm至4mm厚，其中一个在某些示例性情况下涂覆有本文中的涂层，其中基底之间的间隙可为约5mm至30mm，更优选地约10mm至20mm，并且最优选地约12mm至16mm。在某些示例性情况下，涂层可设置在内部或外部玻璃基底1的面向间隙的一侧上。
参见图1-2，含氮化硅透明电介质层2被提供用于抗反射目的，并且已发现允许减小色移。氮化硅层2可为或包含Si3N4。另选地，氮化硅层2可为富Si型(不完全符合化学计量)。此外，氮化硅层2和/或15中的一者或两者还可包含掺杂物诸如铝或不锈钢和/或少量的氧。这些层可在某些示例性实施方案中经由溅射沉积，或经由任何其他合适的技术沉积。可能的是其他材料诸如氧化钛、锡酸锌、或氧化锡可用于透明电介质层2和/或15。
在图1实施方案中，透明电介质晶种层7为氧化锌(例如ZnO)或包含氧化锌。在某些示例性实施方案中，氧化锌层7也可包含其他材料，诸如Al(例如，以形成ZnAlOx)。例如，在本发明的某些示例性实施方案中，氧化锌层7可掺杂有约1％至10％Al(或B)，更优选地约1％至5％Al(或B)，并且最优选地约2％至4％Al(或B)。在层9中的银下方使用氧化锌7允许实现优异的银质量。在某些示例性实施方案中(例如下文待讨论)，含氧化锌层7经由溅射陶瓷ZnO或金属可旋转磁控溅射靶形成。已发现，在某些示例性实施方案中使用陶瓷靶(例如ZnO陶瓷靶，其可以或不可掺杂有Al、F等)允许提供高质量的银，从而导致较低发射率的涂层。虽然在某些示例性实施方案中，陶瓷靶中的Zn：O可为化学计量的，但至少一种亚化学计量的含ZnOx陶瓷靶(例如，其中0.25≤x≤0.99，更优选地0.50≤x≤0.97，并甚至更优选地0.70≤x≤0.96)可替代地用于溅射沉积含氧化锌层7(其在某些情况下可为亚化学计量的)。可能的是在本发明的可供选择的实施方案中，其他材料诸如锡酸锌、NiCr、NiCrNx、NiCrMoNx或NiCrOx可用于层7中。虽然在图1实施方案中，晶种层7为或包含氧化锌，但该层可为或包含其他材料诸如锡酸锌、NiCr、或NiCrOx，且图2示出层7为或包含NiCr和/或NiCrOx的示例性实施方案。
透明红外(IR)反射层9优选地具导电性并且为金属或基本上金属的，并且优选地包含或主要由银(Ag)组成。IR反射层9有助于允许涂层具有低E和/或良好的太阳能控制特性，诸如低发射性、低薄层电阻等。在某些示例性实施方案中，银(Ag)IR反射层9定位于金属或基本上金属的锌(Zn)基层10a与10b之间并且直接接触该金属或基本上金属的锌基层10a和10b，如图1-2所示。阻挡层10a和10b可在本发明的某些示例性实施方案中完全由锌沉积而成，或者可任选地为掺杂有1-20％Al，更优选地掺杂有1-10％Al的锌。因此，层10a和10b可在本发明的某些示例性实施方案中为Zn，或者可在本发明的其他示例性实施方案中为ZnAl、ZnAg、或ZnAlAg。锌基阻挡层10a和/或10b(如诸如经由溅射沉积所沉积)优选地为金属或基本上金属的，具有不超过10％氧含量，更优选地不超过5％氧含量(原子％)。如果氧化物层诸如NiCrOx 11溅射沉积在阻挡层10b之上，则可能的是在其上沉积层11的期间，阻挡层10b可能变得在某种程度上被氧化。然而，如果层11不为氧化物层，而是氮化物层，则其沉积应当不导致阻挡层10b的任何显著氧化。如本文所解释，已经令人惊奇地发现提供直接介于第一金属或基本上金属的锌阻挡层或含锌阻挡层10a与第二金属或基本上金属的锌阻挡层或含锌阻挡层10b之间并且与它们相邻的银基IR反射层9，提供了银基IR反射层9和总低E涂层的改善的耐腐蚀性和化学耐久性，同时维持良好的光学和发射率特性，诸如高LSG值。在本发明的某些示例性实施方案中，阻挡层中的一者或两者可由ZnAg，诸如掺杂有1-15％Ag的锌形成。此外，在本发明的某些示例性实施方案中，可省略层10a。
