JP2019194145A - ガラス基板 - Google Patents
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Abstract
Description
[1]深さ10〜50nmにおけるフッ素(F)量が10原子%以上である無機多孔質層を少なくとも片面に備えるガラス基板。
[2]前記無機多孔質層の厚みが200nm以上である[1]に記載のガラス基板。
[3]前記無機多孔質層に結晶質相が含まれる[1]または[2]に記載のガラス基板。
[4]前記無機多孔質層の空隙率が30%以上である[1]〜[3]のいずれか1に記載のガラス基板。
[5]フロートガラスである[1]〜[4]のいずれか1に記載のガラス基板。
以下、本発明の実施形態に係るガラス基板について説明する。本発明の実施形態に係るガラス基板は、深さ10〜50nmにおけるフッ素(F)量が10原子%以上である無機多孔質層を少なくとも片面に備える。無機多孔質層とは、無機物からなる多数の孔(開放孔)が形成された層をいう。
ρP=ρG−(ΔM/d・S) (1)
α={1−(ρP/ρF)}×100 (2)
ここで、αは空隙率(%)、ρPは無機多孔質層の密度、ρGはガラス基板の密度、ρFは無機多孔質層を構成する結晶成分の平均密度、ΔMはフッ化水素ガスによる処理前後(孔形成処理前後)のガラスの重量差、dは無機多孔質層の厚み、Sは処理したガラスの面積を示す。
次に、本発明のガラス基板の製造方法について説明する。本発明のガラス基板の製造方法は、ガラスの少なくとも片面にフッ素またはフッ化物を含有する気体を供給して無機多孔質層を形成する工程を含む。フッ化物としてはフッ化水素が好ましい。
d=α’×c×t (3)
得られるガラス基板の組成が、下記組成となるように、ガラス原料10を調製し、ガラス原料10を溶解装置200に投入した。(組成)酸化物基準の質量百分率表示で、SiO2 61%、Al2O3 11%、Na2O 12%、K2O 6%、MgO 7%、ZrO2 2%を含有する。
処理条件(処理温度(℃)、HF濃度(体積%)、処理時間(秒))を表1に示す条件とした以外は例1と同様の条件でガラス基板を得た。例6および例7は、フッ化水素ガスによる処理は行わず、例7はガラス基板の両面にPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムを貼付した。
例1〜5で得られたガラス基板それぞれを幅10mm×長さ10mmに切断し、ガラス基板のガラス表面からの深さ10nm、18nm、26nm、34nm、42nm及び50nmにおけるそれぞれF量(原子%)をX線光電子分光装置(XPS、アルバック・ファイ社製QuanteraII)により測定し、各点のF濃度の平均値を深さ10〜50nmにおけるフッ素量として比較した。
例1〜例5のガラス基板に対して、フッ化水素ガスによる処理前後のガラスの重量差、ガラス断面の走査型電子顕微鏡(SEM)観察を実施し、空隙率αを下記式で算出した。
ρP=ρG−(ΔM/d・S) (1)
α={1−(ρP/ρF)}×100 (2)
ここで、αは空隙率(%)、ρPは無機多孔質層の密度、ρGはガラス基板の密度、ρFは無機多孔質層を構成する結晶成分の平均密度、ΔMはフッ化水素ガスによる処理前後のガラスの重量差、dは無機多孔質層の厚み、Sは処理したガラスの面積を示す。
無機多孔質層における結晶質相の有無を粉末X線回折(XRD)により測定した。
フッ化水素ガスによる処理後のガラス活断面を走査型電子顕微鏡(SEM、HITACHI社製SU−8030)で観察することで無機多孔質層厚みを測定した。
例1〜例5のガラス基板は処理面(ボトム面)、例6のガラス基板は任意の片面、例7のガラス基板はPETフィルム貼付面に対し、それぞれSiNのピンを取り付けた表面性測定器(新東科学社製、HEIDON 14FW)を用いて50gの荷重をかけて擦った。その後、無機多孔質層またはPETフィルムを除去し、顕微鏡で傷の有無を評価した。耐擦傷性が○とは顕微鏡観察で擦った場所に20μm以上の傷が存在しなかった、又は3点未満しか存在しなかったことを意味し、×とは擦った場所に20μm以上の傷が3点以上存在したことを意味する。
例1〜例5のガラス基板は処理面(ボトム面)、例6のガラス基板は任意の片面、例7のガラス基板はPETフィルム貼付面に対し、それぞれガラスカッター(三星ダイヤモンド社製、GCC−P−M15P)で直線に切線を入れて手折りした際に、折れ不良が生じるかを評価した。この際、折れ不良とは、ガラスカッターで入れた切線と、実際に割れたガラス基板の割断線tの距離が2mm以上ある場合を意味する。切断性が○とは当該距離が2mm未満であったことを意味し、×とは当該距離が2mm以上であったことを意味する。
例1〜例7のガラス基板を、大気雰囲気の箱型電気炉内で500℃、10分間加熱した後、ガラス基板の外観に変化が無いかを調査した。耐熱性が○とは外観に変化がなかったことを意味し、×とは外観が変化したことを意味する。
表1中、「−」とは未実施又は存在しないことを意味する。
図4は例3のガラス基板のXPS分析結果であり、ガラス基板の深さに対するフッ素原子濃度プロファイルを示す。図5は例5のガラス基板の活断面を示すSEM像であり、無機多孔質の空隙率や厚みを測定することができる。図6は例3のガラス基板のXRDパターンであり、結晶質相の存在を確認することができる。
14 ガラスリボン
14b ボトム面
70、80 インジェクタ
71、81 供給口
74、84 流路
75、85 排気口
100 フロートガラス製造装置
200 溶解装置
300 成形装置
310 溶融スズ
320 浴槽
400 徐冷装置
Claims (5)
- 深さ10〜50nmにおけるフッ素(F)量が10原子%以上である無機多孔質層を少なくとも片面に備えるガラス基板。
- 前記無機多孔質層の厚みが200nm以上である請求項1に記載のガラス基板。
- 前記無機多孔質層に結晶質相が含まれる請求項1または2に記載のガラス基板。
- 前記無機多孔質層の空隙率が30%以上である請求項1〜3のいずれか1項に記載のガラス基板。
- フロートガラスである請求項1〜4のいずれか1項に記載のガラス基板。
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