JP2019170161A - Production method of ganoderma lucidum, antioxidant, medicine, food product and skin external preparation - Google Patents

Production method of ganoderma lucidum, antioxidant, medicine, food product and skin external preparation Download PDF

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Abstract

To provide production methods of Ganoderma lucidum, antioxidant, medicine, food product, and skin external preparation capable of increasing yield of Ganoderma lucidum and increasing efficacy or active principle.SOLUTION: A production method of Ganoderma lucidum uses a plasma generator 100. The plasma generator 100 comprises a first electrode body 110 and a second electrode body 120. The first electrode 110 comprises a first electrode 111 and a dielectric body 112. The second electrode body 120 has a second electrode 121. In a state of not bringing the first electrode 111 of the plasma generator 100 into direct contact with a culture raw wood or culture mushroom bed, the plasma is radiated to the culture raw wood or culture mushroom bed.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本明細書の技術分野は、マンネンタケと抗酸化剤と医薬品と食品と皮膚外用剤との生産方法に関する。   The technical field of the present specification relates to a method for producing garlic mushrooms, antioxidants, pharmaceuticals, foods, and skin external preparations.

マンネンタケは、生薬「霊芝」に用いられる担子菌である。マンネンタケは幅広い生理活性を有し、漢方としても汎用されている。マンネンタケは、βーグルカン等の多糖類や、ガノデリン酸等のトリテルペン類といった有効成分を含有する。β−グルカンは、抗癌作用や免疫賦活作用等を有することが知られている。また、ガノデリン酸は、抗癌作用、血圧降下作用、コレステロール低下作用等、多くの効果が報告されている。また、マンネンタケの抽出物としては、保湿作用、細胞増殖促進作用、美白作用、コラーゲン合成促進作用などの薬効が知られている。   Mannentake is a basidiomycete used in the herbal medicine “Reishi”. Mannentake has a wide range of physiological activities and is widely used as a Chinese medicine. Mannentake contains active ingredients such as polysaccharides such as β-glucan and triterpenes such as ganoderic acid. β-glucan is known to have an anticancer effect, an immunostimulatory effect, and the like. In addition, ganoderic acid has been reported to have many effects such as an anticancer effect, a blood pressure lowering effect, and a cholesterol lowering effect. Moreover, as an extract of Mannentake, medicinal effects such as a moisturizing action, a cell growth promoting action, a whitening action, and a collagen synthesis promoting action are known.

現在、流通するマンネンタケはそのほとんどが人工栽培である。その栽培方法として、主に原木栽培と菌床栽培の二つの方法が用いられている。マンネンタケの収穫量および有効成分の増加を目的として、様々な栽培方法が開発されてきている。例えば特許文献1には、クロレラ熱水抽出残渣やコッコミクサ乾燥粉末を培地成分として使用するマンネンタケの栽培方法が開示されている(特許文献1)。   At present, most of the mannambotes that are distributed are artificially cultivated. As the cultivation method, mainly two methods of raw wood cultivation and fungus bed cultivation are used. Various cultivation methods have been developed for the purpose of increasing the yield and the active ingredient of garlic mushroom. For example, Patent Literature 1 discloses a method for cultivating garlic mushrooms that uses chlorella hot water extraction residue or dried coconut mix as a medium component (Patent Literature 1).

特開2014−158441号公報JP 2014-158441 A 特開2012−54号公報JP 2012-54 A

ところで、一般の茸の栽培において、ほだ木に電気刺激を加える技術が開発されてきている。例えば特許文献2には、ほだ木に栽培体側電極1aを差し込み、栽培体側電極1aと放電極20との間に火花放電を発生させる技術が開示されている(特許文献2の図1等参照)。これにより、茸の収穫量が増加することが開示されている(特許文献2の段落[0024]参照)。   By the way, in general cultivation of straw, a technique for applying electrical stimulation to a bed tree has been developed. For example, Patent Literature 2 discloses a technique in which a cultivator-side electrode 1a is inserted into a tree and a spark discharge is generated between the cultivator-side electrode 1a and the discharge electrode 20 (see, for example, FIG. 1 of Patent Literature 2). ). Thereby, it is disclosed that the yield of straw is increased (see paragraph [0024] of Patent Document 2).

しかし、食用の茸とは異なり、マンネンタケは抽出される有効成分が前述の薬効として活用される。したがって、マンネンタケを生産する際には、収穫量の増加とともに有効成分の増加が要求される。有効成分は、例えば、抗癌作用、血圧降下作用、コレステロール低下作用を有するガノデリン酸である。また、マンネンタケの効能として抗酸化作用が増加することが好ましい。   However, unlike edible salmon, the active ingredient extracted from Mannentake is used as the above-mentioned medicinal effect. Therefore, when producing garlic mushrooms, an increase in active ingredients is required as the yield increases. The active ingredient is, for example, ganoderic acid having an anticancer action, a blood pressure lowering action, and a cholesterol lowering action. Moreover, it is preferable that an antioxidant effect | action increases as an effect of a bamboo shoot.

本明細書の技術は、前述した従来の技術が有する問題点を解決するためになされたものである。その課題とは、マンネンタケの収穫量を増加させるとともに効能または有効成分を増加させることのできるマンネンタケと抗酸化剤と医薬品と食品と皮膚外用剤との生産方法を提供することである。   The technique of this specification has been made to solve the problems of the conventional techniques described above. The problem is to provide a method for producing ganentake, antioxidants, pharmaceuticals, foods, and external preparations for skin, which can increase the yield of garlic mushroom and increase the efficacy or active ingredient.

第1の態様におけるマンネンタケの生産方法では、第1導電体を備える第1電極体を有するプラズマ発生装置を用いる。プラズマ発生装置の第1導電体を培養原木または培養菌床に直接接触させない状態で、プラズマを培養原木または培養菌床に照射する。   In the method for producing mannentake in the first aspect, a plasma generator having a first electrode body including a first conductor is used. Plasma is irradiated to the culture log or the culture fungus in a state where the first conductor of the plasma generator is not in direct contact with the culture log or the culture fungus bed.

このマンネンタケの生産方法においては、マンネンタケの収穫量は従来に比べて多い。この生産方法により得られたマンネンタケの抽出物は、従来のマンネンタケの抽出物よりも高い抗酸化作用を示す。また、この生産方法により得られたマンネンタケに含まれるガノデリン酸の含有量は、従来のマンネンタケに含まれるガノデリン酸の含有量よりも多い。このように、このマンネンタケの生産方法は、収穫量を増加させると同時に効能または有効成分を増加させる。   In this production method, the yield of garlic mushrooms is larger than the conventional amount. The extract of Mannentake obtained by this production method exhibits a higher antioxidant effect than the extract of Mannentake. In addition, the content of ganoderic acid contained in the garlic mushroom obtained by this production method is higher than the content of ganoderic acid contained in the conventional garlic mushroom. As described above, this method for producing mushrooms increases the yield or the active ingredient at the same time.

本明細書では、マンネンタケの収穫量を増加させるとともに効能または有効成分を増加させることのできるマンネンタケと抗酸化剤と医薬品と食品と皮膚外用剤との生産方法が提供されている。   In the present specification, there is provided a method for producing garlic mushrooms, antioxidants, pharmaceuticals, foods, and external preparations for skin, which can increase the yield of garlic mushrooms and increase the efficacy or active ingredient.

第1の実施形態の第1のプラズマ発生装置の構造を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the structure of the 1st plasma generator of 1st Embodiment. 第1の実施形態の第2のプラズマ発生装置の構造を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the structure of the 2nd plasma generator of 1st Embodiment. 第1の本実施形態における第1のプラズマ発生装置を用いて菌床にプラズマを照射している様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that plasma is irradiated to a microbial bed using the 1st plasma generator in 1st this embodiment. 第1の実施形態における第2のプラズマ発生装置を用いて菌床にプラズマを照射している様子を示す図(その1)である。It is FIG. (1) which shows a mode that plasma is irradiated to a microbial bed using the 2nd plasma generator in 1st Embodiment. 第1の実施形態における第2のプラズマ発生装置を用いて菌床にプラズマを照射している様子を示す図(その2)である。It is a figure (the 2) which shows a mode that plasma is irradiated to a microbial bed using the 2nd plasma generator in 1st Embodiment. 霊芝抽出物のHPLCクロマトグラムを示すグラフである。It is a graph which shows the HPLC chromatogram of a reishi extract.

以下、具体的な実施形態について、マンネンタケと抗酸化剤と医薬品と食品と皮膚外用剤との生産方法を例に挙げて図を参照しつつ説明する。マンネンタケの子実体の抽出物は1以上の成分を含有する。実施形態および実施例において、マンネンタケの抽出物の成分を単に成分と記載することがある。   Hereinafter, specific embodiments will be described with reference to the drawings, taking as an example the production method of garlic mushrooms, antioxidants, pharmaceuticals, foods, and skin external preparations. An extract of the fruit body of the garlic bamboo contains one or more components. In the embodiments and examples, the components of the extract of the garlic mushroom may be simply referred to as components.

(第1の実施形態)
第1の実施形態について説明する。第1の実施形態は、マンネンタケの生産方法である。本実施形態のマンネンタケの生産方法は、プラズマ発生装置を用いてマンネンタケを生産する方法である。
(First embodiment)
A first embodiment will be described. The first embodiment is a method for producing mannentake. The method for producing mannentake of this embodiment is a method for producing mannentake using a plasma generator.

1.マンネンタケ
本実施形態のマンネンタケの菌株は、生薬「霊芝」に用いられる担子菌であり、マンネンタケ科(Ganodermataceae)、マンネンタケ属(Ganoderma)に属する。マンネンタケ属のキノコには、中国の薬学古書である「本草綱目」や「神農本草経」に赤霊芝(霊芝)、黒霊芝(黒芝)、紫霊芝(紫芝)、青霊芝(青芝)、黄霊芝(黄芝)および白霊芝(白芝)が存在すると記載されている。赤霊芝の一種として、鹿角霊芝もあげられる。赤霊芝および鹿角霊芝の学名は(Ganoderma lucidum)である。黒霊芝の学名は(G.atrum、G.japonicum、G.sinense)である。
1. Mannentake The strain of Mannentake of the present embodiment is a basidiomycete used in the herbal medicine “Ganoderma” and belongs to the family Ganodermaaceae and Ganoderma. For the mushrooms of the genus Mannenchu, there are old Chinese pharmacy books, “Honcho Tsuname” and “Shinnohonhonsyo”. (Aoshiba), Yellow Reishi (Koshiba) and White Reishi (White Shiba) are described as being present. Kazuno Ganoderma is also a kind of red ganoderma. The scientific names of red ganoderma and deer ganoderma are (Ganoderma lucidum). The scientific name of Black Ganoderma is (G.atrum, G.japonicum, G.sinense).

マンネンタケの菌株として、中国や日本市場等で流通しているものを用いることができる。また、マンネンタケの組織等から分離培養して生産されたものであってもよい。   As a strain of Mannentake, those distributed in China and the Japanese market can be used. Further, it may be produced by separating and culturing from a tissue of garlic mushroom.

2.プラズマ発生装置
2−1.第1のプラズマ発生装置
2−1−1.第1のプラズマ発生装置の構造
図1は、本実施形態の第1のプラズマ発生装置100の構造を示す概略構成図である。第1のプラズマ発生装置100は、誘電体バリア放電により大気圧プラズマを発生させる。第1のプラズマ発生装置100は、2つの電極体の間に配置された対象物O1との間にプラズマを発生させる。対象物O1は、導電体であることが好ましい。もしくはある程度の導電性を備えていることが好ましい。対象物O1は、例えばポリ袋のような薄い絶縁体の層を外部に有していてもよい。
2. Plasma generator 2-1. First plasma generator 2-1-1. Structure of First Plasma Generator FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a structure of a first plasma generator 100 of the present embodiment. The first plasma generator 100 generates atmospheric pressure plasma by dielectric barrier discharge. The first plasma generator 100 generates plasma between the object O1 disposed between the two electrode bodies. The object O1 is preferably a conductor. Or it is preferable to have a certain amount of conductivity. The object O1 may have a thin insulating layer such as a plastic bag outside.

図1に示すように、第1のプラズマ発生装置100は、第1電極体110と第2電極体120と電圧印加部130とを有する。第1電極体110は、第1電極111と誘電体112とを有する。第1電極111は、第1導電体である。第1電極111は、例えば金属である。第1電極111の材質として、例えば、銅、アルミニウムが挙げられる。もちろん、その他の金属または合金であってよい。また、第1電極111は平板形状の平板電極である。   As shown in FIG. 1, the first plasma generation apparatus 100 includes a first electrode body 110, a second electrode body 120, and a voltage application unit 130. The first electrode body 110 includes a first electrode 111 and a dielectric 112. The first electrode 111 is a first conductor. The first electrode 111 is, for example, a metal. Examples of the material of the first electrode 111 include copper and aluminum. Of course, other metals or alloys may be used. The first electrode 111 is a flat plate electrode.

誘電体112は、平板形状をしている。誘電体112は、第1電極111と接している。誘電体112は、第1電極111における第2電極121と対面する側の面111aに設けられている。つまり、誘電体112が、第1電極111の表面を覆っている。誘電体112は、面112aを有する。誘電体として、例えば、石英ガラスやセラミックスが挙げられる。もちろん、その他の誘電体を用いてもよい。   The dielectric 112 has a flat plate shape. The dielectric 112 is in contact with the first electrode 111. The dielectric 112 is provided on the surface 111 a of the first electrode 111 on the side facing the second electrode 121. That is, the dielectric 112 covers the surface of the first electrode 111. The dielectric 112 has a surface 112a. Examples of the dielectric include quartz glass and ceramics. Of course, other dielectric materials may be used.

第2電極体120は、第2電極121を有する。第2電極121は、第2導電体である。第2電極121は、例えば金属である。第2電極121の材質として、例えば、銅、アルミニウムが挙げられる。もちろん、その他の金属または合金であってよい。第2電極121は平板形状の平板電極である。第2電極121は、第1電極体110と対面する側の面121aを有する。   The second electrode body 120 has a second electrode 121. The second electrode 121 is a second conductor. The second electrode 121 is, for example, a metal. Examples of the material of the second electrode 121 include copper and aluminum. Of course, other metals or alloys may be used. The second electrode 121 is a flat plate electrode. The second electrode 121 has a surface 121 a on the side facing the first electrode body 110.

