JP2019164363A - レーザ装置 - Google Patents
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Abstract
Description
mod[Δφ1,2(ωi,t')+2π[ν2ni(ν2)−ν1ni(ν1)]xi/c,2π]
=Δφ1,2 R(ωi+i,t)・・・式(1)
mod[Δφ2,3(ωi,t')+2π[ν3ni(ν3)−ν2ni(ν2)]xi/c,2π]
=Δφ2,3 R(ωi+xi,t)・・・式(2)
…
mod[Δφj,j+1(ωi,t')+2π[νj+1ni(νj+1)−νjni(νj)]xi/c,2π]
=Δφj,j+1 R(ωi+xi,t)・・・式(j)
…
mod[Δφm-1,m(ωi,t')+2π[νmni(νm)−νm-1ni(νm-1)]xi/c,2π]
=Δφm-1,m R(ωi+xi,t)・・・式(m−1)
ここで、φj(z,t)は、レーザー光のうち周波数νjをもつレーザー光の、位置z及び時刻tにおける位相を意味する。Δφj,j+1(z,t)は、この光学過程に関与するレーザー光のうち周波数νjをもつレーザー光と周波数νj+1をもつレーザー光との間の、位置z及び時刻tにおける相対位相であり、Δφj,j+1(z,t)=φj+1(z,t)−φj(z,t)を意味する。そして、Δφj,j+1(z,t)は、2πを周期とする周期関数であるため、0≦Δφj,j+1(z,t)<2πである。modは合同式を意味し、例えばmod[f(x),2π]=aは関数f(x)を2πで割ったときの余りがaであることを意味する。
ωiはi番目の分散媒質のレーザー光の光学媒質入射面からの位置であり、xiはi番目の分散媒質の実効的厚みである。mはこの光学過程に関与する異なる周波数をもったレーザー光(入射レーザー光と発生レーザー光の両方を含む)の数であり、2以上の自然数である。ni(νj)は、i番目の分散媒質の周波数νjにおける屈折率であり、cは真空中の光速である。
Δφj,j+1 R(z,t)は目的の光学過程を実現する前記相対位相Δφj,j+1(z,t)に関する位置z及び時刻tにおける理想値を示す。各式の意味するところの詳細については後述する。
前記光学媒質は、その内部に透明な分散媒質を1つ以上有し、該分散媒質について、前記レーザー光の伝搬方向に沿った位置及び実効的厚みを調節することで、発生レーザー光を含むこの光学過程に関与する複数のレーザー光の異なる周波数間の相対位相関係を、目的とする光学過程に応じた値に操作することで、目的とする光学過程を実現することを特徴とする。
mod[Δφ1,2(ωi,t')+2π[ν2ni(ν2)−ν1ni(ν1)]xi/c,2π]
=Δφ1,2 R(ωi+i,t)・・・式(1)
mod[Δφ2,3(ωi,t')+2π[ν3ni(ν3)−ν2ni(ν2)]xi/c,2π]
=Δφ2,3 R(ωi+xi,t)・・・式(2)
…
mod[Δφj,j+1(ωi,t')+2π[νj+1ni(νj+1)−νjni(νj)]xi/c,2π]
=Δφj,j+1 R(ωi+xi,t)・・・式(j)
…
mod[Δφm-1,m(ωi,t')+2π[νmni(νm)−νm-1ni(νm-1)]xi/c,2π]
=Δφm-1,m R(ωi+xi,t)・・・式(m−1)
ここで、φj(z,t)は、レーザー光のうち周波数νjをもつレーザー光の、位置z及び時刻tにおける位相を意味する。Δφj,j+1(z,t)は、この光学過程に関与するレーザー光のうち周波数νjをもつレーザー光と周波数νj+1をもつレーザー光との間の、位置z及び時刻tにおける相対位相であり、Δφj,j+1(z,t)=φj+1(z,t)−φj(z,t)を意味する。そして、Δφj,j+1(z,t)は、2πを周期とする周期関数であるため、0≦Δφj,j+1(z,t)<2πである。modは合同式を意味し、例えばmod[f(x),2π]=aは関数f(x)を2πで割ったときの余りがaであることを意味する。
