JP2019181846A - 液体吐出ヘッド基板、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、および、液体吐出ヘッド基板の製造方法 - Google Patents

液体吐出ヘッド基板、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、および、液体吐出ヘッド基板の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】液体吐出ヘッド基板の耐久性の向上に有利な技術を提供する。【解決手段】基板と、基板の表面の上に配された絶縁層と、絶縁層の中に配された導電パターンと、絶縁層の上に配され液体を吐出するための熱エネルギを生成する発熱抵抗素子と、発熱抵抗素子を覆う保護層と、発熱抵抗素子と導電パターンとを電気的に接続する電極プラグと、を含む液体吐出ヘッド基板であって、基板の表面に対する正射影において、発熱抵抗素子と電極プラグとが重なるように、発熱抵抗素子と電極プラグとが互いに接して配され、発熱抵抗素子において、基板の表面に平行な第1の方向に沿って電流が流れ、電極プラグの第1の方向に沿った長さが、発熱抵抗素子の第1の方向に沿った長さよりも短く、基板の表面に平行であって、第1の方向と交差する第2の方向において、電極プラグの第2の方向に沿った長さが、発熱抵抗素子の第2の方向に沿った長さよりも長い。【選択図】図1

Description

本発明は、液体吐出ヘッド基板、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、および、液体吐出ヘッド基板の製造方法に関する。
液体吐出ヘッド基板は、液体を吐出するために液体にエネルギを与える素子を含む。特許文献1には、液体にエネルギを与える発熱抵抗素子を用いた液体吐出ヘッド基板が示されている。
特開2016−137705号公報
特許文献1に示される構造において、電極プラグを形成する際、電極プラグを形成するための金属の埋め込みが不十分となり、形成された電極プラグの表面に凹凸が生じる場合がある。この凹凸は、電極プラグが特許文献1の第4の実施形態に示される形状の場合、長辺方向の端部付近に生じやすい。電極プラグの表面に凹凸が生じると、電極プラグの上に配された発熱抵抗素子の上に形成される保護層が、発熱抵抗素子を一様に被覆できない可能性がある。発熱抵抗素子の一部が保護層によって覆われなかった場合、インクなどの液体が発熱抵抗素子に達し、発熱抵抗素子の動作中に正電位の電極プラグとグランド電位の液体との間に発熱抵抗素子を介して電位差が生じてしまう。この電位差に起因して、保護層が、電気分解の作用によって溶解し、液体吐出ヘッド基板の耐久性が低下してしまう可能性がある。
本発明は、液体吐出ヘッド基板の耐久性の向上に有利な技術を提供することを目的とする。
上記課題に鑑みて、本発明の実施形態に係る液体吐出ヘッド基板は、基板と、基板の表面の上に配された絶縁層と、絶縁層の中に配された導電パターンと、絶縁層の上に配され液体を吐出するための熱エネルギを生成する発熱抵抗素子と、発熱抵抗素子を覆う保護層と、発熱抵抗素子と導電パターンとを電気的に接続する電極プラグと、を含む液体吐出ヘッド基板であって、基板の表面に対する正射影において、発熱抵抗素子と電極プラグとが重なるように、発熱抵抗素子と電極プラグとが互いに接して配され、発熱抵抗素子において、基板の表面に平行な第1の方向に沿って電流が流れ、電極プラグの第1の方向に沿った長さが、発熱抵抗素子の第1の方向に沿った長さよりも短く、基板の表面に平行であって、第1の方向と交差する第2の方向において、電極プラグの第2の方向に沿った長さが、発熱抵抗素子の第2の方向に沿った長さよりも長いことを特徴とする。
本発明によれば、液体吐出ヘッド基板の耐久性の向上に有利な技術を提供することができる。
本発明の実施形態に係る液体吐出ヘッド基板の構造例を示す図。 図1の液体吐出ヘッド基板の製造方法を示す図。 図1の液体吐出ヘッド基板の製造方法を示す図。 本発明の実施形態に係る液体吐出ヘッド基板の構造例を示す図。 図4の液体吐出ヘッド基板の製造方法を示す図。 図4の液体吐出ヘッド基板の製造方法を示す図。 図4の液体吐出ヘッド基板の製造方法を示す図。 図1の液体吐出ヘッド基板を用いた液体吐出装置の構成例を示す図。
以下、本発明に係る液体吐出ヘッド基板の具体的な実施形態を、添付図面を参照して説明する。なお、以下の説明および図面において、複数の図面に渡って共通の構成については共通の符号を付している。そのため、複数の図面を相互に参照して共通する構成を説明し、共通の符号を付した構成については適宜説明を省略する。
第1の実施形態
図1(a)〜3(h)を参照して、本発明の実施形態による液体吐出ヘッド基板の構造および製造方法について説明する。図1(a)、1(b)は、それぞれ本発明の第1の実施形態における液体吐出ヘッド基板100の構造を示す断面図および平面図である。
