JP2019212399A - 有機ｅｌ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物、有機ｅｌ発光装置の製造方法及び有機ｅｌ発光装置 - Google Patents

有機ｅｌ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物、有機ｅｌ発光装置の製造方法及び有機ｅｌ発光装置 Download PDF

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Abstract

【課題】有機ＥＬ発光装置における封止材を作製するために使用でき、封止材に無機材料製の部材との密着性を付与することができ、かつ粘度上昇を起こしにくい有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物を提供する。【解決手段】組成物は、アクリル化合物（Ａ）及び光重合開始剤（Ｂ）を含有する。アクリル化合物（Ａ）は、式（１）に示す化合物、モルホリンアクリレート、ジエチルアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド及びペンタメチルピペリジルメタクリレ−トからなる群から選択される少なくとも一種の成分である化合物（Ａ１）を含有する。Ｒ0はＨ又はメチル基である。Ｘは単結合又は二価の炭化水素基である。Ｒ1からＲ11の各々はＨ、アルキル基又は−Ｒ12−ＯＨ、Ｒ12はアルキレン基でありかつＲ1からＲ11のうち少なくとも一つはアルキル基又は−Ｒ12−ＯＨである。Ｒ1からＲ11は互いに化学結合していない。【選択図】なし

Description

本発明は、有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物、有機ＥＬ発光装置の製造方法及び有機ＥＬ発光装置に関し、詳しくは、有機ＥＬ発光装置における封止材を作製するために好適な有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物、この有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物を用いる有機ＥＬ発光装置の製造方法、及びこの封止材を備える有機ＥＬ発光装置に関する。
有機ＥＬ発光装置は、照明、ディスプレイなどに適用されており、今後の普及が期待されている。
有機ＥＬ発光装置のうち、トップエミッションタイプと呼ばれるものは、例えば支持基板上に有機ＥＬ素子を配置し、支持基板に対向するように透明基板を配置し、支持基板と透明基板との間に透明な封止材を充填して構成される。この場合、有機ＥＬ素子が発する光は封止材及び透明基板を通過して外部へ出射する。
有機ＥＬ発光装置における封止材を、インクジェット法で作製することが提案されている。例えば特許文献１には、７５〜９５ｗｔ．％のポリエチレングリコールジメタクリレートモノマー等と、４〜１０ｗｔ．％のペンタエリスリトールテトラアクリレート等と、２２℃で約１４から約１８ｃｐｓの範囲内の粘度及び２２℃で約３５から約３９ダイン／ｃｍの範囲内の表面張力を有する１〜１５ｗｔ．％の展着改質剤とを含むインク組成物を用い、インクジェット法で封止材を作製することが、開示されている。
特表２０１７−５３１０４９号公報
有機ＥＬ発光装置においては、透明基板、有機ＥＬ素子を保護するパッシベーション層などとして、無機材料製の部材が適用されることが多い。封止材と無機材料製の部材との間の密着性が低いと、有機ＥＬ発光装置内に侵入した水分が封止材と部材との間に生じた隙間を通じて有機ＥＬ素子に到達し、有機ＥＬ素子を劣化させてダークスポットと呼ばれる不良を発生させてしまう危険性がある。このため、封止材には、無機材料製の部材との密着性が要求されることがある。
しかし、特許文献１に記載されているようなアクリル系の組成物から封止材が作製されると、組成物を低粘度化させてインクジェット法で成形可能としながら封止材と無機材料製の部材との間の密着性を確保することは困難であった。特に、封止材の薄型化のためにインクジェット法で吐出される液滴の径を小さくする場合は、組成物を非常に低粘度化する必要があり、そのような場合に封止材と無機材料製の部材との間の密着性を確保することは非常に困難であった。
本発明の課題は、有機ＥＬ発光装置における封止材を作製するために使用でき、封止材に無機材料製の部材との密着性を付与することができ、かつ粘度上昇を起こしにくい有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物、この有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物を用いる有機ＥＬ発光装置の製造方法、及びこの有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる封止材を備える有機ＥＬ発光装置を提供することである。
本発明の一態様に係る有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物は、アクリル化合物（Ａ）及び光重合開始剤（Ｂ）を含有し、前記アクリル化合物（Ａ）は、下記式（１）に示す化合物、モルホリンアクリレート、ジエチルアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド及びペンタメチルピペリジルメタクリレ−トからなる群から選択される少なくとも一種の成分である化合物（Ａ１）を含有し、前記式（１）において、Ｒ0はＨ又はメチル基であり、Ｘは単結合又は二価の炭化水素基であり、Ｒ1からＲ11の各々はＨ、アルキル基又は−Ｒ12−ＯＨ、Ｒ12はアルキレン基でありかつＲ1からＲ11のうち少なくとも一つはアルキル基又は−Ｒ12−ＯＨであり、Ｒ1からＲ11は互いに化学結合していない。
本発明の一態様に係る有機ＥＬ発光装置の製造方法は、有機ＥＬ素子と前記有機ＥＬ素子を覆う封止材とを備える有機ＥＬ発光装置を製造する方法であり、前記有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物をインクジェット法で成形してから、前記有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物に紫外線を照射して硬化させることで前記封止材を作製することを含む。
本発明の一態様に係る有機ＥＬ発光装置は、有機ＥＬ素子と、前記有機ＥＬ素子を覆う封止材とを備え、前記封止材は、前記有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物である。
本発明の一態様によれば、有機ＥＬ発光装置における封止材を作製するために使用でき、封止材に無機材料製の部材との密着性を付与することができ、かつ粘度上昇を起こしにくい有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物、この有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物を用いる有機ＥＬ発光装置の製造方法、及びこの有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる封止材を備える有機ＥＬ発光装置を、提供できる。
図１は、有機ＥＬ発光装置の第一例の概略の断面図である。 図２は、有機ＥＬ発光装置の第二例の概略の断面図である。
以下、本発明の一実施形態について説明する。
１．実施形態の概要
本実施形態に係る有機ＥＬ発光装置１は、有機ＥＬ素子４と、有機ＥＬ素子４を覆う封止材５とを備える。
有機ＥＬ発光装置１の構造の第一例を、図１を参照して説明する。この有機ＥＬ発光装置１は、トップエミッションタイプである。有機ＥＬ発光装置１は、支持基板２、支持基板２と間隔をあけて対向する透明基板３、支持基板２の透明基板３と対向する面の上にある有機ＥＬ素子４、及び支持基板２と透明基板３との間に充填されている封止材５とを備える。また、図１に示す例では、有機ＥＬ発光装置１は、支持基板２の透明基板３と対向する面及び有機ＥＬ素子４を覆うパッシベーション層６を備える。
支持基板２は、例えば樹脂材料から作製されるが、これに限定されない。透明基板３は透光性を有する材料から作製される。透明基板３は、例えば、ガラス製基板又は透明樹脂製基板である。有機ＥＬ素子４は有機発光ダイオードとも呼ばれる。有機ＥＬ素子４は、例えば一対の電極と、電極間にある有機発光層とを備える。パッシベーション層６は窒化ケイ素又は酸化ケイ素から作製されることが好ましい。
有機ＥＬ発光装置１の構造の第二例を、図２を参照して説明する。なお、図１に示す第一例と共通する要素については、図１と同じ符号を付して、詳細な説明を適宜省略する。図２に示す有機ＥＬ発光装置１も、トップエミッションタイプである。有機ＥＬ発光装置１は、支持基板２、支持基板２と間隔をあけて対向する透明基板３、支持基板２の透明基板３と対向する面の上にある有機ＥＬ素子４、及び有機ＥＬ素子４を覆う封止材５を備える。
有機ＥＬ素子４は、第一例の場合と同様、例えば一対の電極４１、４３と、電極４１、４３間にある有機発光層４２とを備える。有機発光層４２は、例えば正孔注入層４２１、正孔輸送層４２２、発光層４２３及び電子輸送層４２４を備え、これらの層は前記の順番に積層している。
有機ＥＬ発光装置１は複数の有機ＥＬ素子４を備え、かつ複数の有機ＥＬ素子４が、支持基板２上でアレイ９（以下素子アレイ９という）を構成している。素子アレイ９は、隔壁７も備える。隔壁７は、支持基板２上にあり、隣合う二つの有機ＥＬ素子４の間を仕切っている。隔壁７は、例えば感光性の樹脂材料をフォトリソグラフィ法で成形することで作製される。素子アレイ９は、隣合う有機ＥＬ素子４の電極４３及び電子輸送層４２４同士を電気的に接続する接続配線８も備える。接続配線８は、隔壁７上に設けられている。
有機ＥＬ発光装置１は、有機ＥＬ素子４を覆うパッシベーション層６も備える。パッシベーション層６は窒化ケイ素又は酸化ケイ素から作製されることが好ましい。パッシベーション層６は、第一パッシベーション層６１と第二パッシベーション層６２とを含む。第一パッシベーション層６１は素子アレイ９に直接接触した状態で、素子アレイ９を覆うことで、有機ＥＬ素子４を覆っている。第二パッシベーション層６２は、第一パッシベーション層６１に対して、素子アレイ９とは反対側の位置に配置され、かつ第二パッシベーション層６２と第一パッシベーション層６１との間には間隔があけられている。第一パッシベーション層６１と第二パッシベーション層６２との間に、封止材５が充填されている。すなわち、有機ＥＬ素子４と、有機ＥＬ素子４を覆う封止材５との間に、第一パッシベーション層６１が介在している。