ωiはi番目の分散媒質のレーザー光の光学媒質入射面からの位置であり、xiはi番目の分散媒質の実効的厚みである。mはこの光学過程に関与する異なる周波数をもったレーザー光(入射レーザー光と発生レーザー光の両方を含む)の数であり、2以上の自然数である。ni(νj)は、i番目の分散媒質の周波数νjにおける屈折率であり、cは真空中の光速である。
Δφj,j+1 R(z,t)は目的の光学過程を実現する前記相対位相Δφj,j+1(z,t)に関する位置z及び時刻tにおける理想値を示す。
本発明のレーザー光の設計方法は、離散的なスペクトルからなるレーザー光を、軸性のある結晶板に透過させることで任意のスペクトル偏光分布を作り出すことを特徴とする。 または、その後さらに偏光子に透過させることで任意のスペクトル強度分布を作り出すことを特徴とする。
以下、本願の第1の発明による非線形光学過程の操作方法及びレーザー装置について、必要に応じて図面を参照しつつ、具体的に説明する。
まず、本発明の非線形光学過程の操作方法について説明する。
本発明の非線形光学過程において用いられる入射レーザー光は、図1(a)に示すように、光源10から発生し、媒質20に入射させた後、外部へと出射される。用いられるレーザーの種類については特に限定はされず、例えば、III−V族半導体等を用いた半導体レーザーやYAGレーザー等の固体レーザー、液体レーザー、エキシマレーザーやC02レーザー等の気体レーザーを用いることができる。
本発明の非線形光学過程において用いられる媒質20は、透明な分散媒質を含む。具体的には、図1(a)に示すように、非線形光学媒質からなる光学媒質21中に、透明な分散媒質22を1つ以上挿入してなる。図1(a)では直方体状の4つの分散媒質22a〜22dを挿入した例を示す。後述するように、前記媒質20を、光学媒質21と複数の分散媒質22から構成することで、この光学過程に関与する複数のレーザー光の異なる周波数間の相対位相を変化させることが可能となる。さらに、該分散媒質の位置や実効的厚みを調整することで、該相対位相を、達成したい光学過程に対して最適に近い値に操作することができる。その結果、達成したい光学過程を効率よく実現することが可能となる。
そして、本発明による非線形光学過程の操作方法は、分散媒質について、レーザー光の伝搬方向に沿った位置及び実効的厚みを調節することで、レーザー光と光学媒質の相互作用における非線形光学特性を操作することを特徴とする。
図6(a)に示す例では、非線形光学媒質21に入射する入射光は、周波数ν1、位相φ1(z,t)の入射レーザー光である。入射レーザー光が非線形光学媒質21に入射すると、生成された非線形分極により複数の発生レーザー光が発生する。ここでは、複数の発生レーザー光として、周波数と位相がそれぞれ、ν1,φ1(z,t)のレーザー光1、ν2,φ2(z,t)のレーザー光2、・・・νj,φj(z,t)のレーザー光j、νj+1,φj+1(z,t)のレーザー光j+1、・・・νm,φm(z,t)のレーザー光mが発生した場合を例として示す。
mod[Δφ1,2(ωi,t')+2π[ν2ni(ν2)−ν1ni(ν1)]xi/c,2π]
=Δφ1,2 R(ωi+xi,t)・・・式(1)
modは合同式を意味し、例えばmod[f(x),2π]=aは関数f(x)を2πで割ったときの余りがaであることを意味する。ni(νj真空中の光速である。図6では説明を簡略化するために、i番目の分散媒質とi+1番目の分散媒質のみを図示し、その他の分散媒質の図示を省略している。なお、分散媒質の数は、1個であっても良い。
mod[Δφ1,2(ωi,t')+2π[ν2ni(ν2)−ν1ni(ν1)]xi/c,2π]
=Δφ1,2 R(ωi+xi,t)・・・式(1)