また、誘電体112の平板形状の面積は、第1電極111の平板形状の面積よりも大きい。そのため、第2電極121からみると、第1電極111の面111aは誘電体112の奥に隠れている。   The area of the plate shape of the dielectric 112 is larger than the area of the plate shape of the first electrode 111. Therefore, when viewed from the second electrode 121, the surface 111 a of the first electrode 111 is hidden behind the dielectric 112.

第1電極体110と第2電極体120とは、互いに対向する対向電極である。第1電極体110の誘電体112の面112aと、第2電極体120の第2電極121の面121aとは、対向している。また、第1電極体110の第1電極111の面111aと、第2電極体120の第2電極121の面121aとは、対向している。   The first electrode body 110 and the second electrode body 120 are counter electrodes facing each other. The surface 112a of the dielectric 112 of the first electrode body 110 and the surface 121a of the second electrode 121 of the second electrode body 120 face each other. Further, the surface 111 a of the first electrode 111 of the first electrode body 110 and the surface 121 a of the second electrode 121 of the second electrode body 120 face each other.

2−1−2.第1のプラズマ発生装置のプラズマ発光領域
図1に示すように、電圧印加部130が第1電極111と第2電極121との間に交流電圧を印加する。ここで、交流電圧は、例えば、1kV以上10kV以下である。その周波数は、5kHz以上100kHz以下である。これらは例示であり、これら以外の数値であってもよい。対象物O1は導電体であるため、第2電極121と対象物O1とはほとんど同じ電位である。一方、第1電極111と対象物O1との間には誘電体112が配置されている。つまり、第1電極111と対象物O1とは絶縁されている。そして、第1電極111と対象物O1との間の空間には、強い電界が形成される。この電界により生じる第1電極111と対象物O1との間の電圧が、放電開始電圧を上回ると、誘電体112と対象物O1との間に放電が生じる。そして、プラズマ発光領域P1にプラズマが発生する。プラズマ発光領域P1は、プラズマの生成により発光している領域である。
2-1-2. Plasma Emission Region of First Plasma Generator As shown in FIG. 1, the voltage application unit 130 applies an alternating voltage between the first electrode 111 and the second electrode 121. Here, the AC voltage is, for example, 1 kV or more and 10 kV or less. The frequency is 5 kHz or more and 100 kHz or less. These are examples, and numerical values other than these may be used. Since the object O1 is a conductor, the second electrode 121 and the object O1 have almost the same potential. On the other hand, a dielectric 112 is disposed between the first electrode 111 and the object O1. That is, the first electrode 111 and the object O1 are insulated. A strong electric field is formed in the space between the first electrode 111 and the object O1. When the voltage between the first electrode 111 and the object O1 generated by the electric field exceeds the discharge start voltage, a discharge is generated between the dielectric 112 and the object O1. Then, plasma is generated in the plasma emission region P1. The plasma emission region P1 is a region that emits light by generating plasma.

つまり、図1に示すように、第1のプラズマ発生装置100は、誘電体112と対象物O1との間の位置にプラズマ発光領域P1を生成する。第1電極111および第2電極121は平板電極である。そして、電圧印加部130が印加する電圧により、誘電体112と対象物O1とが対面する領域の各所で放電が生じる。そのため、プラズマ発光領域P1の形状は、誘電体112の平板形状に相当する平面形状をしている。プラズマ発光領域P1におけるプラズマは、対象物O1の上面O1aの上にほぼ均一に生成される。また、プラズマ発光領域P1は、第1電極体110と第2電極体120とにより挟まれた空間の内部に位置している。   That is, as shown in FIG. 1, the first plasma generating apparatus 100 generates a plasma emission region P1 at a position between the dielectric 112 and the object O1. The first electrode 111 and the second electrode 121 are plate electrodes. Then, due to the voltage applied by the voltage application unit 130, discharge occurs in various places in the region where the dielectric 112 and the object O1 face each other. Therefore, the shape of the plasma light emitting region P <b> 1 has a planar shape corresponding to the flat plate shape of the dielectric 112. The plasma in the plasma emission region P1 is generated substantially uniformly on the upper surface O1a of the object O1. Further, the plasma light emitting region P <b> 1 is located in a space sandwiched between the first electrode body 110 and the second electrode body 120.

2−2.第2のプラズマ発生装置
2−2−1.第2のプラズマ発生装置の構造
図2は、本実施形態の第2のプラズマ発生装置200の構造を示す概略構成図である。第2のプラズマ発生装置200は、誘電体バリア放電により大気圧プラズマを発生させる。第2のプラズマ発生装置200は、2つの電極体の間に放電させることにより生じるプラズマを対象物O1に照射する。第2のプラズマ発生装置200を使用する際には、対象物O1の導電性は要求されない。
2-2. Second plasma generator 2-2-1. Structure of Second Plasma Generator FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing the structure of the second plasma generator 200 of the present embodiment. The second plasma generator 200 generates atmospheric pressure plasma by dielectric barrier discharge. The second plasma generation apparatus 200 irradiates the object O1 with plasma generated by discharging between the two electrode bodies. When using the second plasma generator 200, the conductivity of the object O1 is not required.

図2に示すように、第2のプラズマ発生装置200は、筐体201と、第1電極体210と、第2電極体220と、電圧印加部230と、ガス供給部240と、照射口201aと、を有する。   As shown in FIG. 2, the second plasma generator 200 includes a housing 201, a first electrode body 210, a second electrode body 220, a voltage application section 230, a gas supply section 240, and an irradiation port 201a. And having.

第1電極体210は、第1電極211と、誘電体212と、を有する。第1電極211は、導電体である。第1電極211は、例えば金属である。第1電極211は、円筒形状である。また、誘電体212も円筒形状である。誘電体212は、第1電極211の内側に配置されている。   The first electrode body 210 includes a first electrode 211 and a dielectric 212. The first electrode 211 is a conductor. The first electrode 211 is, for example, a metal. The first electrode 211 has a cylindrical shape. The dielectric 212 is also cylindrical. The dielectric 212 is disposed inside the first electrode 211.

第2電極体220は、第2電極221を有する。第2電極221は棒状電極である。また、誘電体212は、第1電極211と第2電極221との間の位置に配置されている。   The second electrode body 220 has a second electrode 221. The second electrode 221 is a rod-shaped electrode. In addition, the dielectric 212 is disposed at a position between the first electrode 211 and the second electrode 221.

ガス供給部240は、ガスを筐体201の内部に供給する。そのため、ガス供給部240が供給するガスは、第1電極体210と第2電極体220との間に供給される。ガス供給部240が供給するガスは、例えば、Ar、He等の希ガスである。または、大気であってもよい。ガス供給部240がAr等の希ガスを供給すると、第2のプラズマ発生装置200はプラズマを発生させやすい。   The gas supply unit 240 supplies gas into the housing 201. Therefore, the gas supplied by the gas supply unit 240 is supplied between the first electrode body 210 and the second electrode body 220. The gas supplied by the gas supply unit 240 is a rare gas such as Ar or He. Or it may be the atmosphere. When the gas supply unit 240 supplies a rare gas such as Ar, the second plasma generator 200 easily generates plasma.

2−2−2.第2のプラズマ発生装置のプラズマ発光領域
図2に示すように、電圧印加部230が第1電極211と第2電極221との間に交流電圧を印加する。そして、第1電極211と第2電極221との間の空間には、強い電界が形成される。この電界により生じる第1電極211と第2電極221との間の電圧が、放電開始電圧を上回ると、誘電体212と第2電極221との間に放電が生じる。そして、その放電領域にプラズマが発生する。
2-2-2. Plasma Emission Area of Second Plasma Generator As shown in FIG. 2, the voltage application unit 230 applies an AC voltage between the first electrode 211 and the second electrode 221. A strong electric field is formed in the space between the first electrode 211 and the second electrode 221. When the voltage between the first electrode 211 and the second electrode 221 generated by this electric field exceeds the discharge start voltage, a discharge is generated between the dielectric 212 and the second electrode 221. Then, plasma is generated in the discharge region.

ガス供給部240がガスを第2のプラズマ発生装置200の筐体201の内部に供給しているため、プラズマは照射口201aから照射されることとなる。そして、図2に示すように、照射口201aの外部にプラズマ発光領域P2が発生する。プラズマ発光領域P2は、プラズマの生成により発光している領域である。   Since the gas supply unit 240 supplies gas to the inside of the casing 201 of the second plasma generator 200, the plasma is irradiated from the irradiation port 201a. Then, as shown in FIG. 2, a plasma emission region P2 is generated outside the irradiation port 201a. The plasma emission region P2 is a region that emits light by generating plasma.

3.原木または菌床へのプラズマの照射方法
3−1.第1のプラズマ発生装置
図3は、本実施形態における第1のプラズマ発生装置100を用いて菌床にプラズマを照射している様子を示す図である。菌床B1は、上面B1aを有する。上面B1aは凹凸形状を有する。図3では、説明のために上面B1aの凹凸形状が大きめに描かれている。図3では、菌床B1について描かれているが、原木に対しても同様に用いることができる。ここで、原木や菌床は、ミネラルを含有する水を含んでいる。そのため、原木や菌床は、ある程度の導電性を備えていると考えられる。
3. 3. Method of plasma irradiation to log or fungus bed 3-1. First Plasma Generating Device FIG. 3 is a diagram showing a state in which plasma is applied to the fungus bed using the first plasma generating device 100 in the present embodiment. The fungus bed B1 has an upper surface B1a. The upper surface B1a has an uneven shape. In FIG. 3, the concavo-convex shape of the upper surface B1a is drawn larger for explanation. In FIG. 3, the fungus bed B1 is illustrated, but it can also be used for a log. Here, the log and the fungus bed contain water containing minerals. Therefore, it is considered that the log and the fungus bed have a certain degree of conductivity.

図3に示すように、第2電極体120の第2電極121は、菌床B1の下面B1bに接触している。第1電極体110の誘電体112は、菌床B1の上面B1aに接触している。第1電極体110の第1電極111は、菌床B1の上面B1aに接触していない。   As shown in FIG. 3, the second electrode 121 of the second electrode body 120 is in contact with the lower surface B1b of the fungus bed B1. The dielectric 112 of the first electrode body 110 is in contact with the upper surface B1a of the fungus bed B1. The first electrode 111 of the first electrode body 110 is not in contact with the upper surface B1a of the fungus bed B1.

図3に示すように、第1電極体110の誘電体112と菌床B1の上面B1aとの間にはわずかに隙間がある。そして、その隙間がプラズマ発光領域P1mとなる。プラズマ発光領域P1mは、プラズマの生成により発光している領域である。   As shown in FIG. 3, there is a slight gap between the dielectric 112 of the first electrode body 110 and the upper surface B1a of the fungus bed B1. The gap becomes the plasma emission region P1m. The plasma emission region P1m is a region that emits light by generating plasma.

図3に示すように、プラズマ発光領域P1mは、菌床B1に接触している。   As shown in FIG. 3, the plasma emission region P1m is in contact with the fungus bed B1.

図3では、鉛直上方から視たときに、第1電極体110の誘電体112の大きさは、菌床B1の上面B1aの大きさより小さい。そのため、プラズマ発光領域P1mは、菌床B1の上面B1aの一部に接触している。菌床B1の上面B1aは、プラズマを照射された領域とプラズマを照射されていない領域とを含む。つまり、菌床B1の上面B1aの一部に、大気圧プラズマが照射されることとなる。   In FIG. 3, the size of the dielectric 112 of the first electrode body 110 is smaller than the size of the upper surface B1a of the fungus bed B1 when viewed from vertically above. Therefore, the plasma light emission region P1m is in contact with a part of the upper surface B1a of the fungus bed B1. The upper surface B1a of the fungus bed B1 includes a region irradiated with plasma and a region not irradiated with plasma. That is, atmospheric pressure plasma is irradiated to a part of the upper surface B1a of the fungus bed B1.

3−2.第2のプラズマ発生装置
図4は、本実施形態における第2のプラズマ発生装置200を用いて菌床にプラズマを照射している様子を示す図(その1)である。図4に示すように、プラズマ発光領域P2は、菌床B1の上面B1aに接触している。そのため、プラズマ発光領域P2の内部に含まれるイオンやラジカル等が菌床B1に照射される。
3-2. Second Plasma Generator FIG. 4 is a view (No. 1) showing a state in which the second bed of plasma generator 200 in the present embodiment is used to irradiate plasma on the microbial bed. As shown in FIG. 4, the plasma emission region P2 is in contact with the upper surface B1a of the fungus bed B1. Therefore, ions, radicals, and the like contained in the plasma emission region P2 are irradiated to the bacterial bed B1.

図5は、本実施形態における第2のプラズマ発生装置200を用いて菌床にプラズマを照射している様子を示す図(その2)である。図5に示すように、プラズマ発光領域P2は、菌床B1の上面B1aに接触していない。そのため、プラズマ発光領域P2の外部領域に含まれるイオンやラジカル等が菌床B1に照射される。   FIG. 5 is a view (No. 2) showing a state in which plasma is applied to the microbial bed using the second plasma generator 200 in the present embodiment. As shown in FIG. 5, the plasma emission region P2 is not in contact with the upper surface B1a of the fungus bed B1. For this reason, the bacteria bed B1 is irradiated with ions, radicals, and the like contained in the outer region of the plasma emission region P2.

このように、プラズマ発光領域P2を菌床B1に接触させることができる。また、プラズマ発光領域P2を菌床B1に接触させないこともできる。また、ガス供給部240が供給するガスを選択することができる。ガスはArが好ましい。好適にプラズマを発生させることができるからである。   In this way, the plasma emission region P2 can be brought into contact with the fungus bed B1. Further, the plasma emission region P2 can be prevented from contacting the fungus bed B1. Further, the gas supplied by the gas supply unit 240 can be selected. The gas is preferably Ar. This is because plasma can be suitably generated.

3−3.第1のプラズマ発生装置と第2のプラズマ発生装置との違い
第1のプラズマ発生装置100は、平面形状のプラズマを生成することができる。そのため、原木または菌床に効率よくプラズマを照射することができる。第1のプラズマ発生装置100が発生させるプラズマは非平衡大気圧プラズマである。また、プラズマガスは第1のプラズマ発生装置100の周囲の大気である。そのため、プラズマ中には、窒素原子および酸素原子に由来する分子やイオンやラジカルが比較的多く発生する。
3-3. Difference between the first plasma generation apparatus and the second plasma generation apparatus The first plasma generation apparatus 100 can generate a planar plasma. Therefore, it is possible to efficiently irradiate the raw wood or the fungus bed with plasma. The plasma generated by the first plasma generator 100 is non-equilibrium atmospheric pressure plasma. The plasma gas is the atmosphere around the first plasma generator 100. Therefore, relatively many molecules, ions, and radicals derived from nitrogen atoms and oxygen atoms are generated in the plasma.

第2のプラズマ発生装置200は、ガス供給部240が供給するガスを用いてプラズマを照射することができる。例えばArガスを用いれば、プラズマを発生させやすい。この場合には、プラズマ発光領域P2の内部では、励起状態のAr原子が多いと考えられる。プラズマ発光領域P2の外部領域では、周囲の大気がプラズマに巻き込まれ、周囲の大気に由来する窒素原子または酸素原子に由来する分子やイオンやラジカルが比較的多く発生していると考えられる。   The second plasma generation apparatus 200 can irradiate plasma using a gas supplied from the gas supply unit 240. For example, if Ar gas is used, plasma is easily generated. In this case, it is considered that there are many excited Ar atoms in the plasma emission region P2. In the external region of the plasma emission region P2, it is considered that the surrounding atmosphere is entrained in the plasma, and relatively many molecules, ions, and radicals derived from nitrogen atoms or oxygen atoms originating from the surrounding atmosphere are generated.

3−4.プラズマの照射条件
原木または菌床に1回あたり連続して照射する時間は、例えば30秒以上5分以下である。好ましくは、1分以上2分以下である。1回あたりのプラズマの照射時間が長いと、原木または菌床の表面温度が上昇してしまうおそれがあるからである。原木または菌床の表面温度は200℃以下であるとよい。そのために、適宜インターバルを設けるとよい。1回あたりのプラズマの照射時間が1分である場合には、プラズマの照射回数は3回以上5回以下であるとよい。上記は例示であり、上記以外の条件であってもよい。
3-4. Plasma Irradiation Conditions The time for continuously irradiating the log or fungus bed once is, for example, 30 seconds or more and 5 minutes or less. Preferably, it is 1 minute or more and 2 minutes or less. This is because if the plasma irradiation time per time is long, the surface temperature of the raw wood or fungus bed may increase. The surface temperature of the log or fungus bed is preferably 200 ° C. or less. For this purpose, an interval may be provided as appropriate. When the plasma irradiation time per time is 1 minute, the number of plasma irradiations is preferably 3 to 5 times. The above is an example, and conditions other than the above may be used.

前述のように、第1のプラズマ発生装置100を用いる場合には、菌床B1の上面B1aの一部に、大気圧プラズマを照射する。その照射面積は、次の通りであるとよい。菌床B1の上面B1aの全面積に対する誘電体112の面積の比は、例えば、5%以上50%以下である。ここで、菌床B1の上面B1aの全面積とは、上面B1aの表面積ではなく、鉛直上方から視たときの上面B1aの面積である。この面積の比は、上記以外の数値範囲であってもよい。好ましくは、5%以上35%以下である。より好ましくは、5%以上20%以下である。   As described above, when the first plasma generator 100 is used, a part of the upper surface B1a of the fungus bed B1 is irradiated with atmospheric pressure plasma. The irradiation area is preferably as follows. The ratio of the area of the dielectric 112 to the total area of the upper surface B1a of the fungus bed B1 is, for example, 5% or more and 50% or less. Here, the total area of the upper surface B1a of the fungus bed B1 is not the surface area of the upper surface B1a but the area of the upper surface B1a when viewed from vertically above. The area ratio may be a numerical range other than the above. Preferably, it is 5% or more and 35% or less. More preferably, it is 5% or more and 20% or less.

4.マンネンタケの生産方法
本実施形態のマンネンタケの生産方法は、原木または菌床にマンネンタケの菌株を接種する接種工程と、原木または菌床を培養原木または培養菌床に培養する培養工程と、培養原木または培養菌床にプラズマを照射するプラズマ照射工程と、培養原木または培養菌床を栽培してマンネンタケの子実体を得る栽培工程と、を有する。
4). Production method of Mannentake The production method of Mannentake of the present embodiment includes an inoculation step of inoculating a raw wood or fungus bed with a strain of Mannentake, a culture step of culturing the raw wood or fungus bed in a cultured log or culture fungus, A plasma irradiation step of irradiating the cultured fungus bed with plasma, and a cultivation step of cultivating the cultured log or the cultured fungus bed to obtain fruit bodies of the garlic mushroom.

4−1.材料準備工程
マンネンタケの栽培に用いられる原木は、広葉樹または針葉樹が好ましい。広葉樹として、例えば、クヌギ、コナラ、ブナ等が挙げられる。針葉樹として、例えば、マツ、モミ、ツガ等が挙げられる。上記の樹木を玉切り等により切断し、ポリ袋等に入れ、公知の方法により加熱殺菌することができる。殺菌方法については適宜選択してよい。
4-1. Material Preparation Process The raw wood used for cultivation of mannentake is preferably hardwood or conifer. Examples of broad-leaved trees include kunugi, konara, and beech. Examples of coniferous trees include pine, fir, and tsuga. The above tree can be cut by slicing or the like, placed in a plastic bag or the like, and heat sterilized by a known method. The sterilization method may be appropriately selected.

マンネンタケの栽培に用いられる菌床は、菌株が資化し得るのに必要な炭素源、窒素源、無機物、およびその他の必要な栄養素を適宜含有する培地である。菌床として例えば、オガ粉(例えば、クヌギ、コナラ、ブナ等の広葉樹、またはマツ、モミ、ツガ等の針葉樹から作られる)、米糠、フスマ、コーンコブミール、水等を適宜混合させたものが挙げられる。そして、これらの培地を、菌床栽培用の市販のポリ袋等に入れ、公知の方法により加熱殺菌することができる。殺菌方法については適宜選択してよい。   The fungus bed used for the cultivation of garlic mushroom is a medium appropriately containing a carbon source, a nitrogen source, an inorganic substance, and other necessary nutrients necessary for the strain to be assimilated. Examples of the fungus bed include those obtained by appropriately mixing sawdust (for example, hardwood such as cucumber, oak, beech, etc., or conifers such as pine, fir, and tsuga), rice bran, bran, corn cobmeal, and water. It is done. And these culture media can be put into the commercially available plastic bag etc. for fungus bed cultivation, and can be heat-sterilized by a well-known method. The sterilization method may be appropriately selected.

4−2.接種工程
マンネンタケの菌株を原木または菌床に植菌する。植菌方法は、公知の方法を用いればよい。
4-2. Inoculation process Inoculate the mannambose strain on the log or fungus bed. A known method may be used as the inoculation method.

4−3.培養工程
原木または菌床に植菌したマンネンタケの菌株を活着させて繁殖させる。この培養工程は、暗所にて実施するとよい。もちろん、暗所に限らない。培養温度は例えば、15℃以上35℃以下である。好ましくは、20℃以上30℃以下である。培養湿度は例えば、40%以上80%以下である。好ましくは、55%以上65%以下である。原木における培養期間は、例えば、40日以上90日以下であるとよい。菌床における培養期間は、例えば、30日以上80日以下であるとよい。もちろん、上記の培養条件に限らない。
4-3. Cultivation process A cultivated strain of Mannentake inoculated on the raw wood or fungus bed is allowed to propagate. This culturing step may be performed in a dark place. Of course, it is not limited to dark places. The culture temperature is, for example, 15 ° C. or more and 35 ° C. or less. Preferably, they are 20 degreeC or more and 30 degrees C or less. The culture humidity is, for example, 40% or more and 80% or less. Preferably, it is 55% or more and 65% or less. The culture period in the raw wood is, for example, 40 days or more and 90 days or less. The culture period in the fungus bed is preferably, for example, 30 days or more and 80 days or less. Of course, the culture conditions are not limited to the above.

そして、原木または菌床の全体が菌糸により白く均一に覆われた段階で培養工程を終了することが多い。この段階で、菌株由来の菌糸が原木または菌床中に蔓延している。このように培養が終了して菌糸が蔓延している原木を「培養原木」という。また、培養が終了して菌糸が蔓延している菌床を「培養菌床」という。   In many cases, the culturing process is completed at the stage where the whole wood or mycelium bed is uniformly covered with white mycelia. At this stage, the mycelium from the strain is prevalent in the log or mycelium. Thus, the raw wood in which the mycelium has spread after completion of the culture is called “cultured raw wood”. In addition, the mycelium in which the mycelium is prevalent after completion of the culture is referred to as “cultured mycelia”.

4−4.プラズマ照射工程
プラズマ照射工程は、培養工程の終了した培養原木または培養菌床に対して実施する。例えば、プラズマを3回以上5回以下で照射する。例えば、1回あたりの照射時間は1分間である。
4-4. Plasma irradiation process A plasma irradiation process is implemented with respect to the culture log or culture | cultivation bed which the culture process complete | finished. For example, plasma is irradiated 3 to 5 times. For example, the irradiation time per time is 1 minute.

4−5.栽培工程
プラズマを照射済みの培養原木または培養菌床を栽培してマンネンタケの子実体まで成長させる。マンネンタケの子実体は、主として培養原木または培養菌床の上面から成長する。この上面は、プラズマを照射した領域とプラズマを照射していない領域とを含む。プラズマを照射する効果は、プラズマを照射していない未照射領域にも及ぶ。栽培温度は例えば、20℃以上35℃以下である。好ましくは、25℃以上30℃以下である。栽培湿度は例えば、70%以上である。好ましくは90%以上である。このように栽培を経ることにより、マンネンタケが得られる。
4-5. Cultivation process Cultivated raw wood or cultured fungus bed that has been irradiated with plasma is grown to the fruit body of Mannentake. The fruit body of the garlic mushroom grows mainly from the upper surface of the cultured log or the cultured fungus bed. This upper surface includes a region irradiated with plasma and a region not irradiated with plasma. The effect of irradiating plasma extends to an unirradiated region that is not irradiated with plasma. Cultivation temperature is 20 degreeC or more and 35 degrees C or less, for example. Preferably, it is 25 degreeC or more and 30 degrees C or less. The cultivation humidity is, for example, 70% or more. Preferably it is 90% or more. By going through the cultivation in this way, mannentake is obtained.

5.従来技術との違い
従来においては、ほだ木等に大電流を流す。これにより、何らかの作用が発生し、菌類が活発に生育すると考えられている。
5. Difference from the prior art In the past, a large current was passed through the wood. As a result, it is believed that some action occurs and fungi grow actively.

本実施形態では、培養原木または培養菌床に非平衡大気圧プラズマを照射する。そのため、培養原木または培養菌床に荷電粒子が到達する可能性がある。そのため、培養原木または培養菌床に非常に微弱な電流が流れる可能性がある。しかし、従来のようにほだ木等に高い電流を流すことを目的としているわけではない。   In this embodiment, a non-equilibrium atmospheric pressure plasma is irradiated to a cultured log or a cultured fungus bed. Therefore, there is a possibility that charged particles reach the cultured log or the cultured fungus bed. Therefore, a very weak current may flow through the culture log or the culture fungus bed. However, it is not intended to cause a high current to flow through the bedwood as in the prior art.

また、プラズマを照射することにより、窒素原子および酸素原子に由来するイオンやラジカルが培養原木または培養菌床に照射される。このようなイオンやラジカル等の刺激を受け、マンネンタケの成分に変化が生じることが期待される。例えば、酸化作用の強いラジカル等の刺激を受け、マンネンタケにおける抗酸化物質の含有量が増加することが期待される。   Moreover, by irradiating with plasma, ions and radicals derived from nitrogen atoms and oxygen atoms are irradiated to the cultured log or the cultured fungus bed. It is expected that the components of Mannentake will change due to such stimulation by ions and radicals. For example, it is expected that the content of the antioxidant substance in Mannentake increases due to stimulation with radicals having strong oxidizing action.

6.本実施形態の効果
6−1.収穫量
本実施形態のマンネンタケの生産方法は、マンネンタケの収穫量を増加させる。プラズマを照射することにより、マンネンタケの菌株を活性化していると考えられる。なお、誘電体が第1電極と第2電極とを絶縁している。また、対象物O1は主にポリ袋等に入れられている。そのため、原木または菌床と第2電極とは絶縁されている。そのため、電流は原木または菌床には流れないか、仮に電流が原木または菌床に流れたとしても微量であると考えられる。
6). Effects of the present embodiment 6-1. Yield amount The method for producing garlic mushrooms of the present embodiment increases the yield of garlic mushrooms. By irradiating with plasma, it is considered that the strains of Mannentake are activated. A dielectric material insulates the first electrode from the second electrode. The object O1 is mainly put in a plastic bag or the like. Therefore, the log or the fungus bed and the second electrode are insulated. Therefore, it is considered that the current does not flow through the log or the fungus bed, or even if the current flows through the log or the fungus bed, the current is very small.

6−2.抗酸化作用
本実施形態のマンネンタケの生産方法は、マンネンタケの抗酸化作用を増進する。例えば、マンネンタケにおける抗酸化物質の濃度が高くなっていることが考えられる。
6-2. Antioxidant Effect The method for producing mannentake of this embodiment enhances the antioxidant effect of mannentake. For example, it is conceivable that the concentration of the antioxidant substance in Mannentake is high.

6−3.ガノデリン酸
本実施形態のマンネンタケの生産方法は、マンネンタケにおけるガノデリン酸を増加させる。ガノデリン酸は、抗癌作用、血圧降下作用、コレステロール低下作用等、を有する。
6-3. Ganoderic acid The method for producing garlic mushrooms of the present embodiment increases ganoderic acid in the garlic mushrooms. Ganoderic acid has an anticancer effect, a blood pressure lowering effect, a cholesterol lowering effect, and the like.

