JP2019197756A - チップの製造方法 - Google Patents
チップの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019197756A JP2019197756A JP2018089323A JP2018089323A JP2019197756A JP 2019197756 A JP2019197756 A JP 2019197756A JP 2018089323 A JP2018089323 A JP 2018089323A JP 2018089323 A JP2018089323 A JP 2018089323A JP 2019197756 A JP2019197756 A JP 2019197756A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- laser beam
- modified layer
- region
- line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 45
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 153
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 23
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 11
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 1
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
- Dicing (AREA)
Abstract
Description
11a 表面
11b 裏面
11c 環状フレーム
11d DAF
11e エキスパンドテープ
12 レーザー加工装置
13 デバイス領域
14 レーザー照射ユニット
15 外周余剰領域
15a ノッチ
16 レーザー加工ヘッド
17 分割予定ライン(ストリート)
17a 延長線
17b1,17b2,17b3,17c1,17c2 ライン
18 撮像ユニット
19 デバイス
19a チップ
20 チャックテーブル(保持手段)
20a 保持面
21 保護部材
25 第1改質層領域
25a,25b,25c 改質層
27 第2改質層領域
27a,27b,27c 改質層
28 研削装置(研削手段)
30 研削ホイール
32 スピンドル
34 ホイールマウント
36 ホイール基台
38 研削砥石
40 チャックテーブル
40a 保持面
50 テープ拡張装置
52 フレーム保持テーブル
54 支持脚
56 プレート
58 ピストンロッド
60 チャックテーブル
60a 保持面
60b 枠部
60c 吸引保持部
Claims (2)
- 複数の分割予定ラインで区画された複数の領域のそれぞれに設けられたデバイスを含むデバイス領域と、該デバイス領域を囲む外周余剰領域とを表面に有するウェーハを該分割予定ラインに沿って分割することにより複数のチップを製造するチップの製造方法であって、
該ウェーハの該表面側に保護部材を配置する配置ステップと、
該配置ステップの後に、該ウェーハの保護部材側をチャックテーブルで保持する保持ステップと、
該保持ステップの後に、該ウェーハに対して透過性を有する波長のレーザービームの集光点を該ウェーハ内部の該表面から第1深さの位置に合わせるように、該レーザービームを該ウェーハの裏面側から照射し、該分割予定ラインの延長線上における該ウェーハの外周余剰領域のみに第1改質層を形成する第1レーザービーム照射ステップと、
該第1レーザービーム照射ステップの後に、該レーザービームの該集光点を該第1深さ位置よりも該表面から離れた該ウェーハ内部の第2深さの位置に合わせるように、該レーザービームを該ウェーハの該裏面側から照射し、該分割予定ラインに沿って第2改質層を形成する第2レーザービーム照射ステップと、
該第1レーザービーム照射ステップ及び第2レーザービーム照射ステップの後に、該ウェーハに外力を付与し、該ウェーハを該分割予定ラインに沿って複数のチップに分割する分割ステップと、
を含むことを特徴とするチップの製造方法。 - 該分割ステップでは、
該ウェーハの該裏面側から研削手段によって該ウェーハを研削し所定の厚さへ加工するとともに、該ウェーハを研削する動作により、該第1改質層及び該第2改質層を起点として該ウェーハを該分割予定ラインに沿って分割することを特徴とする請求項1に記載のチップの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018089323A JP7051222B2 (ja) | 2018-05-07 | 2018-05-07 | チップの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018089323A JP7051222B2 (ja) | 2018-05-07 | 2018-05-07 | チップの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019197756A true JP2019197756A (ja) | 2019-11-14 |
JP7051222B2 JP7051222B2 (ja) | 2022-04-11 |
Family
ID=68537792
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018089323A Active JP7051222B2 (ja) | 2018-05-07 | 2018-05-07 | チップの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7051222B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7370902B2 (ja) | 2020-02-28 | 2023-10-30 | 株式会社ディスコ | クラック検出方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005268752A (ja) * | 2004-02-19 | 2005-09-29 | Canon Inc | レーザ割断方法、被割断部材および半導体素子チップ |
JP2012016722A (ja) * | 2010-07-08 | 2012-01-26 | Disco Corp | レーザー加工装置およびレーザー加工方法 |
JP2012178523A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-13 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの分割方法 |
JP2012195543A (ja) * | 2011-03-18 | 2012-10-11 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの加工方法 |
JP2013207099A (ja) * | 2012-03-28 | 2013-10-07 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの分割方法 |
JP2013235917A (ja) * | 2012-05-08 | 2013-11-21 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの分割方法 |
JP2015138951A (ja) * | 2014-01-24 | 2015-07-30 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
JP6598702B2 (ja) * | 2016-02-16 | 2019-10-30 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
-
2018
- 2018-05-07 JP JP2018089323A patent/JP7051222B2/ja active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005268752A (ja) * | 2004-02-19 | 2005-09-29 | Canon Inc | レーザ割断方法、被割断部材および半導体素子チップ |
JP2012016722A (ja) * | 2010-07-08 | 2012-01-26 | Disco Corp | レーザー加工装置およびレーザー加工方法 |
JP2012178523A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-13 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの分割方法 |
JP2012195543A (ja) * | 2011-03-18 | 2012-10-11 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの加工方法 |
JP2013207099A (ja) * | 2012-03-28 | 2013-10-07 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの分割方法 |
JP2013235917A (ja) * | 2012-05-08 | 2013-11-21 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの分割方法 |
JP2015138951A (ja) * | 2014-01-24 | 2015-07-30 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
JP6598702B2 (ja) * | 2016-02-16 | 2019-10-30 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7370902B2 (ja) | 2020-02-28 | 2023-10-30 | 株式会社ディスコ | クラック検出方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7051222B2 (ja) | 2022-04-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN107305863B (zh) | 晶片的加工方法 | |
TWI637460B (zh) | 保持台 | |
JP2008283025A (ja) | ウエーハの分割方法 | |
KR102277934B1 (ko) | 반도체 디바이스 칩의 제조 방법 | |
JP5992731B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
KR102250216B1 (ko) | 웨이퍼의 가공 방법 | |
JP6506662B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP2017103406A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP6347714B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP2016054205A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP2017059684A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP2011009562A (ja) | 半導体ウエーハの加工方法 | |
JP2011151070A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP7051222B2 (ja) | チップの製造方法 | |
TWI685886B (zh) | 晶圓的加工方法 | |
JP5916336B2 (ja) | ウエーハの研削方法 | |
US20150093882A1 (en) | Wafer processing method | |
JP6576211B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP2023026825A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
TWI813624B (zh) | 晶圓之加工方法 | |
JP2013175499A (ja) | ウエーハの分割方法 | |
JP2018026426A (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP2020129642A (ja) | エキスパンドシートの拡張方法 | |
JP2017059686A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP2017011134A (ja) | デバイスチップの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210302 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220210 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220329 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220329 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7051222 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |