JP2019158724A - X線反射型計測装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】計測を行うためのスペースを抑制するとともに、セッティング手順を簡易にしながら計測精度を向上させることができるX線反射型計測装置を提供する。【解決手段】X線を照射するX線管1と、X線の反射波を検出する検出器7と、X線管1および検出器7を回転させる回転駆動部と、X線管1から照射されたX線を検出器7へ反射する較正板22と、所定演算を行う制御部とを備え、制御部は、回転駆動部を制御してX線管1および検出器7を計測対象21へ向け、X線管1から計測対象21に照射したX線の反射波を検出器7に検出させるとともに、X線管1および検出器7を較正板22へ向け、X線管1から較正板22に照射したX線の反射波を検出器7に検出させ、計測対象21からの反射波を示す信号と較正板22からの反射波を示す信号とを用いて、計測対象21に関する所定の計測値を演算処理によって求めることを特徴とする。【選択図】図1

Description

本発明は、計測対象にX線を照射し、このとき反射したX線を検出するX線反射型計測装置に関するものである。
樹脂等のフィルム、紙材、パルプ、ボードなどの面状部分の厚さを計測するときには、例えば、X線、β線、γ線等を透過させる計測装置が用いられている。
この透過型の計測装置は、X線等の照射部から計測対象(試料)へX線等を照射し、計測対象を透過したX線等を検出部によって検出するように構成されており、例えば、透過画像の取得や細胞活動の観察を可能にしている(例えば、特許文献1参照)。
特開2015−90311号公報
前述のような透過型の計測装置は、例えば、計測対象を製造するとき、塗布工程において塗布厚さなどの計測を行うと、X線等の照射部、検出部などが塗布剤によって汚れてしまい、計測を正確に行うことが難しかった。
また、透過型の計測装置は、計測結果の精度を向上させるためにキャリブレーション等を実施しようとした場合、計測系から計測対象を排除した状態としてX線照射ならびに検出を行うことが必須となり、計測を行う際のセッティング等の手順(事項)が多くなることからランニングコストが高額になるという問題点があった。
また、ブロック状のもの、砂や小麦粉などの粉粒体、チップ材、茶葉などに含有されている水分を計測するときには、マイクロ波を用いる透過型計測装置、赤外線を用いる反射型計測装置(水分計)、また、静電容量型計測装置等が用いられていた。
マイクロ波を用いる装置は、稼働させること(マイクロ波を放射すること)が可能な場所(環境)が規制されているため、所望の場所で計測を行うことができない場合がある。
また、赤外線を用いる反射型水分計は、計測対象の表面色の種類等によって、計測結果が異なったものとなることから、計測結果の精度ならびに安定性を向上させることが難しいという問題点があった。
本発明は、上記のような問題点に鑑みなされたもので、計測を行うためのスペースを抑制するとともに、セッティング手順を簡易にしながら計測精度を向上させることができるX線反射型計測装置を提供することを目的とする。
本発明に係るX線反射型計測装置は、X線を照射するX線照射部と、X線の反射波を検出し、該反射波を示す信号を出力するX線検出部と、前記X線照射部および前記X線検出部を回転させる回転駆動部と、前記X線照射部および前記X線検出部に対して、所定の距離に配置され、前記X線照射部から照射されたX線を前記X線検出部へ反射する較正板と、
前記X線照射部、および、前記回転駆動部の動作を制御するとともに、前記X線検出部が検出した前記反射波を示す信号を取得し、所定演算を行う制御部と、を備え、前記制御部は、前記回転駆動部を制御して、前記X線照射部および前記X線検出部を計測対象へ向け、前記X線照射部から該計測対象に照射したX線の反射波を前記X線検出部に検出させるとともに、前記X線照射部および前記X線検出部を前記較正板へ向け、前記X線照射部から該較正板に照射したX線の反射波を前記X線検出部に検出させ、前記計測対象からの反射波を示す信号と前記較正板からの反射波を示す信号とを用いて、前記計測対象に関する所定の計測値を演算処理によって求めることを特徴とする。
また、前記較正板は、前記X線照射部および前記X線検出部の回転軌跡に沿って配置するが、例えば、前記計測対象に対向配置される第一較正板と、前記X線照射部および前記X線検出部の回転軌跡に沿って前記第一較正板から離間して配置され、前記第一較正板とは異なるX線反射率を有する素材によって形成された第二較正板と、からなり、前記制御部は、前記X線検出部から取得した前記第一較正板からの反射波を示す信号および前記第二較正板からの反射波を示す信号を用いた多点較正を、前記計測対象からの反射波を示す信号に関する演算処理に施すことを特徴とする。