さらに、第二パッシベーション層６２と透明基板３との間に、第二封止材５２が充填されている。第二封止材５２は、例えば透明な樹脂材料から作製される。第二封止材５２の材質は特に制限されない。第二封止材５２の材質は、封止材５と同じであっても、異なっていてもよい。
封止材５を、本実施形態に係る有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物から作製することができる。すなわち、有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物は、有機ＥＬ素子４のための封止材５を作製するために用いられる。更に言い換えれば、有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物は、好ましくは封止材作製用の組成物、有機ＥＬ素子封止用の組成物、あるいは有機ＥＬ発光装置製造用の組成物である。
２．有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物
有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物（以下、組成物（Ｘ）ともいう）について説明する。
組成物（Ｘ）は、アクリル化合物（Ａ）及び光重合開始剤（Ｂ）を含有する。
アクリル化合物（Ａ）は、下記式（１）に示す化合物、モルホリンアクリレート、ジエチルアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド及びペンタメチルピペリジルメタクリレ−トからなる群から選択される少なくとも一種の成分である化合物（Ａ１）を含有する。化合物（Ａ１）によって、組成物（Ｘ）から作製される封止材５に、パッシベーション層６といった無機材料製の部材との密着性が付与されうる。また、化合物（Ａ１）はアクリル系の化合物としては低い粘度を有し、そのため化合物（Ａ１）を含有することは、組成物（Ｘ）の粘度上昇を引き起こしにくい。さらに化合物（Ａ１）は揮発しにくく、そのため組成物（Ｘ）の保管時に経時的な粘度上昇が生じにくい。
このため、組成物（Ｘ）を有機ＥＬ発光装置における封止材を作製するために使用すると、封止材５に無機材料製の部材との密着性を付与することができ、かつ組成物（Ｘ）の粘度上昇が生じにくい。
式（１）において、Ｒ0はＨ又はメチル基である。Ｘは単結合又は二価の炭化水素基である。Ｒ1からＲ11の各々はＨ、アルキル基又は−Ｒ12−ＯＨ、Ｒ12はアルキレン基でありかつＲ1からＲ11のうち少なくとも一つはアルキル基又は−Ｒ12−ＯＨである。Ｒ1からＲ11は互いに化学結合していない。
Ｘが二価の炭化水素基である場合、Ｘの炭素数は１以上５以下であることが好ましく、１以上３以下であることがより好ましい。二価の炭化水素基は、例えばメチレン基、エチレン基又はプロピレン基である。Ｘが単結合又はメチレン基であれば特に好ましい。この場合、化合物（Ａ１）が分子量が小さく低粘度であるという利点がある。
Ｒ1からＲ11のうち少なくとも一つがアルキル基である場合、アルキル基の炭素数は１以上８以下であることが好ましい。アルキル基は、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基又はオクチル基である。アルキル基は直鎖状であっても分岐を有してもよい。すなわち、例えばアルキル基がブチル基である場合、ブチル基は、ｔ−ブチル基でもよく、ｎ−ブチル基でもよく、ｓｅｃ−ブチル基でもよい。アルキル基がヘキシル基である場合、ヘキシル基は、ｔ−ヘキシル基でもよく、ｎ−ヘキシル基でもよく、ｓｅｃ−ヘキシル基でもよい。アルキル基がオクチル基である場合、オクチル基は例えばｔ−オクチル基でもよい。アルキル基がメチル基又はｔ−ブチル基であれば特に好ましい。この場合、化合物（Ａ１）が分子量が小さく低粘度であるという利点がある。
式（１）において、シクロヘキサン環の４位のみに、アルキル基又は−Ｒ12−ＯＨが接続していることが好ましい。すなわち、Ｒ1からＲ11のうち、Ｒ6及びＲ7の少なくとも一方がアルキル基又は−Ｒ12−ＯＨであり、残りの各々がＨであることが、好ましい。Ｒ1からＲ11のうち、Ｒ6のみがアルキル基又は−Ｒ12−ＯＨであり、残りの各々がＨであることが、特に好ましい。この場合、式（１）に示す化合物は、良好な反応性を有することができ、かつ封止材５に無機材料製の部材との密着性を特に付与しやすい。これは、式（１）に示す化合物におけるシクロヘキサン環がボート型の立体配座を有し、かつ４位にある嵩高いアルキル基又は−Ｒ12−ＯＨが擬エクアトリアル位に位置しやすいためであると、考えられる。式（１）に示す化合物がこのような構造を有することで、式（１）に示す化合物における（メタ）アクリロイル基の反応性が高められると考えられる。また、式（１）に示す化合物がこのような構造を有すると、式（１）に示す化合物は、封止材５中の自由体積を大きくしうる。そのため封止材５と無機材料製の部材との間の界面自由エネルギーが小さくなりやすく、そのため封止材５と無機材料製の部材との密着性が高くなりやすいと、考えられる。アルキル基又は−Ｒ12−ＯＨが嵩高いほど、アルキル基又は−Ｒ12−ＯＨが擬エクアトリアル位に位置しやすくなる。この観点からすると、アルキル基又は−Ｒ12−ＯＨの炭素数が多いほど好ましく、またアルキル基又は−Ｒ12−ＯＨが分岐を有していることが好ましい。例えばアルキル基又は−Ｒ12−ＯＨがｔ−ブチル基であることが好ましい。
式（１）において、シクロヘキサン環の３位及び５位の各々のみに、アルキル基又は−Ｒ12−ＯＨが接続していることも好ましい。すなわち、Ｒ1からＲ11のうち、Ｒ4及びＲ5の少なくとも一方がアルキル基又は−Ｒ12−ＯＨであり、Ｒ8及びＲ9の少なくとも一方がアルキル基又は−Ｒ12−ＯＨであり、残りの各々がＨであることが、好ましい。Ｒ1からＲ11のうち、Ｒ4及びＲ5の一方のみがアルキル基又は−Ｒ12−ＯＨであり、Ｒ8及びＲ9の少なくとも一方がアルキル基又は−Ｒ12−ＯＨであり、残りの各々がＨであることが、より好ましい。Ｒ1からＲ11のうち、Ｒ4及びＲ5の少なくとも一方がアルキル基又は−Ｒ12−ＯＨであり、Ｒ8及びＲの9一方のみがアルキル基又は−Ｒ12−ＯＨであり、残りの各々がＨであることも、より好ましい。この場合も、式（１）に示す化合物は、良好な反応性を有することができ、かつ封止材５に無機材料製の部材との密着性を特に付与しやすい。これは、式（１）に示す化合物におけるシクロヘキサン環がボート型の立体配座を有し、かつ３位と５位の各々における嵩高いアルキル基又は−Ｒ12−ＯＨが擬エクアトリアル位に位置しやすいためであると、考えられる。このために、シクロヘキサン環の４位のみにアルキル基又は−Ｒ12−ＯＨが接続している場合と同様に、式（１）に示す化合物における（メタ）アクリロイル基の反応性が高められ、かつ封止材５と無機材料製の部材との密着性が高くなりやすいと、考えられる。アルキル基又は−Ｒ12−ＯＨが嵩高いほど、アルキル基又は−Ｒ12−ＯＨが擬エクアトリアル位に位置しやすくなる。この観点からすると、アルキル基又は−Ｒ12−ＯＨの炭素数が多いほど好ましく、またアルキル基又は−Ｒ12−ＯＨが分岐を有していることが好ましい。例えばアルキル基又は−Ｒ12−ＯＨがｔ−ブチル基であることが好ましい。
Ｒ1からＲ11のうち少なくとも一つが−Ｒ12−ＯＨである場合、Ｒ12の炭素数は１以上５以下であることが好ましく、１以上３以下であることがより好ましい。Ｒ12は、例えばメチレン基、エチレン基又はプロピレン基である。Ｒ12はがメチレン基であれば特に好ましい。この場合、化合物（Ａ１）が分子量が小さく低粘度であるという利点がある。
式（１）において、Ｒ1からＲ11の各々がＨ又はアルキル基であり、かつＲ1からＲ11のうち少なくとも一つがアルキル基であれば、特に好ましい。この場合、式（１）に示す化合物は、特に低い粘度を有することができ、そのため組成物（Ｘ）が特に低い粘度を有することができる。そのため、組成物（Ｘ）をインクジェット法で特に成形しやすくなる。
化合物（Ａ１）は、下記式（１１）に示す化合物、下記式（１２）に示す化合物及び下記式（１３）に示す化合物からなる群から選択される、少なくとも一種の化合物を含むことが好ましい。
化合物（Ａ１）が、式（１１）に示す化合物と式（１２）に示す化合物とのうち少なくとも一方を含有すれば、特に好ましい。この場合、組成物（Ｘ）を特に低粘度化しやすく、封止材５のガラス転移温度を特に高めやすく、更に封止材５と無機材料製の部材との密着性を特に高めやすい。また、式（１１）に示す化合物及び式（１２）に示す化合物は、揮発しにくいため、組成物（Ｘ）の保存安定性を向上させやすい。
また、化合物（Ａ１）がモルホリンアクリレート、ジエチルアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド及びペンタメチルピペリジルメタクリレ−トからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することも好ましい。これらの化合物は、窒素を含むことで無機材料との良好な親和性を有し、そのため封止材５と無機材料製の部材との密着性を特に高めやすい。また、これらの化合物の粘度は低く、そのため、これらの化合物は組成物（Ｘ）の粘度を増大させにくい。さらに、これらの化合物は揮発しにくいため、組成物（Ｘ）の保存安定性を向上させやすい。
化合物（Ａ１）中に含まれる化合物の沸点は、２００℃以上であることが好ましく、２５０℃以上であることがより好ましい。この場合、化合物（Ａ１）は、組成物（Ｘ）の保存安定性を特に向上させやすい。式（１１）に示す化合物の沸点は２６５℃、式（１２）に示す化合物の沸点は２３４℃、式（１３）に示す化合物の沸点は２９４℃、モルホリンアクリレートの沸点は２５５℃、ジエチルアクリルアミドの沸点は２０５℃、ジメチルアミノプロピルアクリルアミドの沸点は２８５℃、ペンタメチルピペリジルメタクリレ−トの沸点は２６５℃であるので、この点からも、これらの化合物は好ましい。
アクリル化合物（Ａ）全体に対する、化合物（Ａ１）の量は、５質量％以上８０質量％以下であることが好ましい。この場合、封止材５は、高いガラス転移温度と無機材料製の部材との密着性とを両立できる。化合物（Ａ１）の量は５質量％以上６０質量％以下であればより好ましく、５質量％以上５０質量％以下であれば特に好ましい。
