JP2019155906A - 貼り合わせ基板、液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置、貼り合わせ基板の製造方法、及び、基板 - Google Patents
貼り合わせ基板、液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置、貼り合わせ基板の製造方法、及び、基板 Download PDFInfo
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Abstract
Description
図1は、本実施形態の液体吐出ヘッドの内部構成を示す部分破断した斜視図である。
図2は、液体吐出ヘッドを構成するアクチュエータ基板の上面図である。
図3は、図2中A−A’における液体吐出ヘッドの断面図である。
図4は、図2中C−C’における液体吐出ヘッドの断面図である。
なお、図2では、説明のため、アクチュエータ基板上に接着される保持基板200が取り除かれた状態になっている。
図6〜図8は、本実施形態の液体吐出ヘッドの製造工程を説明するため、ノズル孔の並び方向に対して直交する断面を示す断面図である。
駆動IC120と引き出し配線108の端部に形成されている個別電極パッド107との接続部は、曲げや衝撃などの外力が加わると、駆動IC120と個別電極パッド107との接続が外れやすい。また、熱応力により、駆動IC120と個別電極パッド107との接続が外れるおそれもある。また、温度や湿度変化により、駆動IC120と個別電極パッド107との接続部に水分が付着して、接続部が腐食するおそれもある。そのため、駆動IC120と個別電極パッド107との接続部は、封止剤で封止、補強する必要がある。
図11は、アクチュエータ基板100が形成される第一基板100’を模式的に示す平面図である。
図12は、第一基板100’上に形成される1つのアクチュエータ基板100を拡大して模式的に示した平面図である。
図13は、保持基板200が形成される第二基板200’を模式的に示す平面図である。
図14は、第二基板200’上に形成される1つの保持基板200を拡大して模式的に示した平面図である。
図16は、図15の符号A−A’の断面図である。
接着状態確認用構造体115は、第一基板100’の下地上に4種類の膜をフォトリソグラフィ法によって個別に加工し、互いに高さの異なる4つの面部115a,115b,115c,115dを形成したものである。本実施形態では、第一面部115aの高さが4μmであり、第二面部115bの高さが1μmであり、第三面部115cの高さが3μmである。また、第三面部115cの高さよりも低く、第二面部115bの高さよりも高い他の面部として、第四面部115dも設けられている。この第四面部115dの高さは2μmである。
図18は、図17の符号B−B’の断面図である。
本実施形態における第二基板200’の対向面部204は、接着剤114により、第一基板100’の接着状態確認用構造体115上の各面部115a〜115dと貼り合わさせられる対向面部分(幅広部204a〜204d)が同じ高さの平面で構成されている。また、本実施形態においては、この対向面部分(幅広部204a〜204d)の周囲の少なくとも一部が、当該対向面部分(幅広部204a〜204d)よりも高さの低い部分(凹部204f)となっている。更に、本実施形態においては、各幅広部204a〜204dの間、並びに、第一幅広部204aと貼り合わせ面部204eとの間及び第二幅広部204bと貼り合わせ面部204eとの間には、連結部(狭窄部204g)を設けている。このような対向面部204の加工は、フォトリソグラフィ法によって行われたものである。
図20は、図19の符号C−C’の断面図である。
対向面部204に付与された接着剤の図19中符号C−C’の方向における厚みムラを、例えば段差計を用いて測定する場合、接着剤114の厚み基準となる基準面Tを得る必要がある。そのため、接着剤114を塗布する前に、図19に示すように、幅広部204a〜204dと狭窄部204gの同一線上(図19中符号C−C’の方向)の貼り合わせ面部204e上に、予めテープ205を貼付しておく。これにより、接着剤114を付与した後にテープ205を剥がすことで、テープ205が貼付されていた箇所に、接着剤114が付与される前の貼り合わせ面部204eを得ることができ、これを接着剤の厚み測定の基準面とすることができる。