また、前記制御部の制御に応じて複数の前記較正板を回転移動あるいは平行移動させる可動機構部を備え、前記制御部は、前記可動機構部を制御して移動させた前記複数の較正板からの反射波を示す信号を前記X線検出部から取得し、前記計測対象からの反射波を示す信号を用いた演算処理について多点較正を行うことを特徴とする。
また、前記制御部の制御に応じて前記較正板を移動して、前記X線照射部および前記X線検出部と、前記較正板との距離を変更する移動機構部を備え、前記制御部は、前記移動機構部を制御して、前記演算処理に適した反射波を示す信号が前記X線検出部から出力されるように、前記X線照射部および前記X線検出部と、前記較正板との距離を調整することを特徴とする。
また、前記X線照射部は、30[keV]以下の強度でX線を出力することを特徴とする。
また、前記X線検出部は、前記X線照射部のX線照射部位の両側方に各々配置される第1検出部および第2検出部を有し、前記X線照射部は、前記計測対象または前記較正板からの反射波が前記第1検出部および前記第2検出部へ各々入射するように、前記X線を双方向に照射し、前記制御部は、前記第1検出部から出力される一の反射波を示す信号、および、前記第2検出部から出力される他の反射波を示す信号を用いて前記計測対象に関する計測値を求めることを特徴とする。
また、前記X線照射部から出射されるX線を所定方向へ向ける照射ガイド部を備えた、
ことを特徴とする。
本発明によれば、X線の照射ならびに検出を行う部分の設置スペースを抑制し、精度を高めて計測を行うことができる。
本発明の実施例1によるX線反射型計測装置の概略構成を示す説明図である。 図1のX線反射型計測装置を用いて粉粒体からなる計測対象を計測する状態を示す説明図である。 本発明の実施例2によるX線反射型計測装置の概略構成を示す説明図である。 本発明の実施例3によるX線反射型計測装置の概略構成を示す説明図である。 本発明の実施例4によるX線反射型計測装置の概略構成を示す説明図である。 本発明の実施例5によるX線反射型計測装置の概略構成を示す説明図である。 本発明の実施例6によるX線反射型計測装置の概略構成を示す説明図である。
以下、この発明の実施の形態を図面に基いて説明する。
(実施例1)
図1は、本発明の実施例1によるX線反射型計測装置の概略構成を示す説明図である。この図は、当該X線反射型計測装置を構成するX線管1(X線照射部)および検出器7(X線検出部)を、例えば薄膜状の計測対象21の近傍に設置した状態を示したものである。
図示したX線反射型計測装置は、X線管1および検出器7を並べて設置しており、詳しくは、X線を出力照射するX線管1の照射部位と、X線を入射させる検出器7の検出部位が並ぶように設置している。
X線管1および検出器7は、図示を省略した回転駆動部等に接続されており、一体となって回転するように構成されている。
また、X線管1および検出器7は、一体となって回転したとき、回転軌跡として図1に示した回転面11が生じるように、図示を省略した支持機構部等によって支持されている。
換言すると、X線管1および検出器7は、一体となるように固定され、回転面11の回転軸を中心として回転することができるように、例えば、支持機構部等によって支持されている。また、前述の回転駆動部によって上記の回転軸を中心として双方向へ回転するように、当該回転駆動部と接続されている。
なお、回転面11は、詳しくはX線管1の照射部位ならびに検出器7の検出部位の回転軌跡を表すものである。
図1に示したX線反射型計測装置は、計測対象21の近傍にX線管1および検出器7を配置したとき、当該X線管1および検出器7をはさんで計測対象21と対向配置される較正板22を備えている。
較正板22は、キャリブレーション(較正)の基準となる所定のX線反射率等を有する素材によって形成された、例えば平板であり、図1に示した外周円12の接線13上に配置されている。図1の接線13は、例えば、計測対象21の表面と平行に延設されているが、当該外周円12の円周上において、どの位置の接線によるかは限定されない。
なお、較正板22、ならびに後述する各較正板は、フィルム状等の素材によって構成されたものでもよく、形状も平板状のものに限定されない。また、当該いずれの較正板も、計測対象21のX線反射率(もしくは反射特性)等に応じて、適当なX線反射率等を有する素材を用いて構成されている。