6−4.プラズマ
本実施形態では、培養原木または培養菌床に非平衡大気圧プラズマを照射する。これにより、少量の活性酸素種が菌糸等に照射され、菌が活性化していることが考えられる。実際に、一旦は菌糸が寸断されており、菌糸が再生する際に菌糸が網目状に広がっていることが観測される。
6-4. Plasma In this embodiment, non-equilibrium atmospheric pressure plasma is irradiated to a cultured log or a cultured fungus bed. Thereby, it is considered that a small amount of active oxygen species is irradiated on the mycelia and the like, and the bacteria are activated. Actually, once the mycelium is broken, it is observed that the mycelium spreads in a mesh pattern when the mycelium is regenerated.

7.変形例
7−1.第1のプラズマ発生装置の第1電極
第1電極111は、第2電極121と対面する側の面に曲面を有していてもよい。つまり、第1電極111は、第2電極121に対して凹面であっても凸面であってもよい。また、第1電極111は、屈曲面を有していてもよい。第1電極111は、上記の他、凹凸形状を有していてもよい。
7. Modification 7-1. First Electrode of First Plasma Generator The first electrode 111 may have a curved surface on the side facing the second electrode 121. That is, the first electrode 111 may be concave or convex with respect to the second electrode 121. The first electrode 111 may have a bent surface. In addition to the above, the first electrode 111 may have an uneven shape.

第1電極体110の誘電体112も、第1電極111の形状に対応して、曲面または屈曲面を有していてもよい。また、第1のプラズマ発生装置が、平板形状の第1電極111と、凹凸形状の誘電体112と、を有していてもよい。このように、誘電体112は、第1電極111と対応する形状以外の形状を有していてもよい。   The dielectric 112 of the first electrode body 110 may also have a curved surface or a bent surface corresponding to the shape of the first electrode 111. The first plasma generator may include a flat plate-shaped first electrode 111 and a concavo-convex dielectric 112. As described above, the dielectric 112 may have a shape other than the shape corresponding to the first electrode 111.

7−2.第1のプラズマ発生装置の第2電極
平板形状の第2電極121を対象物O1の下に配置する代わりに、その他の第2電極を用いてもよい。例えば、棒状の第2電極を原木または菌床に挿すようにしてもよい。この場合には、第2電極は、原木または菌床と導通状態にある。また、ベルト状の第2電極を原木または菌床にポリ袋ごと巻きつけるようにしてもよい。
7-2. Second electrode of first plasma generating device Instead of disposing the flat plate-like second electrode 121 under the object O1, another second electrode may be used. For example, you may make it insert a rod-shaped 2nd electrode in a log or a fungus bed. In this case, the second electrode is in conduction with the log or the fungus bed. Further, the belt-like second electrode may be wound around the log or the fungus bed together with the plastic bag.

7−3.プラズマの照射条件
プラズマの照射回数およびプラズマの連続照射時間については、もちろん、適宜変更してもよい。
7-3. Plasma Irradiation Conditions The number of plasma irradiations and the continuous plasma irradiation time may of course be changed as appropriate.

7−4.組み合わせ
上記の変形例を自由に組み合わせてもよい。
7-4. Combination The above modification examples may be freely combined.

8.本実施形態のまとめ
本実施形態のマンネンタケの生産方法は、マンネンタケの培養原木または培養菌床にプラズマを照射する。そのため、マンネンタケの収穫量を増加させることができる。また、マンネンタケのガノデリン酸の含有量を増加させることができる。
8). Summary of the present embodiment In the method for producing mannentake of the present embodiment, plasma is irradiated to a culture log or cultivated fungus bed of mannentake. Therefore, it is possible to increase the yield of garlic mushrooms. In addition, the content of ganoderic acid in Mannentake can be increased.

(第2の実施形態)
第2の実施形態について説明する。第2の実施形態は、マンネンタケから成分を抽出する方法である。
(Second Embodiment)
A second embodiment will be described. The second embodiment is a method for extracting a component from a bamboo shoot.

1.マンネンタケおよびその抽出物
マンネンタケの子実体またはその抽出物は、例えば、医薬品、医薬部外品、化粧品(皮膚外用剤)、食品等に用いられる。また、マンネンタケの子実体またはその抽出物は、抗酸化剤としての機能も有している。
1. Mannentake and its extract The fruit body of Mannentake or its extract is used for, for example, pharmaceuticals, quasi-drugs, cosmetics (external preparations for skin), foods and the like. Moreover, the fruit body of Mannentake or its extract also has a function as an antioxidant.

マンネンタケ子実体自体は、刻んだり、粉砕したりするなどしてお茶やふりかけなどに用いることができる。   Mannentake fruit bodies themselves can be chopped or crushed and used for tea or sprinkling.

マンネンタケの抽出物は、医薬品、医薬部外品、化粧品、食品のいずれにも用いることができる。その剤型としては、例えば、化粧水、クリーム、マッサージクリーム、乳液、ゲル剤、エアゾール剤、エッセンス、パック、洗浄剤、浴用剤、ファンデーション、打粉、口紅、軟膏、パップ剤、ペースト剤、プラスター剤、散剤、丸剤、錠剤、注射剤、坐剤、乳剤、カプセル剤、顆粒剤、液剤(チンキ剤、流エキス剤、酒精剤、懸濁剤、リモナーデ剤等を含む)、錠菓、シロップ剤、飲料等が挙げられる。   The extract of Mannentake can be used for any of pharmaceuticals, quasi drugs, cosmetics, and foods. As the dosage form, for example, lotion, cream, massage cream, emulsion, gel, aerosol, essence, pack, cleaning agent, bath preparation, foundation, powder, lipstick, ointment, poultice, paste, plaster , Powders, pills, tablets, injections, suppositories, emulsions, capsules, granules, solutions (including tinctures, fluid extracts, spirits, suspensions, limonades, etc.), tablets, syrups And beverages.

外用の場合、マンネンタケの抽出物の含有量は、固形物に換算して全量に対して0.0001重量%以上であるとよい。好ましくは、0.001重量%以上10重量%以下である。さらに好ましくは、0.01重量%以上5重量%以下である。マンネンタケの抽出物の配合量が0.0001重量%未満の場合には、十分な効果が期待できない。マンネンタケの抽出物の配合量が10重量%を超えると、効果の増強はそれほど認められない。   In the case of external use, the content of the extract of Mannentake is preferably 0.0001% by weight or more based on the total amount in terms of solid matter. Preferably, it is 0.001 weight% or more and 10 weight% or less. More preferably, it is 0.01 weight% or more and 5 weight% or less. When the amount of the extract of Mannentake is less than 0.0001% by weight, a sufficient effect cannot be expected. When the amount of the extract of Mannentake exceeds 10% by weight, the effect is not so much enhanced.

内用の場合、摂取量は年齢、体重、症状、治療効果、投与方法、処理時間等により異なる。成人1人当たりの1日の摂取量は、5mg以上であるとよい。好ましくは、10mg以上5g以下である。さらに好ましくは、100mg以上1g以下である。   In the case of internal use, the intake varies depending on age, weight, symptoms, therapeutic effect, administration method, treatment time and the like. The daily intake per adult is preferably 5 mg or more. Preferably, it is 10 mg or more and 5 g or less. More preferably, it is 100 mg or more and 1 g or less.

2.マンネンタケの抽出方法
本実施形態のマンネンタケの抽出方法は、主として、加熱抽出または常温抽出である。または、その他の公知の抽出方法を用いてもよい。
2. Extraction method of salmon bamboo The extraction method of salmon bamboo of this embodiment is mainly heating extraction or normal temperature extraction. Alternatively, other known extraction methods may be used.

2−1.加熱抽出
マンネンタケの乾燥物に溶媒(抽出溶媒)を加えて混合物とし、その混合物を加熱しながらマンネンタケの成分を抽出し、抽出物とすることができる。
2-1. Extraction by heating A solvent (extraction solvent) is added to a dried product of Mannentake to obtain a mixture, and components of Mannentake are extracted while heating the mixture to obtain an extract.

2−2.常温抽出
マンネンタケの乾燥物に溶媒(抽出溶媒)を加えて混合物とし、その混合物を常温下でマンネンタケの成分を抽出し、抽出物とすることができる。
2-2. Extraction at room temperature A solvent (extraction solvent) is added to the dried product of Mannen bamboo to make a mixture, and the mixture can be extracted at room temperature to extract the components of Mannen bamboo.

抽出溶媒としては、例えば、水、低級アルコール(メタノール、エタノール、1‐プロパノール、2‐プロパノール、1‐ブタノール、2‐ブタノール)、液状多価アルコール(1,3‐ブチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン等)、アセトニトリル、エステル類(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、流動パラフィン等)、エーテル類(エチルエーテル、テトラヒドロフラン、プロピルエーテル等)が挙げられる。好ましくは、水、低級アルコールおよび液状多価アルコール等の極性溶媒である。特に好ましくは、水、エタノール、1,3‐ブチレングリコールおよびプロピレングリコールである。これらの溶媒は一種でも二種以上を混合して用いてもよい。   As an extraction solvent, for example, water, lower alcohol (methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol), liquid polyhydric alcohol (1,3-butylene glycol, propylene glycol, glycerin, etc.) ), Ketones (acetone, methyl ethyl ketone, etc.), acetonitrile, esters (ethyl acetate, butyl acetate, etc.), hydrocarbons (hexane, heptane, liquid paraffin, etc.), ethers (ethyl ether, tetrahydrofuran, propyl ether, etc.) Can be mentioned. Preference is given to polar solvents such as water, lower alcohols and liquid polyhydric alcohols. Particularly preferred are water, ethanol, 1,3-butylene glycol and propylene glycol. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

3.変形例
3−1.処理
マンネンタケの抽出物は、抽出した溶液のまま用いてもよい。また、抽出した溶液を必要に応じて、濃縮、希釈、濾過、脱色、脱臭、乾燥等の処理をしてもよい。さらには、ガノデリン酸類などをHPLCなどのカラム精製等を行って有効成分を濃縮や単離してもよい。
3. Modification 3-1. Treatment The extract of Mannentake may be used as it is in the extracted solution. Moreover, you may process the extracted solution as needed, such as concentration, dilution, filtration, decolorization, deodorization, and drying. Furthermore, the active ingredient may be concentrated or isolated by performing column purification such as HPLC on ganoderic acid or the like.

3−2.添加物
マンネンタケの抽出物に抽出物の効果を損なわない範囲で添加物を加えてもよい。添加物として例えば、油脂類、ロウ類、炭化水素類、脂肪酸類、アルコール類、エステル類、界面活性剤、金属石鹸、pH調整剤、防腐剤、香料、保湿剤、粉体、紫外線吸収剤、増粘剤、色素、酸化防止剤、美白剤、キレート剤、乳糖、微結晶セルロース等の希釈剤、潤滑剤、崩壊剤等が挙げられる。
3-2. Additives Additives may be added to the extract of Mannentake as long as the effect of the extract is not impaired. Examples of additives include fats and oils, waxes, hydrocarbons, fatty acids, alcohols, esters, surfactants, metal soaps, pH adjusters, preservatives, fragrances, moisturizers, powders, UV absorbers, Examples include a thickener, a dye, an antioxidant, a whitening agent, a chelating agent, a diluent such as lactose and microcrystalline cellulose, a lubricant, and a disintegrant.

3−3.組み合わせ
上記の変形例を自由に組み合わせてもよい。
3-3. Combination The above modification examples may be freely combined.

実施例において、「%」とは重量%を示す。「部」とは重量部を示す。   In the examples, “%” indicates wt%. “Parts” refers to parts by weight.

1.栽培方法
1−1.原木栽培
原木の種類は広葉樹(コナラ属)である。直径5〜25cm、高さ約13cmの大きさに切断された原木を用いた。ポリプロピレン製の袋の底面に吸水紙を敷き、その袋の中に切断した原木3kgと保湿用の水を120mL入れた。袋を軽く閉じ、袋中の原木に対して蒸気による加熱殺菌を行い、清浄空間で常温まで放冷した。
1. Cultivation method 1-1. Raw wood cultivation The kind of raw wood is hardwood (Quercus genus). Logs cut to a size of 5 to 25 cm in diameter and about 13 cm in height were used. Water absorbent paper was laid on the bottom of a polypropylene bag, and 3 kg of cut wood and 120 mL of moisture retaining water were placed in the bag. The bag was lightly closed, and the raw wood in the bag was sterilized by steam and allowed to cool to room temperature in a clean space.

次に、原木に市販の霊芝の種菌(製品名:まんねんたけ、秋山種菌研究所製)65mLを接種した。接種後、袋の口を留めた。その後、温度24〜30℃、湿度40〜75%の暗所で培養した。原木の全体が菌糸により白く覆われるまで培養し、培養原木を得た。培養期間は40〜50日間であった。   Next, the log was inoculated with 65 mL of a commercially available reishi inoculum (product name: Mannentake, Akiyama Inoculum Research Institute). After inoculation, the bag mouth was closed. Thereafter, the cells were cultured in a dark place at a temperature of 24 to 30 ° C. and a humidity of 40 to 75%. The whole raw wood was cultured until it was covered with white mycelia to obtain a cultured raw wood. The culture period was 40-50 days.

培養原木に大気圧プラズマを照射した。プラズマの照射条件(A−G)については後述する。プラズマの照射後に、温度25〜30℃、湿度90〜100%、照度3000ルクス以下で栽培した。50〜120日間の栽培後にマンネンタケ子実体を得た。   The cultured log was irradiated with atmospheric pressure plasma. The plasma irradiation conditions (A-G) will be described later. After the plasma irradiation, the plant was cultivated at a temperature of 25-30 ° C., a humidity of 90-100%, and an illuminance of 3000 lux or less. Mannotake fruit bodies were obtained after cultivation for 50-120 days.

1−2.菌床栽培
培地に用いられる原木の種類は広葉樹(コナラ属)である。粉砕機で1〜15mmの大きさに原木を粉砕した。粉砕した原木0.9kg、フスマ0.1kg、水1.5kgを混合して培地とし、ポリプロピレン製の袋に入れ、菌床とした。袋を軽く閉じ、培地に対して蒸気による加熱殺菌を行い、清浄空間で常温まで放冷した。
1-2. The type of raw wood used in the fungal bed culture medium is hardwood (Quercus genus). The raw wood was pulverized to a size of 1 to 15 mm with a pulverizer. 0.9 kg of ground wood, 0.1 kg of bran, and 1.5 kg of water were mixed to prepare a culture medium, which was put in a polypropylene bag and used as a fungus bed. The bag was lightly closed, the medium was heat sterilized with steam and allowed to cool to room temperature in a clean space.

次に、培地に市販の霊芝の種菌(製品名:まんねんたけ、秋山種菌研究所製)54mLを接種した。接種後、袋の口を留めた。その後、温度15〜30℃、湿度45〜75%の暗所で培養した。培地の全体が菌糸により白く覆われるまで培養し、培養菌床を得た。培養期間は60〜120日間であった。   Next, 54 mL of a commercially available reishi inoculum (product name: Mannentake, manufactured by Akiyama Inoculum Research Institute) was inoculated into the medium. After inoculation, the bag mouth was closed. Thereafter, the cells were cultured in a dark place at a temperature of 15 to 30 ° C. and a humidity of 45 to 75%. The whole culture medium was cultured until it was covered with white by the mycelium to obtain a cultured bacterial bed. The culture period was 60 to 120 days.

培養菌床に大気圧プラズマを照射した。プラズマの照射条件(A−F)については後述する。プラズマの照射後に、温度24〜28℃、湿度75〜85%、照度3000ルクス以下で栽培した。30日間の栽培後にマンネンタケ子実体を得た。   The culture cell bed was irradiated with atmospheric pressure plasma. The plasma irradiation conditions (A-F) will be described later. After the plasma irradiation, the plant was cultivated at a temperature of 24-28 ° C., a humidity of 75-85%, and an illuminance of 3000 lux or less. After 30 days of cultivation, Mannentake fruiting bodies were obtained.

2.プラズマ照射条件
培養原木または培養菌床に照射する大気圧プラズマの照射条件を表1から表7に示す。照射条件A−Cにおいては、ペン型の第2のプラズマ発生装置200を用い、照射条件D−Gにおいては、平面型の第1のプラズマ発生装置100を用いた。なお、平面型のプラズマ発生装置(第1のプラズマ発生装置100)を用いる場合には、培養原木または培養菌床の上面の全面積に占める、プラズマ照射領域を培養菌床の上面に射影した面の面積の比は、7%から11%程度であった。なお、培養原木および培養菌床はポリプロピレンの袋の中に入れた状態で培養されている。そのため、培養原木および培養菌床を袋に入れた状態でプラズマを照射した。そのため、照射条件E、Gについては、第2電極と培養原木または培養菌床との間にポリプロピレンが存在している状態でプラズマを照射した。この場合においても、第1電極と培養原木または培養菌床との間にはプラズマ発光領域が発生した。
2. Plasma Irradiation Conditions Tables 1 to 7 show the atmospheric pressure plasma irradiation conditions for irradiating the cultured log or the cultured fungus bed. In the irradiation condition A-C, the pen-type second plasma generator 200 was used, and in the irradiation condition D-G, the planar first plasma generator 100 was used. In the case of using a flat type plasma generator (first plasma generator 100), a surface obtained by projecting the plasma irradiation region onto the upper surface of the cultured bacterial bed, which occupies the entire area of the upper surface of the cultured log or the cultured bacterial bed. The area ratio was about 7% to 11%. In addition, the cultured log and the cultured fungus bed are cultured in a state of being put in a polypropylene bag. Therefore, the plasma was irradiated in a state where the cultured log and the cultured fungus bed were put in a bag. Therefore, for irradiation conditions E and G, plasma was irradiated in a state where polypropylene was present between the second electrode and the cultured log or cultured fungus bed. Even in this case, a plasma emission region was generated between the first electrode and the cultured log or the cultured fungus bed.

[表1]
照射条件A
プラズマ装置 ペン型(第2のプラズマ発生装置)
ガスの種類 Ar
ガスの流量 3L/min
印加電圧 5.2kV
照射回数 3回(インターバル 1分)
照射時間 1分(照射時間の合計 3分)
照射距離 20mm(照射口201aから菌床上面B1aまで)
発光領域 対象と非接触
[Table 1]
Irradiation condition A
Plasma device Pen type (second plasma generator)
Gas type Ar
Gas flow rate 3L / min
Applied voltage 5.2 kV
Number of times of irradiation 3 times (interval 1 minute)
Irradiation time 1 minute (total irradiation time 3 minutes)
Irradiation distance 20mm (from irradiation port 201a to fungus bed upper surface B1a)
Luminescent area Non-contact with target

[表2]
照射条件B
プラズマ装置 ペン型(第2のプラズマ発生装置)
ガスの種類 Ar
ガスの流量 3L/min
印加電圧 6.5kV
照射回数 3回(インターバル 1分)
照射時間 2分(照射時間の合計 6分)
照射距離 10mm(照射口201aから菌床上面B1aまで)
発光領域 対象と接触
[Table 2]
Irradiation condition B
Plasma device Pen type (second plasma generator)
Gas type Ar
Gas flow rate 3L / min
Applied voltage 6.5kV
Number of times of irradiation 3 times (interval 1 minute)
Irradiation time 2 minutes (total irradiation time 6 minutes)
Irradiation distance 10mm (from irradiation port 201a to fungus bed upper surface B1a)
Light emitting area Contact with target

[表3]
照射条件C
プラズマ装置 ペン型(第2のプラズマ発生装置)
ガスの種類 Ar
ガスの流量 3L/min
印加電圧 5.2kV
照射回数 3回(インターバル 1分)
照射時間 1分(照射時間の合計 3分)
照射距離 10mm(照射口201aから菌床上面B1aまで)
発光領域 対象と接触
[Table 3]
Irradiation condition C
Plasma device Pen type (second plasma generator)
Gas type Ar
Gas flow rate 3L / min
Applied voltage 5.2 kV
Number of irradiations 3 times (1 minute interval)
Irradiation time 1 minute (total irradiation time 3 minutes)
Irradiation distance 10mm (from irradiation port 201a to fungus bed upper surface B1a)
Light emitting area Contact with target

[表4]
照射条件D
プラズマ装置 平面型(第1のプラズマ発生装置)
第1電極 50×50mm
第1電極の位置 培養原木または培養菌床の上面の端寄り
第2電極 φ1 110mm(タングステン棒を対象物に挿す)
第2電極の位置 下面(B1b)から10mmの高さの側面のうち
第1電極体に最も近い位置(100mm挿入)
印加電圧 5.2kV
照射回数 3回(インターバル 1分)
照射時間 1分(照射時間の合計 3分)
照射距離 0mm
発光領域 対象と接触
[Table 4]
Irradiation condition D
Plasma device Planar type (first plasma generator)
1st electrode 50 × 50mm
Position of the first electrode Near the edge of the upper surface of the cultured log or the cultured fungus bed Second electrode φ1 110 mm (insert the tungsten rod into the object)
Position of the second electrode Among the side surfaces with a height of 10 mm from the lower surface (B1b)
Position closest to the first electrode body (100mm insertion)
Applied voltage 5.2 kV
Number of times of irradiation 3 times (interval 1 minute)
Irradiation time 1 minute (total irradiation time 3 minutes)
Irradiation distance 0mm
Light emitting area Contact with target

[表5]
照射条件E
プラズマ装置 平面型(第1のプラズマ発生装置)
第1電極 50×50mm
第1電極の位置 培養原木または培養菌床の上面の端寄り
第2電極 250×200mm(対象物の底面積より広い)
第2電極の位置 培養原木または培養菌床の真下に配置
印加電圧 5.2kV
照射回数 3回(インターバル 1分)
照射時間 1分(照射時間の合計 3分)
照射距離 0mm
発光領域 対象と接触
[Table 5]
Irradiation condition E
Plasma device Planar type (first plasma generator)
1st electrode 50 × 50mm
Position of the first electrode Near the edge of the upper surface of the cultured log or the cultured bacterial bed Second electrode 250 × 200 mm (wider than the bottom area of the object)
Position of the second electrode Arranged just below the cultured log or cultured fungus bed Applied voltage 5.2 kV
Number of times of irradiation 3 times (interval 1 minute)
Irradiation time 1 minute (total irradiation time 3 minutes)
Irradiation distance 0mm
Light emitting area Contact with target

[表6]
照射条件F
プラズマ装置 平面型(第1のプラズマ発生装置)
第1電極 50×50mm
第1電極の位置 培養原木または培養菌床の上面の中央
第2電極 φ1 110mm(タングステン棒を対象物に挿す)
第2電極の位置 下面(B1b)から10mmの高さの側面のうち
第1電極体に最も近い位置(100mm挿入)
印加電圧 5.2kV
照射回数 3回(インターバル 1分)
照射時間 1分(照射時間の合計 3分)
照射距離 0mm
発光領域 対象と接触
[Table 6]
Irradiation condition F
Plasma device Planar type (first plasma generator)
1st electrode 50 × 50mm
Position of the first electrode Center of the upper surface of the cultured log or cultured fungus bed Second electrode φ1 110 mm (insert a tungsten rod into the object)
Position of the second electrode Among the side surfaces with a height of 10 mm from the lower surface (B1b)
Position closest to the first electrode body (100mm insertion)
Applied voltage 5.2 kV
Number of times of irradiation 3 times (interval 1 minute)
Irradiation time 1 minute (total irradiation time 3 minutes)
Irradiation distance 0mm
Light emitting area Contact with target

[表7]
照射条件G
プラズマ装置 平面型(第1のプラズマ発生装置)
第1電極 50×50mm
第1電極の位置 培養原木または培養菌床の上面の端寄り
第2電極 50×750mm
第2電極の位置 培養原木または培養菌床の側面下方に巻きつける
印加電圧 5.2kV
照射回数 3回(インターバル 1分)
照射時間 1分(照射時間の合計 3分)
照射距離 0mm
発光領域 対象と接触
[Table 7]
Irradiation condition G
Plasma device Planar type (first plasma generator)
1st electrode 50 × 50mm
Position of the first electrode Near the edge of the upper surface of the cultured log or the cultured bacterial bed Second electrode 50 × 750mm
Position of the second electrode Wrapped below the side of the culture log or culture fungus Applied voltage 5.2 kV
Number of times of irradiation 3 times (interval 1 minute)
Irradiation time 1 minute (total irradiation time 3 minutes)
Irradiation distance 0mm
Light emitting area Contact with target

3.マンネンタケの収穫量
表8は、原木栽培および菌床栽培により得られたマンネンタケ(水分量10重量%に調整)の収穫量を示している。なお、栽培例1A−1Gにおいては、プラズマを照射していない原木栽培の収穫量を100とした場合の収穫量を示している。栽培例2A−2Fにおいては、プラズマを照射していない菌床栽培の収穫量を100とした場合の収穫量を示している。
3. Table 8 shows the yield of Mannen bamboo (adjusted to a water content of 10% by weight) obtained by log cultivation and fungus bed cultivation. In the cultivation examples 1A to 1G, the harvesting amount when the harvesting amount of the raw wood cultivation not irradiated with plasma is set to 100 is shown. In cultivation example 2A-2F, the harvest amount when the harvest amount of the fungus bed cultivation not irradiated with plasma is set to 100 is shown.

[表8]
サンプル 栽培方法 照射条件 収穫量
栽培例1A 原木栽培 照射条件A 109
栽培例1B 原木栽培 照射条件B 106
栽培例1C 原木栽培 照射条件C 97
栽培例1D 原木栽培 照射条件D 122
栽培例1E 原木栽培 照射条件E 154
栽培例1F 原木栽培 照射条件F 130
栽培例1G 原木栽培 照射条件G 130
栽培例2A 菌床栽培 照射条件A 128
栽培例2B 菌床栽培 照射条件B 121
栽培例2C 菌床栽培 照射条件C 106
栽培例2D 菌床栽培 照射条件D 106
栽培例2E 菌床栽培 照射条件E 112
栽培例2F 菌床栽培 照射条件F 101
[Table 8]
Sample Cultivation method Irradiation condition Harvest amount Cultivation example 1A Log cultivation Irradiation condition A 109
Cultivation example 1B Log cultivation Irradiation condition B 106
Cultivation example 1C Log cultivation Irradiation condition C 97
Cultivation example 1D Log cultivation Irradiation condition D 122
Cultivation example 1E Log cultivation Irradiation condition E154
Cultivation example 1F Log cultivation Irradiation condition F 130
Cultivation example 1G Log cultivation Irradiation condition G130
Cultivation example 2A Fungus bed cultivation Irradiation condition A 128
Cultivation example 2B Fungus bed cultivation Irradiation condition B 121
Cultivation example 2C Fungus bed cultivation Irradiation condition C 106
Cultivation example 2D Fungus bed cultivation Irradiation condition D 106
Cultivation example 2E Fungus bed cultivation Irradiation condition E 112
Cultivation example 2F Fungus bed cultivation Irradiation condition F 101

表8に示すように、栽培例1D−1Gと、栽培例2A−2Bとにおいては、収穫量が従来のプラズマを用いない場合と比べて20%以上増加した。原木栽培については、平面型の第1のプラズマ発生装置100を用いることが好ましい。菌床栽培については、ペン型の第2のプラズマ発生装置200を用いることが好ましい。   As shown in Table 8, in the cultivation examples 1D-1G and the cultivation examples 2A-2B, the yield increased by 20% or more compared to the case where the conventional plasma was not used. For log cultivation, it is preferable to use the flat first plasma generator 100. For fungus bed cultivation, it is preferable to use the pen-type second plasma generator 200.