本実施形態の第二基板200’は、上述したようにシリコン基板であり、赤外光を透過する光透過性を有するものである。そのため、IR顕微鏡500を用いて第二基板200’越しに、接着状態確認用構造体115を観察し、互いに高さの異なる4つの面部115a〜115dのうち、どの高さの面部まで接着剤が接触しているかを確認することができる。すなわち、どの高さの面部まで接着剤が接触しているかを確認することで、接着状態の適否(接着状態が過多状態であるか、接着状態が不足状態であるか、接着状態が適切な状態であるか)を把握することができる。
同様に、アクチュエータ基板100−3について見ると、接着不足検査用面部である第三面部115cには接着剤114が接触しており、接着過多検査用面部である第二面部115bには付着していないので、接着状態が不足でも過多でもないので、良好な状態といえる。
一方、アクチュエータ基板100−4について見ると、接着過多検査用面部である第二面部115bには付着しているので、接着状態が過多状態になっている。したがって、このアクチュエータ基板100−4と保持基板200とからなる電気機械変換基板については外観検査で不良にする必要がある。
図27は、図26の例における接着状態確認用構造体115の平面図である。
[第1態様]
第1態様は、第一基板100’と第二基板200’とを、該第二基板側に付与された接着剤114で貼り合わせた貼り合わせ基板であって、前記第一基板は、前記第二基板との対向面に、該第二基板に付与された接着剤によって接着される接着面部よりも高さの低い接着不足検査用面部(例えば第三面部115c)を備えた接着状態確認用構造体115を有し、前記接着不足検査用面部の高さは、前記接着面部の接着剤による接着状態が不足状態であるときには前記第二基板に付与された接着剤が接触せず、該接着状態が不足状態でないときには前記第二基板に付与された接着剤が接触する高さに設定されていることを特徴とするものである。
本態様によれば、第一基板の接着面部の接着剤による接着状態が不足状態であるときには第二基板に付与された接着剤が接触せず、該接着状態が不足状態でないときには第二基板に付与された接着剤が接触する高さに設定された接着不足検査用面部を備えた接着状態確認用構造体が、第一基板に設けられている。これにより、例えば、第二基板に付与された接着剤が接着不足検査用面部に接触しないことを確認することで、接着剤による接着状態が不足状態であることを把握することができる。よって、本態様によれば、第一基板と第二基板とを貼り合わせた後に、第一基板と第二基板との接着状態が不足状態であるか否かを確認することができる。
第2態様は、第1態様において、前記接着状態確認用構造体は、前記第二基板に付与された接着剤によって接着される接着面部よりも高さの低い接着過多検査用面部(例えば第二面部115b)を備え、前記接着過多検査用面部の高さは、前記接着面部の接着剤による接着状態が過多状態であるときには前記第二基板に付与された接着剤が接触し、該接着状態が過多状態でないときには前記第二基板に付与された接着剤が接触しない高さに設定されていることを特徴とするものである。
本態様によれば、第一基板の接着面部の接着剤による接着状態が過多状態であるときには第二基板に付与された接着剤が接触し、該接着状態が過多状態でないときには第二基板に付与された接着剤が接触しない高さに設定された接着過多検査用面部を備えた接着状態確認用構造体が、第一基板に設けられている。これにより、例えば、第二基板に付与されている接着剤が、接着過多検査用面部に接触していることを確認することで、接着剤による接着状態が過多状態であることを把握することができる。よって、本態様によれば、第一基板と第二基板とを貼り合わせた後に、第一基板と第二基板との接着状態が過多状態であるか否かを確認することができる。
第3態様は、第2態様において、前記接着状態確認用構造体は、前記接着不足検査用面部の高さよりも低く、前記接着過多検査用面部の高さよりも高い他の面部(例えば第四面部115d)を備えることを特徴とするものである。
本態様によれば、接着状態をより細かく把握することができる。
第4態様は、第一基板100’と第二基板200’とを、該第二基板側に付与された接着剤114で貼り合わせた貼り合わせ基板であって、前記第一基板は、前記第二基板との対向面に、該第二基板に付与された接着剤によって接着される接着面部よりも高さの低い接着過多検査用面部(例えば第二面部115b)を備えた接着状態確認用構造体115を有し、前記接着過多検査用面部の高さは、前記接着面部の接着剤による接着状態が過多状態であるときには前記第二基板に付与された接着剤が接触し、該接着状態が過多状態でないときには前記第二基板に付与された接着剤が接触しない高さに設定されていることを特徴とするものである。
