JP2511223Y2 - Ｘ線分析用の校正装置 - Google Patents
Ｘ線分析用の校正装置Info
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- JP2511223Y2 JP2511223Y2 JP1991034296U JP3429691U JP2511223Y2 JP 2511223 Y2 JP2511223 Y2 JP 2511223Y2 JP 1991034296 U JP1991034296 U JP 1991034296U JP 3429691 U JP3429691 U JP 3429691U JP 2511223 Y2 JP2511223 Y2 JP 2511223Y2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この考案は、液体、粉体、固体な
どの分析試料からのＸ線強度を校正するＸ線分析用の校
正装置に関するものである。
どの分析試料からのＸ線強度を校正するＸ線分析用の校
正装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】蛍光Ｘ線分析のようなＸ線分析では、分
析装置自体の経時的な変化により生じるＸ線強度の変化
（装置ドリフト）を校正している。一般に、校正は、校
正用試料からの蛍光Ｘ線のＸ線強度を一定時間毎あるい
は随時測定し、このＸ線強度の変化に基づいてなされ
る。
析装置自体の経時的な変化により生じるＸ線強度の変化
（装置ドリフト）を校正している。一般に、校正は、校
正用試料からの蛍光Ｘ線のＸ線強度を一定時間毎あるい
は随時測定し、このＸ線強度の変化に基づいてなされ
る。
【０００３】ここで、安定した物性を有する分析試料を
バッチ的に分析する場合には、分析試料に近似した組成
を有する校正用試料を、一次Ｘ線の照射位置（分析試料
と同じ位置）まで移動させて、校正用試料のＸ線強度の
測定を行う。一方、物性が経時的に変化し易い液体や粉
末のような分析試料では、分析試料に近似した組成の校
正用試料を用いると校正用試料の物性が変化するので、
分析試料とは組成の異なる校正用試料を用いる。たとえ
ば、石油中のイオウ分を分析する場合には、校正用試料
としてイオウの粉末を固化させた校正板を用いる。
バッチ的に分析する場合には、分析試料に近似した組成
を有する校正用試料を、一次Ｘ線の照射位置（分析試料
と同じ位置）まで移動させて、校正用試料のＸ線強度の
測定を行う。一方、物性が経時的に変化し易い液体や粉
末のような分析試料では、分析試料に近似した組成の校
正用試料を用いると校正用試料の物性が変化するので、
分析試料とは組成の異なる校正用試料を用いる。たとえ
ば、石油中のイオウ分を分析する場合には、校正用試料
としてイオウの粉末を固化させた校正板を用いる。
【０００４】また、石油のイオウ分の分析においては、
水素と炭素の成分の比 (C/H 比) で定まる油種の相違に
よって、吸収励起効果つまりマトリクス効果が現れる。
そのため、石油からの散乱Ｘ線も測定して、上記マトリ
クス効果を補正するのであるが、この散乱Ｘ線のＸ線強
度についても別の校正板を用いて校正を行う必要があ
る。この散乱Ｘ線についての校正板としては、散乱Ｘ線
のエネルギとほぼ同一のエネルギの蛍光Ｘ線を発生する
アクリル板を用いる。
水素と炭素の成分の比 (C/H 比) で定まる油種の相違に
よって、吸収励起効果つまりマトリクス効果が現れる。
そのため、石油からの散乱Ｘ線も測定して、上記マトリ
クス効果を補正するのであるが、この散乱Ｘ線のＸ線強
度についても別の校正板を用いて校正を行う必要があ
る。この散乱Ｘ線についての校正板としては、散乱Ｘ線
のエネルギとほぼ同一のエネルギの蛍光Ｘ線を発生する
アクリル板を用いる。
【０００５】
【考案が解決しようとする課題】従来は、これらの校正
板を分析装置に固定して、Ｘ線源を移動させて、一次Ｘ
線を分析試料と校正板とに照射したり、あるいは、校正
板を校正の都度、測定装置に人手によって、セットして
いた。前者のようにＸ線源を移動させるのは、装置の構
造を複雑にする。また、後者では、校正を自動化するこ
とができない。そこで、校正板を分析試料からＸ線検出
器に入射するＸ線の経路に対し、進入退避自在に設ける
ことが考えられる。
