以下、本発明の実施の形態について図を参照して説明する。なお、以下の図においては、同一または相当する部分に同一の符号を付すものとし、重複する説明は繰り返さない。図1を参照して、本発明の一実施の形態におけるシールドボックス1の構成を説明する。図1は、本実施の形態におけるシールドボックス1を説明するための断面図である。
本実施の形態におけるシールドボックス1は、筐体2と、溶接トーチ3と、ガス拡散機構4と、センサ5と、ガスホース7とを備えている。筐体2は、溶接時に進行方向D1に移動するように構成されている。この溶接時の進行方向D1は溶接方向となる。
筐体2は、内部空間11と、周壁部12と、天井部13と、透明部14とを有している。内部空間11は、周壁部12および天井部13に取り囲まれた空間である。周壁部12は、前方壁12aと、後方壁12bと、左右の側壁12c(図2)とを有している。周壁部12には開口15が設けられている。開口15は内部空間11に連通する。天井部13は開口15と反対側で周壁部12に接続されている。天井部13は開口15に対向している。筐体2の下面は長方形状を有している。筐体2の下面には長方形状の開口15が設けられている。
筐体2は、五面の直方体箱形状が最も簡素な形状である。以後、筐体2は、五面の直方体箱形状として説明するが、被溶接材20の溶接部を十分覆うことのできる形状であれば良い。したがって、被溶接材20の継手形状および周りの拘束冶具等との干渉条件から、溶接部を必要十分に保護できる適当な形状が選択されれば良い。例えば、平板の被溶接材20同士の突合せ溶接であれば五面の直方体箱形状が最適である。
しかしながら、円筒等の曲面を持った被溶接材20同士の突合せ溶接の場合には、筐体2の左右の側壁12cの下端(開口15側端)に、被溶接材20の曲面の曲率半径よりも数ミリメートル程度大きな曲率半径を持った凹部が設けられれば良い。
溶接トーチ3は内部空間11に挿入されている。筐体2の天井部13に溶接トーチ挿入口13aが設けられている。溶接トーチ3は、溶接トーチ挿入口13aから筐体2の内部空間11に挿入されている。溶接トーチ3は、天井部13に取り付けられている。具体的には、溶接トーチ3は溶接トーチ挿入口13aを取り囲む取り付け部材13bに固定されている。筐体2は、溶接方向に対して前後左右に溶接トーチ3の周辺を十分に覆うように構成されている。
前方壁12aと後方壁12bとが向かい合う方向において、溶接トーチ挿入口13aから後方壁12bまでの距離L1は、溶接トーチ挿入口13aから前方壁12aまでの距離L2よりも大きい。筐体2は、溶接時に、後方壁12bから前方壁12aに向かう方向、つまり前方に向かって移動する。
筐体2の下端(開口15側端)と被溶接材20の表面とは数ミリメートル程度離れていることが望ましい。筐体2の下端と被溶接材20との間の隙間に難燃性の布、スポンジ等を配置することにより、筐体2の内部空間11の密閉性を高めることができる。
さらに、例えば、筐体2の下端にベアリング等が設けられてもよい。このベアリング等と被溶接材20とが部分的に接することにより、筐体2と被溶接材20との相対位置を安定させることができる。この場合には、必ずしも筐体2と溶接トーチ3とが溶接トーチ挿入口13aにおいて固定されていなくても良い。
また、シールドボックス1は、その必要機能上、溶接方向に平行な方向に長い形状であることが望ましい。特に、溶接トーチ挿入口13aの中心(もしくは溶接トーチ3の電極位置)から溶接方向における後方の寸法は、溶接部を一定温度(例えば約400度)以下になるまで不活性ガスで保護すべく十分長い必要があり、望ましくは100ミリメートル以上であると良い。溶接トーチ挿入口13aの中心(もしくは溶接トーチ3の電極位置)から溶接方向における前方の寸法は、20ミリメートル程度(溶接トーチ3と干渉しない十分な長さ)以上であると良い。
溶接トーチ挿入口13aの中心(もしくは溶接トーチ3の電極位置)から溶接方向における左右方向の寸法は、熱影響部を十分覆うことができる幅があれば良い。シールドボックス1の高さは、溶接時の熱が過度にこもらない程度であれば良く、望ましくは30ミリメートル以上であると良い。
