JP2019217499A - プロセス流れから汚染物を除去する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
にする点でいくらか有効であり得るが、そのような通常の保持用材料床はそれら自身が結局は詰まりを起こしてしまう。
よって資本および運転費用の両方の節約がもたらされ、休止時間が短くなり、プロセス装置の性能が向上しかつプロセス装置の運転時間が長くなる可能性がある。
流れから汚染物を除去する方法を提供する。本方法を、好適には、当該プロセス流れをプロセス装置の中に入れておいた多数の網状要素に通すことで実施する。前記網状要素の表面で起こる汚染物濾過が向上すると同時に浄化されたプロセス流れが前記多数の網状要素の中を妨げられないで通ることができるようにする目的で、前記網状要素を前記プロセス装置の中に各網状要素の間に有意な隙間が存在するように無作為に詰め込む。表面には内部表面および外側表面が含まれ得る。本発明に従って作成する網状要素は、濾過で利用可能な内部表面積の方が外側表面積よりも大きい。網状要素には発泡材料およびモノリス材料が含まれ得る。発泡材料は一般に不規則なパターンを有する一方で、モノリスが有するパターンはより均一である。そのような網状要素は商業的に入手可能な如何なる材料で作られていてもよく、例えばジルコニアで強化されたアルミナ(これは一般にZTAと呼ばれる)などで作られていてもよい。ZTAは本社がCudahy(ウィスコンシン)に在るFiber Ceramics,Inc.からセラミック発泡体として入手可能である。別の適切な種類のセラミックは、本社がCorning(ニューヨーク)に在るCorning,Inc.が製造しているモノリスである。前記プロセス流れは液体流れ、気相または両方の相の組み合わせであってもよく、汚染物には埃、酸化鉄、硫化鉄、アスファルテン、コークス微細物、煤、触媒微細物、沈澱物、または連行された他の外来粒状物、蒸留塔の中の塩、気体流れの中の粒子、または排ガス装置に由来する硫黄または硫化物が含まれ得る。そのようなプロセス流れはまた有機物が基になったプロセス流れであってもよい。前記網状要素をこれが当該プロセス流れから汚染物のいくらかまたは全部を除去するに充分な量で供給すべきである。本発明の別の特徴は、浄化されたプロセス流れにさらなる処理を受けさせる段階を包含する。
が前記網状要素の中の流路の中を通りかつ使用する網状要素が多数の時には前記網状要素の間に存在する隙間を通ることで、前記プロセス装置の中を通る前記プロセス流れの流れに対して垂直な有効な流れ分配がもたらされる。本方法は当該プロセス装置の中に入って来るプロセス流れが入り込む地点が当該プロセス装置の中の任意地点であるか、プロセス装置の出口であるか或はそのような場所の任意組み合わせであるいずれにも適用可能である。本方法はプロセス流れに適用可能であると同時に前記プロセス流れから汚染物を濾過で除去することを可能にする。本方法はプロセス流れに適用可能であると同時に前記プロセス流れの中に存在する所望化学種をある程度または完全に除去または転化させる触媒反応を実施することを可能にする。
或は他の材料、例えば構造化充填材料などと一緒に当該プロセス装置の全体に渡って混ぜ合わせてもよい。
留塔の中の塩、気体流れの中の粒子、排ガス装置に由来する硫黄または硫化物、または重合体前駆体、例えばジオレフィンなどが含まれる。網状要素15の層26、好適には層26、28を当該槽の中にそれがプロセス流れ20から汚染物を所望時間(これには、これらに限定するものでないが、当該反応槽内の触媒が前記反応槽の運転を保証するに充分な活性を示す間が含まれる)に渡って濾過で除去するに充分な量で装備する。好適には、入って来るプロセス流れが網状要素15の床を通って流れる時に網状要素15、例えば球122などの大きさが層26の中の1つの大きさから層28の中の別の大きさへと段階的であるように複数の層26、28を装備してもよい。網状要素には発泡材料およびモノリス材料が含まれ得る。発泡材料は一般に不規則なパターンを有する一方でモノリスが有するパターンの方がより均一である。セラミック製網状要素を用いる場合、そのようなセラミック製網状要素は商業的に入手可能な如何なる材料で作られていてもよく、例えばジルコニアで強化されたアルミナ(これは一般にZTAと呼ばれる)などで作られていてもよい。ZTAは本社がCudahy(ウィスコンシン)に在るFiber Ceramics,Inc.から入手可能である。本発明で用いるに適した典型的なモノリスは、本社がCorning(ニューヨーク)に在るCorning,Inc.から入手可能である。そのように網状要素15の大きさを段階的にすることで濾過可能な汚染物の大きさの範囲の幅が広がる。