板を分析装置に固定して、Ｘ線源を移動させて、一次Ｘ
線を分析試料と校正板とに照射したり、あるいは、校正
板を校正の都度、測定装置に人手によって、セットして
いた。前者のようにＸ線源を移動させるのは、装置の構
造を複雑にする。また、後者では、校正を自動化するこ
とができない。そこで、校正板を分析試料からＸ線検出
器に入射するＸ線の経路に対し、進入退避自在に設ける
ことが考えられる。
【０００６】しかし、上記イオウの粉末を固化した校正
板や、アクリルからなる校正板は、機械的性質が弱いた
め、その板厚を５mm程度の厚いものとする必要がある。
ここで、板厚が厚い校正板を、石油（分析試料）とＸ線
検出器との間に挿入すると、Ｘ線源から分析試料（石
油）までの距離や、分析試料からＸ線検出器までの距離
が大きくなるから、検出される蛍光Ｘ線や散乱Ｘ線の強
度が小さくなる。そのため、分析精度が低下する原因と
なる。この考案は上記問題に鑑みてなされたもので、分
析装置を簡易な構造にでき、かつ、分析の自動化ができ
校正板を薄くして、分析精度の向上を図りうるＸ線分析
用の校正装置を提供することを目的とする。
板や、アクリルからなる校正板は、機械的性質が弱いた
め、その板厚を５mm程度の厚いものとする必要がある。
ここで、板厚が厚い校正板を、石油（分析試料）とＸ線
検出器との間に挿入すると、Ｘ線源から分析試料（石
油）までの距離や、分析試料からＸ線検出器までの距離
が大きくなるから、検出される蛍光Ｘ線や散乱Ｘ線の強
度が小さくなる。そのため、分析精度が低下する原因と
なる。この考案は上記問題に鑑みてなされたもので、分
析装置を簡易な構造にでき、かつ、分析の自動化ができ
校正板を薄くして、分析精度の向上を図りうるＸ線分析
用の校正装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この考案は、第１および第２校正板のうち少なくと
もいずれか一方を、分析試料と、分析試料にＸ線を照射
するＸ線源および分析試料からの蛍光Ｘ線を検出する検
出器との間のＸ線の経路に対して進入退避自在に設けて
いる。第１校正板は非金属の上記分析試料と異種の金属
であって、分析試料からの蛍光Ｘ線のエネルギとほぼ同
一のエネルギの蛍光Ｘ線を発生する金属を含む第１材料
からなる。第２校正板は、上記分析試料からの散乱Ｘ線
のエネルギとほぼ同一のエネルギの蛍光Ｘ線を発生する
金属を含む第２材料からなる。
に、この考案は、第１および第２校正板のうち少なくと
もいずれか一方を、分析試料と、分析試料にＸ線を照射
するＸ線源および分析試料からの蛍光Ｘ線を検出する検
出器との間のＸ線の経路に対して進入退避自在に設けて
いる。第１校正板は非金属の上記分析試料と異種の金属
であって、分析試料からの蛍光Ｘ線のエネルギとほぼ同
一のエネルギの蛍光Ｘ線を発生する金属を含む第１材料
からなる。第２校正板は、上記分析試料からの散乱Ｘ線
のエネルギとほぼ同一のエネルギの蛍光Ｘ線を発生する
金属を含む第２材料からなる。
【０００８】
【作用】この考案によれば、分析試料と、分析試料にＸ
線を照射するＸ線源および分析試料からの蛍光Ｘ線を検
出する検出器との間のＸ線の経路に対して校正板を進入
退避自在に設けているので、分析試料を移動させなくと
も校正が可能になる。また、Ｘ線源を移動させて照射位
置を変化させる必要がなく、かつ校正を自動化すること
ができる。また、第１および第２校正板は、それぞれ、
金属からなる第１および第２材料により構成されている
ので、強度が大きいため、その板厚を薄くすることがで
きる。
線を照射するＸ線源および分析試料からの蛍光Ｘ線を検
出する検出器との間のＸ線の経路に対して校正板を進入
退避自在に設けているので、分析試料を移動させなくと
も校正が可能になる。また、Ｘ線源を移動させて照射位
置を変化させる必要がなく、かつ校正を自動化すること
ができる。また、第１および第２校正板は、それぞれ、
金属からなる第１および第２材料により構成されている
ので、強度が大きいため、その板厚を薄くすることがで
きる。
【０００９】
【実施例】以下、この考案の一実施例を図１ないし図３
にしたがって説明する。図１において、石油のような液
体からなる分析試料10は、流路11内を流れる。流路11の
側面には、開口部12が形成されており、この開口部12に
は、この開口部12に向かって開口する照射室20が臨んで