本態様によれば、第一基板の接着面部の接着剤による接着状態が過多状態であるときには第二基板に付与された接着剤が接触し、該接着状態が過多状態でないときには第二基板に付与された接着剤が接触しない高さに設定された接着過多検査用面部を備えた接着状態確認用構造体が、第一基板に設けられている。これにより、例えば、第二基板に付与されている接着剤が、接着過多検査用面部に接触していることを確認することで、接着剤による接着状態が過多状態であることを把握することができる。よって、本態様によれば、第一基板と第二基板とを貼り合わせた後に、第一基板と第二基板との接着状態が過多状態であるか否かを確認することができる。
第5態様は、第1乃至第4態様において、前記第二基板は、前記第一基板の前記接着状態確認用構造体における前記接着不足検査用面部又は前記接着過多検査用面部と対向する対向面部分(例えば幅広部204a〜204d)が、前記接着面部と同じ高さの面であることを特徴とするものである。
これによれば、接着状態をより簡単に把握することができる。
第6態様は、第1乃至第5態様のいずれかにおいて、前記第二基板は、少なくとも前記第一基板の前記接着状態確認用構造体における前記接着不足検査用面部又は前記接着過多検査用面部と対向する対向面部分が光透過性を有するものであることを特徴とするものである。
これによれば、光学測定器によって、第二基板越しに、接着状態確認用構造体115の各面部のどれに接着剤が接触しているかを確認することができる。
第7態様は、第6態様において、前記対向面部分は、赤外光を透過するものであることを特徴とするものである。
これによれば、IR顕微鏡などの赤外線を用いた光学測定器によって、第二基板越しに、接着状態確認用構造体115の各面部のどれに接着剤が接触しているかを確認することができる。
第8態様は、第1乃至第7態様のいずれかにおいて、前記第一基板は、基板面上に複数層からなる複数層構造体を有し、前記接着状態確認用構造体の前記接着不足検査用面部又は前記接着過多検査用面部は、前記複数層構造体の層構造から一部又は全部の層を除外した層構造であることを特徴とするものである。
これによれば、接着状態確認用構造体115を、基板面上に形成される複数層構造体と一緒に作成することができ、工程数を増やすことなく、接着状態確認用構造体115を作成できる。
第9態様は、第1乃至第8態様のいずれかにおいて、前記第二基板は、前記第一基板の前記接着状態確認用構造体における前記接着不足検査用面部又は前記接着過多検査用面部と対向する対向面部分の周囲の少なくとも一部に、該対向面部分よりも高さの低い部分(例えば凹部204f)を有することを特徴とするものである。
これによれば、第一基板と第二基板とを貼り合わせた際、第二基板に付与された余分な接着剤が凹部へ浸入できるようになり、余分な接着剤が、第一基板の接着状態確認用構造体における複数の面部のうち、本来は接着剤が接触しないはずの面部に向かってしまうのを抑制できる。その結果、接着状態の適否をより正確に判断することができる。
第10態様は、第9態様において、前記第二基板は、前記対向面部分と同じ高さの連結部(例えば狭窄部204g)が所定方向に沿って該対向面部分に連続するように設けられていることを特徴とするものである。
これによれば、第二基板に付与された接着剤の前記所定方向における厚みムラを、当該所定方向における接着剤の上面凹凸を測定することで把握可能となり、一般的な段差計などを用いて容易に測定することができるようになる。
第11態様は、液体吐出ヘッドであって、第1乃至第10態様のいずれかの態様に係る貼り合わせ基板から製造される電気機械変換基板上の電気機械変換素子を変形させることによりインク等の液体を吐出させることを特徴とするものである。
これによれば、基板同士が適切に接着された信頼性の高い液体吐出ヘッドを実現できる。
第12態様は、液体吐出ユニットであって、第11態様の液体吐出ヘッドを備えていることを特徴とするものである。
これによれば、基板同士が適切に接着された信頼性の高い液体吐出ユニットを実現できる。
第13態様は、第12態様の液体吐出ユニットにおいて、前記液体吐出ヘッドに供給する液体を貯留するヘッドタンク、前記液体吐出ヘッドを搭載するキャリッジ、前記液体吐出ヘッドに液体を供給する供給機構、前記液体吐出ヘッドの維持回復を行う維持回復機構、前記液体吐出ヘッドを主走査方向に移動させる主走査移動機構のうちの少なくとも1つと、前記液体吐出ヘッドとを一体化したことを特徴とするものである。
これによれば、基板同士が適切に接着された信頼性の高い液体吐出ユニットを実現できる。
第14態様は、液体を吐出する装置であって、第11態様の液体吐出ヘッド、又は、第12又は第13態様の液体吐出ユニットを備えていることを特徴とするものである。
これによれば、基板同士が適切に接着された信頼性の高い液体を吐出する装置を実現できる。
第15態様は、第一基板と第二基板とを、該第二基板側に付与された接着剤で貼り合わせた貼り合わせ基板の製造方法であって、前記第一基板における前記第二基板との対向面に、該第二基板に付与された接着剤によって接着される該第一基板上の接着面部よりも高さが低く、かつ、該接着面部の接着剤による接着状態が不足状態であるときには前記第二基板に付与された接着剤が接触せず、該接着状態が不足状態でないときには前記第二基板に付与された接着剤が接触する高さに設定された接着不足検査用面部を備える接着状態確認用構造体を作成し、前記第二基板に接着剤を付与して、前記第一基板と該第二基板とを接着剤で貼り合わせた後、前記接着不足検査用面部に対する接着剤の接触状態を確認し、前記第一基板と前記第二基板とを接着剤で貼り合わせたもののうち、前記接着不足検査用面部に接着剤が接触しているものを、前記貼り合わせ基板として選出することを特徴とするものである。
本態様によれば、基板同士が適切に接着された信頼性の高い貼り合わせ基板を製造することができる。
第16態様は、第一基板と第二基板とを、該第二基板側に付与された接着剤で貼り合わせた貼り合わせ基板の製造方法であって、前記第一基板における前記第二基板との対向面に、該第二基板に付与された接着剤によって接着される該第一基板上の接着面部よりも高さが低く、かつ、該接着面部の接着剤による接着状態が過多状態であるときには前記第二基板に付与された接着剤が接触し、該接着状態が過多状態でないときには前記第二基板に付与された接着剤が接触しない高さに設定された接着過多検査用面部を備える接着状態確認用構造体を作成し、前記第二基板に接着剤を付与して、前記第一基板と該第二基板とを接着剤で貼り合わせた後、前記接着過多検査用面部に対する接着剤の接触状態を確認し、前記第一基板と前記第二基板とを接着剤で貼り合わせたもののうち、前記接着過多検査用面部に接着剤が接触していないものを、前記貼り合わせ基板として選出することを特徴とするものである。
本態様によれば、基板同士が適切に接着された信頼性の高い貼り合わせ基板を製造することができる。
第17態様は、他の基板と接着剤で貼り合わされる基板であって、前記基板は、前記他の基板との接着面部(例えば貼り合わせ面部115e)に周囲が囲まれた領域内に、複数の面部115a〜115dが設けられており、前記複数の面部には、前記接着面部よりも高さが低く、かつ、互いに高さが異なる少なくとも2つの面部115a〜115dが含まれることを特徴とするものである。
本態様によれば、基板同士が適切に接着された信頼性の高い貼り合わせ基板を製造することが可能となる。
第18態様は、第17態様に係る基板と前記他の基板とが接着剤で貼り合わされた貼り合わせ基板である。
本態様によれば、基板同士が適切に接着された信頼性の高い貼り合わせ基板を提供することができる。
100’:第一基板
101:圧電素子
101−1:共通電極層
101−2:個別電極層
101−3:圧電体層
102:振動板
103:隔壁部
104:加圧液室
105:流体抵抗部
106:共通液室
107:個別電極パッド
108:引き出し配線
109:接着領域
110:層間絶縁膜
111:接続孔
112:パッシベーション膜
114:接着剤
115:接着状態確認用構造体
115a:第一面部
115b:第二面部
115c:第三面部
115d:第四面部
115e:貼り合わせ面部
200:保持基板
200':第二基板
200a:脚部
201:IC収容部
202:共通インク流路
203:凹部
204:対向面部
204a〜204d:幅広部
204e:貼り合わせ面部
204f:凹部
204g:狭窄部
205:テープ
300:ノズル基板
301:ノズル孔
404:液体吐出ヘッド
440:液体吐出ユニット
Claims (18)
- 第一基板と第二基板とを、該第二基板側に付与された接着剤で貼り合わせた貼り合わせ基板であって、
前記第一基板は、前記第二基板との対向面に、該第二基板に付与された接着剤によって接着される接着面部よりも高さの低い接着不足検査用面部を備えた接着状態確認用構造体を有し、
前記接着不足検査用面部の高さは、前記接着面部の接着剤による接着状態が不足状態であるときには前記第二基板に付与された接着剤が接触せず、該接着状態が不足状態でないときには前記第二基板に付与された接着剤が接触する高さに設定されていることを特徴とする貼り合わせ基板。 - 請求項1に記載の貼り合わせ基板において、
前記接着状態確認用構造体は、前記第二基板に付与された接着剤によって接着される接着面部よりも高さの低い接着過多検査用面部を備え、