組成物（Ｘ）が後述する吸湿剤（Ｅ）を含有する場合、特に吸湿剤（Ｅ）を含有しかつ吸湿剤（Ｅ）がゼオライト粒子を含有する場合は、化合物（Ａ１）は、式（１）に示す化合物のみを含有し、かつアクリル化合物（Ａ）は、窒素原子を有する化合物を含有しないことが好ましい。この場合、組成物（Ｘ）の保存中に組成物（Ｘ）の粘度上昇が起こりにくい。これは、組成物（Ｘ）が窒素を有する化合物及び吸湿剤（Ｅ）を含有すると、窒素を有する化合物と吸湿剤（Ｅ）とが反応しやすいためであると考えられる。また、吸湿剤（Ｅ）の有無にかかわらず、化合物（Ａ１）は、式（１）に示す化合物のみを含有し、かつアクリル化合物（Ａ）は、窒素原子を有する化合物を含有しない場合は、封止材５が変色しにくくなるという利点もある。
アクリル化合物（Ａ）は、化合物（Ａ１）以外の化合物（Ａ２）を更に含有してもよい。
化合物（Ａ２）は、例えば一分子中に二つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリル化合物（Ａ２１）を含有する。この場合、多官能アクリル化合物（Ａ２１）は、組成物（Ｘ）の硬化物のガラス転移温度を高めることができ、このため、硬化物及び封止材５の耐熱性を高めることができる。
アクリル化合物（Ａ）が多官能アクリル化合物（Ａ２１）を含有する場合、アクリル化合物（Ａ）全量に対する多官能アクリル化合物（Ａ２１）の量は、５質量％以上８５質量％以下であることが好ましい。多官能アクリル化合物（Ａ２１）の量が５質量％以上であると、多官能アクリル化合物（Ａ２１）は硬化物のガラス転移温度を特に高めやすい。多官能アクリル化合物（Ａ２１）の量が８５質量％以下であると、封止材５の無機材料製の部材との密着性を高めることができる。
多官能アクリル化合物（Ａ２１）は、例えば１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールオリゴアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールオリゴアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ビスフェノールＡポリエトキシジアクリレート、ビスフェノールＦポリエトキシジアクリレート、ペンタトリエストールテトラアクリレート、プロポキシ化（２）ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、エトキシ化（３）トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化（３）グリセリルトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化（４）ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アクリル酸２−（２−エトキシエトキシ）エチル、ヘキサジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールトリアクリレート、ビスペンタエリスリトールヘキサアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、エトキシ化１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化リン酸トリアクリレート、エトキシ化トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジアクリレート、テトラメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシレートグリセリルトリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、ネオペンチルグリコールオリゴアクリレート、トリメチロールプロパンオリゴアクリレート、ペンタエリスリトールオリゴアクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、及びプロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。
多官能アクリル化合物（Ａ２１）のアクリル当量は、１５０ｇ／ｅｑ以下であることが好ましく、９０ｇ／ｅｑ以上１５０ｇ／ｅｑ以下であることがより好ましい。多官能アクリル化合物（Ａ２１）の重量平均分子量は、例えば１００以上１０００以下であり、２００以上８００以下がより好ましい。
多官能アクリル化合物（Ａ２１）は、ベンゼン環、脂環及び極性基のうち少なくとも一つを有することが好ましい。極性基は、例えばＯＨ基及びＮＨＣＯ基のうち少なくとも一方である。この場合、組成物（Ｘ１）が硬化する際の収縮を特に低減できる。さらに、硬化物と、窒化ケイ素、酸化ケイ素といった無機化合物との間の密着性を高めることもできる。多官能アクリル化合物（Ａ２１）は、特にトリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ビスフェノールＡポリエトキシジアクリレート、ビスフェノールＦポリエトキシジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート及びペンタトリエストールテトラアクリレートからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有することが好ましい。これらの化合物は、組成物（Ｘ）が硬化する際の収縮を特に低減できる。さらに、これらの化合物は、硬化物と、窒化ケイ素、酸化ケイ素といった無機材料製の部材との間の密着性を、更に高めることもできる。
化合物（Ａ２）は、化合物（Ａ１）以外の、一分子中に一つのみの（メタ）アクリロイル基を有する単官能アクリル化合物（Ａ２２）を含有することも好ましい。単官能アクリル化合物（Ａ２２）は、組成物（Ｘ）の硬化時の収縮を抑制できる。
アクリル化合物（Ａ）全量に対する単官能アクリル化合物（Ａ２２）の量は、０質量％より多く７０質量％以下であることが好ましい。単官能アクリル化合物（Ａ２２）の量が０質量％より多ければ、単官能アクリル化合物（Ａ２２）によって組成物（Ｘ）の硬化時の収縮を抑制できる。
単官能アクリル化合物（Ａ２２）は、例えば、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボロニルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、３−メトキシブチルアクリレート、エトキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシジキシルエチルアクリレート、エチルジグリコールアクリレート、環状トリメチロールプロパンフォルマルモノアクリレート、イミドアクリレート、イソアミルアクリレート、エトキシ化コハク酸アクリレート、トリフルオロエチルアクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチルアクリレート、ステアリルアクリレート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソデシルアクリレート、３，３，５−トリメチルシクロヘキサノールアクリレート、イソオクチルアクリレート、オクチル／デシルアクリレート、トリデシルアクリレート、カプロラクトンアクリレート、エトキシ化（４）のニルフェノールアクリレート、メトキシポリエチレングリコール（３５０）モノアクリレート、メトキシポリエチレングリコール（５５０）モノアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ベンジルアクリレート、メチルフェノキシエチルアクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、トリブロモフェニルアクリレート、エトキシ化トリブロモフェニルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレートのエチレンオキサイド付加物、２−フェノキシエチルアクリレートのプロピレンオキサイド付加物、イソボルニルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレ−ト、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、３−メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、３−アクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド及びジシクロペンテニルオキシエチルアクリレ−トからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。
単官能アクリル化合物（Ａ２２）は、脂環式構造を有する化合物及び環状エーテル構造を有する化合物からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有することが好ましい。
脂環式構造を有する化合物は、例えばシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレ−ト及びジシクロペンテニルオキシエチルアクリレ−トからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。
特にアクリル化合物（Ａ）は、イソボルニルアクリレートとジシクロペンテニルオキシエチルアクリレ−トとのうち、少なくとも一方を含有することが好ましい。イソボルニルアクリレート及びジシクロペンテニルオキシエチルアクリレ−トは、高いガラス転移温度を有し、封止材５のガラス転移温度を特に高めることができる。
環状エーテル構造を有する化合物における環状エーテル構造の環員数は３以上が好ましく、３以上４以下がより好ましい。環状エーテル構造に含まれる炭素原子数は、２以上９以下が好ましく、２以上６以下がより好ましい。環状エーテル構造を有する化合物は、例えば３−メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド及び３−アクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイドからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。