外周円12は、回転面11の中心軸(回転軸)を円中心としたものであり、当該外周円12の円周と回転面11との間は、X線管1および検出器7と、計測対象21との間の距離を示している。
即ち、X線管1の照射部位および検出器7の検出部位が、計測対象21と対向したときの間隔距離と、X線管1および検出器7が回転して較正板22と対向したときの、X線管1の照射部位および検出器7の検出部位と、較正板22との間隔距離が同一となるように、当該較正板22が配置構成されている。
図1に示したX線反射型計測装置は、接線13即ち較正板22と、計測対象21の表面とが平行となり、また、X線管1および検出器7の回転中心を基点として対向配置されるように構成されている。
即ち、計測対象21と正対するようにX線管1および検出器7を向けた場合の、X線の計測対象21に対する入射角ならびに反射波の反射角と、較正板22と正対するようにX線管1および検出器7を向けた(180度回転させた)場合の、X線の較正板22に対する入射角ならびに反射波の反射角が、それぞれ同じ大きさの角度となるように構成されている。
X線管1は、例えば、図示を省略した制御部に接続され、当該制御部の制御信号に応じてX線を所定のエネルギー強度で出力照射するもので、例えば、強度が30[keV]以下のX線(軟X線)を出力するように構成されている。
検出器7は、例えば、上記の制御部に接続され、当該検出器7の検出部位へ入射したX線(反射波)の振幅大きさ、強度などを示す信号を制御部へ出力するように構成されている。
前述の回転駆動部は、例えば、上記の制御部に接続され、回転方向、回転速度、回転量などが当該制御部から入力した制御信号によって制御されるように構成されている。
上記の制御部は、上記のようにX線管1、回転駆動部等の動作を制御するとともに、例えば、検出器7から入力した信号を用いて所定の演算処理を行うように構成されている。
次に動作について説明する。
X線を用いて計測対象21に関する計測を行うときには、制御部は、回転機構部等を制御して、例えば、X線管1の照射部位および検出器7の検出部位を、計測対象21の所定部分(計測部位)へ向ける。この状態でX線管1からX線を照射させ、このX線が計測対象21に反射した反射波を検出器7に入射させる。
制御部は、このとき検出器7から出力された当該反射波を示す信号(強度、振幅の大きさなどを表すデータ)を、例えば制御部自身に備えたメモリ等の記憶手段に記憶させる。
次に、制御部は、回転機構部等を制御して、X線管1の照射部位および検出器7の検出部位を較正板22へ向ける。この状態でX線管1からX線を照射させ、このX線が較正板22に反射した反射波を検出器7に入射させる。
このとき検出器7から出力された当該反射波を示す信号(強度などを表すデータ)を、例えば制御部自身に備えたメモリ等の記憶手段に記憶させる。
この後、メモリ等に記憶させた、計測対象21からの反射波を示すデータと較正板22からの反射波を示すデータとを用いて所定演算を行い、計測対象21に関する計測値、例えば、板状またはフィルム状の計測対象21の厚さを求める。
なお、先にX線管1および検出器7を較正板22に向けて反射波検出を行い、その後、計測対象21の反射波検出を行うようにしてもよい。
図2は、図1のX線反射型計測装置を用いて粉粒体からなる計測対象21を計測する状態を示す説明図である。
X線が物質に照射された場合には、コンプトン散乱したものの一部が後方へ返ってくる。
特に、図2に示した粉粒体の計測対象21について、X線を用いた何れかの計測(例えば、任意の層の厚さ計測、一塊となった粉状物質の成分分析など)を行う場合には、当該計測内容に応じてX線を反射させる位置(計測対象21の厚み方向の深さ、計測する層の積層位置など)を定めておき、この反射位置に応じて計測対象21に対するX線の入射角度、具体的にはX線管1のX線出力(照射)角度等を予め設定する。また、当該X線の反射波(コンプトン散乱の一部)を検出することができるように検出器7を設置する。
また、粉粒体の計測対象21にX線を照射して所定内容(項目等)の計測を行う場合、較正板22は、X線を反射させる位置(前述の計測対象21の厚み方向の深さなど)に応じて設置位置が定められる。
