JP2019217080A - 不織布ワイパーおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】パルプ繊維ウエブと合成繊維ウエブとによる不織布にエンボス処理しても、強度低下やリント発生を抑制することができる不織布ワイパーを提供する。【解決手段】拭取り面となるパルプ繊維ウエブＰＦＷと、前記拭取り面の裏打ち面となる合成繊維ウエブＳＷとを積層して一体化してあると共に、エンボス処理による凹凸部パターンＰＡが形成してある不織布ワイパーＥＷＰであって、前記凹凸部パターンＰＡは、前記パルプ繊維ウエブ側に片面エンボス処理を施すことにより形成したものである、ことを特徴とする不織布ワイパーＥＷＰ。【選択図】図１

Description

本発明は、パルプ繊維ウエブと合成繊維ウエブとを積層して一体化してある不織布ワイパー及びその製造方法に関する。

不織布ワイパーは、布の様な風合があり、吸液性や拭取り性（掻取り性と称される場合もある）なども備えており、さらに大量生産が可能で安価である。そのため、従来から不織布によるワイパーが広く利用されている。
ここで不織布を構成する素材としては、合成繊維やパルプ等の天然繊維を採用したものが知られているが、吸液性を考慮するような場合にはパルプ繊維ウエブを含むものが好ましいことが知られている。
また、例えば特許文献１で開示されるように不織布にエンボス処理を施し、凹凸部を備えた不織布に加工すると拭取り性が向上することも知られている。よって、このような凹凸部を備えるパルプ繊維ウエブと合成繊維ウエブとによる複合型の不織布ワイパーは、強度に優れ更には拭取り性が向上した製品として提供することができる。

特開昭６０−１８３１３９号公報

上記特許文献１では、エンボス処理する際、一対のエンボスロール５、５‘を使用し、熱圧着することにより所定の凹凸部パターン（エンボスパターン）を不織布に形成している。ここで、不織布を一対のエンボスロール間に挟んで、エンボス処理する場合については、「マッチドスチール」と称されるエンボス処理と「チップツーチップ（Tip to Tip）」と称されるエンボス処理とが知られている。前者マッチドスチールは上下のエンボスロールを互いの凹凸部を歯車が噛合うように対応させて、その間に不織布を通過させることで凹凸部パターンを付与する手法である。また、後者チップツーチップは上下のエンボスロールの凸部同士を互いに当接させて、その間に不織布を通過させることで凹凸部パターンを付与する手法である。

しかしながら、上記のように上下にエンボスロールを配置してエンボス処理した場合、製造された不織布に、エンボス処理が原因と思われる劣化に基づいた強度低下やリント（発塵）の発生が確認される場合がある。特に、吸液性能などを考慮して表面にパルプ繊維ウエブを配置してある不織布ワイパーの場合には、強度低下や繊維の脱落によるリント発生がより大きな問題となる。

よって、本発明の目的は、パルプ繊維ウエブとその裏打ち面となる合成繊維ウエブとを積層して一体化してある不織布ワイパーで、エンボス処理により凹凸部パターンを形成しても、強度低下やリント発生を抑制することができる、不織布ワイパーを提供することにある。

上記目的は、拭取り面となるパルプ繊維ウエブと、前記拭取り面の裏打ち面となる合成繊維ウエブとを積層して一体化してあると共に、エンボス処理による凹凸部パターンが形成してある不織布ワイパーであって、前記凹凸部パターンは、前記パルプ繊維ウエブ側に片面エンボス処理を施すことにより形成したものである、ことを特徴とする不織布ワイパーにより達成できる。

そして、前記凹凸部パターンは、ドット要素を点在させることにより形成したドットパターンであり、前記ドット要素による押込み面積率が５〜１７％とするのが好ましい。
また、前記ドットパターンは、円形状、楕円形状、多角形状、星形状、扇形状およびクロス形状の群から少なくとも１つ選択された前記ドット要素に基づいて形成することができる。