还参见图1-2，第二阻挡层11可为或包含Ni和/或Cr的氧化物，或者可为金属的，并且为或包含Ni和/或Cr，且可例如为氮化物。在某些示例性实施方案中，阻挡层7和/或11可各自为或包含NiCr、NiCrNx、NiCrMo、NiCrMoOx、NiCrMoNx、NiTiNbOx、镍(Ni)氧化物、铬(Cr)氧化物、TiOx、或镍合金氧化物诸如镍铬氧化物(NiCrOx)、或其他合适的材料。在本发明的某些示例性实施方案中，层7和11可包含约0-20％的氮，更优选地约1-10％的氮。在本发明的不同实施方案中，层11(例如为或包含Ni和/或Cr的氧化物)可以或不可为氧化分级的。氧化分级意指层中的氧化程度通过层的厚度而变化，使得例如接触层可分级，以致在紧邻Zn基层的接触界面处的氧化比进一步或更/最远离IR反射层的接触层的一部分处更小。
在某些示例性实施方案中，外涂层为或者包括透明电介质层13和/或15。参见图1-2。在本发明的某些示例性实施方案中，电介质层13可为或包含金属氧化物，诸如氧化锡。含金属氧化物层13诸如氧化锡或锡酸锌被提供用于抗反射目的，并且还改善涂覆制品的发射率以及制造过程的稳定性和效率。在本发明的某些示例性实施方案中，含氧化锡层13可掺杂有其他材料诸如氮和/或锌。氧化锡基层13提供了良好的耐久性并且改善了透光率。本发明的某些示例性实施方案中，电介质层15可为或包含氮化硅(例如Si3N4或其他合适的化学计量)或任何其他合适的材料，诸如氧氮化硅。在本发明的某些示例性实施方案中，氮化硅层15还可包含其他材料，诸如作为掺杂物的铝，或少量的氧。在某些示例性情况下，任选地，其他层诸如氧化锆外涂层可提供在外涂层中层15之上。层15被提供用于耐久性目的，并且用于保护下面层。在某些示例性实施方案中，氮化硅基层15可具有约1.9至2.2，更优选地约1.95至2.05的折射率(n)。在某些示例性实施方案中，Zr可提供在层15(或者层2或层5)的氮化硅中。因此，在本发明的某些示例性实施方案中，层2和/或15中的一者或多者可为或包含SiZrNx和/或氧化锆。
还可提供所示涂层下方或上方的其他层。因此，当层系统或涂层“在基底1上”或“由基底1支撑”(直接或间接)时，其他层可设置在其间。因此，例如，图1的涂层可被认为是“在基底1上”或“由基底1支撑”，即使其他层被设置在层3与基底1之间。此外，在某些实施方案中可移除所示涂层的某些层，而在本发明的其他实施方案中，可以在各个层之间添加其他层，或者各个层可与在分离段之间添加的其他层分开而不脱离本发明某些实施方案的整体精神。
虽然在本发明的不同实施方案中可使用各种厚度，但是图1实施方案中的玻璃基底1上的各个层的示例厚度和材料从玻璃基底向外为如下(例如，在某些示例性情况下，氧化锌层和氮化硅层中的Al含量可为约1％至10％，更优选地约1％至3％)：
表1(示例材料/厚度；图1实施方案)
虽然在本发明的不同实施方案中可使用各种厚度，但是图2实施方案中的玻璃基底1上的各个层的示例厚度和材料从玻璃基底向外为如下(例如，在某些示例性情况下，氧化锌层和氮化硅层中的Al含量可为约1％至10％，更优选地约1％至3％)：
表2(示例材料/厚度；图2实施方案)
已经令人惊奇且意料不到地发现，提供各自为厚，更优选地厚的物理厚度的第一阻挡层10a和第二阻挡层10b，有利地在任选的热处理诸如热回火时导致改善的热稳定性。已发现，层10a，10b的厚度超过40埃导致热稳定性较小，这指示由热处理造成过大的色移和/或涂层损坏，并且厚度小于15埃可导致化学耐久性不足。因此，已经发现这些厚度范围是特别有利的。
还令人惊奇地发现，层7和11的存在对于耐久性特别重要。以下实施例1-3展示NiCr层7和11与Zn层组合的存在意料不到地以令人惊奇的方式改善低E涂层的化学耐久性。当NiCr层不存在时(参见以下实施例3)，在化学测试时发生层离。
在本发明的某些示例性实施方案中，本文中的涂覆制品(例如，参见图1-2)在任何可选的热处理(诸如热回火)之前和/或之后，当单片地测量时可具有表3中列出的以下低-E(低发射率)、太阳能特性和/或光学特性。
表3：低-E/太阳能特性(单片；图1-2实施方案)