具体的には、X線管1の照射部位ならびに検出器7の検出部位が、較正板22と例えば正対したとき、上記の各部位と較正板22との間の距離が、計測対象21と正対したX線管1の照射部位ならびに検出器7の検出部位と、計測対象21のX線を反射させる位置との間の距離が同一となるように、即ち、図2に示した外周円12の円周上に較正板22が配置固定される。このように配置した較正板22からの反射波を検出し、これを用いて前述のように計測対象21からの反射波の検出結果(反射波を示す信号)の演算処理を行い、所定の計測結果を求める。
(実施例2)
図3は、本発明の実施例2によるX線反射型計測装置の概略構成を示す説明図である。この図は、図1、図2と同様に、X線反射型計測装置を構成するX線管1および検出器7を、計測対象21の近傍に設置した状態を示したものである。
図3のX線反射型計測装置は、較正板22(第一較正板)とともに、直交較正板23(第二較正板)を備えて構成されたもので、他の部分は、図1に示したものと同様に構成されている。ここでは、図1のX線反射型計測装置と同様に構成された部分の重複説明を省略する。
図3のX線反射型計測装置は、図1等に示した接線13と直交する接線14上に直交較正板23を配置している。接線14は、接線13と同様に外周円12の接線である。
接線14の円周上に配置される直交較正板23は、例えば、板面形状が較正板22と同様であって、板厚が較正板22よりも厚く形成されている。また、直交較正板23は、制御部において計測対象21からの反射波に関する所定の演算処理に使用することができるX線反射率であって、較正板22とは異なるX線反射率を有する素材を用いて形成されたものでもよい。
直交較正板23は、計測対象21(あるいは較正板22)と正対させたX線管1および検出器7を、例えば、左右何れかの方向へ回転させたとき、当該X線管1の照射部位ならびに検出器7の検出部位と正対するように設置されている。
即ち、直交較正板23へ照射されたX線の入射角、ならびに直交較正板23に反射した反射波の反射角が、較正板22に対する入射角、反射角とそれぞれ同様な大きさの角度となるように、当該直交較正板23が設置されている。
図3のX線反射型計測装置の計測動作は、図1および図2を用いて説明したX線反射型計測装置と同様に、制御部の制御によって、X線管1および検出器7の向きを制御し(適当な方向を向くように回転させ)、X線管1から計測対象21へX線を照射する。
このX線が計測対象21に反射した反射波を検出器7によって検出し、当該検出器7から出力された反射波を示す信号を制御部が取得する。
また、X線管1および検出器7の向きを制御し(適当な方向を向くように回転させ)、X線管1から較正板22へX線を照射し、このとき較正板22から反射された反射波を検出器7によって検出し、この反射波を示す信号を制御部へ入力する。
また、同様に、X線管1および検出器7の向きを制御し(適当な方向を向くように回転させ)、X線管1から直交較正板23へX線を照射し、このとき直交較正板23から反射された反射波を検出器7によって検出し、この反射波を示す信号を制御部へ入力する。
制御部は、計測対象21からの反射波を示す信号について、較正板22からの反射波を示す信号、および、直交較正板23からの反射波を示す信号を用いた多点較正を施す演算処理を行い、所望の計測値を求める。
なお、X線管1および検出器7を適宜回転させ、計測対象21、較正板22、直交較正板23に対して、それぞれX線を照射する順、また、これらからの反射波を検出する順等は、上記説明の順に限定されない。
(実施例3)
図4は、本発明の実施例3によるX線反射型計測装置の概略構成を示す説明図である。この図は、図1〜図3と同様に、X線反射型計測装置を構成するX線管1および検出器7を、計測対象21の近傍に設置した状態を示したものである。
図4のX線反射型計測装置は、図1に示したX線反射型計測装置の較正板22に替えて、可動較正板24および可動較正板25を備えて構成されたもので、他の部分は、図1に示したものと同様に構成されている。ここでは、図1のX線反射型計測装置と同様に構成された部分の重複説明を省略する。
可動較正板24は、例えば、図1等に示した較正板22と同様に形成されたものである。また、可動較正板25は、板面の形状等は可動較正板24と同様であるが、板厚さを厚く形成したものであり、可動較正板24とは異なるX線反射特性(X線反射率等)を有している
これら可動較正板24,25は、図4に示したように、X線管1および検出器7を介して、計測対象21に対向配置されており、この位置において図示を省略した可動機構部に支持あるいは固定されて、回転移動あるいは平行移動するように設置されている。上記の可動機構部は、前述の制御部から出力される制御信号等によって動作が制御されるように構成されている。