また、前記凹凸部パターンは、中抜き環形状要素を点在させることにより形成した環形状パターンであり、前記中抜き環形状要素を確定している線の線幅が０．５ｍｍ〜２．０ｍｍであり、前記線による押込み面積率が１０〜３３％であるのが好ましい。
そして、前記環形状パターンは互いに離間して配置されているものとしてもよい。
また、前記環形状パターンは互いに接触して配置されているものとしてもよい。
なお、前記環形状パターンの外形形状は、円形状、楕円形状、多角形状、星形状、扇形状およびクロス形状の群から少なくとも１つ選択することができる。

また、前記凹凸部パターンは、ドット要素を点在させることにより形成したドットパターンと、中抜き環形状要素を点在させることにより形成した環形状パターンとを含んだ複合パターンとして形成するもできる。

上記目的は、拭取り面となるパルプ繊維ウエブと、前記拭取り面の裏打ち面となる合成繊維ウエブとを積層して一体化してあると共に、エンボス処理による凹凸部パターンが形成されている不織布ワイパーを製造する方法であって、前記凹凸部パターンが周表面に刻設されているエンボスロールと、周表面が平坦なプレーンロールとを含み加圧接触されているエンボス処理装置とを用い、前記パルプ繊維ウエブ側を前記エンボスロールに接触させて前記不織布ワイパーを製造する、ことを特徴とする不織布ワイパーの製造する方法よっても達成される。

そして、前記凹凸部パターンが、ドット要素を点在させることにより形成したドットパターン又は中抜き環形状要素を点在させることにより形成した環形状パターンとすることが好ましい。

本発明によると、パルプ繊維ウエブ側に片面エンボス処理を施すようにしたので、強度低下やリント発生を抑止できる、拭取り性を向上させた不織布ワイパーを提供できる。更に、上記片面エンボス処理について、形成する凹凸部パターンやその時の押込み面積率を所定範囲に設定すると、強度低下やリント発生を確実に抑制できる不織布ワイパーを提供できる。

本発明を理解し易くするために示した図であり、図１（ａ）は本発明の不織布ワイパーついて示している図、図１（ｂ）及び図１（ｃ）は比較のため示した図である。 パルプ繊維ウエブ上に形成する凹凸部パターンをドットパターンにより形成した場合について示した図である。 パルプ繊維ウエブ上に形成する凹凸部パターンを環形状パターンにより形成した場合について示した図である。 凹凸部パターンを、ドットパターンと環形状パターンとの複合パターンに形成した場合について示した図である。 不織布ワイパー製造装置について示している図である。

以下、本発明の一実施形態に係る不織布ワイパーを、図を参照して説明する。
図１は本発明を理解し易くするために示した図であり、図１（ａ）は本発明の不織布ワイパーの特徴的な構成とエンボス処理に用いるロールのセットについて示している図である。一方、図１（ｂ）と図１（ｃ）とは、比較のため、先に指摘したマッチドスチールとチップツーチップとによるエンボス処理の場合について示した図である。

図１（ａ）の右側に示してある本発明に係る不織布ワイパーＥＷＰは、拭取り面となるパルプ繊維によるパルプ繊維ウエブＰＦＷの背面側に合成繊維による合成繊維ウエブＳＷを一体に積層した基本構造を有している。合成繊維ウエブＳＷはパルプ繊維ウエブＰＦＷを補強してワイパーとしての外形を保持する裏打ち面となっている。

ここで、不織布ワイパーＥＷＰには片面エンボス処理がされており、上側に位置しているパルプ繊維ウエブＰＦＷに所定凹凸部パターンＰＡが形成してある。より詳細には、図１（ａ）の左側に示すエンボス装置ＥＡを用いて処理がされる。
エンボス装置ＥＡは、パルプ繊維ウエブＰＦＷに接触する上側のエンボスロールａ１と下側のプレーンロールａ２とを備えている。エンボスロールａ１の外周面にはパルプ繊維ウエブＰＦＷに形成する凹凸部パターンが刻設してある。一方、プレーンロールａ２は外周面が平坦に形成されている。