虽然IR反射层9和Zn基阻挡层10a，10b的组合在本文所讨论的本发明的某些示例性实施方案中用于图1和2的涂层，但可以在其他低E涂层中使用IR反射层9和Zn基阻挡层10a，10b的一种或多种组合。例如非限制地，美国专利5,344,718、6,576,349、8,945,714、9,371,684、9,028,956、9,556,070、8,945,714和/或9,028,983(其均据此以引用方式并入本文)中的任一者的低E涂层中的银基IR反射层各自可用本发明的示例性实施方案中本文所讨论的IR反射层9和Zn基阻挡层10a，10b的组合来替代。换句话讲，例如，美国专利5,344,718、6,576,349、8,945,714、9,371,684、9,028,956、9,556,070、8,945,714和/或9,028,983中的任一者的银基IR反射层可用如本文所讨论的银基IR反射层9和Zn基阻挡层10a，10b来替代。
制备出并测试根据本发明的实施方案的三个示例性涂覆制品即实施例1-3和比较例(CE)，它们各自具有相同的低E涂层，不同的是在CE中Zn层10a和10b不存在。因此，在根据本发明的示例的三个实施例中，银IR反射层9定位在Zn层10a和10b之间并且接触Zn层10a和10b，而在CE中层10a和10b却不存在。比较例(CE)具有玻璃/Si3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4的低E涂层。同时，根据本发明的实施方案的第一实施例和第二实施例具有以下堆叠：玻璃/Si3N4/NiCr/Zn/Ag/Zn/NiCr/Si3N4。实施例1具有 并且实施例3具有 因此，在实施例3中省略了NiCr层7和11。根据本发明的实施方案的实施例1和2的数据在下文列出。需注意，在以下图表中，“法向”代表法向发射率/发射性(En)。
实施例1的数据：
实施例2的数据：
对实施例1-2和比较例(CE)实施化学测试，从而测试其相应的化学耐久性特性。使所有三个样品浸入65℃的HCl(80％)和CASS的溶剂中保持一小时。结果是令人惊奇的。
然而，在化学测试中，令人惊奇地发现，使银IR反射层掺杂Si和Al改善了化学耐久性。虽然在溶液中的这些浸渍之后，可在实施例1-2的极外边缘处观察到轻微蚀刻，但是溶剂浸渍在CE样品中导致了更多的缺陷。换句话讲，实施例1-2实际上无缺陷，而CE在溶剂浸渍后具有大量缺陷。因此，已令人惊奇地发现，银基IR反射层9提供在Zn层10a与10b之间并且直接接触Zn层10a和10b显著地改善了低E涂层的化学耐久性。
还已令人惊奇且意料不到地发现，提供各自为厚，更优选地厚的物理厚度的第一阻挡层10a和第二阻挡层10b，有利地在任选的热处理诸如热回火时导致改善的热稳定性。将实施例1-2在约650℃下热处理约12分钟，并且发现，层10a，10b的厚度超过40埃导致热稳定性较小，这指示由热处理造成过大的色移和/或涂层损坏，并且厚度小于15埃可导致化学耐久性不足。因此，已经发现这些厚度范围是有利的。
还令人惊奇地发现，层7和11的存在对于耐久性特别重要。如上所述，实施例1-2具有含约5％氮的轻微氮化的NiCr阻挡层7和11，而在实施例3中省略了NiCr层7和11。实施例3在经受上述HCl和CASS浸泡/浸渍测试时层离，而实施例1-2在经受这些相同的测试时显示出优异的耐久性。因此，NiCr或NiCrNx阻挡层7和11与Zn层组合的存在意料不到的以令人惊奇的方式改善了低E涂层的化学耐久性。
在本发明的一个示例性实施方案中，提供了涂覆制品，其包括由玻璃基底支撑的涂层，该涂层包括：处于玻璃基底上的第一电介质层；金属或基本上金属的第一含锌阻挡层，其处于玻璃基底上至少第一电介质层上方；包含银的红外(IR)反射层，其在玻璃基底上定位在第一含锌阻挡层上方并且直接接触第一含锌阻挡层；金属或基本上金属的第二含锌阻挡层，其处于玻璃基底上包含银的IR反射层上方并且直接接触包含银的IR反射层，使得包含银的IR反射层定位在第一含锌阻挡层与第二含锌阻挡层之间并且直接接触第一含锌阻挡层和第二含锌阻挡层；第二电介质层，其在玻璃基底上定位在至少第一阻挡层和第二阻挡层以及IR反射层上方；并且其中涂层具有不大于(更优选地不大于并且最优选地不大于)的薄层电阻(Rs)以及不大于0.2(更优选地不大于0.15，并且最优选地不大于0.11)的法向发射率(En)。