液体吐出ヘッド基板100は、基板101、絶縁層102、103、導電パターン111、発熱抵抗素子113、保護層105、および、電極プラグ112を含む。基板101は、例えば、シリコンなどの半導体基板が用いられる。絶縁層102、103は、絶縁性を備え、基板101の表面の上に配される。絶縁層102、103には、例えば、酸化シリコンなどが用いられる。導電パターン111は、絶縁層102、103の中に配される。導電パターン111には、例えば、アルミニウムや銅などを含む材料が用いられる。導電パターン111は、発熱抵抗素子113に電力を供給する。図1(a)には、1層の導電パターン111が示されるが、液体吐出ヘッド基板100が、多層の導電パターン(配線パターン)を備えていてもよい。発熱抵抗素子113は、絶縁層103の上に配され、電力を与えられる(電流が流される)ことによって、液体121を吐出するための熱エネルギを生成する。発熱抵抗素子113には、例えば、窒化タンタルシリコン(TaSiN)や窒化タングステンシリコン(WSiN)などが用いられる。電極プラグ112は、発熱抵抗素子113と導電パターン111とを電気的に接続する。電極プラグ112は、絶縁層103の中に配され、一部が絶縁層103の表面に露出することによって、発熱抵抗素子113と直に接する。電極プラグ112は、例えば、タングステンなどが用いられる。保護層105は、発熱抵抗素子113、電極プラグ112、絶縁層103を覆うように、発熱抵抗素子113、電極プラグ112、絶縁層103の上に配される。保護層105には、例えば、窒化シリコンなどの絶縁物が用いられる。
液体吐出ヘッド基板100は、保護層105の上に、金属層106をさらに含んでいてもよい。保護層105の上の金属層106は、耐キャビテーション層として機能し、液体吐出ヘッド基板100の液体を吐出する性能が向上しうる。金属層106には、例えば、タンタルやイリジウムなどが用いられる。
また、液体吐出ヘッド基板100は、保護層105の上に、インクなどの液体121の流路を構成するために、発熱抵抗素子113を囲むように配された流路部材107をさらに含む。金属層106が配される場合、流路部材107は、金属層106の上に配される。また、液体吐出ヘッド基板100は、保護層105の上に、液体121を吐出するための吐出口109を備える吐出口部材108をさらに含む。吐出口109は、発熱抵抗素子113の上に配される。
次いで、発熱抵抗素子113と電極プラグ112との位置関係について説明する。基板101の表面に対する正射影において、図1(b)に示されるように、発熱抵抗素子113と電極プラグ112とは、重なるように、発熱抵抗素子113と電極プラグ112とは、互いに接して配される。ここで、図1(b)に示されるように、基板101の表面に平行な方向のうち、2つの電極プラグ112に接続された発熱抵抗素子113の電流が流れる方向に沿う方向をy方向(第1の方向)とする。また、基板101の表面に平行であって、かつ、y方向と交差する方向をx方向(第2の方向)とする。x方向とy方向とは、直交していてもよい。また、図1(a)に示されるように、液体吐出ヘッド基板100の表面と平行なx方向、y方向と交差する、液体吐出ヘッド基板100の深さ方向をz方向とする。
電極プラグ112は、図1(b)に示されるように、長辺がx方向に延在する矩形状を有しうる。つまり、電極プラグ112のうちx方向に沿った長さが、電極プラグ112のうちy方向に沿った長さよりも長い。また、2つの電極プラグ112は、発熱抵抗素子113のy方向のそれぞれ端部に配される。これによって、発熱抵抗素子113は、y方向に電流が流される。このため、基板101の表面に対する正射影において、y方向に沿った電極プラグ112の長さは、y方向に沿った発熱抵抗素子113の長さよりも短い。さらに、本実施形態において、x方向に沿った電極プラグ112の長さは、x方向に沿った発熱抵抗素子113の長さよりも長い。つまり、x方向において、電極プラグ112の外縁が、発熱抵抗素子113の外縁よりも外側に配される。図1(a)、1(b)に示されるように、x方向において、電極プラグ112のそれぞれ2つの外縁が、発熱抵抗素子113の外縁よりも外側に配されてもよい。
電極プラグ112が図1(b)に示されるような矩形状を有する場合、電極プラグ112を形成するための材料を絶縁層103に埋め込む際、x方向のそれぞれ端部付近のように、三方が溝の側壁に近接する領域において、埋め込みが不十分になる場合がある。不十分な埋め込みに起因して、形成された電極プラグ112の表面に凹凸が生じると、電極プラグ112の上に形成される保護層105が、一様に電極プラグ112および発熱抵抗素子113を被覆できない可能性が生じる。電極プラグ112および発熱抵抗素子113のうち保護層105によって被覆されていない領域に、インクなどの液体121が接した場合、発熱抵抗素子113の動作中に電極プラグ112と液体121との間に電位差が生じてしまう。この電位差に起因して、保護層105が、電気分解され、液体吐出ヘッド基板の耐久性が低下してしまう可能性がある。そこで、本実施形態において、x方向において、電極プラグ112の外縁が、発熱抵抗素子113の外縁よりも外側に配される。つまり、凹凸のできる可能性がある電極プラグ112の端部が、x方向において、発熱抵抗素子113よりも外側に配される。液体121が通る流路は、液体121が吐出するための熱エネルギを得られるように、発熱抵抗素子113の上を通るように配される。これによって、電極プラグ112の端部に凹凸ができてしまった場合であっても、電極プラグ112の端部に液体121が接する可能性が低くなる。結果として、液体吐出ヘッド基板100の耐久性が向上しうる。