化合物（Ａ２）は、ポリエチレングリコールジメタクリレートとポリエチレングリコールジアクリレートとのうち少なくとも一方からなるアクリル成分（Ａ２３）を含有してもよい。アクリル成分（Ａ２３）は、２３０以上４３０以下の数平均分子量を有することが好ましい。
アクリル成分（Ａ２３）がポリエチレングリコールジメタクリレートを含有する場合、ポリエチレングリコールジメタクリレートは、例えば下記式（２１）に示すポリエチレングリコール２００ジメタクリレートを含む。式（２１）中のｎは平均４である。第一アクリル成分（Ａ２３）がポリエチレングリコールジアクリレートを含有する場合、ポリエチレングリコールジアクリレートは、例えば下記式（２２）に示すポリエチレングリコール２００ジアクリレートを含む。式（２２）中のｎは平均４である。
ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯ−（ＯＣＨ2ＣＨ2）n−ＯＣＯ−Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ2 …（２１）
ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−（ＯＣＨ2ＣＨ2）n−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ2 …（２２）
化合物（Ａ２）がアクリル成分（Ａ２３）を含有する場合、化合物（Ａ２）は、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールテトラメタクリレートとのうち少なくとも一方からなるアクリル成分（Ａ２４）を更に含有することが好ましい。
化合物（Ａ２）がアクリル成分（Ａ２３）を含有する場合、組成物（Ｘ）は、展着剤（Ｃ）を更に含有してもよい。展着剤（Ｃ）は、２２℃で１４ｍＰａ・ｓ以上１８ｍＰａ・ｓ以下の粘度、及び２２℃で３５ｍＮ／ｍ以上３９ｍＮ／ｍ以下の表面張力を有する。展着剤（Ｃ）は、組成物（Ｘ）の展着特性を調整できる。展着剤（Ｃ）は、成形温度において、アクリル成分（Ａ２３）よりも低い表面張力を有する液体であることが好ましい。成形温度とは、組成物（Ｘ）をインクジェット法などの方法で成形する際の組成物（Ｘ）の温度である。
展着剤（Ｃ）は、特にアルコキシ化脂肪族ジアクリレート及びアルコキシ化脂肪族ジメタクリレートからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することが好ましい。
アルコキシ化脂肪族ジアクリレートは、例えば下記式（３）で表される。式（３）において、ｎは３から１２までの数である。アルコキシ化脂肪族ジメタクリレートは、例えば下記式（４）で表される。式（４）において、ｎは３から１２までの数である。
ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯＯ−（ＣＨ2）n−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ2 …（３）
ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯＯ−（ＣＨ2）n−ＯＣＯ−Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ2 …（４）
アルコキシ化脂肪族ジアクリレートが含有できる成分の具体例は、サートマー社製の品番ＳＲ−２３８Ｂ（１，６ヘキサンジオールジアクリレート。２５℃での表面張力約３５ｍＮ／ｍ）及びサートマー社製の品番ＳＲ−９２０９Ａ（２２℃での表面張力約３５ｍＮ／ｍ、２２℃での粘度約２５ｍＮ／ｍ）を含む。
アクリル化合物（Ａ）がアクリル成分（Ａ２３）を含有する場合、アクリル化合物（Ａ）全量に対するアクリル成分（Ａ２３）の量は、５質量％以上６０質量％以下であることが好ましい。アクリル化合物（Ａ）がアクリル成分（Ａ２４）を含有する場合、アクリル化合物（Ａ）全量に対するアクリル成分（Ａ２４）の量は、１質量％以上２０質量％以下であることが好ましい。
組成物（Ｘ）は、アクリル化合物（Ａ）以外のラジカル重合性化合物（Ｄ）を更に含有してもよい。ラジカル重合性化合物（Ｄ）は、一分子に二つ以上のラジカル重合性官能基を有する多官能ラジカル重合性化合物（Ｅ１）と、一分子に一つのみのラジカル重合性官能基を有する単官能ラジカル重合性化合物（Ｅ２）とのうち、いずれか一方又は両方を含有できる。
アクリル化合物（Ａ）とラジカル重合性化合物（Ｄ）との合計量に対するラジカル重合性化合物（Ｄ）の量は、例えば１０質量％以下である。
多官能ラジカル重合性化合物（Ｅ１）は、例えば一分子中にエチレン性二重結合を２つ以上有する芳香族ウレタンオリゴマー、脂肪族ウレタンオリゴマー、エポキシアクリレートオリゴマー、ポリエステルアクリレートオリゴマー及びその他特殊オリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有してもよい。より具体的には、多官能ラジカル重合性化合物（Ａ）は、例えば日本合成化学工業株式会社製のＵＶ−２０００Ｂ、ＵＶ−２７５０Ｂ、ＵＶ−３０００Ｂ、ＵＶ−３０１０Ｂ、ＵＶ−３２００Ｂ、ＵＶ−３３００Ｂ、ＵＶ−３７００Ｂ、ＵＶ−６６４０Ｂ、ＵＶ−８６３０Ｂ、ＵＶ−７０００Ｂ、ＵＶ−７６１０Ｂ、ＵＶ−１７００Ｂ、ＵＶ−７６３０Ｂ、ＵＶ−６３００Ｂ、ＵＶ−６６４０Ｂ、ＵＶ−７５５０Ｂ、ＵＶ−７６００Ｂ、ＵＶ−７６０５Ｂ、ＵＶ−７６１０Ｂ、ＵＶ−７６３０Ｂ、ＵＶ−７６４０Ｂ、ＵＶ−７６５０Ｂ、ＵＴ−５４４９、ＵＴ−５４５４；サートマー社製のＣＮ９０２、ＣＮ９０２Ｊ７５、ＣＮ９２９、ＣＮ９４０、ＣＮ９４４、ＣＮ９４４Ｂ８５、ＣＮ９５９、ＣＮ９６１Ｅ７５、ＣＮ９６１Ｈ８１、ＣＮ９６２、ＣＮ９６３、ＣＮ９６３Ａ８０、ＣＮ９６３Ｂ８０、ＣＮ９６３Ｅ７５、ＣＮ９６３Ｅ８０、ＣＮ９６３Ｊ８５、ＣＮ９６４、ＣＮ９６５、ＣＮ９６５Ａ８０、ＣＮ９６６、ＣＮ９６６Ａ８０、ＣＮ９６６Ｂ８５、ＣＮ９６６Ｈ９０、ＣＮ９６６Ｊ７５、ＣＮ９６８、ＣＮ９６９、ＣＮ９７０、ＣＮ９７０Ａ６０、ＣＮ９７０Ｅ６０、ＣＮ９７１、ＣＮ９７１Ａ８０、ＣＮ９７１Ｊ７５、ＣＮ９７２、ＣＮ９７３、ＣＮ９７３Ａ８０、ＣＮ９７３Ｈ８５、ＣＮ９７３Ｊ７５、ＣＮ９７５、ＣＮ９７７、ＣＮ９７７Ｃ７０、ＣＮ９７８、ＣＮ９８０、ＣＮ９８１、ＣＮ９８１Ａ７５、ＣＮ９８１Ｂ８８、ＣＮ９８２、ＣＮ９８２Ａ７５、ＣＮ９８２Ｂ８８、ＣＮ９８２Ｅ７５、ＣＮ９８３、ＣＮ９８４、ＣＮ９８５、ＣＮ９８５Ｂ８８、ＣＮ９８６、ＣＮ９８９、ＣＮ９９１、ＣＮ９９２、ＣＮ９９４、ＣＮ９９６、ＣＮ９９７、ＣＮ９９９、ＣＮ９００１、ＣＮ９００２、ＣＮ９００４、ＣＮ９００５、ＣＮ９００６、ＣＮ９００７、ＣＮ９００８、ＣＮ９００９、ＣＮ９０１０、ＣＮ９０１１、ＣＮ９０１３、ＣＮ９０１８、ＣＮ９０１９、ＣＮ９０２４、ＣＮ９０２５、ＣＮ９０２６、ＣＮ９０２８、ＣＮ９０２９、ＣＮ９０３０、ＣＮ９０６０、ＣＮ９１６５、ＣＮ９１６７、ＣＮ９１７８、ＣＮ９２９０、ＣＮ９７８２、ＣＮ９７８３、ＣＮ９７８８、ＣＮ９８９３；並びにダイセル・サイテック株式会社製のＥＢＥＣＲＹＬ２１０、ＥＢＥＣＲＹＬ２２０、ＥＢＥＣＲＹＬ２３０、ＥＢＥＣＲＹＬ２７０、ＫＲＭ８２００、ＥＢＥＣＲＹＬ５１２９、ＥＢＥＣＲＹＬ８２１０、ＥＢＥＣＲＹＬ８３０１、ＥＢＥＣＲＹＬ８８０４、ＥＢＥＣＲＹＬ８８０７、ＥＢＥＣＲＹＬ９２６０、ＫＲＭ７７３５、ＫＲＭ８２９６、ＫＲＭ８４５２、ＥＢＥＣＲＹＬ４８５８、ＥＢＥＣＲＹＬ８４０２、ＥＢＥＣＲＹＬ９２７０、ＥＢＥＣＲＹＬ８３１１、ＥＢＥＣＲＹＬ８７０１からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。
単官能ラジカル重合性化合物（Ｅ２）は、例えばＮ−ビニルホルムアミド、ビニルカプロラクタム、ビニルピロリドン、フェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、１，２−ブチレンオキサイド、１，３−ブタジエンモノオキサイド、１，２−エポキシドデカン、エピクロロヒドリン、１，２−エポキシデカン、スチレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、３−ビニルシクロヘキセンオキサイド、４−ビニルシクロヘキセンオキサイド、Ｎ−ビニルピロリドン及びＮ−ビニルカプロラクタムからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。
光重合開始剤（Ｂ）は、紫外線が照射されるとラジカル種を生じさせる化合物であれば、特に制限されない。光重合開始剤（Ｂ）は、例えば芳香族ケトン類、アシルフォスフィンオキサイド化合物、芳香族オニウム塩化合物、有機過酸化物、チオ化合物（チオキサントン化合物、チオフェニル基含有化合物など）、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、及びアルキルアミン化合物からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。
光重合開始剤（Ｂ）は、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤を含有することが好ましい。アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤の例は、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシド及び２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィネートを含む。アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤の製品名の例は、ＢＡＳＦ社製のＩｒｇａｃｕｒｅＴＰＯ、ＩｒｇａｃｕｒｅＴＰＯ−Ｌ及びＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を含む。
組成物（Ｘ）１００質量部に対する光重合開始剤（Ｂ）の量は、例えば１重量部以上１０質量部以下である。