なお、実施例3のX線反射型計測装置に備える可動機構部は、可動較正板24ならびに可動較正板25のそれぞれの板面(表面)が、X線管1のX線照射部位および検出器7のX線検出部位と正対しない状態に、当該可動較正板24ならびに可動較正板25を固定することもできるように構成されている。
制御部は、例えば、計測対象21が、平板状のボード材、また、メンブレン状に形成されたものである場合、計測対象21のX線を反射させる部位の表面形状等に応じて、可動較正板24の位置等を設定し、設定した位置へ可動較正板24が移動するように可動機構部を制御する。
上記の可動較正板24の位置等の設定は、例えば、X線管1から計測対象21に照射されたX線の入射角度、計測対象21の表面から検出器7へ向かう反射波の反射角度等と、可動較正板24への入射角度、可動較正板24からの反射角度等が同様なものとなるように位置等を設定する。
具体的には、例えば、可動較正板22aとX線管1および検出器7との距離、可動較正板22aをX線管1および検出器7と正対する位置から傾けた角度等の設定を行う。
なお、可動較正板24の位置等を複数設定し、各位置等において反射波を検出するようにしてもよい。
制御部は、可動機構部を制御して、計測対象21の表面形状、内部構造などに応じて設定した第1の距離や傾き角度となるように、可動較正板24を移動、ならびに固定する。
次に、可動較正板24を、第1の距離や傾き角度に固定した状態において、X線管1から可動較正板22aへX線を照射させ、また、可動較正板22aからの反射波を検出器7に検出させる。第1の距離や傾き角度において検出された反射波を示す各信号を取得し、例えば制御部自身に備えるメモリ等に記憶させる。その後、可動機構部を制御し、第2の距離や傾き角度に可動較正板24を移動、ならびに固定する。
第2の距離や傾き角度に固定した状態において、X線管1から可動較正板24へX線を照射させ、また、可動較正板24からの反射波を検出器7に検出させる。
第2の距離や傾き角度において検出された反射波を示す信号を取得し、例えばメモリ等に記憶させた後、当該第2の反射波を示す信号と、前述のメモリ等に記憶させた第1の距離や傾き角度に固定した状態において検出された第1の反射波を示す信号とを用いて、計測対象21の計測における演算処理に多点較正を施す。
なお、多点較正を行う場合には、上記の2点較正に限定されず、3点(3種類の距離、傾き角度)以上の較正点を設けて計測値を求めるようにしてもよい。また、後述するように可動較正板25を併用して多点較正を実施するときには、当該可動較正板24によって取得する較正点は1点でもよい。
前述のように可動較正板24からの反射波とともに、可動較正板25からの反射波を用いて多点較正を行う場合には、可動較正板24のように、可動機構部を稼働させて当該可動較正板25を任意の位置に移動ならびに固定し、また、X線管1および検出器7に対して、任意の距離や傾き角度などとなるように固定する。
制御部は、この状態の可動較正板25からの反射波を検出器7に検出させ、このとき検出器7から取得した反射波を示す信号を、前述の可動較正板24からの反射波を示す信号とともに、例えば、メモリ等に記憶させておき、適宜、計測対象21に関する演算処理に用いて多点較正を行う。
図4に例示した可動較正板25は、可動較正板24よりも厚く形成されており、可動較正板25からの反射波を示す信号を、可動較正板24からの反射波を示す信号とともに多点較正に用いると、特に、計測対象21の厚さを求める演算処理の較正(多点較正)に適している。
なお、可動較正板25を、可動較正板24とともに用いる場合には、制御部は、可動較正板25について、X線を反射させる位置等(前述の距離、傾き角度)を1点以上設定し、多点較正に必要な複数の反射波を示す信号を取得する。
(実施例4)
図5は、本発明の実施例4によるX線反射型計測装置の概略構成を示す説明図である。この図は、図1〜4と同様に、X線反射型計測装置を構成するX線管1および検出器7を、計測対象21の近傍に設置した状態を示したものである。
図5のX線反射型計測装置は、図1に示したX線反射型計測装置の較正板22を移動させる移動機構部(図示省略)を備えて構成されたもので、他の部分は、図1に示したものと同様に構成されている。ここでは、図1のX線反射型計測装置と同様に構成された部分の重複説明を省略する。