シールドボックス1は、溶接ワイヤ等の溶加材有りのTIG(Tungsten Inert Gas)溶接等に使用される場合、溶接方向の前方壁12a等に挿入口を設けることができる。この挿入口は、溶接ワイヤのワイヤ径に対して必要最小限だけ大きめに開けることが望ましい。
シールドボックス1を構成する周壁部12と天井部13との固定方法は問わない。さらに周壁部12の前方壁12aと後方壁12bと左右の側壁12cとの固定方法は問わない。しかしながら、これらの固定方法は、シールドボックス1の内部の気密性が十分確保できる固定方法でなくてはならない。また、シールドボックス1には金属の薄板等を用いることが望ましい。しかしながら、耐熱性、耐候性、難燃性等の溶接用冶具として用いるための条件を十分満たすものであれば樹脂等が用いられても構わない。
筐体2は、シールドボックス1内部のシールドガスとして用いられる不活性ガスを内部空間11に流入させるための穴6を有している。穴6にガスホース7が挿入されている。ガスホース7は穴6を通って筐体2外部から筐体2内部まで延びている。ガスホース7は筐体2内部においてガス拡散機構4に接続されている。ガスホース7からガス拡散機構4に送られた不活性ガスは、ガス拡散機構4から筐体2内部に供給される。
ガス拡散機構4は、筐体2の内部空間11に配置されている。ガス拡散機構4は、筐体2の内部空間11に不活性ガスを拡散させるためのものである。ガス拡散機構4は、筐体2内部全体に不活性ガスを均一に充填させることが可能に構成されている。
本実施の形態においては、ガス拡散機構4は、円柱状のノズル4aを含んでいる。ノズル4aの軸方向は、ノズル4aの下端(先端)が被溶接材20と向かい合う方向に沿って配置されている。つまり、ノズル4aの軸方向は、天井部13と開口15とが対向する方向に沿って配置されている。ノズル4aは、ノズル4aの外周面から不活性ガスを供給するように構成されている。これにより、ノズル4aは、ノズル4aの外周面から周方向の全周に不活性ガスを供給することが可能となる。また、ノズル4aは、ノズル4aの下端(先端)から不活性ガスを供給するように構成されていてもよい。
ノズル4aの外周面の全周は多孔体を含んでいてもよい。これにより、ノズル4aの外周面の多数の微細孔を介して不活性ガスを供給することが可能となる。ガス拡散機構4には、例えば、金属焼結体で作製された小型のサイレンサ等が用いられると良い。つまり、ガス拡散機構4は、溶接部近傍の高温箇所で用いられるため、金属製が好ましい。ガス拡散機構4は、不活性ガスの流速を抑えつつ筐体2内に不活性ガスを拡散させるため、金属粒子を焼結して構成される焼結体が好ましい。ガス拡散機構4は、筐体2内に収まり他の機能と干渉しないように、小型であることが好ましい。なお、ガス拡散機構4は、溶接用冶具として用いられるのに適した素材で作られ、かつ不活性ガスを十分に拡散できる機構であれば良い。
図1に示されたシールドボックス1では、2つの穴6が天井部13に設けられている。しかしながら、穴6は天井部13ではなく周壁部12に設けられても良い。また、穴6の数は、2つではなく3つ以上でも良い。穴6の位置は、ガス拡散機構4が筐体2に取り付けられた際に溶接トーチ3等と干渉しない位置であれば良い。
また、穴6は1つのみでも良い。前述のようにシールドボックス1は溶接方向に平行な方向に長い形状であることが望ましい。したがって、複数の穴6および複数のガス拡散機構4が設けられた場合の方が、1つの穴6および1つのガス拡散機構4が設けられた場合よりも、不活性ガスをより均一に筐体2の内部空間11全体に充填させることができる。このため、不活性ガスを効果的に拡散させることができる。
筐体2は、透明部14を含んでいる。透明部14は、溶接時に進行方向D1において溶接トーチ3の後方の周壁部12および天井部13の少なくとも一部に設けられている。透明部14は、筐体2における溶接トーチ挿入口13aの溶接方向の後方の一部に設けられている。透明部14は、透明な素材でできた窓である。