図1(b)に示されるように、基板101の表面に対する正射影において、電極プラグ112のうち電極プラグ112と発熱抵抗素子113とが重なる領域は、y方向における電極プラグ112のそれぞれの外縁が発熱抵抗素子113と重なっていてもよい。図1(b)に示されるように、y方向における電極プラグ112の外縁と発熱抵抗素子113の外縁とが重なる位置に配されていてもよい。また、y方向における電極プラグ112の外縁が、発熱抵抗素子113の外縁よりも内側に配されていてもよい。
また、図1(b)に示されるように、x方向における電極プラグ112の外縁から発熱抵抗素子113の外縁までの長さ122が、y方向における電極プラグ112の長さよりも長くてもよい。上述のように、電極プラグ112の形成する際、電極プラグ112のx方向の端部の、絶縁層103に形成された溝の側壁に囲まれる部分に凹凸が生じやすい。溝の側壁に囲まれる電極プラグ112の端部を、発熱抵抗素子113から離すことによって、形成される液体吐出ヘッド基板100の信頼性が向上しうる。
次いで、図2(a)〜3(h)を用いて、本実施形態の液体吐出ヘッド基板100の製造方法について説明する。図2(a)〜3(h)は、液体吐出ヘッド基板100を形成する各工程での断面図および平面図である。
まず、図2(a)、2(b)に示されるように、シリコンを用いた基板101の上に、絶縁層102および導電パターンの材料となる導電材料211を形成する。絶縁層102は、シリコンを用いた基板101を熱酸化することによって酸化シリコンを成膜してもよいし、CVD法などを用いて酸化シリコンを成膜してもよい。次いで、絶縁層102の上に、スパッタ法などを用いて、アルミニウム−銅(Al−Cu)を含む導電材料211を成膜する。導電材料は、Al−Cuに限られることはなく、アルミニウム(Al)、アルミニウム−シリコン(Al−Si)、アルミニウム−シリコン−銅(Al−Si−Cu)などを用いてもよい。
導電材料211を形成した後、フォトリソグラフィー工程を用いて導電材料211の所定の領域を覆うマスクパターンを形成する。次いで、ドライエッチング法などを用いて、導電材料211のうちマスクパターンに覆われていない部分を、絶縁層102が露出するまでエッチングすることによって、図2(c)、2(d)に示される導電パターン111を形成する。ここで、図2(c)、2(d)に示される2つの導電パターン111は、後に形成される発熱抵抗素子113によって、電気的に接続され、発熱抵抗素子113に電流を流すために用いられる。つまり、図2(c)、2(d)に示されている段階において、2つの導電パターン111は、互いに電気的に絶縁されている。
次いで、図2(e)、2(f)に示されるように、絶縁層102および導電パターン111の上に、絶縁層103を形成する。絶縁層103は、例えば、CVD法などを用いて酸化シリコン形成してもよい。これによって、基板101の表面の上に導電パターン111が埋め込まれた絶縁層102、103が形成される。
絶縁層103を形成した後、フォトリソグラフィー工程を用いて絶縁層103の所定の領域を覆うマスクパターンを形成する。次いで、ドライエッチング法などを用いて、絶縁層103のうちマスクパターンに覆われていない部分を、導電パターン111が露出するまでエッチングする。これによって、図2(g)、2(h)に示されるように、開口の底に、それぞれ導電パターン111が露出したx方向に延在する2つの溝212が、y方向に間隔を開けて形成される。
溝212を形成した後、絶縁層103に形成された溝212にタングステンなどを含む導電材料をCVD法やスパッタ法を用いて埋め込む。次いで、CMP法などを用いて導電材料を平坦化することによって、図3(a)、3(b)に示されるように、電極プラグ112を形成する。ここで、電極プラグ112のy方向の長さに対する電極プラグ112のz方向の厚さの比(z方向の厚さ/y方向の長さ)、つまりアスペクト比が、1以下であってもよい。アスペクト比が大きくなると、溝に電極プラグ112の導電材料を埋め込む際、埋め込みが不十分となり、平坦化された電極プラグ112の表面に凹凸が生じやすくなりうる。