図5の較正板22を移動させる移動機構部は、外周円12の円状面に対して平行に較正板22を移動させ、また、制御部から出力される制御信号に応じて較正板22を所定量(所定距離)移動させるように構成されている。即ち、X線管1のX線照射部位および検出器7のX線検出部位と正対するように較正板22の向きを固定し、当該X線管1および検出器7の上記各部位から較正板22を離間した距離を変更、調整するように構成されている。
図5のX線反射型計測装置に備えられた制御部は、計測対象21の表面または内部構造に応じて、較正板22とX線管1のX線照射部位および検出器7のX線検出部位との距離を複数設定する。
制御部は、較正板22とX線管1のX線照射部位および検出器7のX線検出部位との距離が、複数設定された距離の中の第1の距離となるように移動機構部を制御し、較正板22を第1の距離に固定して、X線管1から較正板22へX線を照射させ、また、当該較正板22からの反射波を検出器7に検出させる。このとき検出器7から取得した、第1の距離に固定した状態における反射波を示す信号を、例えば、制御部自身に備えるメモリ等に記憶させる。
その後、移動機構部を制御して較正板22を、前述の複数設定した距離の中の、第2の距離へ移動させ、この位置に固定させる。第2の距離に固定した状態において、X線管1から較正板22へX線を照射させ、また、当該較正板22からの反射波を検出器7に検出させる。
制御部は、第2の距離において検出された反射波を示す信号を取得した後、当該反射波を示す信号と、前述のメモリ等に記憶されている第1の距離に固定した状態において検出された反射波を示す信号とを用いて、計測対象21の計測における演算処理に多点較正を施す。
なお、多点較正を行う場合には、上記の2点較正に限定されず、3点(3種類の距離)以上の較正点を設けて計測値を求めるようにしてもよい。
(実施例5)
図6は、本発明の実施例5によるX線反射型計測装置の概略較正を示す説明図である。この図は、図1〜5に示したものと同様に、実施例5のX線反射型計測装置を構成するX線管1(X線照射部)、第一検出器7a(第1検出部)、第二検出器8(第2検出部)を、計測対象21の近傍に設置した状態を示している。
図6のX線反射型計測装置は、外周円12の円状面に沿ってX線管1の両側方にそれぞれ第一検出器7aと第二検出器8とを配置し、これらが一体となって、図示を省略した回転駆動部の駆動によって回転したとき、回転面11が生じるように構成されている。また、他の部分は、図1に示したものと同様に構成されている。
なお、図6に示した第一検出器7a、X線管1、および、第二検出器8を、図3〜図5に示したX線管1および検出器7に替えて、これら各図に示したX線反射型計測装置に備えることも可能である。
図6に示したX線管1は、例えば、同一波長のX線を同様な強度で双方向へ出力するように構成されている。
詳しくは、外周円12の円周上に配置された較正板22または計測対象21に所定の入射角度でX線が入射するように構成されており、なおかつ、較正板22または計測対象21へX線を照射し、双方向の検出器に散乱波が届くように構成されている。
また、図6のX線管1は、較正板22あるいは計測対象21の各部位にX線が反射し、一の反射波(コンプトン散乱の一部分)が第一検出器7aへ入射し、他の反射波(コンプトン散乱の他の一部分)が第二検出器8へ入射するように、双方向へX線を照射するように構成されている。
第一検出器7aおよび第二検出器8を備えたX線反射型計測装置の制御部(図示省略)は、第一検出器7aから出力される一の反射波を示す信号と、第二検出器8から出力される他の反射波を示す信号とを用いて、計測対象21に関する計測値を演算処理によって求める。
詳しくは、当該制御部は、回転機構部を制御して第一検出器7a、X線管1、第二検出器8を回転させ、これらに備えられたX線照射部位やX線検出部位を、例えば計測対象21に正対させる。
この状態で、X線管1からX線を双方向へ散乱するように照射させ、計測対象21の計測部位において、当該X線をそれぞれの方向へ反射させる。
計測対象21の一の部位で反射した一の反射波を、例えば、第一検出器7aで検出し、計測対象21の他の部位で反射した他の反射波を、第二検出器8で検出する。
制御部は、第一検出器7aから出力された一の反射波を示す信号と、第二検出器8から出力された他の反射波を示す信号とを取得し、これらを計測対象21からの反射波を示す信号として、例えば、自身に備えるメモリ等へ記憶させておく。
制御部は、回転駆動部を制御して第一検出器7a、X線管1、第二検出器8を回転させ、これらに備えられたX線照射部位やX線検出部位を、較正板22に正対させる。
この状態で、X線管1からX線を双方向へ照射させ、較正板22の2つの部位において、当該X線をそれぞれ反射させる。