在紧邻前一段落的涂覆制品中，IR反射层可由或基本上由银组成。
在前述两个段落中任一段所述的涂覆制品中，IR反射层可为金属的或基本上金属的。
在前述三个段落中任一段所述的涂覆制品中，涂覆制品可具有至少40％，更优选地至少50％的可见光透射率。
在前述四个段落中任一段所述的涂覆制品中，涂覆制品可具有至少1.10，更优选地至少1.20，并且最优选地至少1.30的光-太阳能增益比(LSG)。
在前述五个段落中任一段所述的涂覆制品中，第一电介质层和/或第二电介质层可包含氮化硅。
在前述六个段落中任一段所述的涂覆制品中，第一含锌阻挡层和/或第二含锌阻挡层还可包含铝。
在前述七个段落中任一段所述的涂覆制品中，涂层还可包括第二包含银的红外(IR)反射层，所述第二包含银的红外(IR)反射层定位在第三金属或基本上金属的锌或锌铝阻挡层或包含锌或锌铝的阻挡层与第四金属或基本上金属的锌或锌铝阻挡层或包含锌或锌铝的阻挡层之间。
在前述八个段落中任一段所述的涂覆制品中，第一含锌阻挡层和/或第二含锌阻挡层可各自为厚，更优选地厚。
在前述九个段落中任一段所述的涂覆制品中，涂层还可包括包含氧化锌的电介质层或含有Ni和/或Cr的层，所述包含氧化锌的电介质层或含有Ni和/或Cr的层定位在第一含锌阻挡层下方并且直接接触第一含锌阻挡层。
在前述十个段落中任一段所述的涂覆制品中，涂层还可包括含有Ni和/或Cr的层，所述含有Ni和/或Cr的层定位在第二含锌阻挡层上方并且直接接触第二含锌阻挡层。
在前述十一个段落中任一段所述的涂覆制品中，第一阻挡层和/或第二阻挡层的金属含量可为至少90％的锌。
在前述十二个段落中任一段所述的涂覆制品中，涂层还可包括定位在第二电介质层上方的氧化锆外涂层或含有氧化锆的外涂层。
在前述十三个段落中任一段所述的涂覆制品中，涂层还可包括：第一包含Ni和/或Cr的层，所述第一包含Ni和/或Cr的层直接定位在第一含锌阻挡层下方并且接触第一含锌阻挡层；以及第二包含Ni和/或Cr的层，所述第二包含Ni和/或Cr的层直接定位在第二含锌阻挡层上方并且接触第二含锌阻挡层。
在前述十四个段落中任一段所述的涂覆制品中，阻挡层中的一者或两者还可包含银。
虽然已经结合目前被认为是最实用和优选的实施方案描述了本发明，但应当理解，本发明不限于所公开的实施方案，而是相反，旨在涵盖包括在所附权利要求的实质和范围内的各种修改和等同布置。

Claims (40)

1.一种涂覆制品，其包括由玻璃基底支撑的涂层，所述涂层包括：
处于所述玻璃基底上的第一电介质层；
金属或基本上金属的第一含锌阻挡层，其处于玻璃基底上且在至少所述第一电介质层上方；
包含银的红外(IR)反射层，其在所述玻璃基底上且被定位在所述第一含锌阻挡层上方并且直接接触所述第一含锌阻挡层；
金属或基本上金属的第二含锌阻挡层，其处于所述玻璃基底上并且在所述包含银的IR反射层上方并且直接接触所述包含银的IR反射层，使得所述包含银的IR反射层定位在所述第一含锌阻挡层与所述第二含锌阻挡层之间并且直接接触所述第一含锌阻挡层和所述第二含锌阻挡层；
第二电介质层，其在所述玻璃基底上并且定位在至少所述第一阻挡层和所述第二阻挡层以及所述IR反射层上方；并且
其中所述涂层具有不大于11欧姆/□的薄层电阻(Rs)和不大于0.2的法向发射率(En)。
2.根据权利要求1所述的涂覆制品，其中所述IR反射层主要由银组成。
3.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品，其中所述IR反射层为金属的或基本上金属的。
4.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品，其中所述涂覆制品具有至少40％的可见光透射率。
5.根据权利要求4所述的涂覆制品，其中所述涂覆制品具有至少50％的可见光透射率。
6.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品，其中所述涂覆制品具有至少1.10的光-太阳能增益比(LSG)。
7.根据权利要求6所述的涂覆制品，其中所述涂覆制品具有至少1.20的光-太阳能增益比(LSG)。
8.根据权利要求7所述的涂覆制品，其中所述涂覆制品具有至少1.30的光-太阳能增益比(LSG)。
9.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品，其中所述第一电介质层包含氮化硅。
10.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品，其中所述第一含锌阻挡层还包含铝。
11.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品，其中所述第二含锌阻挡层还包含铝。
12.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品，其中所述第二电介质层包含氮化硅。
13.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品，其中所述涂层具有不大于9欧姆/□的薄层电阻(RS)和/或不大于0.11的法向发射率(En)。
14.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品，其中所述涂层还包括第二包含银的红外(IR)反射层，所述第二包含银的红外(IR)反射层定位在第三金属或基本上金属的含锌阻挡层与第四金属或基本上金属的含锌阻挡层之间。
15.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品，其中所述涂层还包括包含氧化锌的电介质层，所述包含氧化锌的电介质层定位在所述第一含锌阻挡层下方并且直接接触所述第一含锌阻挡层。
16.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品，其中所述涂层还包括包含Ni和/或Cr的层，所述包含Ni和/或Cr的层定位在所述第一含锌阻挡层下方并且直接接触所述第一含锌阻挡层。
17.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品，其中所述涂层还包括另一个包含Ni和/或Cr的阻挡层，所述另一个包含Ni和/或Cr的阻挡层定位在所述第二含锌阻挡层上方并且直接接触所述第二含锌阻挡层。
18.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品，其中所述第一阻挡层和所述第二阻挡层的金属含量为至少90％的锌。
19.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品，其中所述第一含锌阻挡层和所述第二含锌阻挡层的厚度各自为
20.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品，其中所述第一含锌阻挡层和所述第二含锌阻挡层的厚度各自为
21.根据任一前述权利要求所述的涂覆制品，其中所述涂层还包括：第一包含Ni和/或Cr的层，所述第一包含Ni和/或Cr的层直接定位在所述第一含锌阻挡层下方并且接触所述第一含锌阻挡层；以及第二包含Ni和/或Cr的层，所述第二包含Ni和/或Cr的层直接定位在所述第二含锌阻挡层上方并且接触所述第二含锌阻挡层。
22.一种涂覆制品，其包括由玻璃基底支撑的涂层，所述涂层包括：
处于所述玻璃基底上的第一电介质层；
包含银的红外(IR)反射层，其在所述玻璃基底上并且定位在至少所述第一电介质层上方；
金属或基本上金属的含锌阻挡层，其处于所述玻璃基底上并且在所述包含银的IR反射层上方并且直接接触所述包含银的IR反射层；