次いで、図3(c)、3(d)に示されるように、絶縁層103および電極プラグ112の上に窒化タンタルシリコンを含む発熱抵抗素子材料213を、例えば、スパッタ法などを用いて成膜する。本実施形態において、発熱抵抗素子材料213は、窒化タンタルシリコンを用いるが、窒化タングステンシリコンなどを用いてもよい。
発熱抵抗素子材料213を形成した後、フォトリソグラフィー工程を用いて発熱抵抗素子材料213の所定の領域を覆うマスクパターンを形成する。次いで、ドライエッチング法などを用いて、発熱抵抗素子材料213のうちマスクパターンに覆われていない部分を、絶縁層103および電極プラグ112が露出するまでエッチングすることによって、図3(e)、3(f)に示される発熱抵抗素子113を形成する。
次いで、図3(g)、(h)に示されるように、絶縁層103、電極プラグ112、発熱抵抗素子113の上を覆うように窒化シリコンを含む保護層105を、CVD法などを用いて成膜する。さらに、保護層105の上にスパッタ法などを用いてタンタルを含む金属層106を成膜する。本実施形態において、保護層105の上に金属層106が配されるが、金属層106は配されなくてもよい。
金属層106の形成後、流路部材107および吐出口部材108を形成することによって、図1(a)、1(b)に示される液体吐出ヘッド基板100が形成される。このとき、x方向において、流路部材107の流路を構成するための側壁が、電極プラグ112の外縁と発熱抵抗素子113の外縁との間に配されうる。換言すると、流路部材107が、電極プラグ112のx方向の外縁を含む端部を覆う。本実施形態において、凹凸が生じやすい電極プラグ112のx方向の端部は、保護層105および金属層106によって覆われているため、液体121の流路の下であっても液体121と接触しない可能性が高い。さらに、液体121の流路を構成するための流路部材107が電極プラグ112のx方向の端部の上に配されることによって、電極プラグ112のx方向の端部に液体121の流路が形成されなくなる。これによって、電極プラグ112のx方向の端部に凹凸が生じ、保護層105の被覆が不完全であった場合であっても、電極プラグ112と液体121との接触を抑制することが可能となる。
以上、説明したように、本実施形態において、液体吐出ヘッド基板100の電極プラグ112のx方向に沿った長さが、発熱抵抗素子113のx方向に沿った長さよりも長くなるようにする。これによって、電極プラグ112または発熱抵抗素子113と液体121とが接することが抑制され、液体吐出ヘッド基板100の耐久性が向上しうる。
第2の実施形態
図4(a)〜7(f)を参照して、本発明の実施形態による液体吐出ヘッド基板の構造および製造方法について説明する。図4(a)、4(b)は、それぞれ本発明の第2の実施形態における液体吐出ヘッド基板100’の構造を示す断面図および平面図である。上述の第1の実施形態の液体吐出ヘッド基板100では、導電パターン111と電極プラグ112とが、直に接している。一方、本実施形態において、液体吐出ヘッド基板100’は、電極プラグ112と導電パターン111との間に配され、x方向に並ぶ複数の接続部材114をさらに含む。つまり、本実施形態において、電極プラグ112と導電パターン111とは、複数の接続部材114を介して電気的に接続される。複数の接続部材114のそれぞれは、図4(a)、4(b)に示されるように、x方向において、発熱抵抗素子113の外縁よりも内側に配されてもよい。これ以外の液体吐出ヘッド基板100’の構造は、上述の第1の実施形態と同様であってもよいため、ここでは説明を省略する。
次いで、図5(a)〜7(f)を用いて、本実施形態の液体吐出ヘッド基板100’の製造方法について説明する。図5(a)〜7(f)は、液体吐出ヘッド基板100’を形成する各工程での断面図および平面図である。
図5(a)〜5(f)に示される工程は、図2(a)〜2(f)に示される工程と同様であってもよいため、ここでは説明を省略する。図5(g)、5(h)に示される工程において、図4(a)に示される絶縁層103の一部となる絶縁層503を形成した後、フォトリソグラフィー工程を用いて絶縁層503の所定の領域を覆うマスクパターンを形成する。次いで、ドライエッチング法などを用いて、絶縁層503のうちマスクパターンに覆われていない部分を、導電パターン111が露出するまでエッチングすることによって、図5(g)、5(h)に示される溝214を形成する。
溝214を形成した後、絶縁層503に形成された溝214にタングステンなどを含む導電材料をCVD法やスパッタ法を用いて埋め込む。次いで、CMP法などを用いて導電材料を平坦化することによって、図6(a)、6(b)に示されるように、複数の接続部材114を形成する。
次いで、図6(c)、6(d)に示されるように、絶縁層503および接続部材114の上に、絶縁層513を形成する。絶縁層513は、例えば、CVD法などを用いて酸化シリコンを形成してもよい。これによって、絶縁層503と絶縁層513とを含む絶縁層103が形成され、基板101の表面の上に導電パターン111が埋め込まれた絶縁層102、103が形成される。