前記接着過多検査用面部の高さは、前記接着面部の接着剤による接着状態が過多状態であるときには前記第二基板に付与された接着剤が接触し、該接着状態が過多状態でないときには前記第二基板に付与された接着剤が接触しない高さに設定されていることを特徴とする貼り合わせ基板。 - 請求項2に記載の貼り合わせ基板において、
前記接着状態確認用構造体は、前記接着不足検査用面部の高さよりも低く、前記接着過多検査用面部の高さよりも高い他の面部を備えることを特徴とする貼り合わせ基板。 - 第一基板と第二基板とを、該第二基板側に付与された接着剤で貼り合わせた貼り合わせ基板であって、
前記第一基板は、前記第二基板との対向面に、該第二基板に付与された接着剤によって接着される接着面部よりも高さの低い接着過多検査用面部を備えた接着状態確認用構造体を有し、
前記接着過多検査用面部の高さは、前記接着面部の接着剤による接着状態が過多状態であるときには前記第二基板に付与された接着剤が接触し、該接着状態が過多状態でないときには前記第二基板に付与された接着剤が接触しない高さに設定されていることを特徴とする貼り合わせ基板。 - 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の貼り合わせ基板において、
前記第二基板は、前記第一基板の前記接着状態確認用構造体における前記接着不足検査用面部又は前記接着過多検査用面部と対向する対向面部分が、前記接着面部と同じ高さの面であることを特徴とする貼り合わせ基板。 - 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の貼り合わせ基板において、
前記第二基板は、少なくとも前記第一基板の前記接着状態確認用構造体における前記接着不足検査用面部又は前記接着過多検査用面部と対向する対向面部分が光透過性を有するものであることを特徴とする貼り合わせ基板。 - 請求項6に記載の貼り合わせ基板において、
前記対向面部分は、赤外光を透過するものであることを特徴とする貼り合わせ基板。 - 請求項1乃至7のいずれか1項に記載の貼り合わせ基板において、
前記第一基板は、基板面上に複数層からなる複数層構造体を有し、
前記接着状態確認用構造体の前記接着不足検査用面部又は前記接着過多検査用面部は、前記複数層構造体の層構造から一部又は全部の層を除外した層構造であることを特徴とする貼り合わせ基板。 - 請求項1乃至8のいずれか1項に記載の貼り合わせ基板において、
前記第二基板は、前記第一基板の前記接着状態確認用構造体における前記接着不足検査用面部又は前記接着過多検査用面部と対向する対向面部分の周囲の少なくとも一部に、該対向面部分よりも高さの低い部分を有することを特徴とする貼り合わせ基板。 - 請求項9に記載の貼り合わせ基板において、
前記第二基板は、前記対向面部分と同じ高さの連結部が所定方向に沿って該対向面部分に連続するように設けられていることを特徴とする貼り合わせ基板。 - 請求項1乃至10のいずれか1項に記載の貼り合わせ基板から製造される電気機械変換基板上の電気機械変換素子を変形させることにより液体を吐出させることを特徴とする液体吐出ヘッド。
- 請求項11に記載の液体吐出ヘッドを備えていることを特徴とする液体吐出ユニット。
- 請求項12に記載の液体吐出ユニットにおいて、
前記液体吐出ヘッドに供給する液体を貯留するヘッドタンク、前記液体吐出ヘッドを搭載するキャリッジ、前記液体吐出ヘッドに液体を供給する供給機構、前記液体吐出ヘッドの維持回復を行う維持回復機構、前記液体吐出ヘッドを主走査方向に移動させる主走査移動機構のうちの少なくとも1つと、前記液体吐出ヘッドとを一体化したことを特徴とする液体吐出ユニット。 - 請求項11に記載の液体吐出ヘッド、又は、請求項12若しくは13に記載の液体吐出ユニットを備えていることを特徴とする液体を吐出する装置。
- 第一基板と第二基板とを、該第二基板側に付与された接着剤で貼り合わせた貼り合わせ基板の製造方法であって、
前記第一基板における前記第二基板との対向面に、該第二基板に付与された接着剤によって接着される該第一基板上の接着面部よりも高さが低く、かつ、該接着面部の接着剤による接着状態が不足状態であるときには前記第二基板に付与された接着剤が接触せず、該接着状態が不足状態でないときには前記第二基板に付与された接着剤が接触する高さに設定された接着不足検査用面部を備える接着状態確認用構造体を作成し、
前記第二基板に接着剤を付与して、前記第一基板と該第二基板とを接着剤で貼り合わせた後、前記接着不足検査用面部に対する接着剤の接触状態を確認し、
前記第一基板と前記第二基板とを接着剤で貼り合わせたもののうち、前記接着不足検査用面部に接着剤が接触しているものを、前記貼り合わせ基板として選出することを特徴とする貼り合わせ基板の製造方法。 - 第一基板と第二基板とを、該第二基板側に付与された接着剤で貼り合わせた貼り合わせ基板の製造方法であって、
前記第一基板における前記第二基板との対向面に、該第二基板に付与された接着剤によって接着される該第一基板上の接着面部よりも高さが低く、かつ、該接着面部の接着剤による接着状態が過多状態であるときには前記第二基板に付与された接着剤が接触し、該接着状態が過多状態でないときには前記第二基板に付与された接着剤が接触しない高さに設定された接着過多検査用面部を備える接着状態確認用構造体を作成し、
前記第二基板に接着剤を付与して、前記第一基板と該第二基板とを接着剤で貼り合わせた後、前記接着過多検査用面部に対する接着剤の接触状態を確認し、
前記第一基板と前記第二基板とを接着剤で貼り合わせたもののうち、前記接着過多検査用面部に接着剤が接触していないものを、前記貼り合わせ基板として選出することを特徴とする貼り合わせ基板の製造方法。 - 他の基板と接着剤で貼り合わされる基板であって、
前記基板は、前記他の基板との接着面部に周囲が囲まれた領域内に、複数の面部が設けられており、
前記複数の面部には、前記接着面部よりも高さが低く、かつ、互いに高さが異なる少なくとも2つの面部が含まれることを特徴とする基板。 - 請求項17に記載の基板と前記他の基板とが接着剤で貼り合わされた貼り合わせ基板。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021016999A (ja) * | 2019-07-20 | 2021-02-15 | 株式会社リコー | 接合部材、液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010284908A (ja) * | 2009-06-12 | 2010-12-24 | Sharp Corp | インクジェットヘッドおよびその製造方法 |
US20130032296A1 (en) * | 2011-08-02 | 2013-02-07 | Brewer Science Inc. | Cleaning composition for temporary wafer bonding materials |
CN103625116A (zh) * | 2012-08-27 | 2014-03-12 | 研能科技股份有限公司 | 喷墨头结构 |
JP2015210242A (ja) * | 2014-04-30 | 2015-11-24 | キヤノン株式会社 | 流路デバイス、流路デバイスの製造方法、および検査方法 |
-
2018
- 2018-11-14 JP JP2018213667A patent/JP7182075B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010284908A (ja) * | 2009-06-12 | 2010-12-24 | Sharp Corp | インクジェットヘッドおよびその製造方法 |
US20130032296A1 (en) * | 2011-08-02 | 2013-02-07 | Brewer Science Inc. | Cleaning composition for temporary wafer bonding materials |
CN103625116A (zh) * | 2012-08-27 | 2014-03-12 | 研能科技股份有限公司 | 喷墨头结构 |
JP2015210242A (ja) * | 2014-04-30 | 2015-11-24 | キヤノン株式会社 | 流路デバイス、流路デバイスの製造方法、および検査方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021016999A (ja) * | 2019-07-20 | 2021-02-15 | 株式会社リコー | 接合部材、液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置 |
JP7342482B2 (ja) | 2019-07-20 | 2023-09-12 | 株式会社リコー | 接合部材、液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置 |
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