光重合開始剤（Ｂ）は、光重合開始剤（Ｂ）の一部として増感剤を含有してもよい。増感剤は、光重合開始剤（Ｂ）のラジカル生成反応を促進させて、ラジカル重合の反応性を向上させ、かつ架橋密度を向上させうる。増感剤は、例えば９，１０−ジブトキシアントラセン、９−ヒドロキシメチルアントラセン、チオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、アントラキノン、１，２−ジヒドロキシアントラキノン、２−エチルアントラキノン、１，４−ジエトキシナフタレン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジエチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノベンゾフェノン、ｐ−ジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ｐ−ジメチルアミノベンズアルデヒド、及びｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒドからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。
組成物（Ｘ）中の増感剤の含有量は、例えば組成物（Ｘ）の固形分１００質量部に対して、０．１質量部以上５質量部以下であり、好ましくは０．１質量部以上３質量部以下である。増感剤の含有量がこのような範囲であれば、空気中で組成物（Ｘ）を硬化させることができ、組成物（Ｘ）の硬化を窒素雰囲気等の不活性雰囲気下で行う必要がなくなる。
組成物（Ｘ）は、光重合開始剤（Ｂ）に加えて、重合促進剤を含有してもよい。重合促進剤は、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸−２−エチルヘキシル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル、安息香酸−２−ジメチルアミノエチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸ブトキシエチルといったアミン化合物を含有する。
組成物（Ｘ）は、吸湿剤（Ｅ）を更に含有してもよい。吸湿剤（Ｅ）は、吸湿性を有する無機粒子であることが好ましく、例えばゼオライト粒子、シリカゲル粒子、塩化カルシウム粒子、及び酸化チタンナノチューブ粒子からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することが好ましい。吸湿剤（Ｅ）がゼオライト粒子を含有することが特に好ましい。
平均粒径２００ｎｍ以下のゼオライト粒子は、例えば一般的な工業用ゼオライトを粉砕することで製造できる。ゼオライト粒子を製造するに当たって、ゼオライトを粉砕してから水熱合成などによって結晶化させてもよく、この場合、ゼオライト粒子は特に高い吸湿性を有することができる。このようなゼオライト粒子の製造方法は、特開２０１６−６９２６６号公報、特開２０１３−０４９６０２号公報などにより公知である。
ゼオライト粒子は、ナトリウムイオンを含有することが好ましい。そのためには、ゼオライト粒子は、ナトリウムイオンを含有するゼオライトから製造されることが好ましく、ナトリウムイオンのうちＡ型ゼオライト、Ｘ型ゼオライト及びＹ型ゼオライトからなる群から選択される少なくとも一種の材料から製造されることがより好ましい。ゼオライト粒子がＡ型ゼオライトのうち４Ａ型ゼオライトから製造されることが特に好ましい。これらの場合、ゼオライト粒子は、水分の吸着に好適な結晶構造を有する。
平均粒径２００ｎｍ以下のゼオライト粒子の製造方法の一具体例を示す。まず、原料であるゼオライト粉を準備し、このゼオライト粉を物理粉砕する。例えばゼオライト粉を水と混合してスラリーを調製し、このスラリーをビーズミル粉砕機にかけることで、ゼオライト粉を物理粉砕できる。
続いて、水熱合成によりゼオライト粉を結晶化させる。例えば物理粉砕後のゼオライト粉を含むスラリーを、オートクレーブで加熱することで、水熱合成を行うことができる。水熱合成の条件は、例えば加熱温度１５０〜２００℃の範囲内、加熱時間１５〜２４時間の範囲内である。
続いて、ゼオライト粉を乾燥する。乾燥温度は例えば１５０〜２００℃の範囲内であり、乾燥時間は例えば２〜３時間の範囲内である。続いて、必要に応じ、乾燥後のゼオライト粉を乳鉢などを用いて解砕してから篩いにかけることで粒径を整える。
続いて、必要に応じ、ゼオライト粉にイオン交換処理を施してもよい。イオン交換処理は、例えばゼオライト粉を、マグネシウムイオンを含有する水溶液中に分散させて混合物を調製し、この混合物を加熱することで行われる。より具体的には、イオン交換処理は例えば次のように行われる。まずゼオライト粉を、塩化マグネシウム及び水と混合し、得られた混合物を加熱しながら撹拌する処理をする。この処理の間、撹拌を一時的に停止してから混合物の上澄みを捨て、続いて混合物に水を補充してから撹拌を再開するという操作を、適当な間隔をあけて複数回繰り返すことが好ましい。この処理における加熱温度は４０〜８０℃の範囲内、処理時間は６〜８時間の範囲内であることが好ましい。
イオン交換処理を施した場合、続いて、ゼオライト粉を乾燥する。乾燥温度は例えば１５０〜２００℃の範囲内であり、乾燥時間は例えば２〜３時間の範囲内である。続いて、必要に応じ、乾燥後のゼオライト粉を乳鉢などを用いて解砕してから篩いにかけることで粒径を整える。これにより、平均粒径２００ｎｍ以下のゼオライト粒子を得ることができる。
ゼオライト粉の結晶化を、シリケート及びアルカリ金属酸化物の存在下で行うこともできる。その場合の平均粒径２００ｎｍ以下のゼオライト粒子の製造方法の具体例を示す。まず、ゼオライト粉を準備する。ゼオライト粉は、ａＭ１2Ｏ・ｂＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3・ｃＭｅの組成を有することが好ましい。Ｍ１はアルカリ金属、プロトン、又はアンモニウムイオン（ＮＨ4 +）であり、Ｍｅはアルカリ土類金属であり、ａは０．０１〜１の範囲内の数であり、ｂは２０〜８０の範囲内の数であり、ｃは０〜１の範囲内の数である。ゼオライト粉は、ナトリウムイオンを含有するゼオライトを含むことが好ましく、ナトリウムイオンのうちＡ型ゼオライト、Ｘ型ゼオライト及びＹ型ゼオライトからなる群から選択される少なくとも一種の材料を含むことがより好ましい。ゼオライト粉がＡ型ゼオライトのうち４Ａ型ゼオライトを含むことが特に好ましい。このゼオライト粉を物理粉砕する。例えばゼオライト粉をビーズミル粉砕機にかけることで、ゼオライト粉を物理粉砕できる。
物理粉砕後のゼオライト粉を、Ｍ２2Ｏ、ＳｉＯ2及びＨ2Ｏを含有する溶液に分散させ、スラリーを調製する。Ｍ２はアルカリ金属であり、好ましくはＫ又はＮａである。Ｍ２2Ｏ／Ｈ2Ｏのモル比は例えば０．００３〜０．０１の範囲内であり、ＳｉＯ2／Ｈ2Ｏのモル比は例えば０．００６〜０．０２５の範囲内である。ゼオライト粉の量は、例えば溶液１００ｍｌに対して０．５〜１０ｇである。
このスラリーをオートクレーブで加熱することで、ゼオライト粉の結晶化を行うことができる。その条件は、例えば加熱温度１００〜２３０℃の範囲内、加熱時間１〜２４時間の範囲内である。続いて、ゼオライト粉を洗浄してから乾燥させる。これにより、平均粒径２００ｎｍ以下のゼオライト粒子を得ることができる。
ゼオライト粒子のｐＨは７以上１０以下であることが好ましい。ゼオライト粒子のｐＨが７以上であると、ゼオライト粒子の結晶が破壊されにくくなり、そのためゼオライト粒子を含有する組成物（Ｘ）から作製された封止材が特に高い吸湿性を有することができる。また、ゼオライト粒子のｐＨが１０以下であると、組成物（Ｘ）を硬化させる場合にゼオライト粒子が硬化を阻害しにくい。
なお、ゼオライト粒子のｐＨは、イオン交換水９９．９５ｇにゼオライト粒子０．０５ｇを入れて得られた分散液を、９０℃で２４時間加熱してから、分散液の上澄みのｐＨをｐＨ測定器で測定することで得られる値である。ｐＨ測定器としては、例えば堀場製作所製のコンパクトｐＨメータ＜ＬＡＱＵＡｔｗｉｎ＞Ｂ−７１１を用いることができる。
ゼオライト粒子のｐＨが７以上１０以下であるためには、ゼオライト粒子が、カウンターカチオンとしてプロトンを有するＦＡＵ Ｙ型のゼオライトからなることが好ましい。
ゼオライト粒子を作製する過程において、ゼオライトの水熱合成を行う場合に、ｐＨの調整のための処理を施してもよい。ｐＨの調整のための処理は、例えば水熱合成のために調製されたゼオライト粉を含むスラリーを加熱する前、スラリーの加熱中、又はスラリーの加熱後に行われる。ｐＨの調整は、例えばスラリーに酸を添加することで行われる。酸は、例えば塩酸、硫酸、硝酸といった無機酸と、ギ酸、酢酸、シュウ酸といった有機酸とからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。
吸湿剤（Ｅ）の平均粒径は、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。この平均粒径が２００ｎｍ以下であれば、硬化物は特に高い透明性を有することができる。また、この平均粒径が１０ｎｍ以上であれば、吸湿剤（Ｅ）の良好な吸湿性を維持できる。なお、この平均粒径は、動的光散乱法による測定結果から算出されるメディアン径、すなわち累積５０％径（Ｄ５０）である。なお、測定装置としては、マイクロトラック・ベル株式会社のナノトラックＮａｎｏｔｒａｃ Ｗａｖｅシリーズを用いることができる。
吸湿剤（Ｅ）の平均粒径は、１５０ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であれば更に好ましく、７０ｎｍ以下であれば特に好ましい。また、吸湿剤（Ｅ）の平均粒径が２０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であればより好ましい。この場合、硬化物は、特に良好な透明性と吸湿性とを有することができる。
吸湿剤（Ｅ）の累積９０％径（Ｄ９０）が１００ｎｍ以下であることも好ましい。この場合、硬化物は特に高い透明性を有することができる。
組成物（Ｘ）の全量に対する吸湿剤（Ｅ）の割合は、１質量％以上２０質量％以下であることが好ましい。吸湿剤（Ｅ）の割合が１質量％以上であれば硬化物は特に高い吸湿性を有することができる。また、吸湿剤（Ｅ）の割合が２０質量％以下であれば組成物（Ｘ）の粘度を特に低減でき、組成物（Ｘ）がインクジェット法で塗布可能な程度の十分な低粘度を有することもできる。吸湿剤（Ｅ）の割合は、３質量％以上であれば更に好ましく、５質量％以上であれば特に好ましい。また、吸湿剤（Ｅ）の割合は、１５質量％以下であればより好ましく、１３質量％以下であれば特に好ましい。
組成物（Ｘ）は、吸湿剤（Ｅ）以外の無機充填材を更に含有してもよい。特に、組成物（Ｘ）は、ナノサイズの高屈折率粒子を含有することが好ましい。高屈折率粒子の例はジルコニア粒子を含む。組成物（Ｘ）が高屈折率粒子を含有すると、硬化物の良好な透明性を維持しながら、硬化物を高屈折率化することができる。そのため、硬化物を有機ＥＬ発光装置１における封止材５に適用した場合に、封止材５を透過して外部へ出射する光の取り出し効率を向上することができる。高屈折率粒子の平均粒径は、５〜３０ｎｍの範囲内であることが好ましく、１０〜２０ｎｍの範囲内であれば更に好ましい。