絶縁層103を形成した後、フォトリソグラフィー工程を用いて絶縁層103の所定の領域を覆うマスクパターンを形成する。次いで、ドライエッチング法などを用いて、絶縁層103のうちマスクパターンに覆われていない部分を、接続部材114が露出するまでエッチングする。これによって、図6(e)、6(f)に示されるように、開口の底に接続部材114が露出した溝212が形成される。
溝212を形成した後、絶縁層103に形成された溝212にタングステンなどを含む導電材料をCVD法やスパッタ法を用いて埋め込む。次いで、CMP法などを用いて導電材料を平坦化することによって、図6(g)、6(h)に示されるように、電極プラグ112を形成する。
電極プラグ112を形成した後の図7(a)〜7(f)に示される工程は、図3(c)〜3(h)に示される工程と同様であってもよいため、ここでは説明を省略する。以上の工程を用いることによって、図4(a)、4(b)に示される液体吐出ヘッド基板100’が形成される。
本実施形態においても、上述の第1の実施形態と同様に、基板101の表面に対する正射影において、x方向に沿った電極プラグ112の長さは、x方向に沿った発熱抵抗素子113の長さよりも長い。つまり、x方向において、電極プラグ112の外縁が、発熱抵抗素子113の外縁よりも外側に配される。これによって、電極プラグ112の端部に凹凸ができてしまった場合であっても、電極プラグ112の端部に液体121が接する可能性が低くなる。結果として、液体吐出ヘッド基板100’の耐久性が向上しうる。
以上、本発明に係る実施形態を示したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、上述した実施形態は適宜変更、組み合わせが可能である。
<その他の実施形態>
ここで、上述の液体吐出ヘッド基板100、100’を用いた液体吐出装置について説明する。図8(a)は、インクジェット方式のプリンタ、ファクシミリ、コピー機等に代表される液体吐出装置1600の内部構成を例示している。本例で液体吐出装置は記録装置と称されてもよい。液体吐出装置1600は、所定の媒体P(本例では紙等の記録媒体)に液体(本例ではインク、記録剤)を吐出する液体吐出ヘッド1510を備える。本例では液体吐出ヘッドは記録ヘッドと称されてもよい。液体吐出ヘッド1510はキャリッジ1620の上に搭載され、キャリッジ1620は、螺旋溝1604を有するリードスクリュー1621に取り付けられうる。リードスクリュー1621は、駆動力伝達ギア1602及び1603を介して、駆動モータ1601の回転に連動して回転しうる。これにより、液体吐出ヘッド1510は、キャリッジ1620と共にガイド1619に沿って矢印a又はb方向に移動しうる。
媒体Pは、紙押え板1605によってキャリッジ移動方向に沿って押さえられており、プラテン1606に対して固定される。液体吐出装置1600は、液体吐出ヘッド1510を往復移動させて、搬送部(不図示)によってプラテン1606上に搬送された媒体Pに対して液体吐出(本例では記録)を行う。
また、液体吐出装置1600は、フォトカプラ1607及び1608を介して、キャリッジ1620に設けられたレバー1609の位置を確認し、駆動モータ1601の回転方向の切換を行う。支持部材1610は、液体吐出ヘッド1510のノズル(液体吐出口、或いは単に吐出口)を覆うためのキャップ部材1611を支持している。吸引部1612は、キャップ内開口1613を介してキャップ部材1611の内部を吸引することによる液体吐出ヘッド1510の回復処理を行う。レバー1617は、吸引による回復処理を開始するために設けられ、キャリッジ1620と係合するカム1618の移動に伴って移動し、駆動モータ1601からの駆動力がクラッチ切換等の公知の伝達機構によって制御される。
また、本体支持板1616は、移動部材1615及びクリーニングブレード1614を支持しており、移動部材1615は、クリーニングブレード1614を移動させ、ワイピングによる液体吐出ヘッド1510の回復処理を行う。また、液体吐出装置1600には制御部(不図示)が設けられ、当該制御部は上述の各機構の駆動を制御する。
図8(b)は、液体吐出ヘッド1510の外観を例示している。液体吐出ヘッド1510は、複数のノズル1500を有するヘッド部1511と、ヘッド部1511に供給するための液体を保持するタンク(液体貯留部)1512とを備えうる。タンク1512とヘッド部1511とは、例えば破線Kで分離することができ、タンク1512を交換することができる。液体吐出ヘッド1510は、キャリッジ1620からの電気信号を受け取るための電気的コンタクト(不図示)を備えており、当該電気信号にしたがって液体を吐出する。タンク1512は、例えば繊維質状又は多孔質状の液体保持材(不図示)を有しており、当該液体保持材によって液体を保持しうる。
図8(c)は、液体吐出ヘッド1510の内部構成を例示している。液体吐出ヘッド1510は、基体1508と、基体1508の上に配され、流路1505を形成する流路壁部材1501と、液体供給路1503を有する天板1502とを備える。基体1508は、上述の液体吐出ヘッド基板100、100’の何れであってもよい。また、吐出素子ないし液体吐出素子として、ヒータ1506(電気熱変換素子)が、液体吐出ヘッド1510が備える基板(液体吐出ヘッド基板)に各ノズル1500に対応して配列されている。各ヒータ1506は、当該ヒータ1506に対応して設けられた駆動素子(トランジスタ等のスイッチ素子)が導通状態になることによって駆動され、発熱する。
液体供給路1503からの液体は、共通液室1504に蓄えられ、各流路1505を介して各ノズル1500に供給される。各ノズル1500に供給された液体は、当該ノズル1500に対応するヒータ1506が駆動されたことに応答して、当該ノズル1500から吐出される。
図8(d)は、液体吐出装置1600のシステム構成を例示している。液体吐出装置1600は、インターフェース1700、MPU1701、ROM1702、RAM1703及びゲートアレイ(G.A.)1704を有する。インターフェース1700には外部から液体吐出を実行するための外部信号が入力される。ROM1702は、MPU1701が実行する制御プログラムを格納する。RAM1703は、前述の液体吐出用の外部信号や液体吐出ヘッド1708に供給されたデータ等、各種信号ないしデータを保存する。ゲートアレイ1704は、液体吐出ヘッド1708に対するデータの供給制御を行い、また、インターフェース1700、MPU1701、RAM1703の間のデータ転送の制御を行う。
液体吐出装置1600は、ヘッドドライバ1705、並びに、モータドライバ1706及び1707、搬送モータ1709、キャリアモータ1710を更に有する。キャリアモータ1710は液体吐出ヘッド1708を搬送する。搬送モータ1709は媒体Pを搬送する。ヘッドドライバ1705は液体吐出ヘッド1708を駆動する。モータドライバ1706及び1707は搬送モータ1709及びキャリアモータ1710をそれぞれ駆動する。
インターフェース1700に駆動信号が入力されると、この駆動信号は、ゲートアレイ1704とMPU1701の間で液体吐出用のデータに変換されうる。このデータにしたがって各機構が所望の動作を行い、このようにして液体吐出ヘッド1708が駆動される。
100,100’:液体吐出ヘッド基板、101:基板、102,103,503,513:絶縁層、105:保護層、111:導電パターン、112:電極プラグ、113:発熱抵抗素子
上記課題に鑑みて、本発明の実施形態に係る液体吐出ヘッド基板は、基板と、基板の表面の上に配された絶縁層と、絶縁層の中に配された導電パターンと、絶縁層の上に配され液体を吐出するための熱エネルギを生成する発熱抵抗素子と、発熱抵抗素子を覆う保護層と、発熱抵抗素子と導電パターンとを電気的に接続する電極プラグと、を含む液体吐出ヘッド基板であって、基板の表面に対する正射影において、発熱抵抗素子と電極プラグとが重なるように、電極プラグが発熱抵抗素子の基板の側の面に接して配され、発熱抵抗素子において、基板の表面に平行な第1の方向に沿って電流が流れ、電極プラグの第1の方向に沿った長さが、発熱抵抗素子の第1の方向に沿った長さよりも短く、基板の表面に平行であって、第1の方向と交差する第2の方向において、電極プラグの第2の方向に沿った長さが、発熱抵抗素子の第2の方向に沿った長さよりも長いことを特徴とする。

Claims (28)

  1. 基板と、前記基板の表面の上に配された絶縁層と、前記絶縁層の中に配された導電パターンと、前記絶縁層の上に配され液体を吐出するための熱エネルギを生成する発熱抵抗素子と、前記発熱抵抗素子を覆う保護層と、前記発熱抵抗素子と前記導電パターンとを電気的に接続する電極プラグと、を含む液体吐出ヘッド基板であって、
    前記基板の表面に対する正射影において、前記発熱抵抗素子と前記電極プラグとが重なるように、前記発熱抵抗素子と前記電極プラグとが互いに接して配され、
    前記発熱抵抗素子において、前記基板の表面に平行な第1の方向に沿って電流が流れ、
    前記電極プラグの前記第1の方向に沿った長さが、前記発熱抵抗素子の前記第1の方向に沿った長さよりも短く、
    前記基板の表面に平行であって、前記第1の方向と交差する第2の方向において、前記電極プラグの前記第2の方向に沿った長さが、前記発熱抵抗素子の前記第2の方向に沿った長さよりも長いことを特徴とする液体吐出ヘッド基板。
  2. 前記電極プラグの前記第1の方向の長さに対する前記電極プラグの厚さの比が、1以下であることを特徴とする請求項1に記載の液体吐出ヘッド基板。
  3. 前記第2の方向において、前記電極プラグのそれぞれの外縁が、前記発熱抵抗素子の外縁よりも外側に配されることを特徴とする請求項1または2に記載の液体吐出ヘッド基板。