另一个包含Ni和/或Cr的阻挡层，其在所述玻璃基底上并且定位在所述含锌阻挡层上方并且直接接触所述含锌阻挡层；
第二电介质层，其在所述玻璃基底上并且定位在至少所述IR反射层、所述含锌阻挡层、以及所述包含Ni和/或Cr的阻挡层上方；并且
其中所述涂层具有不大于11欧姆/□的薄层电阻(Rs)和不大于0.2的法向发射率(En)。
23.根据权利要求22所述的涂覆制品，其中所述阻挡层的金属含量为至少90％的锌。
24.根据权利要求22-23中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂覆制品具有至少40％的可见光透射率和/或至少1.10的光-太阳能增益比(LSG)。
25.根据权利要求22-24中任一项所述的涂覆制品，其中所述含锌阻挡层还包含铝。
26.根据权利要求22-25中任一项所述的涂覆制品，其中所述含锌阻挡层的厚度为
27.根据权利要求22-26中任一项所述的涂覆制品，其中所述含锌阻挡层的厚度为
28.根据权利要求22-27中任一项所述的涂覆制品，其中所述包含Ni和/或Cr的阻挡层是氮化的。
29.根据权利要求22-28中任一项所述的涂覆制品，其还包括含锌层，所述含锌层处在所述玻璃基底上，并且在至少所述第一电介质层上方并且定位在所述IR反射层下方并且直接接触所述IR反射层。
30.一种制造包括由玻璃基底支撑的涂层的涂覆制品的方法，所述方法包括：
使第一电介质层沉积在所述玻璃基底上；
使金属或基本上金属的第一含锌阻挡层沉积在所述玻璃基底上并且在至少所述第一电介质层上方；
使包含银的红外(IR)反射层沉积在所述玻璃基底上并且定位在所述第一含锌阻挡层上方并且直接接触所述第一含锌阻挡层；
使金属或基本上金属的第二含锌阻挡层沉积在所述玻璃基底上并且在所述包含银的IR反射层上方并且直接接触所述包含银的IR反射层，使得所述包含银的IR反射层定位在所述第一含锌阻挡层与所述第二含锌阻挡层之间并且直接接触所述第一含锌阻挡层和所述第二含锌阻挡层；
使第二电介质层沉积在所述玻璃基底上并且定位在至少所述第一阻挡层和所述第二阻挡层以及所述IR反射层上方；并且
其中所述涂层具有不大于11欧姆/□的薄层电阻(Rs)和不大于0.2的法向发射率(En)。
31.根据权利要求30所述的方法，其中所述层各自经由溅射沉积。
32.根据权利要求30-31中任一项所述的方法，其中所述第一含锌阻挡层和所述第二含锌阻挡层中的至少一者的厚度为
33.根据权利要求30-32中任一项所述的方法，其中所述第一含锌阻挡层和所述第二含锌阻挡层的厚度各自为
34.一种制造包括由玻璃基底支撑的涂层的涂覆制品的方法，所述方法包括：
使第一电介质层沉积在所述玻璃基底上；
使包含银的红外(IR)反射层沉积在所述玻璃基底上并且定位在至少所述第一电介质层上方；
使金属或基本上金属的含锌阻挡层沉积在所述玻璃基底上并且在所述包含银的IR反射层上方并且直接接触所述包含银的IR反射层；
使第二电介质层沉积在所述玻璃基底上并且定位在至少所述IR反射层和所述含锌阻挡层上方；并且
其中所述涂层具有不大于11欧姆/□的薄层电阻(Rs)和不大于0.2的法向发射率(En)。
35.根据权利要求34所述的方法，其中所述阻挡层的金属含量为至少90％的锌。
36.根据权利要求34-35中任一项所述的方法，其中所述涂覆制品具有至少40％的可见光透射率和/或至少1.10的光-太阳能增益比(LSG)。
37.根据权利要求34-36中任一项所述的涂覆制品，其中所述含锌阻挡层还包含铝。
38.根据权利要求34-37中任一项所述的方法，其还包括使另一个包含Ni和/或Cr的阻挡层沉积在所述含锌阻挡层上方并且直接接触所述含锌阻挡层。
39.根据权利要求38所述的方法，其中所述另一个阻挡层包含NiCr的氮化物。
40.根据权利要求34-39中任一项所述的方法，其中所述含锌阻挡层还包含银。
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