透明部14と溶接トーチ3の先端3aとの間にガス拡散機構4が配置されていない。つまり、透明部14と溶接トーチ3の先端3aとの間の領域から外れてガス拡散機構4が配置されている。また、透明部14と溶接トーチ3の先端3aとの間には不活性ガス以外は配置されていない。
透明部14は、センサ5によって、図2に示される溶融池20aおよび溶接ビード20bの状態を検知可能にするために設けられる。したがって、透明部14には、状態検知用センサ類の検出光等を透過させるが散乱させない素材が用いられていることが好ましい。透明部14は透明ガラス等であることが望ましい。
センサ5は、筐体2の外部に配置されている。センサ5は筐体2に取り付けられている。センサ5は透明部14上に配置されている。センサ5は透明部14を介して溶接トーチ3の先端3aを検知可能に構成されている。センサ5は、図2に示される溶融池20aおよび溶接直後の溶接ビード20bの状態を検知可能に構成されている。センサ5は、レーザセンサ等である。
また、透明部14と、周壁部12および天井部13の少なくとも一部との固定方法は問わない。しかしながら、この固定方法は、シールドボックス1内部の気密性が十分確保できる固定方法でなくてはならない。
図1に示されたシールドボックス1では、透明部14は、天井部13における溶接トーチ挿入口13aの溶接方向の後方の一部のみに設けられている。しかしながら、透明部14は、天井部13における溶接トーチ挿入口13aの溶接方向の後方の全体に設けられていても良い。また、天井部13全体が透明部14であってもよい。すなわち、天井部13全体が透明ガラス等であっても良い。天井部13全体が透明ガラス等であっても溶接用冶具として十分な強度、耐熱性等があれば構わない。
また、透明部14は天井部13に設けられるのが最も望ましい。しかしながら、透明部14は、後方壁12bおよび左右の側壁12cの少なくともいずれかに設けられても良い。さらに、例えば、溶接開先倣い等の機構が用いられる場合には、前方壁12a、天井部13における溶接トーチ挿入口13aの溶接方向の前方についてもそれらの一部または全体が透明ガラス等であっても良い。
次に、図1および図2を参照して、本発明の一実施の形態における溶接装置10の構成を説明する。
本実施の形態における溶接装置10は、金属の被溶接材20を溶接にて接合するためのものである。本実施の形態では溶接装置10としてアーク溶接装置について説明する。溶接装置10は、シールドボックス1と、溶接電源100と、ガス供給装置200と、制御装置300とを備えている。
溶接電源100は、アーク溶接時に溶接トーチ3に電流を供給するためのものである。ガス供給装置200は、シールドボックス1のガス拡散機構4に不活性ガスを供給するためのものである。このシールドボックス1に供給される不活性ガスはシールドボックス用ガスである。また、ガス供給装置200は溶接トーチ3の先端3aに不活性ガスを供給するためのものである。この溶接トーチ3の先端3aに供給される不活性ガスは溶接トーチ用ガスである。
制御装置300は、溶接電源100およびガス供給装置200を制御するためのものである。制御装置300は、溶接電源100の溶接トーチ3への出力電流を制御する。制御装置300は、溶接ワイヤの供給を制御する。制御装置300は、溶接トーチ3の駆動を制御する。制御装置300は、シールドボックス1および溶接トーチ3の先端3aへの不活性ガスの供給を制御する。
次に、図2および図3を参照して、本発明の一実施の形態における溶接方法を説明する。図3は、本実施の形態における溶接方法を説明するための断面図である。本実施の形態における溶接方法は、被溶接材20が溶接されるときに溶融池20aおよび溶接ビード20bが生じる溶接方法である。
本実施の形態のシールドボックス1は自動化された溶接工程において使用されてもよい。図3では、シールドボックス1を使用した最も望ましい溶接方法として、溶加材無しのTIG溶接を例として説明する。しかしながら、溶加材有りのTIG溶接であっても溶加材の挿入口を設けることで本実施の形態のシールドボックス1を適用することができる。
