JP2019176112A - 厚膜抵抗体用組成物、厚膜抵抗体用ペースト、及び厚膜抵抗体 - Google Patents
厚膜抵抗体用組成物、厚膜抵抗体用ペースト、及び厚膜抵抗体 Download PDFInfo
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Abstract
Description
この提案によれば、非特許文献1に開示されたガラスの塩基度が0.4〜0.9であるガラスを用い、焼成して得られる厚膜抵抗体中にMSil2O8(M:Ba及び/又はSr)結晶を発生させることで優れた厚膜抵抗体が得られることが記載されている。
鉛成分を含まない酸化ルテニウム粉末と、鉛成分を含まないガラスとを含有する抵抗体用組成物であって、厚膜抵抗体とした場合にX線回折パターンにおいてアルミノケイ酸塩結晶相が検出されない厚膜抵抗体用組成物を提供する。
[厚膜抵抗体用組成物]
本実施形態の厚膜抵抗体用組成物は、鉛成分を含まない酸化ルテニウム粉末と、鉛成分を含まないガラスとを含有することができる。そして、本実施形態の厚膜抵抗体用組成物は、厚膜抵抗体とした場合に、X線回折パターンにおいてアルミノケイ酸塩結晶相が検出されないことが好ましい。
(1)酸化ルテニウム粉末
酸化ルテニウム粉末は導電粉末であり、鉛成分を含まないことが好ましい。なお、鉛成分を含まない酸化ルテニウム粉末とは、鉛を意図して添加していないことを意味し、鉛の含有量が0であることを意味する。ただし、製造工程等で不純物成分、不可避成分として混入することを排除するものではない。
(2)ガラス
ガラスとしては鉛成分を含まないガラス(ガラス粉末)を用いることができる。なお、鉛成分を含まないガラスとは、鉛を意図して添加していないことを意味し、鉛の含有量が0であることを意味する。ただし、製造工程等で不純物成分、不可避成分として混入することを排除するものではない。
[厚膜抵抗体用ペースト]
本実施形態の厚膜抵抗体用ペーストは、既述の厚膜抵抗体用組成物と、有機ビヒクルとを含むことができる。特に有機ビヒクル中に既述の厚膜抵抗体用組成物が分散されていることが好ましい。有機ビヒクルの組成は特に限定されないが、例えばエチルセルロースなどの樹脂と、ターピオネールなどの溶剤を含有することができる。
厚膜抵抗体用ペーストの製造方法は特に限定されないが、例えば導電粉末である酸化ルテニウム粉末と、ガラスと、有機ビヒクルとその他原料を混合し、スリーロールミル(三本ロールミル)等で混練することで製造することができる。なお、酸化ルテニウム粉末と、ガラスとは予め混合し、厚膜抵抗体用組成物としてから用いることもできる。
[厚膜抵抗体]
本実施形態の厚膜抵抗体は、既述の厚膜抵抗体用組成物を含有することができる。
[抵抗器、抵抗器の製造]
本実施形態の抵抗器は、既述の厚膜抵抗体から製造することができる。
(評価方法)
(1)抵抗値測定
製造した厚膜抵抗体について、デジタルマルチメーター(KEITHLEY社製、2001番)により抵抗値を測定し、得られた抵抗値を、厚膜抵抗体の厚さが7μmの場合に換算して、その抵抗体厚膜の抵抗値とした。
(2)ノイズ(電流雑音)測定
厚膜抵抗体のノイズについて、ノイズメーター(ノイズ研究所製RCN−2011)を用いて測定した。
(3)酸化ルテニウム粉末の粒径
酸化ルテニウム粉末の粒径(比表面積径)は比表面積と密度より算出した。比表面積は測定が簡単にできるBET1点法を用いた。酸化ルテニウム粉末の粒径(nm)は、密度をρ(g/cm3)、比表面積をS(m2/g)とし、粉末を真球とみなし、以下の式(1)により算出した。
酸化ルテニウムの粒径(nm)=6×103/(ρ・S) ・・・(1)
以下の実施例、比較例では、酸化ルテニウムの密度を7.05g/cm3として計算した。
(4)ガラス粉末の平均粒径
ガラス粉末を粒度分布測定器(マイクロトラック・ベル社製 型式:HRA9320-X100)で粒度分布を測定し、その体積平均値(mv)を平均粒径(体積平均粒径)とした。
(5)ガラス粉末のガラス転移点