ペン型の第2のプラズマ発生装置200を用いる場合には、発光領域P2を培養原木または培養菌床に非接触の状態で大気圧プラズマを培養原木または培養菌床に照射することが好ましい(栽培例1A−1C、2A−2C)。   When the pen-type second plasma generating apparatus 200 is used, it is preferable to irradiate the cultured log or the cultured fungus bed with atmospheric pressure plasma in a state where the light emitting region P2 is not in contact with the cultured log or the cultured fungus bed (cultivation). Examples 1A-1C, 2A-2C).

平面型の第1のプラズマ発生装置100を用いる場合には、平面形状の第2電極を培養原木または培養菌床の下に敷くことが好ましい(栽培例1E、2E)。特に、原木栽培において収穫量の増大が顕著であった(栽培例1E)。   When the flat-type first plasma generator 100 is used, it is preferable to lay a second electrode having a flat shape under a culture log or a culture fungus bed (cultivation examples 1E and 2E). In particular, the increase in yield was significant in the cultivation of raw wood (Cultivation Example 1E).

4.マンネンタケの抽出物
以下、マンネンタケからの成分の抽出方法について説明する。
4). Extract of Mannentake Hereinafter, a method for extracting components from Mannentake will be described.

4−1.抽出法a(熱水抽出物)
原木栽培または菌床栽培のマンネンタケの乾燥物10gに精製水200mLを加え、95〜100℃で2時間抽出した後、濾過し、その濾液を濃縮し、凍結乾燥して熱水抽出物を得た。
4-1. Extraction method a (hot water extract)
Purified water (200 mL) was added to 10 g of dried garlic mushroom bamboo cultivated with raw wood or fungus bed, extracted at 95-100 ° C. for 2 hours, filtered, and the filtrate was concentrated and freeze-dried to obtain a hot water extract. .

4−2.抽出法b(50%エタノール抽出物)
原木栽培または菌床栽培のマンネンタケの乾燥物10gに50%エタノール200mLを加え、常温で7日間抽出した後、濾過し、その濾液を濃縮乾固して、50%エタノール抽出物を得た。
4-2. Extraction method b (50% ethanol extract)
200 g of 50% ethanol was added to 10 g of dried garlic mushrooms grown on raw wood or fungus bed, extracted for 7 days at room temperature, filtered, and the filtrate was concentrated to dryness to obtain a 50% ethanol extract.

4−3.抽出法c(エタノール抽出物)
原木栽培または菌床栽培のマンネンタケの乾燥物10gにエタノール200mLを加え、常温で7日間抽出した後、濾過し、その濾液を濃縮乾固して、エタノール抽出物を得た。
4-3. Extraction method c (ethanol extract)
Ethanol (200 mL) was added to 10 g of dried garlic mushroom bamboo or fungus bed cultivated, extracted at room temperature for 7 days, filtered, and the filtrate was concentrated to dryness to obtain an ethanol extract.

表9は、各製造例におけるマンネンタケの抽出物の重量である。表9において、「熱水」は熱水抽出法を用いたことを示している。「水+エタノール」は、50%エタノールによる抽出法を用いたことを示している。「エタノール」は、エタノールによる抽出法を用いたことを示している。   Table 9 shows the weight of the extract of Mannentake in each production example. In Table 9, “hot water” indicates that the hot water extraction method was used. “Water + ethanol” indicates that the extraction method using 50% ethanol was used. “Ethanol” indicates that an extraction method using ethanol was used.

そして、栽培例1A−2Fと、抽出法a−cと、を組み合わせて製造例1Aa−2Fcとしてまとめた。例えば、「製造例1Aa」は、「栽培例1A」により栽培し、「抽出法a」により抽出したものであることを意味する。   The cultivation examples 1A-2F and the extraction methods a-c were combined and summarized as Production Example 1Aa-2Fc. For example, “Production Example 1Aa” means that it has been cultivated by “Cultivation Example 1A” and extracted by “Extraction Method a”.

5.マンネンタケの抽出物の抗酸化作用
5−1.活性酸素種
活性酸素種として、フリーラジカルの一種であるα,α−ジフェニル−β−ピクリルヒドラジル(以下「DPPH」という)を用いた。
5. Antioxidant action of extract of Mannentake 5-1 Active oxygen species α, α-diphenyl-β-picrylhydrazyl (hereinafter referred to as “DPPH”), which is a kind of free radical, was used as the active oxygen species.

5−2.実験方法
上記の製造例1Aa−2Fcに対応する抽出物を、最終濃度100μg/mLとなるように加えた0.1M酢酸緩衝液(pH5.5)0.4mLに無水エタノール0.4mLおよび0.5mMのDPPH無水エタノール溶液0.2mLを加えて反応液とした。また、製造例1Aa−2Fcのうち油溶性の抽出物には無水エタノール0.4mLに試料を加えて反応液とした。その後、37℃で30分間反応させ、水を対照として波長517nmの吸光度(J1)を測定した。また、ブランクとして試料の代わりに精製水を用いて吸光度(J2)を測定した。DPPHラジカル消去率は、以下に示す式より算出した。
DPPHラジカル消去率(%)=(1−J1/J2)×100
5-2. Experimental Method An extract corresponding to Production Example 1Aa-2Fc described above was added to 0.4 mL of 0.1 M acetate buffer (pH 5.5) to which a final concentration of 100 μg / mL was added, and 0.4 mL of absolute ethanol and 0. A reaction solution was prepared by adding 0.2 mL of 5 mM DPPH absolute ethanol solution. In addition, a sample was added to 0.4 mL of absolute ethanol to the oil-soluble extract of Production Example 1Aa-2Fc to prepare a reaction solution. Then, it was made to react for 30 minutes at 37 degreeC, and the light absorbency (J1) of wavelength 517nm was measured by using water as a control. Moreover, the light absorbency (J2) was measured using purified water instead of the sample as a blank. The DPPH radical scavenging rate was calculated from the following formula.
DPPH radical scavenging rate (%) = (1−J1 / J2) × 100

5−3.DPPHラジカル消去率
表11は、製造例ごとのDPPHラジカル消去率を示している。表11に示すように、マンネンタケの抽出物は、いずれもDPPHラジカル消去作用を有している。培養原木または培養菌床にプラズマを照射したマンネンタケの抽出物は、未照射のマンネンタケの抽出物よりも高い抗酸化作用を示した。特に、ペン型の第2のプラズマ発生装置200を用いて発光領域を培養原木または培養菌床に接触させずにプラズマを照射した製造例1Aa、2Aaが、強い抗酸化作用を示した。また、平面型の第1のプラズマ発生装置100を用いた製造例2Da、2Eaも、強い抗酸化作用を示した。
5-3. DPPH radical scavenging rate Table 11 shows the DPPH radical scavenging rate for each production example. As shown in Table 11, all the extracts of Mannentake have a DPPH radical scavenging action. The extract of banyan mushroom, which was obtained by irradiating a cultured log or a cultivated fungus bed with plasma, exhibited a higher antioxidant effect than the unirradiated mannentake extract. In particular, Production Examples 1Aa and 2Aa, in which the pen-shaped second plasma generator 200 was used to irradiate the plasma without bringing the light emitting region into contact with the cultured log or the cultured fungus bed, showed a strong antioxidant effect. In addition, Production Examples 2Da and 2Ea using the flat-type first plasma generator 100 also showed a strong antioxidant effect.

[表11]
DPPHラジカル消去率
製造例1Aa (原木・照射条件A・熱水) 46
製造例1Ca (原木・照射条件C・熱水) 41
比較製造例1a (原木・未照射・熱水) 37
製造例2Aa (菌床・照射条件A・熱水) 45
製造例2Ba (菌床・照射条件B・熱水) 35
製造例2Da (菌床・照射条件D・熱水) 41
製造例2Ea (菌床・照射条件E・熱水) 44
製造例2Fa (菌床・照射条件F・熱水) 35
比較製造例2a (菌床・未照射・熱水) 33
[Table 11]
DPPH radical scavenging rate Production Example 1Aa (Rawwood / Irradiation condition A / Hot water) 46
Production Example 1Ca (Rawwood, Irradiation Condition C, Hot Water) 41
Comparative Production Example 1a (Raw Wood / Unirradiated / Hot Water) 37
Production Example 2Aa (bacteria bed / irradiation condition A / hot water) 45
Production Example 2Ba (bacteria bed / irradiation condition B / hot water) 35
Production Example 2Da (Bacteria Bed / Irradiation Condition D / Hot Water) 41
Production Example 2Ea (bacteria bed / irradiation condition E / hot water) 44
Production Example 2 Fa (bacteria bed / irradiation condition F / hot water) 35
Comparative Production Example 2a (bacteria bed / unirradiated / hot water) 33

6.ガノデリン酸の含有量
ガノデリン酸は、抗癌作用、血圧降下作用、コレステロール低下作用といった効能を有する。
6). Content of ganoderic acid Ganoderic acid has effects such as anticancer action, blood pressure lowering action, and cholesterol lowering action.

6−1.測定方法
製造例1Aa−2Fcの抽出物について、HPLCを用いてガノデリン酸類の含有量を測定した。表12はHPLCの条件を示している。また、移動相K2については、60分間で10%から94%に直線的に変化させた。また、ピレンの保持時間が約52分になるように流速を調整した。例えば、1.0mL/minである。
6-1. Measuring method About the extract of manufacture example 1Aa-2Fc, content of ganoderic acid was measured using HPLC. Table 12 shows the HPLC conditions. The mobile phase K2 was linearly changed from 10% to 94% in 60 minutes. The flow rate was adjusted so that the retention time of pyrene was about 52 minutes. For example, 1.0 mL / min.

[表12]
カラム:Develosil ODS−HG−5(野村化学製)
カラムサイズ:内径4.6mmφ×長さ250mm
カラム温度:40℃
試料濃度:1.0mg/mL
注入量:10μL
検出:PDA 254nm
溶離液(グラジエント):
移動相 K1 10mM リン酸ナトリウム緩衝液(pH6.9)
移動相 K2 アセトニトリル
内標準溶液:ピレンのエタノール溶液(1mg/mL)
[Table 12]
Column: Develosil ODS-HG-5 (manufactured by Nomura Chemical)
Column size: inner diameter 4.6mmφ x length 250mm
Column temperature: 40 ° C
Sample concentration: 1.0 mg / mL
Injection volume: 10 μL
Detection: PDA 254nm
Eluent (gradient):
Mobile phase K1 10 mM sodium phosphate buffer (pH 6.9)
Mobile phase K2 Acetonitrile Internal standard solution: Ethylene solution of pyrene (1 mg / mL)

6−2.ガノデリン酸の含有量の測定結果
図6は、霊芝抽出物のHPLCクロマトグラムを示すグラフである。図6に示すように、保持時間が15〜25分の期間内に、254nm付近に極大吸収を示すガノデリン酸類に由来する多数のピークが確認された。
6-2. FIG. 6 is a graph showing an HPLC chromatogram of Ganoderma extract. As shown in FIG. 6, a large number of peaks derived from ganoderic acids having a maximum absorption around 254 nm were confirmed within a retention time of 15 to 25 minutes.

表13は、ガノデリン酸類に由来するピークの面積値を示している。ここで、未照射の場合の面積値を基準の1とした。つまり、製造例1Ac−1Fcについては、比較製造例1cを基準とした。製造例2Ac−2Fcについては、比較製造例2cを基準とした。表13から明らかなように、培養原木または培養菌床に大気圧プラズマを照射することにより、マンネンタケにおけるガノデリン酸の含有量は増加している。ペン型の第2のプラズマ発生装置200を用いて大気圧プラズマを照射した製造例は、比較的多くのガノデリン酸を含有する(製造例1Ac、2Ac)。   Table 13 shows the peak area values derived from ganoderic acids. Here, the area value in the case of non-irradiation was set to 1. That is, for Production Example 1Ac-1Fc, Comparative Production Example 1c was used as a reference. Production Example 2Ac-2Fc was based on Comparative Production Example 2c. As is clear from Table 13, the content of ganoderic acid in the garlic mushrooms is increased by irradiating the culture log or the culture fungus bed with atmospheric pressure plasma. The manufacture example which irradiated the atmospheric pressure plasma using the pen-type 2nd plasma generator 200 contains comparatively much ganoderic acid (manufacture example 1Ac, 2Ac).

また、製造例2Ecは、非常に多くのガノデリン酸を含有する。製造例2Ecにおけるガノデリン酸の含有量は、プラズマを照射していないものに比べて40%程度多い。また、前述のように、製造例2Ecは、高い抗酸化作用を示す。   In addition, Production Example 2Ec contains a large amount of ganoderic acid. The content of ganoderic acid in Production Example 2Ec is about 40% higher than that of the sample not irradiated with plasma. Further, as described above, Production Example 2Ec shows a high antioxidant effect.

[表13]
ガノデリン酸含量
製造例1Ac (原木・照射条件A・エタノール) 1.09
製造例1Ec (原木・照射条件E・エタノール) 1.01
製造例1Gc (原木・照射条件G・エタノール) 1.06
比較製造例1c (原木・未照射・エタノール) 1.00
製造例2Ac (菌床・照射条件A・エタノール) 1.07
製造例2Dc (菌床・照射条件D・エタノール) 1.05
製造例2Ec (菌床・照射条件E・エタノール) 1.39
製造例2Fc (菌床・照射条件F・エタノール) 1.05
比較製造例2c (菌床・未照射・エタノール) 1.00
[Table 13]
Ganoderic acid content Production Example 1Ac (Raw wood / Irradiation condition A / Ethanol) 1.09
Production Example 1 Ec (Rawwood, Irradiation Condition E, Ethanol) 1.01
Production Example 1 Gc (Rawwood / Irradiation Condition G / Ethanol) 1.06
Comparative production example 1c (raw wood, unirradiated, ethanol) 1.00
Production Example 2Ac (bacteria bed / irradiation conditions A / ethanol) 1.07
Production Example 2Dc (bacteria bed / irradiation conditions D / ethanol) 1.05
Production Example 2Ec (bacteria bed / irradiation conditions E / ethanol) 1.39
Production Example 2 Fc (bacteria bed / irradiation conditions F / ethanol) 1.05
Comparative production example 2c (bacteria bed, unirradiated, ethanol) 1.00

7.処方例
マンネンタケの抽出物を製造例1Aa〜製造例2Fcにより調製した処方例を示す。ここで混合抽出物とは、各製造例における抽出物を等量混合したものである。
7. Formulation Example A formulation example in which an extract of Mannentake was prepared according to Production Example 1Aa to Production Example 2Fc is shown. Here, the mixed extract is a mixture of equal amounts of the extract in each production example.