上記エンボスロールａ１とプレーンロールａ２とは例えば線圧２０〜７０ｋｇ／ｃｍをもって圧接する。より好ましくは、エンボスロールａ１とプレーンロールａ２との少なくとも一方に加熱手段を設けて、加熱圧着してパルプ繊維ウエブＰＦＷ上に凹凸部パターンを形成する。上記加熱手段については特に限定はないが、各ロールａ１、ａ２内に配置したヒータとすることができる。
下側に位置している合成繊維ウエブＳＷの表面（不織布ワイパーＥＷＰの裏側）は、プレーンロールａ２に接するので平坦状となる。
上記エンボス装置ＥＡにおけるウエブ搬送速度、ウエブの目付（坪量）などを考慮し、線圧や加熱温度を適宜に調整することにより、パルプ繊維ウエブＰＦＷ上に凹凸部パターンを確実に形成する。

一方、図１（ｂ）で示すマッチドスチール及び図１（ｃ）で示すチップツーチップに係るエンボス装置では、相当に強い圧力が上下両側から加わり、不織布の表裏両面に凹凸部パターンが形成される。その際、加熱もされるので、パルプ繊維ウエブが表面に存在する不織布ワイパーでは、繊維の一部が劣化して、前述した強度低下やリント発生の問題が誘発されると予想される。
本発明に係る不織布ワイパーＥＷＰでは、図１（ａ）に示すように、片面エンボス処理が採用されているので不織布へのダメージを低減できるので強度低下やリント発生を抑制できる。

そして、本発明者は不織布ワイパーＥＷＰが備える好ましい構成として、片面エンボス処理する際の凹凸部パターン（エンボスパターン）について、基本として採用するパターンとそのパターンによって形成された押込み部分の面積率との関係について詳細な検討を行い、採用したパターンとそのとき押込み面積率との関係を確認して、高い拭取り性を持ちつつ、より確実に強度低下やリント発生を抑制できる凹凸部パターンを特定した。
以下では、好ましい凹凸部パターンの条件について詳細に説明する。

図２はパルプ繊維ウエブ上に形成する上記凹凸部パターンをドットパターンにより形成した場合について示した図であり、図３はパルプ繊維ウエブ上に形成する上記凹凸部パターンを環形状パターンにより形成した場合について示した図であり、図４はパルプ繊維ウエブ上に形成する上記凹凸部パターンを、上記ドットパターンと環形状パターンとの複合パターンに形成した場合について示した図である。
図２で、（ａ）はドット要素ＤＴを四角形状（多角形状）として点在配置した場合、（ｂ）はドット要素ＤＴを円形状として点在配置した場合について例示している。ドット要素ＤＴとして採用できる形状は、例えば円形状、楕円形状、多角形状、星形状、扇形状、クロス形状などから成る群から少なくとも１つ選択することができる。なお、クロス形状とは直線あるいは曲線が互いに交差するようにして形成した図形であり、例えば直線を直交させた十字架形状が代表的な図形となる。図２（ａ）、（ｂ）はドット要素を１種類のドットで構成した場合を示すが、２種類以上（例えば、四角形のドットと円形状のドット）によってドット要素を構成し、これによりドットパターン（凹凸部パターン）を形成してもよい。

図２で例示するように、ドットパターンとして凹凸部パターンを形成した場合、エンボス処理においてはドット要素ＤＴとした部分が押込み部分（エンボス処理によってへこむ領域）となり、この部分のウエブに強い圧力と熱とが加わったことになる。よって、上記ドット要素ＤＴによる押込み面積の割合を低く抑えることで、前述した強度低下やリント発生の問題をより確実に抑制できる。ドットパターンにおける押込み面積率（ドット要素による押込み面積／パルプ繊維ウエブの面積）を５〜１７％とするのが好ましい。より好ましくは１３〜１５％とする。ドットパターンにより凹凸部パターンを形成する場合、この様な条件で設定すれば、前述した強度低下とリント発生を確実に抑制して、拭取り性の優れた不織布ワイパーとすることができる。