ガラス粉末のガラス転移点は、ガラス粉末を示差熱分析法(TG−DTA)にて大気中にて毎分10℃で昇温し、加熱し、得られた示差熱曲線の最も低温側の示差熱曲線の減少が発現する温度とした。
(6)アルミノケイ酸塩結晶相の確認
焼成して得られたXRD測定用厚膜抵抗体をX線回折装置(スペクトリス社製 型式:X'PERT-PRO)で分析した。XRD測定用厚膜抵抗体のX線回折パターンからは、例えば酸化ルテニウムおよびアルミナに帰属されるピーク、ガラス成分が結晶物を含む場合はそのピークを確認できる。そして、得られたX線回折パターンから析出している結晶を確認し、アルミノケイ酸塩結晶相の有無を確認した。
(試料の作製条件)
以下、各実施例、比較例の試料の作製条件について説明する。
[実施例1]
ガラス粉末Aを45.8質量部と、酸化ルテニウム粉末を14.2質量部との割合で含む厚膜抵抗体用組成物を調製した。
[実施例2]
ガラス粉末Aを49.6質量部と、酸化ルテニウム粉末を10.4質量部との割合で含む厚膜抵抗体用組成物を用意した。
[実施例3]
ガラス粉末Aを53.3質量部と、酸化ルテニウム粉末を6.7質量部との割合で含む厚膜抵抗体用組成物を用意した。
[実施例4]
ガラス粉末Aを56.9質量部と、酸化ルテニウム粉末を3.1質量部との割合で含む厚膜抵抗体用組成物を用意した。
[実施例5]
ガラス粉末Bを46.7質量部と、酸化ルテニウム粉末を13.3質量部との割合で含む厚膜抵抗体用組成物を用意した。
[実施例6]
ガラス粉末Bを50.2質量部と、酸化ルテニウム粉末を9.8質量部との割合で含む厚膜抵抗体用組成物を用意した。
[実施例7]
ガラス粉末Bを53.3質量部と、酸化ルテニウム粉末を6.7質量部との割合で含む厚膜抵抗体用組成物を用意した。
[実施例8]
ガラス粉末Bを55.6質量部と、酸化ルテニウム粉末を4.4質量部との割合で含む厚膜抵抗体用組成物を用意した。
[実施例9]
ガラス粉末Cを48.9質量部と、酸化ルテニウム粉末を11.1質量部との割合で含む厚膜抵抗体用組成物を用意した。
[実施例10]
ガラス粉末Cを51.2質量部と、酸化ルテニウム粉末を8.8質量部との割合で含む厚膜抵抗体用組成物を用意した。
[実施例11]
ガラス粉末Cを52.4質量部と、酸化ルテニウム粉末を7.6質量部との割合で含む厚膜抵抗体用組成物を用意した。
[実施例12]
ガラス粉末Cを53.6質量部と、酸化ルテニウム粉末を6.4質量部との割合で含む厚膜抵抗体用組成物を用意した。
[参考例1]
ガラス粉末Dを44.6質量部と、酸化ルテニウム粉末を15.4質量部との割合で含む厚膜抵抗体用組成物を用意した。
[参考例2]
ガラス粉末Dを46.9質量部と、酸化ルテニウム粉末を13.1質量部との割合で含む厚膜抵抗体用組成物を用意した。
[比較例1]
ガラス粉末Dを49.1質量部と、酸化ルテニウム粉末を10.9質量部との割合で含む厚膜抵抗体用組成物を用意した。
[比較例2]
ガラス粉末Dを55.7質量部と、酸化ルテニウム粉末を6.3質量部との割合で含む厚膜抵抗体用組成物を用意した。
Claims (5)
- 鉛成分を含まない酸化ルテニウム粉末と、鉛成分を含まないガラスとを含有する抵抗体用組成物であって、厚膜抵抗体とした場合にX線回折パターンにおいてアルミノケイ酸塩結晶相が検出されない厚膜抵抗体用組成物。
- 前記ガラスのガラス転移点が580℃以上630℃以下である請求項1に記載の厚膜抵抗体用組成物。
- 前記ガラスが、SiO2と、B2O3と、RO(RはCa、Sr、Baから選択された1種類以上の元素)と、Al2O3とを含み、
Al2O3の含有割合が6mol%以下である請求項1または2に記載の厚膜抵抗体用組成物。 - 請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の厚膜抵抗体用組成物と、有機ビヒクルとを含む厚膜抵抗体用ペースト。
- 請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の厚膜抵抗体用組成物を含有する厚膜抵抗体。
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