いる。この照射室20と流路11との間には、ベリリウム箔
21が介挿されて、上記照射室20内と流路11とが区画され
ている。ベリリウム箔21は、挟持板22とマニホールド26
との間に挟持されている。上記照射室20内には、分析試
料10に一次Ｘ線B1を照射するＸ線源であるＸ線管23と、
分析試料10からの蛍光Ｘ線や散乱Ｘ線などのＸ線B2をベ
リリウム箔21を通して検出するＸ線検出器24と、検出し
たＸ線B2を分析する分析器25とが収納されている。
にしたがって説明する。図１において、石油のような液
体からなる分析試料10は、流路11内を流れる。流路11の
側面には、開口部12が形成されており、この開口部12に
は、この開口部12に向かって開口する照射室20が臨んで
いる。この照射室20と流路11との間には、ベリリウム箔
21が介挿されて、上記照射室20内と流路11とが区画され
ている。ベリリウム箔21は、挟持板22とマニホールド26
との間に挟持されている。上記照射室20内には、分析試
料10に一次Ｘ線B1を照射するＸ線源であるＸ線管23と、
分析試料10からの蛍光Ｘ線や散乱Ｘ線などのＸ線B2をベ
リリウム箔21を通して検出するＸ線検出器24と、検出し
たＸ線B2を分析する分析器25とが収納されている。
【００１０】上記照射室20における挟持板22の近傍に
は、第１および第２校正板31, 32を収納する収納用隙間
30が設けられている。上記両校正板31, 32は、後述する
ように、分析試料10と、分析試料10に一次Ｘ線B1を照射
するＸ線管23および分析試料10からの蛍光Ｘ線B2を検出
する検出器24との間のＸ線B2の経路に対して進入退避自
在に設けられており、所定のタイミングでＸ線B2の経路
に挿入される。
は、第１および第２校正板31, 32を収納する収納用隙間
30が設けられている。上記両校正板31, 32は、後述する
ように、分析試料10と、分析試料10に一次Ｘ線B1を照射
するＸ線管23および分析試料10からの蛍光Ｘ線B2を検出
する検出器24との間のＸ線B2の経路に対して進入退避自
在に設けられており、所定のタイミングでＸ線B2の経路
に挿入される。
【００１１】上記第１校正板31は、分析試料10と異種の
金属であって、図２に示すように、分析試料10からの蛍
光Ｘ線S-KXのエネルギE1とほぼ同一のエネルギの蛍光Ｘ
線Mo-LX を発生する金属を含んでおり、この実施例の場
合、モリブデンMoの薄板( 50μｍ) の表面にポリエステ
ルの薄膜を形成した第１材料からなる。上記第２校正板
32( 図１）は、分析試料10からの散乱Ｘ線Xcのエネルギ
E2とほぼ同一のエネルギの蛍光Ｘ線Ti-KX を発生する金
属を含んでおり、この実施例の場合、チタンTiの薄板
（５０μｍ) の表面にポリエステルの薄膜を形成した第
２材料からなる。
金属であって、図２に示すように、分析試料10からの蛍
光Ｘ線S-KXのエネルギE1とほぼ同一のエネルギの蛍光Ｘ
線Mo-LX を発生する金属を含んでおり、この実施例の場
合、モリブデンMoの薄板( 50μｍ) の表面にポリエステ
ルの薄膜を形成した第１材料からなる。上記第２校正板
32( 図１）は、分析試料10からの散乱Ｘ線Xcのエネルギ
E2とほぼ同一のエネルギの蛍光Ｘ線Ti-KX を発生する金
属を含んでおり、この実施例の場合、チタンTiの薄板
（５０μｍ) の表面にポリエステルの薄膜を形成した第
２材料からなる。
【００１２】図３は、両校正板31, 32の駆動装置を示
す。図3(a)において、両校正板31, 32は、それぞれ、ホ
ルダ33の表面に貼り着けられている。上記ホルダ33は、
回転軸35を介して、レバー36と一体的に回転する。上記
両校正板31, 32は、レバー36が引張コイルばね37により
矢印A1, A2方向に付勢されていることで、常時は、この
図3(a)に示すように、非照射位置P1に保持されている。
上記レバー36のカム面38は、矢印A3,A4 方向に回転する
一対の駆動ピン39または40に接触しており、駆動ピン3
9,40 がほぼ1/2 回転することにより、図3(b)のよう
に、両校正板31, 32が照射位置P2に、つまりＸ線B2の経
路に交互に進入する。上記各一組の駆動ピン39および40
は、互いに噛み合う歯車39a,40a に一体に突設されてお
り、駆動歯車41を介して、１つのモータ( 図示せず) に