  4. 前記第2の方向における前記電極プラグの外縁から前記発熱抵抗素子の外縁までの長さが、前記第1の方向における前記電極プラグの長さよりも長いことを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の液体吐出ヘッド基板。
  5. 前記基板の表面に対する正射影において、前記電極プラグのうち前記電極プラグと前記発熱抵抗素子とが重なる領域は、前記第1の方向における前記電極プラグのそれぞれの外縁が前記発熱抵抗素子と重なっていることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の液体吐出ヘッド基板。
  6. 前記電極プラグのうち前記第2の方向の長さが、前記電極プラグのうち前記第1の方向の長さよりも長いことを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の液体吐出ヘッド基板。
  7. 前記保護層は、絶縁物を含み、
    前記液体吐出ヘッド基板が、前記保護層の上に、金属層をさらに含むことを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項に記載の液体吐出ヘッド基板。
  8. 前記液体吐出ヘッド基板が、前記保護層の上に、液体の流路を構成するために前記発熱抵抗素子を囲むように配された流路部材をさらに含み、
    前記第2の方向において、前記流路部材の側壁が、前記電極プラグの外縁と前記発熱抵抗素子の外縁との間に配されることを特徴とする請求項1乃至7の何れか1項に記載の液体吐出ヘッド基板。
  9. 前記流路部材が、前記金属層の上に配されることを特徴とする請求項7に従属する請求項8に記載の液体吐出ヘッド基板。
  10. 前記液体吐出ヘッド基板が、前記保護層の上に、液体を吐出するための吐出口を備える吐出口部材をさらに含み、
    前記吐出口が、前記発熱抵抗素子の上に配されることを特徴とする請求項1乃至9の何れか1項に記載の液体吐出ヘッド基板。
  11. 前記液体吐出ヘッド基板が、前記電極プラグと前記導電パターンとの間に配され、前記第2の方向に並ぶ複数の接続部材をさらに含むことを特徴とする請求項1乃至10の何れか1項に記載の液体吐出ヘッド基板。
  12. 前記第2の方向において、前記複数の接続部材が、前記発熱抵抗素子の外縁よりも内側に配されることを特徴とする請求項11に記載の液体吐出ヘッド基板。
  13. 基板と、前記基板の表面の上に配された絶縁層と、前記絶縁層の上に配され液体を吐出するための熱エネルギを生成する発熱抵抗素子と、前記発熱抵抗素子を覆う保護層と、前記絶縁層の中に配された第1の導電パターンおよび第2の導電パターンと、前記発熱抵抗素子と前記第1の導電パターンとを電気的に接続する第1の電極プラグと、前記発熱抵抗素子と前記第2の導電パターンとを電気的に接続する第2の電極プラグと、を含む液体吐出ヘッド基板であって、
    前記基板の表面に対する正射影において、前記第1の電極プラグおよび前記第2の電極プラグが前記発熱抵抗素子と重なるように、前記第1の電極プラグおよび前記第2の電極プラグが前記発熱抵抗素子に接して配され、
    前記第1の電極プラグおよび前記第2の電極プラグは、前記基板の表面に平行な第1の方向に沿って並び、
    前記基板の表面に平行であって、前記第1の方向と交差する第2の方向において、前記第1の電極プラグおよび前記第2の電極プラグの前記第2の方向に沿った長さが、前記発熱抵抗素子の前記第2の方向に沿った長さよりも長いことを特徴とする液体吐出ヘッド基板。
  14. 前記第1の電極プラグの前記第1の方向の長さに対する前記第1の電極プラグの厚さの比が、1以下であり、
    前記第2の電極プラグの前記第1の方向の長さに対する前記第2の電極プラグの厚さの比が、1以下であることを特徴とする請求項13に記載の液体吐出ヘッド基板。
  15. 前記第2の方向において、
    前記第1の電極プラグのそれぞれの外縁が、前記発熱抵抗素子の外縁よりも外側に配され、
    前記第2の電極プラグのそれぞれの外縁が、前記発熱抵抗素子の外縁よりも外側に配されることを特徴とする請求項13または14に記載の液体吐出ヘッド基板。
  16. 前記第2の方向における前記第1の電極プラグの外縁から前記発熱抵抗素子の外縁までの長さが、前記第1の方向における前記第1の電極プラグの長さよりも長く、
    前記第2の方向における前記第2の電極プラグの外縁から前記発熱抵抗素子の外縁までの長さが、前記第1の方向における前記第2の電極プラグの長さよりも長いことを特徴とする請求項13乃至15の何れか1項に記載の液体吐出ヘッド基板。
  17. 前記基板の表面に対する正射影において、
    前記第1の電極プラグのうち前記第1の電極プラグと前記発熱抵抗素子とが重なる領域は、前記第1の方向における前記第1の電極プラグのそれぞれの外縁が前記発熱抵抗素子と重なっており、
