JP2019159047A5 - - Google Patents

Description

本発明の第１態様は、
複数の画素において、光源が発する光を変調する光変調手段と、
前記光変調手段で変調された光を投影する投影手段と、
複数のフレームからなる入力画像データに基づき、１フレーム期間に含まれる複数のサブフィールドの画像データを生成する生成手段と、
各サブフィールドの画像データに基づき、各画素の光に対する透過率または反射率が、第１の状態と、前記第１の状態よりも低い第２の状態との何れかになるように、前記複数の画素を駆動する駆動手段と、
前記光源が発する光の光量を制御する光源制御手段と、
を有し、
前記光源制御手段は、前記第１の状態となる画素の画素数が予め設定された設定値以下である第１のサブフィールドに対する前記光量を、前記第１の状態となる画素の画素数が前記設定値より大きい第２のサブフィールドに対する前記光量よりも小さくなるように、前記光源を制御する
ことを特徴とする投影装置を提供する。

本発明の第２態様は、
複数の画素において、光源が発する光を変調する光変調ステップと、
前記光変調ステップで変調された光を投影する投影ステップと、
複数のフレームからなる入力画像データに基づき、１フレーム期間に含まれる複数のサブフィールドの画像データを生成する生成ステップと、
各サブフィールドの画像データに基づき、各画素の光に対する透過率または反射率が、第１の状態と、前記第１の状態よりも低い第２の状態との何れかになるように、前記複数の画素を駆動する駆動ステップと、
前記光源が発する光の光量を制御する光源制御ステップと、
を含み、
前記光源制御ステップでは、前記第１の状態となる画素の画素数が予め設定された設定値以下である第１のサブフィールドに対する前記光量を、前記第１の状態となる画素の画素数が前記設定値より大きい第２のサブフィールドに対する前記光量よりも小さくなるように、前記光源を制御する
ことを特徴とする投影装置の制御方法を提供する。

Claims (9)

1. 複数の画素において、光源が発する光を変調する光変調手段と、
   前記光変調手段で変調された光を投影する投影手段と、
   複数のフレームからなる入力画像データに基づき、１フレーム期間に含まれる複数のサブフィールドの画像データを生成する生成手段と、
   各サブフィールドの画像データに基づき、各画素の光に対する透過率または反射率が、第１の状態と、前記第１の状態よりも低い第２の状態との何れかになるように、前記複数の画素を駆動する駆動手段と、
   前記光源が発する光の光量を制御する光源制御手段と、
   を有し、
   前記光源制御手段は、前記第１の状態となる画素の画素数が予め設定された設定値以下である第１のサブフィールドに対する前記光量を、前記第１の状態となる画素の画素数が前記設定値より大きい第２のサブフィールドに対する前記光量よりも小さくなるように、前記光源を制御する
   ことを特徴とする投影装置。
2. 前記駆動手段は、前記複数の画素に含まれる画素群に対して、各サブフィールドのそれぞれの期間のうち、少なくとも一部の期間で同時に駆動を行う
   ことを特徴とする請求項１に記載の投影装置。
3. 前記駆動手段は、
   前記複数の画素に含まれる第１の画素群に対して、各サブフィールドのそれぞれの期間のうち第１の期間で同時に駆動を行い、
   前記複数の画素に含まれる第２の画素群に対して、各サブフィールドのそれぞれの期間のうち第２の期間で同時に駆動を行う
   ことを特徴とする請求項１または２に記載の投影装置。
4. 前記駆動手段は、前記複数の画素の全ての画素を、各サブフィールドのそれぞれの画像データに基づいて、同時に駆動する
   ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の投影装置。
5. 前記第１のサブフィールドを含む第１のフレームが、ｍ個以上（ｍは２以上の整数）、
   連続して存在する場合、
   前記光源制御手段は、
   ｍ番目以降の各第１のフレームに含まれる前記第１のサブフィールドに対して、前記光源を制御し、
   ｍ−１番目までの各第１のフレームに含まれる前記第１のサブフィールドに対しては、前記光源を制御しない
   ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の投影装置。
6. 前記第１のサブフィールドを含む第１のフレームが、ｍ個以上（ｍは２以上の整数）、連続して存在する場合、
   前記光源制御手段は、連続して存在する各第１のフレームに含まれる前記第１のサブフィールドの全てに対して、前記光源を制御し、
   前記光源制御手段は、
   ｍ番目以降の各第１のフレームに含まれる前記第１のサブフィールドに対する前記光源の制御は、第１の光量で行い、
   ｍ−１番目までの各第１のフレームに含まれる前記第１のサブフィールドに対する前記光源の制御は、ｍ番目の前記第１のフレームに含まれる前記第１のサブフィールドで前記第１の光量となるまで前記光量を徐々に小さくして行う
   ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の投影装置。
7. 前記設定値は０である
   ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の投影装置。
8. 画像データの階調値を変更する画像処理手段を有し、
   前記第１の状態となる画素の画素数が１以上、かつ、前記設定値以下であるとき、
   前記第１の状態にある画素が前記第２の状態となるように当該画素の階調値が前記画像処理手段により変更され、かつ、前記光源制御手段により前記光源が制御される
   ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の投影装置。
9. 複数の画素において、光源が発する光を変調する光変調ステップと、
   前記光変調ステップで変調された光を投影する投影ステップと、
   複数のフレームからなる入力画像データに基づき、１フレーム期間に含まれる複数のサブフィールドの画像データを生成する生成ステップと、
   各サブフィールドの画像データに基づき、各画素の光に対する透過率または反射率が、第１の状態と、前記第１の状態よりも低い第２の状態との何れかになるように、前記複数の画素を駆動する駆動ステップと、
   前記光源が発する光の光量を制御する光源制御ステップと、
   を含み、
   前記光源制御ステップでは、前記第１の状態となる画素の画素数が予め設定された設定値以下である第１のサブフィールドに対する前記光量を、前記第１の状態となる画素の画素数が前記設定値より大きい第２のサブフィールドに対する前記光量よりも小さくなるように、前記光源を制御する
   ことを特徴とする投影装置の制御方法。