より同期して回転駆動される。なお、上記両校正板31,
32は、駆動ピン39,40 が矢印A5,A6 方向に回転すること
で図3(a)の非照射位置P1に復帰する。
す。図3(a)において、両校正板31, 32は、それぞれ、ホ
ルダ33の表面に貼り着けられている。上記ホルダ33は、
回転軸35を介して、レバー36と一体的に回転する。上記
両校正板31, 32は、レバー36が引張コイルばね37により
矢印A1, A2方向に付勢されていることで、常時は、この
図3(a)に示すように、非照射位置P1に保持されている。
上記レバー36のカム面38は、矢印A3,A4 方向に回転する
一対の駆動ピン39または40に接触しており、駆動ピン3
9,40 がほぼ1/2 回転することにより、図3(b)のよう
に、両校正板31, 32が照射位置P2に、つまりＸ線B2の経
路に交互に進入する。上記各一組の駆動ピン39および40
は、互いに噛み合う歯車39a,40a に一体に突設されてお
り、駆動歯車41を介して、１つのモータ( 図示せず) に
より同期して回転駆動される。なお、上記両校正板31,
32は、駆動ピン39,40 が矢印A5,A6 方向に回転すること
で図3(a)の非照射位置P1に復帰する。
【００１３】つぎに、校正方法について説明する。予
め、図１の両校正板31, 32を照射位置P2まで交互に移動
させて、両校正板31, 32に一次Ｘ線B1を照射して、その
蛍光Ｘ線の基準強度ＩS 01, ＩS 02および散乱Ｘ線の基
準強度ＩC 01，ＩC 02を測定する。ついで、当日の分析
試料10の分析前に両校正板31, 32に一次Ｘ線B1を照射し
て蛍光Ｘ線の測定強度ＩS 11, ＩS 12および散乱Ｘ線の
測定強度ＩC 11，ＩC 12を測定する。この測定強度ＩS
11,ＩS 12, ＩC 11, ＩC 12と基準強度I01,I02,
ＩC 01，ＩC 02から、下記の(1),(2),(3),(4) 式により
分析装置のドリフト補正係数αS ，βS ，αC ，βC を
求める。 αS = ( ＩS 01 -ＩS 02）／ (ＩS 11 -ＩS 12) ……(1) βS = ＩS 01 -ＩS 11・αS ……(2) αC = ( ＩC 01 -ＩC 02) ／ (ＩC 11 -ＩC 12) ……(3) βC = ＩC 01 -ＩC 11・αC ……(4)
め、図１の両校正板31, 32を照射位置P2まで交互に移動
させて、両校正板31, 32に一次Ｘ線B1を照射して、その
蛍光Ｘ線の基準強度ＩS 01, ＩS 02および散乱Ｘ線の基
準強度ＩC 01，ＩC 02を測定する。ついで、当日の分析
試料10の分析前に両校正板31, 32に一次Ｘ線B1を照射し
て蛍光Ｘ線の測定強度ＩS 11, ＩS 12および散乱Ｘ線の
測定強度ＩC 11，ＩC 12を測定する。この測定強度ＩS
11,ＩS 12, ＩC 11, ＩC 12と基準強度I01,I02,
ＩC 01，ＩC 02から、下記の(1),(2),(3),(4) 式により
分析装置のドリフト補正係数αS ，βS ，αC ，βC を
求める。 αS = ( ＩS 01 -ＩS 02）／ (ＩS 11 -ＩS 12) ……(1) βS = ＩS 01 -ＩS 11・αS ……(2) αC = ( ＩC 01 -ＩC 02) ／ (ＩC 11 -ＩC 12) ……(3) βC = ＩC 01 -ＩC 11・αC ……(4)
【００１４】この後、分析試料10に一次Ｘ線B1を照射し
て、イオウの蛍光Ｘ線および散乱Ｘ線のＸ線強度 IS1,I
C1を測定する。ここで、上記第１校正板31は、図２に示
すように、分析試料10からのイオウの蛍光Ｘ線S-KXとほ
ぼ同一のエネルギE1の蛍光Ｘ線Mo-LX を発生し、一方、
第２校正板32( 図１）は、分析試料10からの散乱Ｘ線Xc
とほぼ同一のエネルギE2の蛍光Ｘ線Ti-KX を発生する。
したがって、上記Ｘ線強度 IS1,IC1を下記の(5),(6) 式
に基づいて校正することで校正強度ＩS , ＩCを求め
る。 ＩS = αS ・ＩS1 +βS ……(5) ＩC = αC ・ＩC1 +βC ……(6) これにより、装置ドリフトや照射室20( 図１）内の温度
および圧力の変化による減衰率の変化を校正することが
できる。上記両校正強度ＩS , ＩC は、それぞれ、イオ