4種類の蒸留液水素添加処理装置を実質的に同じプロセス条件下で用いて行った製油所でデータを得た。そのような水素添加処理装置の中の2つ、即ちAおよびBには、「リンググレーディングシステム(ring grading systems)」として知られる通常の網状材料が入っていた。残りの2つの水素添加処理装置、即ちCおよびDでは、本発明の網状要素を用いた。図17に、通常のリンググレーディングシステムおよび本発明の網状要素を用いた4種類の水素添加処理装置が示した圧力降下の比較を示す。このグラフで分かるであろうように、本網状要素を入れておいたCおよびDの水素添加処理装置では450日を超える期間に渡って圧力降下は実験開始時の圧力降下に比較して低いままであったが、通常のリンググレーディングシステムが用いられているAおよびB水素添加処理装置はほんの200日の稼働時間後に劇的な圧力増加を示した。このような圧力降下の比較の結果を表1に見ることができる。蒸留液水素添加処理装置の中の汚染されてい
るプロセス流れは主に液相状態であった。前記C水素添加処理装置の場合の450日目の圧力差は8psiのみであった。前記D水素添加処理装置の場合の450日目の圧力差は0.5psiのみであった。前記AおよびB水素添加処理装置の場合の圧力差はそれぞれ82.5psiおよび54psiであった。比較として、本発明の網状要素を用いた前記CおよびD水素添加処理装置が示した性能の方が通常のリンググレーディングシステムを用いた場合よりも有意に良好であった。本発明の網状要素を用いると圧力差が低くなることで入れ替えと入れ替えの間の時間が劇的に長くなる。
4種類のナフサ水素添加処理装置を用いて行った精製でデータを得た。そのような水素添加処理装置の中の3つ(A、BおよびC)では通常のリンググレーディングシステムを用いる一方で、残りの水素添加処理装置(D)では本発明の網状要素を用いた。図18に、前記4種類の水素添加処理装置の間の比較圧力降下を示す。200日が終了した時点で、リンググレーディングシステムを入れておいた3種類の装置が起こした圧力降下、即ち水素添加処理装置Bの場合の10psiおよび水素添加処理装置Cの場合の22psiに比較して、本網状要素を入れておいた装置Dが起こした圧力降下は最小限である、即ち水素添加処理装置Dの場合は−4psiであった。ナフサ水素添加処理装置の中の汚染されているプロセス流れは主に気相状態であった。本発明の網状要素による濾過は効率的かつ効果的であったが、通常のリンググレーディングシステムは詰まりを起こした。
のより小さな流体流れに細分された後に複数回再細分されて流れがより小さくなることで、その入って来たプロセス流れは触媒床32の線34−34に沿って取った流体入り口断面34を横切るように均一に広がり、それによって、また、その入って来たプロセス流れの分散も起こり得る。そのプロセス流れ20は触媒床32の中で反応を起こす。この触媒床32に好適には個々別々の固形触媒粒子36を入れておく。
るが、好適には、そのような触媒を強化する担体としてアルミナを用いてもよい。本発明に従う触媒は、好適には、アルミナが基になった担体の中に染み込んでいるVI−B族の金属またはVIII族の一員または両方を含んで成る。従って、そのような触媒はクロム、モリブデンおよびタングステンの中の少なくとも1種を鉄、ニッケル、コバルト、白金、パラジウムおよびイリジウムの中の少なくとも1種と組み合わされた状態で含んで成っていてもよい。特に、エチレンからアセチレンおよびジオレフィンを除去しようとする時、酸素を除去しようとする時、そして水素を除去しようとする時には、パラジウムの使用が有効である。VI−B族の金属の中ではモリブデンが最も好適である。そのような触媒のVI−B族金属含有量を好適には約2から約14重量%にする。VIII族の金属の中ではニッケルおよびコバルトが最も好適である。そのような触媒中のVIII族金属の量を好適には約0.5から約10重量%にする。
後、ある程度反応を起こしたプロセス流れ58として集積装置板60の所で取り出される。次に、そのある程度反応を起こしたプロセス流れ62が混合室64の中に流れ込みそして網状材料の層70の中を通る時にそれは本濾過および分配方法を繰り返し受ける。