7−1.処方例1 化粧水
表14の成分1〜6および11と、成分7〜10をそれぞれ均一に溶解し、両者を混合して濾過する。これにより製品としての化粧水が得られる。
7-1. Formulation Example 1 Skin Lotion Components 1 to 6 and 11 and Tables 7 to 10 in Table 14 are uniformly dissolved, and both are mixed and filtered. Thereby, the skin lotion as a product is obtained.

[表14]
化粧水
処方 含有量(部)
1.製造例1Aa、1Daの混合抽出物 1.0
2.1,3‐ブチレングリコール 8.0
3.グリセリン 2.0
4.キサンタンガム 0.02
5.クエン酸 0.01
6.クエン酸ナトリウム 0.1
7.エタノール 5.0
8.パラオキシ安息香酸メチル 0.1
9.ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油(40E.O.) 0.1
10.香料 適量
11.精製水にて全量を100とする
[Table 14]
Lotion Prescription Content (parts)
1. Production Example 1 Aa, 1 Da mixed extract 1.0
2.1,3-Butylene glycol 8.0
3. Glycerin 2.0
4). Xanthan gum 0.02
5. Citric acid 0.01
6). Sodium citrate 0.1
7. Ethanol 5.0
8). Methyl paraoxybenzoate 0.1
9. Polyoxyethylene hydrogenated castor oil (40E.O.) 0.1
10. Perfume proper amount11. Make the total volume 100 with purified water

7−2.処方例2 クリーム
表15の成分2〜9を加熱溶解して混合し、70℃に保ち油相とする。成分1および11〜13を加熱溶解して混合し、75℃に保ち水相とする。油相に水相を加えて乳化する。その後、乳化した溶液をかき混ぜながら冷却しつつ、45℃で成分10を加え、さらに30℃まで冷却する。これにより製品としてのクリームが得られる。
7-2. Formulation Example 2 Cream Components 2 to 9 in Table 15 are dissolved by heating and mixed, and kept at 70 ° C. to obtain an oil phase. Ingredients 1 and 11-13 are dissolved by heating and mixed, and kept at 75 ° C. to form an aqueous phase. The aqueous phase is added to the oil phase and emulsified. Then, component 10 is added at 45 ° C. while cooling the emulsified solution while stirring, and further cooled to 30 ° C. Thereby, the cream as a product is obtained.

[表15]
クリーム
処方 含有量(部)
1.製造例1Ab、1Bb、1Cb、1Db、1Ebの混合抽出物 0.5
2.スクワラン 5.5
3.オリーブ油 3.0
4.ステアリン酸 2.0
5.ミツロウ 2.0
6.ミリスチン酸オクチルドデシル 3.5
7.ポリオキシエチレンセチルエーテル(20E.O.) 3.0
8.ベヘニルアルコール 1.5
9.モノステアリン酸グリセリン 2.5
10.香料 0.1
11.パラオキシ安息香酸メチル 0.25
12.1,3‐ブチレングリコール 8.5
13.精製水にて全量を100とする
[Table 15]
Cream Formulation Content (parts)
1. Production Example 1Ab, 1Bb, 1Cb, 1Db, 1Eb mixed extract 0.5
2. Squalane 5.5
3. Olive oil 3.0
4). Stearic acid 2.0
5. Beeswax 2.0
6). Octyldodecyl myristate 3.5
7. Polyoxyethylene cetyl ether (20E.O.) 3.0
8). Behenyl alcohol 1.5
9. Glycerol monostearate2.5
10. Fragrance 0.1
11. Methyl paraoxybenzoate 0.25
12.1,3-Butylene glycol 8.5
13. Make the total volume 100 with purified water

7−3.処方例3 クリーム
表15の製造例1Abの抽出物を製造例2Abの抽出物で置き換えたものである。
7-3. Formulation Example 3 Cream The extract of Production Example 1Ab in Table 15 is replaced with the extract of Production Example 2Ab.

7−4.処方例4 クリーム
表15の製造例1Abの抽出物を製造例2Bbの抽出物で置き換えたものである。
7-4. Formulation Example 4 Cream The extract of Production Example 1Ab in Table 15 is replaced with the extract of Production Example 2Bb.

7−5.処方例5 クリーム
表15の製造例1Abの抽出物を製造例2Cbの抽出物で置き換えたものである。
7-5. Formulation Example 5 Cream The extract of Production Example 1Ab in Table 15 is replaced with the extract of Production Example 2Cb.

7−6.処方例6 乳液
表16の成分2〜8を加熱溶解して混合し、70℃に保ち油相とする。成分1および10〜13を加熱溶解して混合し、75℃に保ち水相とする。油相に水相を加えて乳化する。その後、乳化した溶液をかき混ぜながら冷却しつつ、45℃で成分9を加え、さらに30℃まで冷却する。これにより製品としての乳液が得られる。
7-6. Formulation Example 6 Emulsion Ingredients 2 to 8 in Table 16 are dissolved by heating and mixed, and kept at 70 ° C. to obtain an oil phase. Ingredients 1 and 10-13 are dissolved by heating and mixed, and kept at 75 ° C. to form an aqueous phase. The aqueous phase is added to the oil phase and emulsified. Thereafter, while cooling the emulsified solution while stirring, component 9 is added at 45 ° C., and further cooled to 30 ° C. Thereby, the emulsion as a product is obtained.

[表16]
乳液
処方 含有量(部)
1.製造例1Ba、1Ca、1Ea、1Fa、1Gaの混合抽出物 1.0
2.スクワラン 5.0
3.オリーブ油 5.0
4.ホホバ油 5.0
5.セタノール 1.5
6.モノステアリン酸グリセリン 2.0
7.ポリオキシエチレンセチルエーテル(20E.O.) 3.0
8.ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート(20E.O.) 2.0
9.香料 0.1
10.プロピレングリコール 1.0
11.グリセリン 2.0
12.パラオキシ安息香酸メチル 0.2
13.精製水にて全量を100とする
[Table 16]
Emulsion Formulation Content (parts)
1. Production Example 1Ba, 1Ca, 1Ea, 1Fa, 1Ga mixed extract 1.0
2. Squalane 5.0
3. Olive oil 5.0
4). Jojoba oil 5.0
5. Cetanol 1.5
6). Glycerol monostearate 2.0
7. Polyoxyethylene cetyl ether (20E.O.) 3.0
8). Polyoxyethylene sorbitan monooleate (20E.O.) 2.0
9. Fragrance 0.1
10. Propylene glycol 1.0
11. Glycerin 2.0
12 Methyl paraoxybenzoate 0.2
13. Make the total volume 100 with purified water

7−7.処方例7 ゲル剤
表17の成分1〜5と、成分6〜11をそれぞれ均一に溶解し、両者を混合する。これにより製品としてのゲル剤が得られる。
7-7. Formulation example 7 gel agent The components 1-5 of Table 17 and the components 6-11 are each melt | dissolved uniformly, and both are mixed. Thereby, the gel agent as a product is obtained.

[表17]
ゲル剤
処方 含有量(部)
1.製造例1Ac、1Dc、1Ec、2Ac、2Ecの混合抽出物 0.01
2.エタノール 5.0
3.パラオキシ安息香酸メチル 0.1
4.ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油(60E.O.) 0.1
5.香料 適量
6.1,3‐ブチレングリコール 5.0
7.グリセリン 5.0
8.キサンタンガム 0.1
9.カルボキシビニルポリマー 0.2
10.水酸化カリウム 0.2
11.精製水にて全量を100とする
[Table 17]
Gel formulation Prescription Content (parts)
1. Production Example 1Ac, 1Dc, 1Ec, 2Ac, 2Ec mixed extract 0.01
2. Ethanol 5.0
3. Methyl paraoxybenzoate 0.1
4). Polyoxyethylene hydrogenated castor oil (60 EO) 0.1
5. Perfume appropriate amount 6.1,3-butylene glycol 5.0
7. Glycerin 5.0
8). Xanthan gum 0.1
9. Carboxyvinyl polymer 0.2
10. Potassium hydroxide 0.2
11. Make the total volume 100 with purified water

7−8.処方例8 パック
表18の成分1〜11を均一に溶解する。これにより製品としてのパックが得られる。
7-8. Formulation example 8 pack The components 1-11 of Table 18 are melt | dissolved uniformly. Thereby, a pack as a product is obtained.

[表18]
パック
処方 含有量(部)
1.製造例2Aa、2Faの混合抽出物 0.1
2.製造例2Da、2Eaの混合抽出物 0.1
3.ポリビニルアルコール 12.0
4.エタノール 5.0
5.1,3‐ブチレングリコール 8.0
6.パラオキシ安息香酸メチル 0.2
7.ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油(20E.O.) 0.5
8.クエン酸 0.1
9.クエン酸ナトリウム 0.3
10.香料 適量
11.精製水にて全量を100とする
[Table 18]
Pack Prescription Content (parts)
1. Production Example 2 Aa, 2Fa mixed extract 0.1
2. Production Example 2 Da, 2Ea mixed extract 0.1
3. Polyvinyl alcohol 12.0
4). Ethanol 5.0
5.1,3-butylene glycol 8.0
6). Methyl paraoxybenzoate 0.2
7. Polyoxyethylene hydrogenated castor oil (20 EO) 0.5
8). Citric acid 0.1
9. Sodium citrate 0.3
10. Perfume proper amount11. Make the total volume 100 with purified water

7−9.処方例9 ファンデーション
表19の成分2〜8を加熱溶解し、80℃に保ち油相とする。成分19に成分9をよく膨潤させ、続いて、成分1および10〜13を加えて均一に混合する。これに粉砕機で粉砕混合した成分14〜17を加え、ホモミキサーで撹拌し75℃に保ち水相とする。この油相に水相をかき混ぜながら加え、乳化する。その後冷却し、45℃で成分18を加え、かき混ぜながら30℃まで冷却する。これにより製品としてのファンデーションが得られる。
7-9. Formulation example 9 foundation The components 2-8 of Table 19 are heat-dissolved, and it maintains at 80 degreeC and makes it an oil phase. Swell component 9 well in component 19, then add components 1 and 10-13 and mix uniformly. To this, components 14 to 17 pulverized and mixed with a pulverizer are added, and the mixture is stirred with a homomixer and kept at 75 ° C. to obtain an aqueous phase. The aqueous phase is added to this oil phase while stirring and emulsified. Then it is cooled, component 18 is added at 45 ° C. and cooled to 30 ° C. with stirring. Thereby, the foundation as a product is obtained.

[表19]
ファンデーション
処方 含有量(部)
1.製造例1Fb、1Gb、2Db、2Eb、2Fbの混合抽出物 1.0
2.ステアリン酸 2.4
3.ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート(20E.O.) 1.0
4.ポリオキシエチレンセチルエーテル(20E.O.) 2.0
5.セタノール 1.0
6.液状ラノリン 2.0
7.流動パラフィン 3.0
8.ミリスチン酸イソプロピル 6.5
9.カルボキシメチルセルロースナトリウム 0.1
10.ベントナイト 0.5
11.プロピレングリコール 4.0
12.トリエタノールアミン 1.1
13.パラオキシ安息香酸メチル 0.2
14.二酸化チタン 8.0
15.タルク 4.0
16.ベンガラ 1.0
17.黄酸化鉄 2.0
18.香料 適量
19.精製水にて全量を100とする
[Table 19]
Foundation Prescription Content (parts)
1. Production Example 1 Fb, 1Gb, 2Db, 2Eb, 2Fb mixed extract 1.0
2. Stearic acid 2.4
3. Polyoxyethylene sorbitan monostearate (20E.O.) 1.0
4). Polyoxyethylene cetyl ether (20E.O.) 2.0
5. Cetanol 1.0
6). Liquid lanolin 2.0
7. Liquid paraffin 3.0
8). Isopropyl myristate 6.5
9. Sodium carboxymethylcellulose 0.1
10. Bentonite 0.5
11. Propylene glycol 4.0
12 Triethanolamine 1.1
13. Methyl paraoxybenzoate 0.2
14 Titanium dioxide 8.0
15. Talc 4.0
16. Bengala 1.0
17. Yellow iron oxide 2.0
18. Perfume appropriate amount 19. Make the total volume 100 with purified water

7−10.処方例10 浴用剤
表20の成分1〜6を均一に混合する。これにより製品としての浴用剤が得られる。
7-10. Formulation Example 10 Bath Agent Components 1 to 6 in Table 20 are mixed uniformly. Thereby, the bath agent as a product is obtained.

[表20]
浴用剤
処方 含有量(部)
1.製造例1Eaの抽出物 5.0
2.製造例2Aaの抽出物 1.0
3.炭酸水素ナトリウム 50.0
4.黄色202号(1) 適量
5.香料 適量
6.硫酸ナトリウムにて全量を100とする
[Table 20]
Bath preparation Prescription Content (parts)
1. Production Example 1 Extract of Ea 5.0
2. Extract of Production Example 2Aa 1.0
3. Sodium bicarbonate 50.0
4). Yellow No. 202 (1) Appropriate amount 5. Perfume appropriate amount 6. Bring the total amount to 100 with sodium sulfate

7−11.処方例11 軟膏
表21の成分2〜5を加熱溶解して混合し、70℃に保ち油相とする。成分1および6〜8を加熱溶解して混合し、75℃に保ち水相とする。油相に水相を加えて乳化して、かき混ぜながら30℃まで冷却する。これにより製品としての軟膏が得られる。
7-11. Formulation Example 11 Ointment Components 2 to 5 in Table 21 are dissolved by heating and mixed, and the mixture is kept at 70 ° C. to obtain an oil phase. Ingredients 1 and 6 to 8 are dissolved by heating and mixed, and kept at 75 ° C. to form an aqueous phase. The aqueous phase is added to the oil phase to emulsify, and the mixture is cooled to 30 ° C. while stirring. Thereby, an ointment as a product is obtained.