較正板22の一の部位で反射した一の反射波を、例えば、第一検出器7aで検出し、較正板22の他の部位で反射した他の反射波を、第二検出器8で検出する。
なお、計測対象21からの各反射波を検出する順、較正板22からの各反射波を検出する順、さらに計測対象21と較正板22の計測順は、上記説明の順に限定されない。
制御部は、このとき第一検出器7aから出力された、較正板22からの一の反射波を示す信号と、第二検出器8から出力された、較正板22からの他の反射波を示す信号とを取得し、これらを較正板22からの反射波を示す信号として、例えば、自身に備えるメモリ等へ記憶させる。この後、前述のメモリへ記憶させておいた計測対象21からの反射波を示す信号を用いて所望の計測値を求める演算処理を行う。
この演算処理では、計測対象21からの一の反射波を示す信号、および、計測対象21からの他の反射波を示す信号を用いて所望の計測値を求め、また、当該計測値を求めるときには、較正板22からの一の反射波を示す信号、および、較正板22からの他の反射波を示す信号を用いた較正処理が行われる。
(実施例6)
図7は、本発明の実施例6によるX線反射型計測装置の概略構成を示す説明図である。この図7は、図6に例示したX線管1に照射ガイド2を設けた構成例である。照射ガイド2を除く構成は、図6に示したX線反射型計測装置と同様であり、動作も同様なものである。ここでは、図6に示したものと同様な構成ならびに動作の重複説明を省略する。
照射ガイド2には、吸収性あるいは反射性を備えた様々な素材を用いることができ、また、形状についても、所望の照射態様に応じて様々なものを用いることができる。例えば、照射したX線が末広がりに拡大するように、あるいは逆に、絞り込まれて縮小するように形成されたものを用いることができ、また、照射ガイド2に角度をつけて計測対象21へ照射するようにしてもよい。
この照射ガイド2は、図1〜5に示した各X線反射型計測装置においも、各装置のX線管1から出射されるX線を所定方向へ向けるように備えることができる。
以上のように、ここまで説明した実施例1〜6の各X線反射型計測装置は、X線管1から出力するX線の強度を30[keV]以下としたので、原子番号の小さい水素やリチウムなどと、原子番号の大きい物質との間で吸収係数に大きな差が生じ、上記のような原子番号が小さく、吸収係数が小さい物質ではコンプトン散乱が多くなり、他の部分と比較すると後方へのコンプトン散乱も多くなる。そのため、X線の反射波(コンプトン散乱の一部)を検出することにより、計測対象21の厚さ計測を行うことができ、また、計測対象21に含有されている水分を計測することができる。
計測対象21がリチウム等の物質である場合には、当該計測対象21の成分分析を行うことができ、また、リチウム等の物質を、他の物質からなる計測対象21に塗布した場合には塗布量を計測することができる。また、紙やオレフィン系のフィルムなどを高精度で計測することが可能となった。
また、厚さ計測を非接触で行うことができることから、塗装工程の最中において塗料の塗膜厚さを計測することができ、塗膜の積層構造を形成する工程においては、性状の異なる中間層を検出することができる。
また、ボード材などの酸洗工程において板厚管理を行うことも可能になり、制振鋼板を製造する際の中間層の厚さ管理や、塗装鋼板の塗膜厚さ管理などを容易に行うことができる。
また、非接触によって厚さ計測ができることから、例えば、製紙工程のウエットパートのように紙料などの飛散による汚れ付着が生じ易く、計測装置等の設置スペースに制限がある場合でも、シートや板状の厚さ計測を精度良く行うことが可能になる。
また、コンベアなどの搬送装置によって搬送されている最中の砂利、砂、石炭などの粉粒体に含まれている水分を高い精度で計測することも可能になる。
また、スキャナー等と組み合わせて計測を行うように構成すると、非接触の厚さ計測、水分計測、成分分析などを連続して行うことも可能になる。
本発明は、製粉、製茶、化学工業、製紙、紙パルプ、鉄鋼、非鉄などの製造業、建材、コンクリートプラント、土木建築などの建設業、農業などに用いることが可能である。
農業においては、X線の発生源のみを備えた計測装置、または、X線の発生源とγ線の発生源を備えた複合型の計測装置を構成することによって、穀物などの成分分析に用いることができる。
また、製紙、紙パルプ、フィルム材、ボードなどの面を有するものやブロック状に形成されたものについて、含有する水分の計測、これらの厚さ計測、塗布を行った場合の塗布量計測、塗布剤等の成分分析に用いることができる。