い流れる流れに細分される。その網状材料15は説明した穴125を持たない単一の円形盤124(図6)であってもよいが、しかしながら、それは楕円形または正方形のシート121(図9)または所望の如何なる幾何形態であってもよく、それには組み立て盤134(図10)が含まれる。場合により、複数の盤86、91(図3)を用いることも可能である。また、盤124(図6)またはシート121(図9)に場合により穴を含めてもよい。前記蒸気または空気の流れが細分されることでその入って来た蒸気または空気の流れの乱れが減少する可能性があり、従って、個々の燃焼装置型流動床反応槽(図3)のプロセス制約に応じて、圧縮装置の馬力の使用度を低くすることができるか或は流量を大きくすることが可能になる。本発明のさらなる利点は、そのように蒸気もしくは空気の流れを細分すると蒸気もしくは空気93が燃焼装置または再生装置88の全体に渡ってより均一に分配される可能性がある点にある。
こる小さい方の汚染物の除去が向上する一方で大きい方の汚染物は網状要素の層を通り抜けることでそれを詰まらせることがないように、前記隙間を多様にする。この方法では、更に、そのような沈澱物が入っているプロセス流れを前記網状要素と接触させて小さい方の汚染物を前記網状要素の表面で除去しかつ大きい方の汚染物を各網状要素の間の隙間に通して進行させることで沈澱物をプロセス流れから除去することも提供する。この方法によって、沈澱物を相対的に含有していなくてさらなる処理を受けさせるに適したプロセス流れがもたらされる。
a−fで作られた盤134(図10)、実質的に球形の球122(図11)、固形円柱132(図12)、ラシッヒリング(中空低円柱)130(図13)およびモノリス(図14)が含まれ得る。各形状物の大きさを個々の仕様に合わせることができる。使用する形状物の大きさには、直径が約1/8から2インチの実質的に球形の球、内径が約1/8から1インチで外径が約1/4から1.5インチで高さが約1/4から2インチのラシッヒリング、半径が約1/4から2インチのサドル形状、内径が約1/8から1 1/4インチで外径が約1/4から2インチで高さが約1/4から3インチの中空円柱および直径が約1/8から1インチで高さが約1/4から2インチの固形円柱が含まれ得る。特注のワンピース盤124または単一シート121構造物を反応槽の物理的形態に特別に適合させてもよい。本発明のこの面のさらなる特徴は、網状材料15を穴125を有する盤124または単一シート121のいずれかに成形してもよい点にある。本発明の追加的特徴は、前記網状要素を構築する時に反応槽の物理的形態に特別に適合する組み立てシートまたは盤を生じさせる目的で多数の断片に成形してもよい点にある。本網状要素の間隙率は4から800ppiの範囲であってもよい。この間隙率を好適には約4から80ppiの範囲にしてもよい。この間隙率をより好適には約10から60ppiの範囲にしてもよい。このようにして網状材料15の大きさおよび形状を用途制約、大きさ制約、粒子充填率制約および圧力降下制約に合わせることができる。この網状要素の孔または開口部を取り巻く網状要素材がウエブ材123(図9)を構成していて、それが流路120(図9)を限定している。
Claims (30)
- 汚染されているプロセス流れから汚染物を除去する方法であって、
(a)無作為に詰め込まれた多数の網状要素をプロセス装置の中に供給する段階であって、前記網状要素は前記プロセス装置の中に各網状要素の間に、有意な、かつ、多様な隙間が存在するようなサイズを有し、前記無作為に詰め込まれた網状要素の深さ全体が前記プロセス流れから汚染物を濾過することができる、段階と、
(b)前記実質的に浄化されたプロセス流れをもたらすために、有意な、かつ、多様な前記網状要素の間の隙間を前記プロセス流れが通過できる一方、前記網状要素の表面の汚染されているプロセス流れから汚染物を濾過するために、前記汚染されているプロセス流れを前記網状要素と接触させる段階と
を含む、方法。 - 前記網状要素は複数の盤状要素を含む、請求項1記載の方法。
- 前記盤状要素は直径が約1.5インチ(3.81センチメートル)である、請求項2記載の方法。
- 前記網状要素は複数のモノリスを含む、請求項1記載の方法。
- 前記モノリスは約1.5インチ(3.81センチメートル)の幅および長さを有する、請求項4記載の方法。
- 前記プロセス装置内の前記無作為に詰められた網状要素の深さは少なくとも6インチ(15.24センチメートル)である、請求項1記載の方法。
- 前記プロセス装置内の前記無作為に詰められた網状要素の深さは少なくとも1フィート(30.48センチメートル)である、請求項6記載の方法。
- 前記プロセス装置は触媒材料の床を含み、前記プロセス流れに入っている汚染物の濃度と前記プロセス装置に提供される網状要素の量とを基準にしたプロセス槽内の圧力降下が、予測可能な期間に渡って低いままであり、前記プロセス装置内の前記無作為に詰められた網状要素は、運転期間中、前記網状要素が飽和状態になる前に触媒材料の床が枯渇できる量提供される、請求項1記載の方法。
- 前記プロセス装置内の圧力降下は連続運転期間中に渡って有意な増大がない、請求項8記載の方法。
- 前記プロセス装置内の圧力降下は連続稼働200日に渡って約4%より大きな増大がない、請求項9記載の方法。
- 前記プロセス装置内の圧力降下は連続稼働450日に渡って約27%より大きな増大がない、請求項9記載の方法。
- 前記網状要素が汚染物粒子を濾過除去する能力を枯渇する前に、前記触媒床は触媒活性を枯渇してしまうように、前記網状要素のサイズが定められる、請求項8記載の方法。
- 前記無作為に詰められた網状要素は、サイズが約1ミクロンまで小さい汚染物を前記汚染されているプロセス流れから濾過することができる、請求項1記載の方法。
- 前記プロセス装置内の前記網状要素は、異なるサイズの汚染物を濾過するために多様な孔径を有する、請求項1記載の方法。
- 前記網状要素は、内部表面積および外側表面積を有し、前記内部表面積は前記外側表面積より大きい、請求項1記載の方法。
- 前記網状要素は、約2.5ミリメートルないし約100ミクロンの範囲の孔径を有する、請求項1記載の方法。
- 反応槽を含む反応槽組み立て品であって、
前記反応槽の内部に配置された複数の無作為に詰められた網状要素を前記反応槽が有し、
前記網状要素の内部に形成される複数のウエブ材を有し、
前記ウエブ材は、前記網状要素を貫く複数の流路と、前記プロセス装置内の前記無作為に詰められた網状要素の間に、有意な、かつ、多様な隙間が存在するようなサイズとを限定し、
前記汚染されているプロセス流れが、前記流路と、前記有意な、かつ、多様な隙間とを通過するとき、前記網状要素は、その表面に汚染されているプロセス流れを受け入れることができ、かつ、実質的に浄化されたプロセス流れをもたらすように、前記汚染されているプロセス流れからの汚染物の濾過を増強し、
前記無作為に詰められた網状要素の深さ全体が前記プロセス流れから汚染物を濾過することができる、
反応槽組み立て品。 - 前記網状要素は複数の盤状要素を含む、請求項17記載のプロセス装置組み立て品。
- 前記盤状要素は直径が約1.5インチ(3.81センチメートル)である、請求項18記載の方法。
- 前記網状要素は複数のモノリスを含む、請求項17記載の方法。
- 前記モノリスは約1.5インチ(3.81センチメートル)の幅および長さを有する、請求項20記載の方法。
- 前記無作為に詰められた網状要素の前記プロセス装置内の深さは少なくとも6インチ(15.24センチメートル)である、請求項17記載の方法。
- 前記無作為に詰められた網状要素の前記プロセス装置内の深さは少なくとも1フィート(30.48センチメートル)である、請求項22記載のプロセス装置組み立て体。
- 前記プロセス装置は触媒材料の床を含み、前記プロセス流れに入っている汚染物の濃度と前記プロセス装置に提供される網状要素の量とを基準として予測可能な期間に渡って、プロセス槽内の圧力降下が低いままであり、前記プロセス装置内の前記無作為に詰められた網状要素は、運転期間中に、前記網状要素が飽和状態になる前に触媒材料の床が枯渇できる量提供される、請求項17記載のプロセス装置組み立て体。
- 前記プロセス装置内での圧力降下は連続運転期間中に渡って有意な増大がない、請求項24記載のプロセス装置組み立て体。
- 前記プロセス装置内の圧力降下は連続稼働200日に渡って約4%より大きな増大がな
い、請求項25記載のプロセス装置組み立て体。 - 前記プロセス装置内の圧力降下は連続稼働450日に渡って約27%より大きな増大がない、請求項25記載のプロセス装置組み立て体。
- 前記網状要素が汚染物粒子を濾過除去する能力を枯渇する前に、前記触媒床は触媒活性を枯渇してしまうように、前記網状要素のサイズが定められる、請求項24記載のプロセス装置組み立て体。
- 前記無作為に詰められた網状要素は、約1ミクロンのサイズまでの汚染物を前記汚染されているプロセス流れから濾過することができる、請求項24記載のプロセス装置組み立て体。
- 前記プロセス装置内の前記網状要素は、異なるサイズの汚染物を濾過するために多様な孔径を有する、請求項24記載のプロセス装置組み立て体。
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