ウの含有率とＣ／Ｈ比を変数とする関数で表されるか
ら、２つの連立方程式を立てて、これを解くことによっ
て、イオウの含有率を求めることができる。
て、イオウの蛍光Ｘ線および散乱Ｘ線のＸ線強度 IS1,I
C1を測定する。ここで、上記第１校正板31は、図２に示
すように、分析試料10からのイオウの蛍光Ｘ線S-KXとほ
ぼ同一のエネルギE1の蛍光Ｘ線Mo-LX を発生し、一方、
第２校正板32( 図１）は、分析試料10からの散乱Ｘ線Xc
とほぼ同一のエネルギE2の蛍光Ｘ線Ti-KX を発生する。
したがって、上記Ｘ線強度 IS1,IC1を下記の(5),(6) 式
に基づいて校正することで校正強度ＩS , ＩCを求め
る。 ＩS = αS ・ＩS1 +βS ……(5) ＩC = αC ・ＩC1 +βC ……(6) これにより、装置ドリフトや照射室20( 図１）内の温度
および圧力の変化による減衰率の変化を校正することが
できる。上記両校正強度ＩS , ＩC は、それぞれ、イオ
ウの含有率とＣ／Ｈ比を変数とする関数で表されるか
ら、２つの連立方程式を立てて、これを解くことによっ
て、イオウの含有率を求めることができる。
【００１５】上記構成においては、図１の両校正板31,
32を分析試料10と、分析試料10に一次Ｘ線B1を照射する
Ｘ線管23および分析試料10からの蛍光Ｘ線B2を検出する
検出器24との間のＸ線B2の経路に対して進入退避自在に
設けているので、分析試料10を系外に移動させなくとも
校正が可能になる。したがって、流体試料のように分析
試料10を移動させることや、遮断することが困難な場合
にも本装置を用いることができる。また、Ｘ線管23を移
動させる必要がない。したがって、構造が簡単になり、
かつ、校正を自動化することができる。
32を分析試料10と、分析試料10に一次Ｘ線B1を照射する
Ｘ線管23および分析試料10からの蛍光Ｘ線B2を検出する
検出器24との間のＸ線B2の経路に対して進入退避自在に
設けているので、分析試料10を系外に移動させなくとも
校正が可能になる。したがって、流体試料のように分析
試料10を移動させることや、遮断することが困難な場合
にも本装置を用いることができる。また、Ｘ線管23を移
動させる必要がない。したがって、構造が簡単になり、
かつ、校正を自動化することができる。
【００１６】また、両校正板31, 32はモリブデンMoやチ
タンTiのような金属で形成されているので、イオウの粉
末を固化したものやアクリルなどと異なり、強度が大き
いから、両校正板31, 32の板厚を薄くすることができ
る。したがって、両校正板31,32を収納する収納用隙間3
0を狭くすることができるから、分析試料10とＸ線管23
およびＸ線検出器24との距離を短くすることができる。
その結果、分析試料10からのＸ線B2のＸ線強度が大きく
なるから、分析精度が向上する。
タンTiのような金属で形成されているので、イオウの粉
末を固化したものやアクリルなどと異なり、強度が大き
いから、両校正板31, 32の板厚を薄くすることができ
る。したがって、両校正板31,32を収納する収納用隙間3
0を狭くすることができるから、分析試料10とＸ線管23
およびＸ線検出器24との距離を短くすることができる。
その結果、分析試料10からのＸ線B2のＸ線強度が大きく
なるから、分析精度が向上する。
【００１７】なお、上記実施例では、分析試料10が石油
である場合について説明したが、分析試料10は石油以外
の液体、粉体、固体であってもよい。
である場合について説明したが、分析試料10は石油以外
の液体、粉体、固体であってもよい。
【００１８】また、上記実施例では、石油中のイオウの
含有率が全く未知であるとして、この含有率を求めた
が、イオウのおよその含有率が既知である場合には、イ
オウの含有率の大小によっては、両校正板31, 32のいず
れか一方のみを備えていればよい。たとえば、イオウの
含有率が大きい場合は、蛍光Ｘ線S-KXのＸ線強度 IS1が
大きいので、第２校正板32を用いる必要はなく、第１校
正板31のみを用いる。この場合は、第１校正板31の基準
強度ＩS 01，ＩC 01と測定強度ＩS 11，ＩC 11からドリ
フト補正係数αS = ＩS 01／ＩS 11およびαC = ＩC 01
／ＩC 11を求め、分析試料10からの蛍光Ｘ線S-KXのＸ線