また、砂、小麦粉などの粉粒体、茶葉、チップ材、他の木材などに含有される水分計測に用いることができる。
1 X線管
2 照射ガイド
7 検出器
7a 第一検出器
8 第二検出器
11 回転面
12 外周円
13 接線
14 接線
21 計測対象
22 較正板
23 直交較正板
24 可動較正板
25 可動較正板

Claims (7)

  1. X線を照射するX線照射部と、
    X線の反射波を検出し、該反射波を示す信号を出力するX線検出部と、
    前記X線照射部および前記X線検出部を回転させる回転駆動部と、
    前記X線照射部および前記X線検出部に対して、所定の距離に配置され、前記X線照射部から照射されたX線を前記X線検出部へ反射する較正板と、
    前記X線照射部、および、前記回転駆動部の動作を制御するとともに、前記X線検出部が検出した前記反射波を示す信号を取得し、所定演算を行う制御部と、
    を備え、
    前記制御部は、
    前記回転駆動部を制御して、前記X線照射部および前記X線検出部を計測対象へ向け、前記X線照射部から該計測対象に照射したX線の反射波を前記X線検出部に検出させるとともに、
    前記X線照射部および前記X線検出部を前記較正板へ向け、前記X線照射部から該較正板に照射したX線の反射波を前記X線検出部に検出させ、
    前記計測対象からの反射波を示す信号と前記較正板からの反射波を示す信号とを用いて、前記計測対象に関する所定の計測値を演算処理によって求める、
    ことを特徴とするX線反射型計測装置。
  2. 前記較正板は、
    前記X線照射部および前記X線検出部の回転軌跡に沿って配置される第一較正板と、
    前記X線照射部および前記X線検出部の回転軌跡に沿って前記第一較正板から離間して配置され、前記第一較正板とは異なるX線反射率を有する素材によって形成された第二較正板と、
    からなり、
    前記制御部は、
    前記X線検出部から取得した前記第一較正板からの反射波を示す信号および前記第二較正板からの反射波を示す信号を用いた多点較正を、前記計測対象からの反射波を示す信号に関する演算処理に施す、
    ことを特徴とする請求項1に記載のX線反射型計測装置。
  3. 前記制御部の制御に応じて複数の前記較正板を回転移動あるいは平行移動させる可動機構部を備え、
    前記制御部は、
    前記可動機構部を制御して移動させた前記複数の較正板からの反射波を示す信号を前記X線検出部から取得し、前記計測対象からの反射波を示す信号を用いた演算処理について多点較正を行う、
    ことを特徴とする請求項1に記載のX線反射型計測装置。
  4. 前記制御部の制御に応じて前記較正板を移動して、前記X線照射部および前記X線検出部と、前記較正板との距離を変更する移動機構部を備え、
    前記制御部は、
    前記移動機構部を制御して、前記演算処理に適した反射波を示す信号が前記X線検出部から出力されるように、前記X線照射部および前記X線検出部と、前記較正板との距離を調整する、
    ことを特徴とする請求項1に記載のX線反射型計測装置。
  5. 前記X線照射部は、
    30[keV]以下の強度でX線を出力する、
    ことを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載のX線反射型計測装置。
  6. 前記X線検出部は、
    前記X線照射部のX線照射部位の両側方に各々配置される第1検出部および第2検出部を有し、
    前記X線照射部は、
    前記計測対象または前記較正板からの反射波が前記第1検出部および前記第2検出部へ各々入射するように、前記X線を双方向に照射し、
    前記制御部は、
    前記第1検出部から出力される一の反射波を示す信号、および、前記第2検出部から出力される他の反射波を示す信号を用いて前記計測対象に関する計測値を求める、
    ことを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載のX線反射型計測装置。
  7. 前記X線照射部から出射されるX線を所定方向へ向ける照射ガイド部を備えた、
    ことを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載のX線反射型計測装置。
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