となる。
mod[Δφ2,3((i,t')+2π[ν3ni(ν3)−ν2ni(ν2)]xi/c,2π]
=Δφ2,3 R(ωi+xi,t)・・・式(2)
…
mod[Δφj,j+1(ωi,t')+2π[νj+1ni(νj+1)−νjni(νj)]xi/c,2π]
=Δφj,j+1 R(ωi+xi,t)・・・式(j)
…
mod[Δφm−1,m(ωi,t')+2π[νmni(νm)−νm−1ni(νm−1)]xi/c,2π]
=Δφm−1,m R(ωi+xi,t)・・・式(m−1)
の式が導かれる。
mod[Δφ1,2(ωi,t')+2π[ν2ni(ν2)−ν1ni(ν1)]xi/c,2π]
=Δφ1,2 R(ωi+i,t)・・・式(1)
mod[Δφ2,3(ωi,t')+2π[ν3ni(ν3)−ν2ni(ν2)]xi/c,2π]
=Δφ2,3 R(ωi+xi,t)・・・式(2)
…
mod[Δφj,j+1(ωi,t')+2π[νj+1ni(νj+1)−νjni(νj)]xi/c,2π]
=Δφj,j+1 R(ωi+xi,t)・・・式(j)
…
mod[Δφm-1,m(ωi,t')+2π[νmni(νm)−νm-1ni(νm-1)]xi/c,2π]
=Δφm-1,m R(ωi+xi,t)・・・式(m−1)
上記式(1)〜式(m−1)から、位置ωi+1における分散媒質の実効的厚みxi+1を求める。
上述の<非線形光学過程の操作方法>は線形光学過程においても利用することができる。線形光学媒質中において、目標値をνk,φk(z,t)に設定する。そして、目標とする出射レーザー光をνk,φk(z,t)と設定すれば、分散媒質の出射面の位置(z=ωi+xi)における各レーザー光の相対位相の理想値が必然的に決まり、分散媒質の出射面における各レーザー光の相対位相が理想値になるような位置ωi及び実効的厚みxiを求めれば良い。
次に、本発明によるレーザー装置について説明する。
レーザー光の設計方法及びレーザー装置
以下、本願の第2の発明によるレーザー光の設計方法及びレーザー装置について、必要に応じて図面を参照しつつ、具体的に説明する。
まず、本発明のレーザー光の設計方法について説明する。
(レーザー)
本発明の非線形光学過程において用いられるレーザー光は、図12に示すように、光源110から発生し、軸性のある結晶板120を透過した後、外部へと放出する。用いられるレーザーの種類については特に限定はされず、例えば、III−V族半導体等を用いた半導体レーザーやYAGレーザー等の固体レーザー、液体レーザー、エキシマレーザーやC02レーザー等の気体レーザーを用いることができる。
本発明のレーザー光の設計方法において用いられる軸性のある結晶は、図13(a)に示すように、光源110から発生したレーザー光のスペクトルの偏光分布を操作するための結晶板120と、偏光子130からの透過光を再び偏光させるための結晶板150である。
本発明のレーザー光の設計方法において用いられる偏光子130は、図13(a)に示すように、前記軸性のある結晶板120を透過したレーザー光を構成する各スペクトルについて、特定方向に偏光したものだけを透過させるためのものである。
本発明の線形及び/又は非線形光学過程において用いられる分散媒質140は、透明であり、図14に示すように、スペクトル強度分布、及び/又は、スペクトル偏光分布が所望の分布に制御されたレーザー光を透過させることで、後述するように、透過したレーザー光のスペクトル位相を任意に変化させることが可能となり、所望の波形のレーザー光を実現できる。
次に、本発明によるレーザー装置について説明する。本発明による方法は、図12に示すように、光源110から発生したレーザー光(矢印)を軸性のある結晶板120及び偏光子130に順次透過させた後、好ましくは、再び、第2の軸性のある結晶板150に透過させ、最後に、透明な分散媒質140に透過させる。