次に、図３は凹凸部パターンとして環形状パターンを採用する場合について示している。図３で、（ａ）は中抜き環形状要素ＥＲをリング形状として互いに離間して点在配置した場合、（ｂ）は中抜き環形状要素ＥＲを六角形状（多角形状）として互いに接触して点在配置した場合について例示している。なお、ここで中抜き環形状要素ＥＲとは、上記ドット要素と対応するパターンの基本となる要素で、閉じた線の内部に中抜け状の部分が残るような形状を要素とするものである。図３（ａ）により説明すると、リング状の閉じた線がエンボス処理された部分であり、上述したドット要素に対応する押込み部となる。そして、その内側はエンボス処理を受けないので中抜き状態（未処理のパルプ繊維ウエブ）となる。本明細書では、このように閉じた線の内部に中抜け状の部分が存在している図形を中抜き環形状と呼び、これを基本要素（中抜き環形状要素）として形成される凹凸部パターンを環形状パターンと称している。

上記中抜き環形状要素として採用できる形状は、例えば円形状、楕円形状、多角形状、星形状、扇形状および前述したクロス形状などから成る群から少なくとも１つ選択することができる。図３（ａ）、（ｂ）は中抜き環形状要素を１種類で構成した場合を示すが、２種類以上（例えば、四角形の中抜き環形状と円形状の中抜き環形状（リング形状））によって中抜き環形状要素を構成し、これにより環形状パターン（凹凸部パターン）を形成してもよい。
また、環形状パターンにより凹凸部パターンを設計する場合、図３（ａ）の様に環形状要素（リング形状）が互いに離間して配置されるパターンとしてもよいし、図３（ｂ）の様に環形状要素（六角形状）が互いに接触して配置されるパターンとしてもよい。

上記環形状パターンでは、前述したように中抜き環形状要素ＥＲを確定している線の部分が押込み部となる。線幅は０．５ｍｍ〜１．５ｍｍとするのが好ましい。線幅が０．５ｍｍ以下ではエンボス処理の効果を期待できない。一方、１．５ｍｍを超えると周辺部の強度低下やリント発生が懸念される。
そして、図３で例示している環形状パターンの場合の押込み面積率（線の部分による押込み面積／パルプ繊維ウエブの面積）を１０〜３３％とするのが好ましい。より好ましくは１８〜２５％とする。環形状パターンにより凹凸部パターンを形成した場合に、この様な条件で設定すれば、前述した強度低下とリント発生を抑制して、拭取り性の優れた不織布ワイパーとすることができる。
なお、先に説明したドットパターンを採用した場合と比較して、環形状パターンにより凹凸部パターンを形成した場合の方が押込み面積率を相対的に高くすることができる。環形状パターンの方が、エンボス処理した際のダメージが低いという形状効果があると予想される。

図４は上記ドットパターンと環形状パターンとによる複合で凹凸部パターンを形成した場合について示している。ここでの例示は、中抜き環形状要素ＥＲを四角形状として、これを接触配置させた環形状パターンとし、四角形の角の部分（接触点）をドットＤＴとしたものである。
このようにドットパターンと環形状パターンとの複合パターンにより、凹凸部パターンを設計してもよい。
図４に示すような複合パターンの場合、前述した押込み面積率（ドット及び線の部分による押込み面積／パルプ繊維ウエブの面積）は５〜１７％とするのが好ましい。

以下、更に前述した本発明の不織布ワイパーの製造工程について説明する。ここでは、エンボス処理された不織布ワイパーＥＷＰを製造するにあたり、先ず平坦な不織布ワイパーＷＰ（不織布ワイパーＥＷＰの基材となるワイパー）を製造する製造装置の主要構成について説明をした後に、前述したエンボス装置ＥＡ（図１（ａ））の適用について説明する。

図５に示す不織布ワイパー製造装置１は、上流側にエアレイド装置２、合成繊維ウエブとしてのスパンボンドウエブを供給するスパンボンドウエブ供給装置３、そしてサクション装置４が配設されている。サクション装置４はエアレイド装置２の下側に対向するように配置されている。
ウエブの搬送方向ＴＤで、これらの装置２、３、４より下流には、上流側から順に、水流交絡処理を行うためのウォータジェットを噴射する水流交絡装置５、サクション装置６、乾燥装置７が配置されている。上記乾燥装置７の下流には連続して製造される不織布ワイパーＷＰを巻き取るための巻取装置８が更に設けてある。

上記エアレイド装置２は、繊維同士が密集しシート状となっている原料パルプＲＰをパルプ繊維に解繊する解繊機２１や、図示しない送風機を備えて解繊されたパルプ繊維ＰＦをエアレイドホッパ２３へと搬送するダクト２２を有している。

また、上記ダクト２２よりも下流側にはエアレイドホッパ２３が配置されている。このエアレイドホッパ２３の内部では、解繊状態にあるパルプ繊維が分散しながら降下し、下面に設定した積層位置２４に徐々に積み上りパルプ繊維ウエブＰＦＷが形成されるように設計してある。
上記積層位置２４の下側にはサクション装置４が対向配備してある。より詳細には、サクション装置４は装置本体４１の上面にサクション部４２を有しており、サクション部４２が上記パルプ繊維ウエブＰＦＷに吸引力（負圧）を作用させるべく積層位置２４に対して設定してある。
なお、図５では、エアレイドホッパ２３とサクション装置本体４１とを１つずつ一段での配置として、パルプ繊維ウエブＰＦＷを形成する場合を例示している。しかし、これに限らず、上記パルプ繊維ウエブＰＦＷの目付（坪量）や製造速度に応じて、上記エアレイドホッパ２３とサクション装置本体４１を２つ以上の多段とする配置に変更してもよい。

また、サクション装置４の周囲にはウエブ搬送用の搬送ワイヤ４３が配設してある。搬送ワイヤ４３は、積層位置２４においてパルプ繊維ＰＦが堆積したパルプ繊維ウエブＰＦＷが載置可能で、これを下流側に搬送するように配置されている。ただし、パルプ繊維ウエブＰＦＷは直接、搬送ワイヤ４３上に載置されない。これについては、後述の説明で明らかとなる。
搬送ワイヤ４３はサクション部４２の吸引力が、反対側（上側）に及ぶような目開き形態（メッシュ）で形成されている。

上記エアレイド装置２の下側で、サクション装置４よりも上流側に、スパンボンドウエブ供給装置３が配置してある。このスパンボンドウエブ供給装置３には、予め準備されたスパンボンドウエブＳＷがロール状とされてセットされている。スパンボンドウエブ供給装置３からスパンボンドウエブＳＷが引出され、上述した搬送ワイヤ４３に乗って上記積層位置２４へと搬送されるようになっている。スパンボンドウエブＳＷとしては、スパンボンド法により形成された合成樹脂の連続フィラメントのウエブを用いるのが好ましい。

積層位置２４に位置した、スパンボンドウエブＳＷの上に、前述したパルプ繊維ウエブＰＦＷが載置される。その際に、積層位置２４ではサクション装置４のサクション部４２による吸引力が搬送ワイヤ４３を通過し、その上のスパンボンドウエブＳＷおよびパルプ繊維ウエブＰＦＷに作用する。よって、スパンボンドウエブＳＷとパルプ繊維ウエブＰＦＷとが積層された状態となっている予備的積層体ＰＷｅｂが下流側へと搬送される。

上記した予備的積層体ＰＷｅｂは、サクション装置４の吸引力によって、吸引圧縮されたことにより積層状態が維持されている。このとき上側のパルプ繊維ウエブＰＦＷの繊維が密にされた状態ではある。しかし、このまま予備的積層体ＰＷｅｂを下流側の水流交絡装置５内に搬送投入すると、ウォータジェット（高圧の水流）によってパルプ繊維ＰＦの一部が舞い上がるおそれがある。
そこで、本製造装置１では、予備的積層体ＰＷｅｂを上下から挟んでスパンボンドウエブＳＷ上でのパルプ繊維ウエブＰＦＷの載置状態を安定化させる為の挟持ローラ２８、そして水流交絡装置５の上流側に繊維飛散防止用に水分を付与するプレウエット装置３０が配備してある。プレウエット装置３０は、好適には、予備的積層体ＰＷｅｂの上方からウォータミストを吹き付ける噴霧ノズル３１と予備的積層体ＰＷｅｂの下側（すなわち、パルプ繊維ウエブＰＦＷの下面）から吸引力を印加するサクション装置３２とを含んで構成されている。
なお、図５では、上記のように水流交絡装置５前にプレウエット装置３０を新たな装置として設ける場合を例示しているが、これに限らない。水流交絡装置５に含まれる後述するウォータジェットヘッド５１とサクション装置５２とからなるセットの複数について、先頭に位置するセットを上記プレウエット装置３０として流用するような設計変更をしてもよい。この場合には先頭のウォータジェットヘッド５１から低圧のウォータミストが噴霧されるように調整すればよい。
水流交絡処理を行うのに十分な、ウォータジェットヘッド５１とサクション装置５２とのセット数が確保されている水流交絡装置５の場合、上記のように先頭のウォータジェットヘッド５１とサクション装置５２をプレウエット装置として活用することは、装置設備コストの抑制に効果的である。

そして、水流交絡装置５では、前処理部となる挟持ローラ２８およびプレウエット装置３０の処理を受けた予備的積層体ＰＷｅｂに高圧のウォータジェットを吹き付けることによりパルプ繊維同士の交絡を促進する。これにより上側に位置するパルプ繊維ウエブＰＦＷ層と下側に位置するスパンボンドウエブＳＷ層との一体化が促進される。
図５で例示的に示している水流交絡装置５は、搬送方向ＴＤに沿って多段（図５では例示しているのは４段）にウォータジェットヘッド５１が配置されている。
なお、図５では、搬送方向ＴＤに対して直角な方向（ウエブの幅方向ＷＤ）において延在しているウォータジェットヘッド５１に設けたノズルの様子は図示していないが、幅方向において複数のウォータジェットノズルが適宜の位置に配置してある。

上記水流交絡処理をする際の水圧は、パルプ繊維ウエブＰＦＷとスパンボンドウエブＳＷとの坪量を勘案して設定するのが望ましい。例えば、１〜３０ＭＰａの範囲において選択するのが好ましい。

そして、上記ウォータジェットヘッド５１と対向するように、サクション装置５２が配設してある。ウォータジェットヘッド５１から出る高圧のウォータジェットを上側に位置しているパルプ繊維ウエブＰＦＷに吹き付けつつ、下側に位置しているスパンボンドウエブＳＷの下側にサクション装置５２の吸引力を作用させる。ウォータジェットヘッド５１とサクション装置５２との協働作用によって、パルプ繊維ウエブＰＦＷ側のパルプ繊維が下側のスパンボンドウエブＳＷに入り込んだ状態や、スパンボンドウエブＳＷを貫通して反対側にまで至った状態などが形成されると推定される。その作用により２つの層の一体
化が促進される。

水流交絡装置５にも、搬送ワイヤ５５が配設してある。搬送ワイヤ５５は前処理部２８、３０の下流で予備的積層体ＰＷｅｂを受けて、水流交絡装置５内へと搬送する。搬送ワイヤ５５は水流交絡装置５のウォータジェットヘッド５１とサクション装置５２との間を、上流側から下流に向かって通過するように配設されている。
よって、搬送ワイヤ５５上を搬送される予備的積層体ＰＷｅｂは、搬送方向ＴＤで下流に向かう程に、より多くの水流交絡処理を受けることになり、水流交絡装置５を出るときには上側のパルプ繊維ウエブＰＦＷ層と下側のスパンボンドウエブＳＷ層との十分な交絡処理が実現される。
水流交絡装置５を出た直後の不織布にあっては、ウエット状態にあり、パルプ繊維同士などの結合は十分に確立されてはいない。

そこで、図５で示すように、水流交絡装置５の下流側にはウエブに残留する水分を吸引除去し、その後に乾燥を行って、不織布ワイパーＷＰの製造を完了するためのサクション装置６および乾燥装置７が配備してある。このように不織布ワイパーＷＰの製造の後段で、サクション装置６および乾燥装置７による脱水、乾燥を行うと効率よく不織布を製造でき、また、製造される水流交絡後の不織布に大きな外圧を掛けることなく乾燥した不織布を製造できるので、嵩高感のある製品に仕上げることができる。
サクション装置６は、例えばバキューム式で水流交絡後の不織布を脱水する。乾燥装置７は非圧縮型のドライヤ、好適にエアスルードライヤを採用することが好ましい。図５で、エアスルードライヤの回転可能なドライヤ本体７１は筒状体であり、その周表面には多数の貫通孔が設けてあり、図示しない熱源で加熱された熱風がドライヤ本体の外周から中心部側に向かって吸い込む構成とするのがよい。
このように連続的に製造される複合型の不織布ワイパーＷＰは巻取装置８のローラ８１に巻取られて一連の工程が完了する。

以上では、本発明に係るエンボス処理された不織布ワイパーＥＷＰの基材となる不織布ワイパーＷＰを製造するための、製造装置について説明した。
ここで、図１（ａ）左側に示したエンボス装置ＥＡを、不織布ワイパーＷＰに適用すれば、本発明に係る不織布ワイパーＥＷＰを製造することができる。図５の不織布ワイパー製造装置にオンラインで付加する場合は、図示したように、乾燥装置７と巻取装置８との間にエンボス装置ＥＡを付加すればよい。このように不織布ワイパー製造装置に一体的にエンボス装置ＥＡを設けるのが好ましいが、いったん不織布ワイパーＷＰをローラ８１に巻き取り、別に設けたエンボス装置ＥＡでオフラインによりエンボス処理するようにしてもよい。

（実施例）
図１（ａ）右側に示した本発明に係る不織布ワイパーＥＷＰ、即ちパルプ繊維ウエブＰＦＷと合成繊維ウエブＳＷとが一体に積層され、パルプ繊維ウエブＰＦＷ側に片面エンボス処理によって凹凸部パターンＰＡが形成して不織布ワイパーを製造し、凹凸部パターンを、ドット要素で形成するドットパターンとした場合と、中抜き環形状要素で形成する環形状パターンとした場合とについて評価した。
ここでの評価では、前述した押込み面積率を順次に変更して、不織布ワイパーＥＷＰの強度（低下率）、湿潤テーバ値（低下率）そして拭取り性について確認した。

測定方法は以下の通りである。
１）強度：引張強度をＪＩＳ Ｐ８１１３に従い測定し、エンボス処理をしない場合を基準として、値の低下率％を求めた。
２）湿潤（Wet）テーバ値：ＪＩＳ Ｌ １０９６に規定されたテーバ試験機を用いて、回転する水平円盤に水で湿潤させた試料を取り付けて、砥粒結合体で成形された一対の摩擦輪（Ｈ−１８）を規定荷重（４．９Ｎ）のもとに加えて、耐摩耗性を調べた。これによりワイパー使用中の交絡繊維の脱落の程度を確認した。判定は、摩耗によるシートの穴が１３ｍｍとなるまでの円盤の回転数で判定した。エンボス処理をしない場合を基準として、値の低下率％を求めた。低下率は、いずれも０〜５％以下を◎、５％〜１５％以下を○、１５％より大を×とした。
３）拭取り性：モニターテスト１０名により官能評価し、○：良い △：やや悪い ×:悪いとした。
全ての評価が〇以上であるものを総合評価で〇とし、不織布ワイパー製品として適している判断し、他は不可×とした。
上記の結果について、まとめて示したのが下記（表１）である。

上記表１で、凹凸部パターンとしてドットパターンを採用した場合、押込み面積率が５．２％のときに総合評価は◎であった。これから、押込み面積率５％の場合は少なくとも総合評価〇となることが容易に推測できる。また、押込み面積率１４．４％のとき◎、そして２０．２％のときは×であるが、ここでは示していない中間での値１７％までは少なくとも総合評価は〇であることを確認している。
また、凹凸部パターンとして中抜き環形状による環形状パターンを採用した場合、押込み面積率が１０％のときに総合評価は◎であった。また押込み面積率が３２．５％のときに総合評価は〇であるが、その近似値３３％の場合も総合評価〇となることが容易に推測できる。

以上から明らかなように、本発明によるとパルプ繊維ウエブと合成繊維ウエブとを積層して一体化し、パルプ繊維ウエブ側に片面エンボス処理を施したので、強度低下やリント発生を抑制して、拭取り性を向上させた不織布ワイパーを提供できる。
特に、凹凸パターンに採用するパターン形状（ドット、中抜き環形状）とその押込み面積率とについて所定条件を満たすようにエンボス処理を施したものは、より確実に強度低下やリント発生を抑制できる織布ワイパーとして提供できる。
本発明の製造方法によると、不織布ワイパーを確実に製造できる。

以上で実施形態の説明を終えるが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更して実施することができることは言うまでもない。

１ 不織布ワイパー製造装置
２ エアレイド装置
３ スパンボンドウエブ（合成繊維ウエブ）供給装置
４ サクション装置
５ 水流交絡装置
６ サクション装置
７ 乾燥装置
８ 巻取装置
ＥＡ エンボス装置
ＰＦ パルプ繊維
ＰＦＷ パルプ繊維ウエブ
ＰＷｅｂ 予備的積層体
ＳＷ 合成繊維ウエブ（スパンボンドウエブ）
ＷＰ 不織布ワイパー
ＥＷＰ 本発明に係る不織布ワイパー（エンボス処理された不織布ワイパー）
ＰＡ 凹凸部パターン
ＤＴ ドット要素
ＥＲ 中抜き環形状要素
ａ１ エンボスロール
ａ２ プレーンロール

Claims (10)

1. 拭取り面となるパルプ繊維ウエブと、前記拭取り面の裏打ち面となる合成繊維ウエブとを積層して一体化してあると共に、エンボス処理による凹凸部パターンが形成してある不織布ワイパーであって、
   前記凹凸部パターンは、前記パルプ繊維ウエブ側に片面エンボス処理を施すことにより形成したものである、ことを特徴とする不織布ワイパー。
2. 前記凹凸部パターンは、ドット要素を点在させることにより形成したドットパターンであり、前記ドット要素による押込み面積率が５〜１７％である、ことを特徴とする請求項１に記載の不織布ワイパー。
3. 前記ドットパターンは、円形状、楕円形状、多角形状、星形状、扇形状およびクロス形状の群から少なくとも１つ選択された前記ドット要素に基づいて形成されている、ことを特徴とする請求項２に記載の不織布ワイパー。
4. 前記凹凸部パターンは、中抜き環形状要素を点在させることにより形成した環形状パターンであり、前記中抜き環形状要素を確定している線の線幅が０．５ｍｍ〜２．０ｍｍであり、前記線による押込み面積率が１０〜３３％である、ことを特徴とする請求項１に記載の不織布ワイパー。
5. 前記環形状パターンは互いに離間して配置されている、ことを特徴とする請求項４に記載の不織布ワイパー。
6. 前記環形状パターンは互いに接触して配置されている、ことを特徴とする請求項４に記載の不織布ワイパー。
7. 前記環形状パターンの外形形状は、円形状、楕円形状、多角形状、星形状、扇形状およびクロス形状の群から少なくとも１つ選択される、ことを特徴とする請求項４から６のいずれかに記載の不織布ワイパー。
8. 前記凹凸部パターンは、ドット要素を点在させることにより形成したドットパターンと、中抜き環形状要素を点在させることにより形成した環形状パターンとを含んだ複合パターンとして形成されている、ことを特徴とする請求項１に記載の不織布ワイパー。
9. 拭取り面となるパルプ繊維ウエブと、前記拭取り面の裏打ち面となる合成繊維ウエブとを積層して一体化してあると共に、エンボス処理による凹凸部パターンが形成されている不織布ワイパーを製造する方法であって、
   前記凹凸部パターンが周表面に刻設されているエンボスロールと、周表面が平坦なプレーンロールとを含み加圧接触されているエンボス処理装置とを用い、前記パルプ繊維ウエブ側を前記エンボスロールに接触させて前記不織布ワイパーを製造する、ことを特徴とする不織布ワイパーの製造する方法。
10. 前記凹凸部パターンが、ドット要素を点在させることにより形成したドットパターン又は中抜き環形状要素を点在させることにより形成した環形状パターンである、ことを特徴とする請求項９に記載の不織布ワイパーの製造する方法。

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