    前記第2の電極プラグのうち前記第2の電極プラグと前記発熱抵抗素子とが重なる領域は、前記第1の方向における前記第2の電極プラグのそれぞれの外縁が前記発熱抵抗素子と重なっていることを特徴とする請求項13乃至16の何れか1項に記載の液体吐出ヘッド基板。
  18. 前記第1の電極プラグのうち前記第2の方向の長さが、前記第1の電極プラグのうち前記第1の方向の長さよりも長く、
    前記第2の電極プラグのうち前記第2の方向の長さが、前記第2の電極プラグのうち前記第1の方向の長さよりも長いことを特徴とする請求項13乃至17の何れか1項に記載の液体吐出ヘッド基板。
  19. 前記保護層は、絶縁物を含み、
    前記液体吐出ヘッド基板が、前記保護層の上に、金属層をさらに含むことを特徴とする請求項13乃至18の何れか1項に記載の液体吐出ヘッド基板。
  20. 前記液体吐出ヘッド基板が、前記保護層の上に、液体の流路を構成するために前記発熱抵抗素子を囲むように配された流路部材をさらに含み、
    前記第2の方向において、前記流路部材の側壁が、前記第1の電極プラグの外縁と前記発熱抵抗素子の外縁との間に配され、
    前記第2の方向において、前記流路部材の側壁が、前記第2の電極プラグの外縁と前記発熱抵抗素子の外縁との間に配されることを特徴とする請求項13乃至19の何れか1項に記載の液体吐出ヘッド基板。
  21. 前記流路部材が、前記金属層の上に配されることを特徴とする請求項19に従属する請求項20に記載の液体吐出ヘッド基板。
  22. 前記液体吐出ヘッド基板が、前記保護層の上に、液体を吐出するための吐出口を備える吐出口部材をさらに含み、
    前記吐出口が、前記発熱抵抗素子の上に配されることを特徴とする請求項13乃至21の何れか1項に記載の液体吐出ヘッド基板。
  23. 前記液体吐出ヘッド基板が、前記第1の電極プラグと前記第1の導電パターンとの間、および、前記第2の電極プラグと前記第2の導電パターンとの間に配され、前記第2の方向に並ぶ複数の接続部材をさらに含むことを特徴とする請求項13乃至22の何れか1項に記載の液体吐出ヘッド基板。
  24. 前記第2の方向において、前記複数の接続部材が、前記発熱抵抗素子の外縁よりも内側に配されることを特徴とする請求項23に記載の液体吐出ヘッド基板。
  25. 請求項1乃至24の何れか1項に記載の液体吐出ヘッド基板と、前記液体吐出ヘッド基板によって液体の吐出が制御される吐出口と、を備えることを特徴とする液体吐出ヘッド。
  26. 請求項25に記載の液体吐出ヘッドと、前記液体吐出ヘッドに液体を吐出させるための駆動信号を供給する手段と、を有することを特徴とする液体吐出装置。
  27. 液体吐出ヘッド基板の製造方法であって、
    基板の表面の上に導電パターンが埋め込まれた絶縁層を形成する工程と、
    前記絶縁層に、開口の底に前記導電パターンが露出した溝を形成する工程と、
    前記溝に導電材料を埋め込むことによって、電極プラグを形成する工程と、
    前記電極プラグと電気的に接続し、液体を吐出するための熱エネルギを生成する発熱抵抗素子を形成する工程と、
    前記発熱抵抗素子を覆うように保護層を形成する工程と、を含み、
    前記基板の表面に対する正射影において、前記発熱抵抗素子と前記電極プラグとが重なるように、前記発熱抵抗素子と前記電極プラグとが互いに接して配され、
    前記発熱抵抗素子において、前記基板の表面に平行な第1の方向に沿って電流が流され、
    前記電極プラグの前記第1の方向に沿った長さが、前記発熱抵抗素子の前記第1の方向に沿った長さよりも短く、
    前記基板の表面に平行であって、前記第1の方向と交差する第2の方向において、前記電極プラグの前記第1の方向に追った長さが、前記発熱抵抗素子の前記第2の方向に沿った長さよりも長いことを特徴とする製造方法。
  28. 液体吐出ヘッド基板の製造方法であって、
    基板の表面の上に第1の導電パターンおよび第2の導電パターンが埋め込まれた絶縁層を形成する工程と、
    前記絶縁層に、開口の底に前記第1の導電パターンが露出した第1の溝と、開口の底に前記第2の導電パターンが露出した第2の溝と、を、前記基板の表面に平行な第1の方向に間隔を開けて形成する工程と、
    前記第1の溝および前記第2の溝に導電材料を埋め込むことによって、それぞれ第1の電極プラグおよび第2の電極プラグを形成する工程と、
    前記第1の電極プラグと前記第2の電極プラグとを電気的に接続し、液体を吐出するための熱エネルギを生成する発熱抵抗素子を形成する工程と、
    前記発熱抵抗素子を覆うように保護層を形成する工程と、を含み、
    前記基板の表面に平行であって、前記第1の方向と交差する第2の方向において、前記第1の電極プラグおよび前記第2の電極プラグの前記第2の方向に沿った長さが、前記発熱抵抗素子の前記第2の方向に沿った長さよりも長いことを特徴とする製造方法。
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