組成物（Ｘ）中の高屈折率粒子の割合は、硬化物が所望の屈折率を有するように適宜設計される。特に高屈折率粒子は、硬化物の屈折率が１．４５以上、１．５５未満の範囲内になるように組成物（Ｘ）に含有されることが好ましい。この場合、有機ＥＬ発光装置１の光の取り出し効率が特に向上する。
組成物（Ｘ）は、溶剤を含有しないことが好ましい。この場合、組成物（Ｘ）から硬化物を作製する際に組成物（Ｘ）を乾燥させて溶剤を揮発させるような必要がなくなる。
上述の成分を混合することで、組成物（Ｘ）を調製できる。組成物（Ｘ）は２５℃で液状であることが好ましい。
組成物（Ｘ）は、分散剤（Ｆ）を更に含有してもよい。分散剤（Ｆ）は、吸湿剤（Ｅ）に吸着しうる界面活性剤である。分散剤（Ｆ）は、例えば吸湿剤（Ｅ）の粒子に吸着しうる吸着基（アンカーともいう）と、吸着基が吸湿剤（Ｅ）の粒子に吸着することでこの粒子に付着する鎖状又は櫛形状の分子骨格であるテールとを、有する。分散剤（Ｆ）は、例えばテールがアクリル系の分子鎖であるアクリル系分散剤と、テールがウレタン系の分子鎖であるウレタン系分散剤と、テールがポリエステル系の分子鎖であるポリエステル系分散剤とからなら群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。
組成物（Ｘ）が分散剤（Ｆ）を含有すると、吸湿剤（Ｅ）を組成物（Ｘ）中及び硬化物中で良好に分散させることができる。このため、硬化物及び封止材５が吸湿剤（Ｅ）を含有するにもかかわらず、硬化物及び封止材５の透明性が吸湿剤（Ｅ）によって低下されにくい。また、分散剤（Ｆ）は、組成物（Ｘ）の保管中における吸湿剤（Ｅ）の凝集を効果的に抑制できる。そのため組成物（Ｘ）の保存安定性が吸湿剤（Ｅ）によって低下されにくい。さらに、硬化物と窒化ケイ素及び酸化ケイ素との間の密着性が分散剤（Ｆ）によって低下されにくい。これは、分散剤（Ｆ）が前記のように吸湿剤（Ｅ）に吸着しやすいため、分散剤（Ｆ）が硬化物と窒化ケイ素及び酸化ケイ素との間の界面に影響を与えにくいからであると、考えられる。このため、封止材５はガラス製の基材との高い密着性を有することができる。また、窒化ケイ素及び酸化ケイ素は有機ＥＬ発光装置１におけるパッシベーション層６の材料として使用されることがある。このため、パッシベーション層６が窒化ケイ素又は酸化ケイ素から作製されている場合、封止材５はパッシベーション層６と高い密着性を有することができる。
分散剤（Ｆ）の沸点は２００℃以上であることが好ましい。この場合、組成物（Ｘ）から分散剤（Ｆ）が揮発しにくいことから、組成物（Ｘ）の保存安定性が更に向上する。
分散剤（Ｆ）は、吸着基として、塩基性の極性官能基と酸性の極性官能基とのうちいずれか一方又は両方を有することが好ましい。この場合、吸湿剤（Ｅ）を組成物（Ｘ）中及び硬化物中で特に良好に分散させることができる。これは、分散剤（Ｆ）が塩基性の極性官能基と酸性の極性官能基とのうちいずれか一方又は両方を有することで、吸湿剤（Ｅ）に吸着しやすく、そのため吸湿剤（Ｅ）を分散させる作用が著しく発現するためと考えられる。
分散剤（Ｆ）は、ポリマーを含んでもよい。ポリマーの重量平均分子量は例えば１０００以上である。ポリマーは、例えば、水酸基含有カルボン酸エステル、長鎖ポリアミノアマイドと高分子量酸エステルとの塩、高分子量ポリカルボン酸の塩、長鎖ポリアミノアマイドと極性酸エステルとの塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリアクリレート、ポリエーテルエステル型アニオン系活性剤、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエステルポリアミン、及びステアリルアミンアセテートからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。分散剤（Ｆ）がポリマーを含有すると、ポリマーが吸湿剤（Ｅ）の粒子に吸着した際に生じる立体障害効果が向上することで、吸湿剤（Ｅ）の分散性が向上しうる。
分散剤（Ｆ）は、例えば塩基性の極性官能基を有する分散剤（Ｆ１）と酸性の極性官能基を有する分散剤（Ｆ２）とのうち、いずれか一方又は両方を含有できる。
塩基性の極性官能基を有する分散剤（Ｆ１）における塩基性の極性官能基は、例えばアミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、及び含窒素複素環基からなる群から選択される少なくとも一種の基を含む。分散剤（Ｆ１）が塩基性の極性官能基を有すると、分散剤（Ｆ１）は吸湿剤（Ｅ）に吸着しやすいため、吸湿剤（Ｅ）の分散性が向上しうる。塩基性の極性官能基は、分散剤（Ｆ１）の吸湿剤（Ｅ）への吸着能を特に高めることができること、吸湿剤（Ｅ）の分散性を特に向上できること、及び組成物（Ｘ）の粘度を特に低下できることから、アミノ基を含むことが好ましい。
塩基性の極性官能基を有する分散剤（Ｆ１）は、例えば商品名：ソルスパース２４０００（アミン価：４１．６ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ソルスパース３２０００（アミン価：３１．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ソルスパース３９０００（アミン価：２５．７ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ソルスパースＪ１００、商品名：ソルスパースＪ２００等の日本ルーブルリゾール株式会社製のソルスパースシリーズ；商品名：ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０８、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２０１３、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０６、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６２（アミン価：１３ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６３（アミン価：１０ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６８（アミン価：１１ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２０５０（アミン価：３０．７ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２１５０（アミン価：５６．７ｍｇＫＯＨ／ｇ）等のビックケミー・ジャパン株式会社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫシリーズ；商品名：ＢＹＫＪＥＴ−９１５１（アミン価：１７．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ＢＹＫＪＥＴ−９１５２（アミン価：２７．３ｍｇＫＯＨ／ｇ）等のビックケミー・ジャパン株式会社製のＢＹＫＪＥＴシリーズ、；及び商品名：アジスパーＰＢ８２１（アミン価：１１．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：アジスパーＰＢ８２２（アミン価：１８．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：アジスパーＰＢ８８１（アミン価：１７．４ｍｇＫＯＨ／ｇ）等の味の素ファインテクノ株式会社製のアジスパーシリーズを含む。
分散剤（Ｆ１）のアミン価は、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましい。また、分散剤（Ｆ１）は、リン酸基を有さないことが好ましい。分散剤（Ｆ１）がリン酸基を有する場合は、リン酸基に由来する酸価がアミン価の値以下であることが好ましい。この場合、分散剤（Ｆ１）が、吸湿剤（Ｅ）を特に良好に分散させることができ、組成物（Ｘ）の保存安定性を特に高めることができ、硬化物の透明性を特に高めることができ、更に硬化物と窒化ケイ素及び酸化ケイ素との間の密着性を特に高めることができる。分散剤（Ｆ１）に含まれうる成分のうち、アミノ基を有しリン酸基を有さない分散剤の例は、ビックケミー社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０８を含む。アミノ基及びリン酸基を有しかつリン酸基に由来する酸価がアミン価の値以下である分散剤の例は、ビックケミー社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２０１３及びビックケミー社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８０を含む。
酸性の極性官能基を有する分散剤（Ｆ２）における酸性の極性官能基は、例えばカルボキシル基である。分散剤（Ｆ２）は、例えばビックケミー社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−Ｐ１０５を含有する。
吸湿剤（Ｅ）１００質量部に対する分散剤（Ｆ）の量は、５質量部以上６０質量部以下であることが好ましい。分散剤（Ｆ）の量が５質量部以上であれば、分散剤（Ｆ）の利点を特に発揮させることができる。分散剤（Ｆ）の量が６０質量部以下であれば、硬化物と、窒化ケイ素及び酸化ケイ素との間の密着性を、より高めることができる。分散剤（Ｆ）の量は１５質量部以上であればより好ましい。分散剤（Ｆ）の量は５０質量部以下であればより好ましく、４０質量部以下であればより更に好ましく、３０質量部以下であれば特に好ましい。
組成物（Ｘ）の２５℃における粘度は５０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。この場合、組成物（Ｘ）を常温下でキャスティング法といった方法で成形することが容易であり、組成物（Ｘ）を常温下でインクジェット法で成形することも可能である。組成物（Ｘ）が化合物（Ａ１）、特に上記の式（１１）に示す化合物、式（１２）に示す化合物及びモルホリンアクリレートからなる群から選択される少なくとも一種の化合物、を含有することで、このような組成物（Ｘ）の低粘度化が可能である。また、組成物（Ｘ）の２５℃における粘度は、２０ｍＰａ・ｓ以下であればより好ましく、１３ｍＰａ・ｓ以下であれば特に好ましい。また、組成物（Ｘ）の粘度は、例えば１ｍＰａ・ｓ以上であり、又は５ｍＰａ・ｓ以上であり、又は１０ｍＰａ・ｓ以上である。
