JP2019152570A - 測定装置 - Google Patents
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- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 122
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 55
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 23
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 30
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 24
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 20
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 15
- 230000008859 change Effects 0.000 description 8
- 101150097504 LHX1 gene Proteins 0.000 description 5
- 101150064725 LIM2 gene Proteins 0.000 description 5
- 101100454869 Rattus norvegicus Lhx5 gene Proteins 0.000 description 5
- 101100082623 Rattus norvegicus Pdlim7 gene Proteins 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
- G01B11/2441—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures using interferometry
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- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
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- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02034—Interferometers characterised by particularly shaped beams or wavefronts
- G01B9/02038—Shaping the wavefront, e.g. generating a spherical wavefront
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
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- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
- G01B9/02062—Active error reduction, i.e. varying with time
- G01B9/02063—Active error reduction, i.e. varying with time by particular alignment of focus position, e.g. dynamic focussing in optical coherence tomography
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- G—PHYSICS
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- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02083—Interferometers characterised by particular signal processing and presentation
- G01B9/02085—Combining two or more images of different regions
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/0209—Low-coherence interferometers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/02—Testing optical properties
- G01M11/0242—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations
- G01M11/025—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations by determining the shape of the object to be tested
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/02—Testing optical properties
- G01M11/0242—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations
- G01M11/0271—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations by using interferometric methods
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- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
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Abstract
Description
図1は、第1実施形態による測定装置1の構成例を示す概略図である。測定装置1は、例えば、白色光の干渉を利用して、材料2の表面の高さを測定する高さ測定装置である。測定装置1は、複数の測定点における材料2の表面の高さをデータ上で繋げて材料2の表面形状を生成する。ユーザは、このようにデータ上で生成された材料の表面形状を参照して、材料が適切に加工されているか否かを判断することができる。図1の測定装置1は、所謂、ミロー干渉計を用いているが、マイケルソン干渉計等、その他の干渉計を用いてもよい。
図5(A)および図5(B)は、第2実施形態による材料2の一例を示す平面図および断面図である。第2実施形態において、材料2は、金属膜101上に設けられたシリコン酸化膜104をさらに有する。即ち、領域R104では、半導体基板102上に、第1材料としての金属膜101と第2材料としてのシリコン酸化膜104との積層膜が設けられている。以下、金属膜101とシリコン酸化膜104との積層膜を、積層膜101、104と呼ぶ。尚、半導体基板102およびシリコン酸化膜103は、第1実施形態のそれらと同様でよい。
Claims (9)
- 照射光を発する光源と、
前記照射光の光量を変更するフィルタと、
前記照射光を材料の表面に照射させるレンズ機構部と、
前記照射光の前記材料の深さ方向における焦点位置を変更させる焦点位置調節部と、
前記照射光と前記材料からの反射光とを干渉させる干渉部と、
前記照射光と前記反射光との干渉によって得られる干渉光の強度を検出する検出部と、
前記材料の表面の或る測定点において、前記材料に対する前記照射光の相対的な焦点位置を変更しながら前記検出部で検出された前記干渉光の強度に基づいて前記材料の表面または界面の高さを演算する演算制御部とを備え、
前記演算制御部は、前記検出部で検出された前記干渉光の強度に基づいて前記フィルタまたは前記光源を制御し、前記照射光の光量を変更する、測定装置。 - 前記演算制御部は、前記材料の各測定点において前記干渉光の平均強度を互いに近づけるように前記フィルタまたは前記光源を制御する、請求項1に記載の測定装置。
- 前記演算制御部は、前記材料の各測定点において前記干渉光の平均強度を互いにほぼ等しくするように前記フィルタまたは前記光源を制御する、請求項1に記載の測定装置。
- 前記材料の複数の測定点において前記演算制御部で演算された該材料の表面または界面の高さを格納する記憶部をさらに備え、
前記演算制御部は、前記材料の表面または界面の高さに基づいて前記材料の表面または界面の形状を生成する、請求項3に記載の測定装置。 - 前記演算制御部は、前記材料の表面または界面の高さに基づいて前記材料の表面または界面の二次元形状を生成し、さらに、複数の該二次元形状を用いて前記材料の表面の三次元形状を生成する、請求項4に記載の測定装置。
- 前記照射光は、白色光である、請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の測定装置。
- 前記演算制御部は、前記干渉光の強度にピークが生じたときの焦点位置を前記材料の表面または界面の位置である、と判断する、請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の測定装置。
- 前記演算制御部で生成された前記材料の表面または界面の形状を表示する表示部をさらに備えた、請求項4または請求項5に記載の測定装置。
- 照射光を発する光源と、
前記照射光を材料の表面に照射させるレンズ機構部と、
前記照射光の前記材料の深さ方向における焦点位置を変更させる焦点位置調節部と、
前記照射光と前記材料からの反射光とを干渉させる干渉部と、
前記照射光と前記反射光との干渉によって得られる干渉光の強度を検出する検出部と、
前記材料の表面の或る測定点において、前記材料に対する前記照射光の相対的な焦点位置を変更しながら前記検出部で検出された前記干渉光の強度に基づいて前記材料の表面または界面の高さを演算する演算制御部とを備え、
前記干渉光の強度が複数のピークを含む場合、前記検出部は、前記複数のピークのうち一部のピークに対応する焦点位置における前記干渉光の強度を検出し、他のピークに対応する焦点位置における前記干渉光の強度の検出を省略する、測定装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018038860A JP2019152570A (ja) | 2018-03-05 | 2018-03-05 | 測定装置 |
US16/114,011 US10845190B2 (en) | 2018-03-05 | 2018-08-27 | Measurement apparatus for measuring height or shape of a surface of a material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018038860A JP2019152570A (ja) | 2018-03-05 | 2018-03-05 | 測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019152570A true JP2019152570A (ja) | 2019-09-12 |
Family
ID=67768525
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018038860A Pending JP2019152570A (ja) | 2018-03-05 | 2018-03-05 | 測定装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10845190B2 (ja) |
JP (1) | JP2019152570A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6749814B2 (ja) | 2015-11-12 | 2020-09-02 | Ntn株式会社 | 高さ検出装置およびそれを搭載した塗布装置 |
EP3376156B1 (en) * | 2015-11-12 | 2022-03-02 | NTN Corporation | Height detection apparatus and coating apparatus equipped with the same |
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-
2018
- 2018-03-05 JP JP2018038860A patent/JP2019152570A/ja active Pending
- 2018-08-27 US US16/114,011 patent/US10845190B2/en active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20190271541A1 (en) | 2019-09-05 |
US10845190B2 (en) | 2020-11-24 |
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A711 | Notification of change in applicant |
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