実施例1では、図5に示すように、レーザー光源10と波長変換用結晶40と一つ又は複数の分散媒質22をその中に含む非線形光学媒質21を備えるレーザー装置を作製し、レーザー光を入射させた場合の結果を計算により表した。
また、レーザー光の異なる周波数間の相対位相関係を操作することで、種々の波長のレーザー光が得られることを示すため、前記位相関係の条件を人為的に所望の値に調節した際に得られるレーザー光の波長ごとの強度(量子変換効率)分布と、非線形媒質の長さとの関係を図11に示す。
n倍波(n=2,3,4,−−−−)の発生過程に当該発明技術を適用する際のスキームの例を図7に示した。
和周波光、及び、差周波光の発生過程に当該発明技術を適用する際のスキームの例を、図8(a)(b)に示した。
実施例5では、図9(a)に、複数の光を共振器内に効率よく閉じ込めるために当該発明技術を用いるための構成、及び、(b)複数の光を共振器内に効率よく閉じ込めると同時に、当該発明技術を用いて、目的の線形、及び非線形光学過程を効率よく実現するために要請される所望の相対位相関係を満たすように位相操作をおこなって、効率よく目的の光学過程を実現するための構成を示した。
実施例6では、当該発明技術を用いて、ソリトン光の生成を効率よく実現できることを図10に示した。
実施例7では、図17に示すように、5種類の離散的なスペクトルから構成されたレーザー光について、図12に示すように、結晶板120、偏光子130、及び分散媒質140を順次透過させた。
20 媒質
21 光学媒質
22 分散媒質
30 増幅手段
40 波長変換用結晶
110 光源
120 軸性のある結晶板
130 偏光子
140 分散媒質
150 第2の軸性のある結晶板
Claims (9)
- 離散的なスペクトルからなるレーザー光を、軸性のある結晶板に透過させ、該結晶板の厚さ及び/又は角度を変化させることで、任意のスペクトル偏光分布を作り出すことを特徴とする、レーザー装置。
- 前記結晶板に透過させた後に、偏光子に透過させることで任意のスペクトル強度分布を作り出すことを特徴とする、請求項1に記載のレーザー装置。
- 前記偏光子に透過させた後に、第2の軸性のある結晶板に透過させ、該第2の軸性のある結晶板の厚さ及び/又は角度を変化させることで、スペクトル強度分布を操作した前記離散的なスペクトルに、さらに任意の偏光分布を作り出すことを特徴とする、請求項2に記載のレーザー装置。
- 前記レーザー光を、さらに、1又は複数の透明な分散媒質に透過させ、該分散媒質の光学的厚みを調整することで、スペクトル間に任意の相対位相関係を作り出し、光波形を整形することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のレーザー装置。
- 前記軸性のある結晶板を複数設けることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載のレーザー装置。
- 前記第2の軸性のある結晶板を複数設けることを特徴とする、請求項3に記載のレーザー装置。
- 前記偏光子を複数設けることを特徴とする、請求項2または3に記載のレーザー装置。
- 前記離散的なスペクトルの周波数間隔が10THz以上であることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載のレーザー装置。
- 前記分散媒質を線形及び/又は非線形光学媒質中に、一又は複数個、組み込み、さらに、該線形及び/又は非線形光学媒質中を伝搬するレーザー光の進行方向に沿ってそれらの位置を調整することで、目的の光学過程を効率よく達成するよう、関与する線形および非線形光学過程が操作されることを特徴とする請求項4に記載のレーザー装置。
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