強度 IS1にドリフト補正係数αS を乗算して、校正強度
IS = αS ・ IS1を求め、散乱Ｘ線ＸC のＸ線強度ＩC1
にドリフト補正係数αC を乗算して、校正強度I C = α
C ・ IC1を求めて装置ドリフトを修正する。一方、イオ
ウの含有率が小さい場合は、散乱Ｘ線XcのＸ線強度が大
きいので、第２の校正板32のみを用いて同様に装置ドリ
フトを修正する。
含有率が全く未知であるとして、この含有率を求めた
が、イオウのおよその含有率が既知である場合には、イ
オウの含有率の大小によっては、両校正板31, 32のいず
れか一方のみを備えていればよい。たとえば、イオウの
含有率が大きい場合は、蛍光Ｘ線S-KXのＸ線強度 IS1が
大きいので、第２校正板32を用いる必要はなく、第１校
正板31のみを用いる。この場合は、第１校正板31の基準
強度ＩS 01，ＩC 01と測定強度ＩS 11，ＩC 11からドリ
フト補正係数αS = ＩS 01／ＩS 11およびαC = ＩC 01
／ＩC 11を求め、分析試料10からの蛍光Ｘ線S-KXのＸ線
強度 IS1にドリフト補正係数αS を乗算して、校正強度
IS = αS ・ IS1を求め、散乱Ｘ線ＸC のＸ線強度ＩC1
にドリフト補正係数αC を乗算して、校正強度I C = α
C ・ IC1を求めて装置ドリフトを修正する。一方、イオ
ウの含有率が小さい場合は、散乱Ｘ線XcのＸ線強度が大
きいので、第２の校正板32のみを用いて同様に装置ドリ
フトを修正する。
【００１９】ところで、上記実施例では、図３の両校正
板31,32 をそれぞれ別のホルダ33に固着して設けたが、
両校正板31,32 を同一のホルダに固着してもよい。ま
た、上記実施例では両校正板31,32 を揺動させて、照射
位置P2に移動させたが、両校正板31,32 を直線的にスラ
イド移動させてもよい。
板31,32 をそれぞれ別のホルダ33に固着して設けたが、
両校正板31,32 を同一のホルダに固着してもよい。ま
た、上記実施例では両校正板31,32 を揺動させて、照射
位置P2に移動させたが、両校正板31,32 を直線的にスラ
イド移動させてもよい。
【００２０】
【考案の効果】以上説明したように、この考案によれ
ば、分析試料と、分析試料にＸ線を照射するＸ線源およ
び分析試料からの蛍光Ｘ線を検出する検出器との間のＸ
線の経路に校正板を進入退避自在に設けたので、Ｘ線源
を移動させて一次Ｘ線の照射位置を変えたり、分析試料
を移動させる必要がなくなる。このため、分析装置の構
造が簡易になり、かつ、流体試料の連続測定であって
も、流れを遮断せずに校正できる。また、非金属の分析
試料と異種の金属であって、分析試料からの蛍光Ｘ線ま
たは散乱Ｘ線のエネルギとほぼ同一のエネルギの蛍光Ｘ
線を発生する校正板が金属を含む材料で形成されている
から、非金属の校正板よりも、強度が大きいので、校正
板の板厚を薄くすることができる。したがって、分析試
料とＸ線源およびＸ線検出器との距離を短くすることが
できるから、検出されるＸ線強度が大きくなって、分析
精度が向上する。
ば、分析試料と、分析試料にＸ線を照射するＸ線源およ
び分析試料からの蛍光Ｘ線を検出する検出器との間のＸ
線の経路に校正板を進入退避自在に設けたので、Ｘ線源
を移動させて一次Ｘ線の照射位置を変えたり、分析試料
を移動させる必要がなくなる。このため、分析装置の構
造が簡易になり、かつ、流体試料の連続測定であって
も、流れを遮断せずに校正できる。また、非金属の分析
試料と異種の金属であって、分析試料からの蛍光Ｘ線ま
たは散乱Ｘ線のエネルギとほぼ同一のエネルギの蛍光Ｘ
線を発生する校正板が金属を含む材料で形成されている
から、非金属の校正板よりも、強度が大きいので、校正
板の板厚を薄くすることができる。したがって、分析試
料とＸ線源およびＸ線検出器との距離を短くすることが
できるから、検出されるＸ線強度が大きくなって、分析
精度が向上する。
【図１】この考案の一実施例にかかる蛍光Ｘ線分析装置
の断面図である。
の断面図である。
【図２】Ｘ線の特性図である。
【図３】校正板およびその駆動装置の動作を示す平面図
である。
である。
10…分析試料、23…Ｘ線源、24…Ｘ線検出器、31…第１
校正板、32…第２校正板、B2…Ｘ線。
校正板、32…第２校正板、B2…Ｘ線。