また、本実施の形態のシールドボックス1はMIG、(Metal Inert Gas)溶接等に用いることもできる。しかしながら、MIG溶接は、TIG溶接に比べスパッタ、ヒュームが多く発生するため、本実施の形態のシールドボックス1をMIG溶接に使用する際には溶接健全性、シールドボックス1のメンテナンス性を十分考慮する必要がある。
シールドボックス1は、溶接トーチ挿入口13aに溶接トーチ3が挿入された状態で用いられる。上述の通り、溶接トーチ挿入口13aにおいて溶接トーチ3と筐体2とが固定されているか否かについては問わない。しかしながら、被溶接材20と筐体2の周壁部12の下端とは直接接触せず、かつ両者間の隙間が大きすぎないようにする必要がある。この隙間は、1ミリメートルから5ミリメートル程度とすることが望ましい。ただし、筐体2の周壁部12の下端に難燃性の布、スポンジ等が用いられる場合、これらの難燃性の布、スポンジ等と被溶接材20との間の隙間は無くても良い。しかしながら、これらの難燃性の布、スポンジ等と被溶接材20とが接触する場合には被溶接材20に傷が入ったり被溶接材20の表面が汚染されたりしないように注意する必要がある。
筐体2の内部には、周壁部12および天井部13の少なくとも一部に設けられたガスホース7およびガス拡散機構4を通って不活性ガス16が供給される。この不活性ガス16は、シールドボックス1内部全体に充填される。この不活性ガス16は、溶接トーチ3から流出するシールドガスと同じ種類のガスであることが望ましく、特に高純度アルゴンガスが最も望ましい。この不活性ガス16は透明であることが望ましい。
また、不活性ガス16は溶接中常に供給され、筐体2と被溶接材20との隙間等から常に外部に流出している状態にすることが望ましい。供給される不活性ガス16の流量は、筐体2の内容積、筐体2の下端と被溶接材20との隙間、もしくは求められる溶接品質に依存する。この供給される不活性ガス16の流量は、少なくとも3リットル毎分以上であると良い。
上記のように本実施の形態における溶接方法では、シールドボックス1の筐体2の内部空間11に不活性ガス16が拡散される。そして内部空間11に不活性ガス16が拡散された状態で溶接トーチ3により被溶接材20が溶接されるときに生じる溶融池20aおよび溶接ビード20bの状態が筐体2の外部に配置されたセンサ5により透明部14から検知される。
センサ5から発せられた検出光5aが透明部14を透過して溶融池20aおよび溶接直後の溶接ビード20bに直接当てられることにより溶融池20aおよび溶接直後の溶接ビード20bが検知される。センサ5の検出光5aはシールドボックス1の進行方向D1への移動にともなって移動する。
センサ5により検知された溶融池20aおよび溶接ビード20bの状態に基づいて、アーク溶接動作が停止されるとともに一定時間以上に到達するまでガス拡散機構4から不活性ガス16が供給されてもよい。また、センサ5により検知された溶融池20aおよび溶接ビード20bの状態に基づいて、アーク溶接動作が停止されるとともに溶接部の温度が一定温度以下に低下するまで不活性ガス16が供給されてもよい。なお、センサ5により検知された溶融池20aおよび溶接ビード20bの状態が図示されないモニタに表示されてもよい。
次に、本実施の形態の作用効果について比較例と対比して説明する。
図4は、比較例におけるシールドボックス31を説明するための断面図である。この比較例におけるシールドボックス31は、一般的なアフターシールドにおけるものである。
図4に示される比較例におけるシールドボックス31は、筐体32と、溶接トーチ33と、不活性ガス吹き付け機構34と、ガス管35を備えている。筐体32に溶接トーチ33が固定されている。筐体32における溶接トーチ33の溶接方向前方に配置された部分は開放されている。筐体32内部にガス管35から不活性ガスが供給される。筐体32内部から不活性ガス吹き付け機構34を通って筐体32外部に不活性ガスが供給される。不活性ガス吹き付け機構34は、筐体32の被溶接材20側の面に配置されている。不活性ガス吹き付け機構34は、ガスレンズ、フィルタ等である。
比較例におけるシールドボックス31を用いた溶接方法では、図4中破線矢印で示されるように、筐体32内部に供給された不活性ガスが不活性ガス吹き付け機構34を通して溶接ビード20bに吹き付けられる。これにより、高温の溶接ビード20bは不活性ガスにより周辺の大気から保護されている。しかし、比較例におけるシールドボックス31は、その構造上、溶接トーチ33のアーク周辺の気流と筐体32から出る不活性ガスの気流との間に流速差が生じる。このため、溶接トーチ33と筐体32との間にシールドされていない周辺部の大気を巻き込んだ渦が生じやすい。
この周辺大気を含んだ渦によって、溶融池20aの表面に酸化スラグ等の不純物が生成されるため、溶接ビード20bおよび熱影響部の酸化を招く危険性がある。特にチタン、ステンレス鋼等の薄板の溶接においては、溶け落ち等の溶接不良を発生させる場合もあり、比較例におけるシールドボックス31を用いた溶接方法は、精密な溶接に用いるには不十分なものである。
一方、本実施の形態におけるシールドボックス1では、周壁部12が閉じられているため、内部空間11が周壁部12によって囲まれている。そして、内部空間11を不活性ガス雰囲気とし筐体2内で溶接が行われるため、外部の大気の巻き込みを防止することができる。また、溶接トーチ3のアーク周辺の気流と筐体2内部を満たす不活性ガス16の気流との間には流速差が生じるが、不活性ガス雰囲気内での溶接であるため、流速差による渦ができても溶融池20aの表面には酸化スラグ等の不純物が生成されない。したがって、本実施の形態におけるシールドボックス1によれば、比較例におけるシールドボックス31と比較して表面の酸化の少ない、より健全な溶接ビード20bおよび熱影響部を得ることができる。
また、比較例におけるシールドボックス1は、その要求性能上、溶接方向において溶接トーチ33の後方にガスレンズ等の不活性ガス吹き付け機構34を有している。不活性ガス吹き付け機構34は、溶接直後の溶接ビード20bの真上に配置されている。したがって、溶接直後の溶接ビード20bが不活性ガス吹き付け機構34により覆われているため、溶接直後の溶接ビード20bの状態を検知することは困難である。よって、レーザセンサ等の検出光を直接当てることにより溶接直後の溶接ビード20bの状態を検知することも困難である。また、仮に、比較例におけるシールドボックス1において、溶接直後の溶接ビード20bの状態を検知しようとすると、ガスレンズ等の不活性ガス吹き付け機構34を溶接トーチ3から離れて設置する必要がある。この場合は、溶接品質の悪化を招くこととなる。
一方、本実施の形態におけるシールドボックス1によれば、溶接時に進行方向D1において溶接トーチ3の後方の周壁部12および天井部13の少なくとも一部に設けられた透明部14と、溶接トーチ3の先端3aとの間にガス拡散機構4が配置されていない。このため、透明部14から溶接トーチ3の先端3aをガス拡散機構4によって妨げられずに検知することができる。したがって、溶接トーチ3の先端3aにより形成される溶接直後の溶接ビード20bの状態を検知することが容易となる。
また、仮に、透明部14が溶接時に進行方向D1において溶接トーチ3の前方に配置されている場合には、溶接箇所に溶接トーチ3を倣わせるなどにより溶接前の溶接品質を向上させることができる。一方、本実施の形態におけるシールドボックス1によれば、透明部14が溶接時に進行方向D1において溶接トーチ3の後方に配置されているため、溶融池20aおよび溶接ビード20bの状態を検知することにより溶接後の溶接品質を確認することができる。
また、比較例におけるシールドボックス31は、ガスレンズ等の不活性ガス吹き付け機構34を有するため、不活性ガス流路を確保する必要がある。したがって、比較例におけるシールドボックス31は複雑な構造となる。
一方、本実施の形態におけるシールドボックス1は、比較例におけるシールドボックス31の不活性ガス吹き付け機構34に対応する機構としてガス拡散機構4を有するのみである。したがって、不活性ガス流路を確保する必要がないため、シールドボックス1の構造が極めて簡素である。また、シールドボックス1の構造が極めて簡素であるため、シールドボックス1のメンテナンス性も向上する。さらに、本実施の形態におけるシールドボックス1では、ガス拡散機構4は不活性ガス16の雰囲気内で使用されるため、ガス拡散機構4の性能の劣化が起こりにくい。
本実施の形態におけるシールドボックス1によれば、ノズル4a、ノズル4aの外周面から不活性ガスを供給するように構成されている。このため、比較例のように溶接トーチ3の後方の全体にガスレンズを設けずともノズル4aの外周面の全周から不活性ガスが供給されることにより筐体2の内部空間11に不活性ガスを均一に拡散させることが容易となる。
本実施の形態におけるシールドボックス1によれば、ノズル4aの外周面の全周は多孔体を含んでいる。これにより、ノズル4aの外周面の全周から不活性ガスを供給することができる。また、多孔体から不活性ガスが供給されることにより筐体2の内部空間11に不活性ガスを均一に拡散させることが容易となる。
本実施の形態における溶接装置10によれば、上記のシールドボックス1と、シールドボックス1に不活性ガスを供給するためのガス供給装置200とを備えている。このため、溶接トーチ3の先端3aにより形成される溶接直後の溶接ビード20bの状態を検知することが容易となる溶接装置10を提供することができる。
比較例におけるシールドボックス1を用いた溶接方法では、溶接直後の溶接ビード20bが不活性ガス吹き付け機構34により覆われているため、溶接直後の溶接ビード20bの状態を検知することは困難である。よって、レーザセンサ等の検出光を直接当てることにより溶接直後の溶接ビード20bの状態を検知することも困難である。
一方、本実施の形態における溶接方法は、シールドボックス1の筐体の内部空間11に不活性ガスが拡散された状態で溶接トーチ3により被溶接材20が溶接されるときに生じる溶接ビード20bの状態を筐体2の外部に配置されたセンサ5により透明部14から検知する。このため、溶接トーチ3の先端3aにより形成される溶接直後の溶接ビード20bの状態を検知することが容易となる。
また、被溶接材20が溶接されるのと同時に、センサ5から検出光5aを照射することで溶融池20aおよび溶接ビード20bの状態を検知することができる。
さらに、透明部14を透過させたセンサ5の検出光5aを溶融池20aおよび溶接直後の溶接ビード20bに直接当てることで、溶接不良等をインプロセスで検知することができる。つまり、溶接不良等を製造工程中に検知することができる。
筐体2の内部は、溶接トーチ3とガス拡散機構4を除けば、不活性ガス16が満たされた空間となっている。つまり、透明部14と溶接ビード20bとの間に検出光5aを遮るものが無い。また、レーザセンサ等のセンサ5を高温となる溶接トーチ3近傍および筐体2内部に設置する必要が無い。したがって、溶接中の状態検知を容易かつ安定的に行うことができる。
また、比較例における不活性ガスを溶接ビード20bに直接吹き付ける方法に対して、本実施の形態における溶接方法では、不活性ガスを充填させたシールドボックス1内で溶接が行われるため、シールドに必要な不活性ガスの量を大幅に削減することができる。
以上のように、本実施の形態におけるシールドボックス1を用いた溶接方法によれば、シールドボックス1の構造が簡素なものでありながら、状態検知を容易かつ安定的に行いつつ不活性ガス雰囲気での高品質な溶接を経済的に実現できる。
なお、本発明は、矛盾のない範囲内において、各実施の形態の内容を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略したりすることが可能である。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。