[表21]
軟膏
処方 含有量(部)
1.製造例1Ab、1Eb、2Ab、2Ebの混合抽出物 0.5
2.ポリオキシエチレンセチルエーテル(30E.O.) 2.0
3.モノステアリン酸グリセリン 10.0
4.流動パラフィン 5.0
5.セタノール 6.0
6.パラオキシ安息香酸メチル 0.1
7.プロピレングリコール 10.0
8.精製水にて全量を100とする
[Table 21]
Ointment Formulation Content (parts)
1. Production Example 1Ab, 1Eb, 2Ab, 2Eb mixed extract 0.5
2. Polyoxyethylene cetyl ether (30E.O.) 2.0
3. Glycerol monostearate 10.0
4). Liquid paraffin 5.0
5. Cetanol 6.0
6). Methyl paraoxybenzoate 0.1
7. Propylene glycol 10.0
8). Make the total volume 100 with purified water

7−12.処方例12 散剤
表22の成分1〜3を混合する。これにより製品としての散剤が得られる。
7-12. Formulation example 12 powder The components 1-3 of Table 22 are mixed. Thereby, the powder as a product is obtained.

[表22]
散剤
処方 含有量(部)
1.製造例1Aa、1Ea、2Aa、2Eaの混合抽出物 20.0
2.乾燥コーンスターチ 30.0
3.微結晶セルロース 50.0
[Table 22]
Powder Formulation Content (parts)
1. Production Example 1Aa, 1Ea, 2Aa, 2Ea mixed extract 20.0
2. Dried corn starch 30.0
3. Microcrystalline cellulose 50.0

7−13.処方例13 錠剤
表23の成分1〜4を混合し、次いで成分5の水溶液を結合剤として加えて顆粒成形する。成形した顆粒に成分6を加えて打錠する。1錠0.52gとする。これにより製品としての錠剤が得られる。
7-13. Formulation Example 13 Tablets Components 1 to 4 in Table 23 are mixed, and then an aqueous solution of component 5 is added as a binder and granulated. Ingredient 6 is added to the formed granules and compressed. One tablet is 0.52 g. Thereby, the tablet as a product is obtained.

[表23]
錠剤
処方 含有量(部)
1.製造例1Aa、1Ea、2Aa、2Eaの混合抽出物 3.0
2.乾燥コーンスターチ 27.0
3.カルボキシメチルセルロースカルシウム 20.0
4.微結晶セルロース 40.0
5.ポリビニルピロリドン 7.0
6.タルク 3.0
[Table 23]
Tablet Formulation Content (parts)
1. Production Example 1 Aa, 1Ea, 2Aa, 2Ea mixed extract 3.0
2. Dried cornstarch 27.0
3. Carboxymethylcellulose calcium 20.0
4). Microcrystalline cellulose 40.0
5. Polyvinylpyrrolidone 7.0
6). Talc 3.0

7−14.処方例14 錠菓
表24の成分1〜4および7を混合し、顆粒成形する。成形した顆粒に成分5および6を加えて打錠する。1粒1.0gとする。これにより製品としての錠菓が得られる。
7-14. Formulation Example 14 Tablet Confectionery Components 1 to 4 and 7 in Table 24 are mixed and granulated. Ingredients 5 and 6 are added to the formed granules and compressed. One tablet is 1.0 g. Thereby, the tablet confection as a product is obtained.

[表24]
錠菓
処方 含有量(部)
1.製造例1Aa、1Ea、2Aa、2Eaの混合抽出物 0.5
2.乾燥コーンスターチ 50.0
3.エリスリトール 40.0
4.クエン酸 5.0
5.ショ糖脂肪酸エステル 3.0
6.香料 適量
7.精製水にて全量を100とする
[Table 24]
Tablets Prescription Content (parts)
1. Production Example 1 Aa, 1Ea, 2Aa, 2Ea mixed extract 0.5
2. Dried corn starch 50.0
3. Erythritol 40.0
4). Citric acid 5.0
5. Sucrose fatty acid ester 3.0
6). Perfume appropriate amount 7. Make the total volume 100 with purified water

7−15.処方例15 飲料
表25の成分1〜5を混合する。これにより製品としての飲料が得られる。
7-15. Formulation Example 15 Beverage Components 1 to 5 in Table 25 are mixed. Thereby, the drink as a product is obtained.

[表25]
飲料
処方 含有量(部)
1.製造例1Aa、1Ea、2Aa、2Eaの混合抽出物 2.0
2.果糖ブドウ糖液糖 12.5
3.クエン酸 0.1
4.香料 0.05
5.精製水にて全量を100とする
[Table 25]
Beverage Prescription Content (parts)
1. Production Example 1 Aa, 1Ea, 2Aa, 2Ea mixed extract 2.0
2. Fructose dextrose liquid sugar 12.5
3. Citric acid 0.1
4). Fragrance 0.05
5. Make the total volume 100 with purified water

7−16.処方例16 粉末飲料
表26の成分1〜8を混合する。これにより製品としての粉末飲料が得られる。
7-16. Formulation example 16 powdered drink The components 1-8 of Table 26 are mixed. Thereby, the powdered drink as a product is obtained.

[表26]
処方例16 粉末飲料
処方 含有量(部)
1.製造例1Aa、1Ea、2Aa、2Eaの混合抽出物 10.0
2.粉糖 65.0
3.粉末ピーチ果汁 15.0
4.L−アスコルビン酸 8.0
5.結晶クエン酸 1.2
6.クエン酸ナトリウム 0.75
7.アスパルテーム 0.02
8.粉末ピーチ香料 0.03
[Table 26]
Formulation Example 16 Powdered drink Formulation Content (parts)
1. Production Example 1Aa, 1Ea, 2Aa, 2Ea mixed extract 10.0
2. Powdered sugar 65.0
3. Powdered peach juice 15.0
4). L-ascorbic acid 8.0
5. Crystalline citric acid 1.2
6). Sodium citrate 0.75
7. Aspartame 0.02
8). Powdered peach flavor 0.03

A.付記
第1の態様におけるマンネンタケの生産方法では、第1導電体を備える第1電極体を有するプラズマ発生装置を用いる。プラズマ発生装置の第1導電体を培養原木または培養菌床に直接接触させない状態で、プラズマを培養原木または培養菌床に照射する。
A. Supplementary Note In the method for producing mannentake in the first aspect, a plasma generator having a first electrode body including a first conductor is used. Plasma is irradiated to the culture log or the culture fungus in a state where the first conductor of the plasma generator is not in direct contact with the culture log or the culture fungus bed.

第2の態様におけるマンネンタケの生産方法では、第1電極体は、誘電体を有する。誘電体が第1導電体と培養原木または培養菌床との間に位置している状態で、プラズマを培養原木または培養菌床に照射する。   In the method for producing mannentake in the second aspect, the first electrode body has a dielectric. In a state where the dielectric is located between the first conductor and the cultured log or the cultured fungus bed, the plasma is irradiated to the cultured log or the cultured fungus bed.

第3の態様におけるマンネンタケの生産方法では、プラズマ発生装置は、第2導電体を有する第2電極体と、第1導電体と第2導電体との間に電圧を印加する電圧印加部と、を有する。   In the method for producing mannentake in the third aspect, the plasma generator includes a second electrode body having a second conductor, a voltage applying unit that applies a voltage between the first conductor and the second conductor, Have

第4の態様におけるマンネンタケの生産方法では、電圧印加部は、培養原木または培養菌床を第2電極体の第2導電体の上に配置している状態で、第1導電体と第2導電体との間に電圧を印加する。   In the method for producing garlic mushrooms according to the fourth aspect, the voltage application unit is configured such that the first conductor and the second conductor are in a state where the cultured log or the cultured fungus bed is disposed on the second conductor of the second electrode body. A voltage is applied between the body and the body.

第5の態様におけるマンネンタケの生産方法では、プラズマ発生装置は、発光領域を生成する。発光領域を培養原木または培養菌床に接触させない状態で、プラズマを培養原木または培養菌床に照射する。   In the method for producing mannentake in the fifth aspect, the plasma generator generates a light emitting region. Plasma is irradiated to the cultured log or the cultured fungus bed in a state where the luminescent region is not in contact with the cultured log or the cultured fungus bed.

第6の態様における抗酸化剤の生産方法は、上記のマンネンタケの生産方法の工程と、マンネンタケから成分を抽出する抽出工程と、を有する。   The method for producing an antioxidant in the sixth aspect includes the steps of the above-mentioned method for producing garlic mushrooms and an extraction step for extracting components from the garlic mushrooms.

第7の態様における医薬品の生産方法では、上記のマンネンタケの生産方法の工程と、マンネンタケから成分を抽出する抽出工程と、を有する。   According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a method for producing a pharmaceutical product comprising the steps of the above-described method for producing garlic mushroom and an extraction step for extracting components from the garlic mushroom.

第8の態様における食品の生産方法では、上記のマンネンタケの生産方法の工程と、マンネンタケから成分を抽出する抽出工程と、を有する。   The food production method according to the eighth aspect includes the steps of the above-mentioned Mannentake production method and the extraction step of extracting components from the Mannentake.

第9の態様における皮膚外用剤の生産方法では、上記のマンネンタケの生産方法の工程と、マンネンタケから成分を抽出する抽出工程と、を有する。   The method for producing an external preparation for skin according to the ninth aspect includes the steps of the above-mentioned method for producing garlic mushroom and the extraction step for extracting components from the garlic mushroom.

100…第1のプラズマ発生装置
200…第2のプラズマ発生装置
110、210…第1電極体
111、211…第1電極
112、212…誘電体
120、220…第2電極体
121、221…第2電極
P1、P2、P1m…プラズマ発光領域
B1…菌床
B1a…上面
B1b…下面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... 1st plasma generator 200 ... 2nd plasma generator 110, 210 ... 1st electrode body 111, 211 ... 1st electrode 112, 212 ... Dielectric 120, 220 ... 2nd electrode body 121, 221 ... 1st Two electrodes P1, P2, P1m ... Plasma emission region B1 ... Bacteria bed B1a ... Upper surface B1b ... Lower surface

Claims (9)

第1導電体を備える第1電極体を有するプラズマ発生装置を用い、
前記プラズマ発生装置の前記第1導電体を培養原木または培養菌床に直接接触させない状態で、プラズマを前記培養原木または前記培養菌床に照射すること
を特徴とするマンネンタケの生産方法。
Using a plasma generator having a first electrode body with a first conductor,
A method for producing garlic mushroom, wherein the plasma is irradiated to the culture log or the culture fungus in a state where the first conductor of the plasma generator is not in direct contact with the culture log or the culture fungus bed.
請求項1に記載のマンネンタケの生産方法において、
前記第1電極体は、
誘電体を有し、
前記誘電体が前記第1導電体と前記培養原木または前記培養菌床との間に位置している状態で、プラズマを前記培養原木または前記培養菌床に照射すること
を特徴とするマンネンタケの生産方法。
In the manufacturing method of the mushroom of Claim 1,
The first electrode body includes:
Having a dielectric,
Production of garlic mushroom characterized by irradiating the culture log or the culture fungus with plasma in a state where the dielectric is located between the first conductor and the culture log or the culture fungus bed. Method.
請求項1または請求項2に記載のマンネンタケの生産方法において、
前記プラズマ発生装置は、
第2導電体を有する第2電極体と、
前記第1導電体と前記第2導電体との間に電圧を印加する電圧印加部と、
を有すること
を特徴とするマンネンタケの生産方法。
In the manufacturing method of the mannambose according to claim 1 or claim 2,
The plasma generator comprises:
A second electrode body having a second conductor;
A voltage applying unit that applies a voltage between the first conductor and the second conductor;
A method for producing garlic mushroom, characterized by comprising:
請求項3に記載のマンネンタケの生産方法において、
前記電圧印加部は、
前記培養原木または前記培養菌床を前記第2電極体の前記第2導電体の上に配置している状態で、前記第1導電体と前記第2導電体との間に電圧を印加すること
を特徴とするマンネンタケの生産方法。
In the manufacturing method of the mushrooms of Claim 3,
The voltage application unit includes:
Applying a voltage between the first conductor and the second conductor in a state where the culture log or the culture fungus bed is disposed on the second conductor of the second electrode body. A method for producing garlic mushrooms.
請求項1に記載のマンネンタケの生産方法において、
前記プラズマ発生装置は、
発光領域を生成し、
前記発光領域を前記培養原木または前記培養菌床に接触させない状態で、プラズマを前記培養原木または前記培養菌床に照射すること
を特徴とするマンネンタケの生産方法。
In the manufacturing method of the mushroom of Claim 1,
The plasma generator comprises:
Create a luminous area,
A method for producing garlic mushroom, characterized in that plasma is irradiated to the cultured log or the cultured fungus bed in a state where the luminescent region is not brought into contact with the cultured log or the cultured fungus bed.
請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載のマンネンタケの生産方法の工程と、
前記マンネンタケから成分を抽出する抽出工程と、
を有すること
を特徴とする抗酸化剤の生産方法。
The process of the production method of the garlic mushroom according to any one of claims 1 to 5,
An extraction step of extracting components from the mannambo,
A method for producing an antioxidant, comprising:
請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載のマンネンタケの生産方法の工程と、
前記マンネンタケから成分を抽出する抽出工程と、
を有すること
を特徴とする医薬品の生産方法。
The process of the production method of the garlic mushroom according to any one of claims 1 to 5,
An extraction step of extracting components from the mannambo,
A method for producing a pharmaceutical product characterized by comprising:
請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載のマンネンタケの生産方法の工程と、
前記マンネンタケから成分を抽出する抽出工程と、
を有すること
を特徴とする食品の生産方法。
The process of the production method of the garlic mushroom according to any one of claims 1 to 5,
An extraction step of extracting components from the mannambo,
A method for producing a food, characterized by comprising:
請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載のマンネンタケの生産方法の工程と、
前記マンネンタケから成分を抽出する抽出工程と、
を有すること
を特徴とする皮膚外用剤の生産方法。
The process of the production method of the garlic mushroom according to any one of claims 1 to 5,
An extraction step of extracting components from the mannambo,
A method for producing an external preparation for skin, characterized by comprising:
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