組成物（Ｘ）の４０℃における粘度が１ｍＰａ・ｓ以上５０ｍＰａ・ｓ以下であることも好ましい。この場合、常温における組成物（Ｘ）の粘度がいかなる値であっても、組成物（Ｘ）を僅かに加熱すれば低粘度化させることが可能である。このため、加熱すれば、組成物（Ｘ）をキャスティング法といった方法で成形することが容易であり、組成物（Ｘ）をインクジェット法で成形することも可能である。この粘度が２０ｍＰａ・ｓ以下であればより好ましく、１３ｍＰａ・ｓ以下であれば特に好ましい。また、組成物（Ｘ）の４０℃における粘度は、例えば１ｍＰａ・ｓ以上であり、又は５ｍＰａ・ｓ以上であり、又は１０ｍＰａ・ｓ以上である。
組成物（Ｘ）は、硬化することで、９０℃以上のガラス転移温度を有する硬化物になることが好ましい。すなわち、組成物（Ｘ）の硬化物のガラス転移温度、並びに組成物（Ｘ）から作製される封止材５のガラス転移温度は、９０℃以上であることが好ましい。この場合、組成物（Ｘ）から作製される封止材５は、耐熱性を有することができる。そのため、例えば有機ＥＬ発光装置１の製造時に高温の処理が施される場合、例えば封止材５に重ねてパッシベーション層６をプラズマＣＶＤ法等で作製する場合、並びに有機ＥＬ発光装置１が使用時に高温下に曝される場合、封止材５が劣化しにくい。ガラス転移温度は１００℃以上であればより好ましく、１２０℃以上であれば特に好ましい。特に組成物（Ｘ）がアクリル成分（Ａ２３）といった多官能の化合物を含有すると、硬化物の分子構造が三次元化しやすくなることで、このような硬化物のガラス転移温度を達成することが可能である。
組成物（Ｘ）の硬化物の、厚み寸法が１０μｍである場合の、全光透過率は、９０％以上であることが好ましい。この場合、硬化物を有機ＥＬ発光装置１における封止材５に適用した場合に、封止材５を透過して外部へ出射する光の取り出し効率を特に向上できる。このような硬化物の高い光透過性は、上記で詳細に説明された組成物（Ｘ）の組成によって達成可能である。
３．封止材の作製方法及び有機ＥＬ発光装置の製造方法
組成物（Ｘ）を用いる封止材５の作製方法及び有機ＥＬ発光装置１の製造方法について説明する。
本実施形態では、組成物（Ｘ）をインクジェット法で成形してから、組成物（Ｘ）に紫外線を照射して硬化することで、封止材５を作製することが好ましい。本実施形態では組成物（Ｘ）の低粘度化が可能であるため、インクジェット法で組成物（Ｘ）を成形することが可能である。
組成物（Ｘ）をインクジェット法で塗布するに当たっては、組成物（Ｘ）が常温で十分に低い粘度を有する場合、例えば２５℃における粘度が５０ｍＰａ・ｓ以下、特に２０ｍＰａ・ｓ以下である場合には、組成物（Ｘ）を加熱せずにインクジェット法で塗布することで成形できる。
組成物（Ｘ）が加熱されることで低粘度化する性質を有する場合、組成物（Ｘ）を加熱してから組成物（Ｘ）をインクジェット法で塗布して成形してもよい。組成物（Ｘ）の４０℃における粘度が５０ｍＰａ・ｓ以下、特に２０ｍＰａ・ｓ以下である場合、組成物（Ｘ）を僅かに加熱しただけで低粘度化させることができ、この低粘度化した組成物（Ｘ）をインクジェット法で吐出することができる。組成物（Ｘ）の加熱温度は、例えば２０℃以上５０℃以下である。
図１に示す第一例の有機ＥＬ発光装置１の作製方法について説明する。例えばまず、支持基板２を準備する。この支持基板２の一面上に、有機ＥＬ素子４を設ける。有機ＥＬ素子４は、蒸着法、塗布法といった適宜の方法で作製できる。特に有機ＥＬ素子４を、インクジェット法といった塗布法で作製することが好ましい。
次に、パッシベーション層６を設ける。パッシベーション層６は、例えば蒸着法で作製できる。
次に、組成物（Ｘ）をインクジェット法で、支持基板２の一面及び有機ＥＬ素子４を覆うように成形する。なお、パッシベーション層６を設けている場合にはパッシベーション層６を覆うように組成物（Ｘ）を成形する。有機ＥＬ素子４の形成と組成物（Ｘ）の塗布のいずれにもインクジェット法を適用すれば、有機ＥＬ発光装置１の製造効率を特に向上できる。
次に、透明基板３を組成物（Ｘ）に重ねる。透明基板３は、例えばガラス製基板又は透明樹脂製基板である。
次に外部から透明基板３へ向けて紫外線を照射する。紫外線は透明基板３を透過して組成物（Ｘ）へ到達する。これにより、組成物（Ｘ）内でラジカル重合反応が進行して組成物（Ｘ）が硬化し、硬化物からなる封止材５が作製される。封止材５の厚みは例えば５μｍ以上５０μｍ以下である。
なお、組成物（Ｘ）をインクジェット法以外の方法で成形してもよく、例えばキャスティング法で成形してもよい。
図２に示す第二例の有機ＥＬ発光装置１の作製方法について説明する。
まず、支持基板２を準備する。この支持基板２の一面上に隔壁７を、例えば感光性の樹脂材料を用いてフォトリソグラフィ法で作製する。続いて、支持基板２の一面上に複数の有機ＥＬ素子４を設ける。有機ＥＬ素子４は、蒸着法、塗布法といった適宜の方法で作製できる。特に有機ＥＬ素子４を、インクジェット法といった塗布法で作製することが好ましい。これにより、支持基板２に素子アレイ９を作製する。
次に、素子アレイ９の上に第一パッシベーション層６１を設ける。第一パッシベーション層６１は、例えばプラズマＣＶＤ法といった蒸着法で作製できる。
次に、第一パッシベーション層６１の上に組成物（Ｘ）を、例えばインクジェット法で成形して、塗膜を作製する。有機ＥＬ素子４の形成と組成物（Ｘ）の塗布のいずれにもインクジェット法を適用すれば、有機ＥＬ発光装置１の製造効率を特に向上できる。続いて、塗膜に紫外線を照射することで硬化させて、封止材５を作製する。封止材５の厚みは例えば５μｍ以上５０μｍ以下である。
次に、封止材５の上に第二パッシベーション層６２を設ける。第二パッシベーション層６２は、例えばプラズマＣＶＤ法といった蒸着法で作製できる。
次に、支持基板２の一面上に、第二パッシベーション層６２を覆うように、紫外線硬化性の樹脂材料を設けてから、この樹脂材料に透明基板３を重ねる。透明基板３は、例えばガラス製基板又は透明樹脂製基板である。
次に外部から透明基板３へ向けて紫外線を照射する。紫外線は透明基板３を透過して紫外線硬化性の樹脂材料へ到達する。これにより、紫外線硬化性の樹脂材料が硬化し、第二封止材５２が作製される。
以下、本発明の具体的な実施例を提示する。ただし、本発明は実施例のみに制限されない。
１．組成物の調製
下記表に示す成分を混合することで、実施例及び比較例の組成物を調製した。なお、表中示される成分の詳細は次のとおりである。
・ＴＢＣＨＡ：式（１１）に示す化合物である４−ターシャルブチルシクロヘキシルアクリレート、２５℃での粘度７ｍＰａ・ｓ、ガラス転移温度７７℃、沸点２６５℃。
・ビスコート＃１９６：式（１２）に示す化合物である３，３，５−トリメチルシクロヘキシルアクリレート、２５℃での粘度３ｍＰａ・ｓ、ガラス転移温度５２℃、沸点２３４℃、大阪有機化学工業株式会社製。
・ＣＨＤＭＭＡ：式（１３）に示す化合物であるシクロヘキサンジメタノールモノアクリレート、２５℃での粘度８８ｍＰａ・ｓ、ガラス転移温度１８℃、沸点２９４℃。
・ＡＣＭＯ：モルホリンアクリレート、２５℃での粘度１２ｍＰａ・ｓ、ガラス転移温度１４５℃。
・ＩＢＸＡ：イソボルニルアクリレート、２５℃での粘度８ｍＰａ・ｓ、ガラス転移温度９７℃。
・ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート、２５℃での粘度１０６ｍＰａ・ｓ。
・ポリエチレングリコール２００ジメタクリレート：新中村化学工業製、分子量３３０、２５℃での粘度１４ｍＰａ・ｓ、ガラス転移温度４１℃。
・ポリエチレングリコール２００ジアクリレート、大阪有機化学製、分子量３０８、２５℃での粘度１７ｍＰａ・ｓ、ガラス転移温度４１℃。
・ビスフェノールＡポリエトキシジアクリレート：日本化薬製、品番Ｒ５５１、２５℃での粘度８００ｍＰａ・ｓ。
・Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４：１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、ＢＡＳＦ社製、品名Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４。
・ＩｒｇａｃｕｒｅＴＰＯ：２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシド、ＢＡＳＦ社製、品名Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＴＰＯ。
２．評価試験
実施例及び比較例について、次の評価試験を実施した。その結果を表に示す。
（１）透過率
組成物を塗布して塗膜を作製し、この塗膜を、パナソニック電工株式会社製のＬＥＤ−ＵＶ照射器（ピーク波長３６５ｎｍ）を用いて、約１００ｍＷ／ｃｍ2の条件で１５秒間紫外線照射して光硬化させることで、厚み１０μｍのフィルムを作製した。このフィルムの、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１による全光線透過率を測定した。
フィルムを１２０℃で５００時間加熱した後も、同様にフィルムの全光線透過率を測定した。
（２）粘度
組成物の粘度を、レオメータ（アントンパール・ジャパン社製、型番ＤＨＲ−２）を使用し、温度２５℃、せん断速度１０００ｓ-1の条件で測定した。
（３）ガラス転移温度
組成物を塗布して塗膜を作製し、この塗膜を、パナソニック電工株式会社製のＬＥＤ−ＵＶ照射器（ピーク波長３６５ｎｍ）を用いて、約１００ｍＷ／ｃｍ2の条件で１５秒間紫外線照射することで光硬化させ、厚み１００μｍのフィルムを作製した。
セイコーインスツルメンツ株式会社製の粘弾性スペクトロメータ「ＤＭＳ６１００」を用いて、上記で得られたフィルムのガラス転移温度を測定した。このとき、引張モジュールで周波数を１０Ｈｚとして動的粘弾性測定（ＤＭＡ）を行い、昇温速度５℃／分の条件で室温から２００℃まで昇温した際のｔａｎδが極大を示す温度をガラス転移温度とした。
（４）インクジェット性
組成物をインクジェットプリンター（マイクロジェット社製、「ＮａｎｏＰｒｉｎｔｅｒ３００」）のカートリッジに入れ、インクジェットプリンターにおけるノズルからカートリッジ内の組成物を吐出しうることを確認してから、ノズルから組成物を吐出させてテストパターンを連続で印刷した。その結果、組成物を１時間吐出できるとともに吐出動作が安定していた場合を「Ａ」、組成物を１時間吐出できたが吐出動作が断続的に不安定になった場合を「Ｂ」、吐出開始から１時間経過前にノズルが詰まって組成物を吐出できなくなった場合を「Ｃ」と、評価した。
（５）密着性
二つのスライドガラス（寸法７６ｍｍ×５２ｍｍ×１ｍｍ）の各々の上に、厚み１００ｎｍのＳｉＯＮ膜を形成することで、二つの基板を作製した。一方の基板のＳｉＯＮ膜に組成物を塗布して厚み５０μｍの塗膜を形成し、この塗膜の上に他方の基板のＳｉＯＮ膜製膜を重ねた。続いて、塗膜を、パナソニック電工株式会社製のＬＥＤ−ＵＶ照射器（ピーク波長３６５ｎｍ）を用いて、約３０ｍＷ／ｃｍ2の条件で２０秒間紫外線照射することで、硬化させた。次に、二つの基板の間の密着強度を、ＪＩＳ Ｋ６８５４に基づくＴ字ピール試験を行うことで、評価した。

Claims (9)

  1. アクリル化合物（Ａ）及び光重合開始剤（Ｂ）を含有し、
    前記アクリル化合物（Ａ）は、下記式（１）に示す化合物、モルホリンアクリレート、ジエチルアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド及びペンタメチルピペリジルメタクリレ−トからなる群から選択される少なくとも一種の成分である化合物（Ａ１）を含有し、
    前記式（１）において、Ｒ0はＨ又はメチル基であり、Ｘは単結合又は二価の炭化水素基であり、Ｒ1からＲ11の各々はＨ、アルキル基又は−Ｒ12−ＯＨ、Ｒ12はアルキレン基でありかつＲ1からＲ11のうち少なくとも一つはアルキル基又は−Ｒ12−ＯＨであり、Ｒ1からＲ11は互いに化学結合していない、
    有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物。
  2. 前記化合物（Ａ１）は、下記式（１１）に示す化合物、下記式（１２）に示す化合物及び下記式（１３）に示す化合物からなる群から選択される、少なくとも一種の化合物を含む、
    請求項１に記載の有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物。
  3. インクジェット法で成形される、
    請求項１又は２に記載の有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物。
  4. 前記化合物（Ａ１）は、前記式（１）に示す化合物のみを含有し、
    前記アクリル化合物（Ａ）は、窒素原子を有する化合物を含有しない、
    請求項１から３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物。
  5. 硬化することで、９０℃以上のガラス転移温度を有する硬化物になる、
    請求項１から４のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物。
  6. ２５℃での粘度が２０ｍＰ・ｓ以下である、
    請求項１から５のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物。
  7. 吸湿剤（Ｅ）を更に含有する、
    請求項１から６のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物。
  8. 有機ＥＬ素子と前記有機ＥＬ素子を覆う封止材とを備える有機ＥＬ発光装置を製造する方法であり、
    請求項１から７のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物をインクジェット法で成形してから、前記有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物に紫外線を照射して硬化させることで前記封止材を作製することを含む、
    有機ＥＬ発光装置の製造方法。
  9. 有機ＥＬ素子と、前記有機ＥＬ素子を覆う封止材とを備え、前記封止材は、請求項１から７のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子封止用紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物である、
    有機ＥＬ発光装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021123692A (ja) * 2020-02-07 2021-08-30 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 紫外線硬化性樹脂組成物、光学部品、光学部品の製造方法、発光装置、及び発光装置の製造方法

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010189471A (ja) * 2009-02-16 2010-09-02 Mitsubishi Rayon Co Ltd 硬化性樹脂組成物、その硬化物からなる封止材および充填剤
JP2014225380A (ja) * 2013-05-16 2014-12-04 積水化学工業株式会社 有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤及び有機エレクトロルミネッセンス表示素子の製造方法
JP2014532769A (ja) * 2011-10-21 2014-12-08 テーザ・ソシエタス・ヨーロピア 特に電子的装置のカプセル化のための接着剤
JP2015524494A (ja) * 2012-07-19 2015-08-24 ロリク アーゲーＲｏｌｉｃ Ａｇ 水捕捉層用放射線硬化性組成物、及びその製造方法
US20150315425A1 (en) * 2014-04-30 2015-11-05 Samsung Sdi Co., Ltd. Adhesive film and optical display including the same
JP2016204597A (ja) * 2015-04-28 2016-12-08 Ｋｊケミカルズ株式会社 Ｎ−置換（メタ）アクリルアミドを用いた重合性組成物、その重合物及びそれらからなる成形品
JP2017043060A (ja) * 2015-08-28 2017-03-02 富士フイルム株式会社 ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの転写方法
JP2017197616A (ja) * 2016-04-26 2017-11-02 Jnc株式会社 熱硬化性樹脂組成物、およびその硬化物を利用した電子デバイス
JP2018510449A (ja) * 2014-12-18 2018-04-12 ロリク アーゲーＲｏｌｉｃ Ａｇ 親水性ナノ粒子を含む放射線硬化性組成物
WO2018074507A1 (ja) * 2016-10-19 2018-04-26 積水化学工業株式会社 有機ｅｌ表示素子用封止剤及び有機ｅｌ表示素子用封止剤の製造方法
JP2019143057A (ja) * 2018-02-22 2019-08-29 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 光硬化性組成物およびディスプレイ

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010189471A (ja) * 2009-02-16 2010-09-02 Mitsubishi Rayon Co Ltd 硬化性樹脂組成物、その硬化物からなる封止材および充填剤
JP2014532769A (ja) * 2011-10-21 2014-12-08 テーザ・ソシエタス・ヨーロピア 特に電子的装置のカプセル化のための接着剤
JP2015524494A (ja) * 2012-07-19 2015-08-24 ロリク アーゲーＲｏｌｉｃ Ａｇ 水捕捉層用放射線硬化性組成物、及びその製造方法
JP2014225380A (ja) * 2013-05-16 2014-12-04 積水化学工業株式会社 有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤及び有機エレクトロルミネッセンス表示素子の製造方法
US20150315425A1 (en) * 2014-04-30 2015-11-05 Samsung Sdi Co., Ltd. Adhesive film and optical display including the same
JP2018510449A (ja) * 2014-12-18 2018-04-12 ロリク アーゲーＲｏｌｉｃ Ａｇ 親水性ナノ粒子を含む放射線硬化性組成物
JP2016204597A (ja) * 2015-04-28 2016-12-08 Ｋｊケミカルズ株式会社 Ｎ−置換（メタ）アクリルアミドを用いた重合性組成物、その重合物及びそれらからなる成形品
JP2017043060A (ja) * 2015-08-28 2017-03-02 富士フイルム株式会社 ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの転写方法
JP2017197616A (ja) * 2016-04-26 2017-11-02 Jnc株式会社 熱硬化性樹脂組成物、およびその硬化物を利用した電子デバイス
WO2018074507A1 (ja) * 2016-10-19 2018-04-26 積水化学工業株式会社 有機ｅｌ表示素子用封止剤及び有機ｅｌ表示素子用封止剤の製造方法
JP2019143057A (ja) * 2018-02-22 2019-08-29 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 光硬化性組成物およびディスプレイ

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021123692A (ja) * 2020-02-07 2021-08-30 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 紫外線硬化性樹脂組成物、光学部品、光学部品の製造方法、発光装置、及び発光装置の製造方法

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