フロントページの続き (72)考案者 小倉 啓助 大阪府高槻市赤大路町14番８号 理学電 機工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭57−142549（ＪＰ，Ａ) 実開 昭58−26656（ＪＰ，Ｕ)
Claims (1)
- 【請求項１】 分析試料からのＸ線強度を校正するＸ線
分析用の校正装置であって、 上記分析試料と、分析試料にＸ線を照射するＸ線源およ
び分析試料からの蛍光Ｘ線を検出する検出器との間のＸ
線の経路に対して進入退避自在に校正板を設け、上記校正板は、 非金属の上記分析試料と異種の金属であ
って、上記分析試料からの蛍光Ｘ線のエネルギとほぼ同
一のエネルギの蛍光Ｘ線を発生する金属を含む第１材料
からなる第１校正板と、上記分析試料からの散乱Ｘ線の
エネルギとほぼ同一のエネルギの蛍光Ｘ線を発生する金
属を含む第２材料からなる第２校正板のうちの少なくと
も一方の校正板からなるＸ線分析用の校正装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991034296U JP2511223Y2 (ja) | 1991-04-15 | 1991-04-15 | Ｘ線分析用の校正装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991034296U JP2511223Y2 (ja) | 1991-04-15 | 1991-04-15 | Ｘ線分析用の校正装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04120365U JPH04120365U (ja) | 1992-10-28 |
| JP2511223Y2 true JP2511223Y2 (ja) | 1996-09-25 |
Family
ID=31916751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1991034296U Expired - Fee Related JP2511223Y2 (ja) | 1991-04-15 | 1991-04-15 | Ｘ線分析用の校正装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2511223Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016004033A (ja) * | 2014-06-13 | 2016-01-12 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 蛍光ｘ線分析装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7004303B2 (ja) * | 2018-03-15 | 2022-01-21 | 株式会社アースニクスエム | Ｘ線反射型計測装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57142549A (en) * | 1981-02-27 | 1982-09-03 | Sumitomo Metal Ind Ltd | Analyzer |
| JPS5826656U (ja) * | 1981-08-12 | 1983-02-21 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 多元素同時分析装置に於る試料装置 |
-
1991
- 1991-04-15 JP JP1991034296U patent/JP2511223Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016004033A (ja) * | 2014-06-13 | 2016-01-12 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 蛍光ｘ線分析装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04120365U (ja) | 1992-10-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |