JP2019130605A - 処理設備、及びアイソレーターシステム - Google Patents

Abstract

【課題】互いに近い条件下で被処理物の払い出しを行うことが可能な処理設備などを提供する。【解決手段】処理設備１は、被処理物に対する処理が行われる複数の処理容器２１を備え、これらの処理容器２１は、処理室１０の床面１０３に設定された中央部Ｏの周囲に、周方向に沿って並べられる。グローブボックス（ＧＢ）３は、内部操作を実施するためのグローブ３０２を備え、各処理容器２１に接続されて外部から隔離された操作空間３０を形成する。走行軌道３２は、複数の処理容器２１の並び方向に沿って配置され、ＧＢ２１と接続された走行機構３１が走行自在に設けられている。【選択図】図１

Description

本発明は、アイソレーターシステムを備えた処理設備に関する。

例えばファインケミカルプラントや製薬プラントを構成する処理設備においては、反応容器（処理容器）などの複数の処理機器間で原料や中間生成物や最終生成物である被処理物を移送させながら、当該被処理物に対する種々の処理を実施する。

この処理設備において、例えば人体や環境に影響を及ぼす被処理物の取り扱い作業を実施する場合には、外部から隔離された操作空間を形成可能なグローブボックス（以下、「ＧＢ」とも記す）を用いて作業（内部操作）を行う場合がある。
例えばＧＢの前面には、操作空間に向けて挿入されたグローブが接続され、作業者はこのグローブに腕を挿入し、操作空間内での内部操作を行う。

例えば特許文献１には、複数の反応容器が直線状に並べて配置された処理設備（反応設備）の天井部に、当該反応容器の並び方向に沿って走行軌道（走行路）を設け、当該走行軌道に沿って移動自在に構成されたグローブボックスを備えたアイソレーターシステムが記載されている（括弧内は特許文献１にて用いられている用語を併記してある）。

例えば処理設備においては、被処理物からの不純物の分離や乾燥など、種々の処理を実施する処理機器に対し、これら複数の反応容器を切り替えて接続し、被処理物の払い出しが行われる。
このとき、複数階からなる階層構造の建屋の上層階に反応容器を配置する一方、後段の各種処理機器を下層階側に配置し、重力を利用して被処理物の払い出しを行う場合がある。

しかしながら、特許文献１に記載の処理設備のように、複数の反応容器を直線状に配置すると、各反応容器から、下層階側の処理機器まで被処理物の払い出しを実施するための払い出しラインの経路長や傾きが各反応容器間で大きく相違する配置を採用せざるを得ない場合がある。
この結果、複数の反応容器間で互いに被処理物の払い出し易さが異なる事態が発生し得る。また、処理機器までの水平方向の距離が遠い反応容器では、払い出しラインの傾きが緩やかになり、反応容器や払い出しライン内に被処理物が残留し易くなるという問題も生じる。

ここで特許文献２には、穀物、飼料、セメントなどの粉粒体を包装する包装袋に付着した粉じんを除去するために、空気式洗浄装置や包装袋の外面を叩く装置へと包装袋を搬送する手法として、ループ状運搬路を用いて複数のフックを循環させ、これらのフックに包装袋を吊り下げて搬送する包装袋搬送装置が記載されている。
しかしながら、特許文献２に記載の技術は、プラントを構成する処理設備とは技術分野が大きく異なり、装置間で被処理物を移送する操作は記載されていない。

特許５５８８５７４号公報：段落００１７〜００２４、図１、２ 特開平１０−３０５９０８号公報：請求項１、段落０００７〜０００８、図１

本発明は、このような背景の下になされたものであり、互いに近い条件下で被処理物の払い出しを行うことが可能な処理設備、及びこの処理設備に設けられるアイソレーターシステムを提供する。

本発明の処理設備は、被処理物に対する処理が行われる処理容器を備えた処理設備において、
前記処理設備を構成する処理室の床面に設定された中央部の周囲に、周方向に沿って並べられた複数の処理容器と、
前記複数の処理容器に対して着脱自在に構成され、いずれかの処理容器と接続された状態にて外部から隔離された操作空間を形成すると共に、内部操作を実施するためのグローブを備えたグローブボックスと、
前記グローブボックスと接続された走行機構が走行自在に設けられ、前記複数の処理容器の並び方向に沿って配置された走行軌道と、を備えたことを特徴とする。

前記処理設備は以下の特徴を備えていてもよい。
（ａ）前記走行軌道は前記処理室の天井面に設けられ、前記走行機構は前記グローブボックスを吊り下げ支持すること。
（ｂ）前記走行軌道には、前記グローブボックスが複数基設けられていること。前記複数基のグローブボックスには、前記内部操作が互いに異なるものが含まれていること。
（ｃ）前記走行軌道は、平面視したとき環状に構成されていること。または、前記走行軌道は、平面視したときＵ字状に構成されていること。
（ｄ）前記複数の処理容器は、各々、前記処理室の下層側の空間へ向けて処理後の被処理物を払い出す払い出しラインを備えていること。前記中央部の下方側には、前記複数の処理容器の各払い出しラインと接続され、外部から隔離された空間内で、これらの払い出しラインに払い出された処理後の被処理物の払い出し先を切り替える操作を行うための切り替え設備が設けられていること。
（ｅ）前記処理後の被処理物は、液体またはスラリーまたは粉粒体であること。

また、他の発明に係るアイソレーターシステムは、処理室の床面に設定された中央部の周囲に周方向に沿って並べられ、被処理物に対する処理が行われる複数の処理容器の並び方向に沿って設けられた走行軌道と、
前記走行軌道を走行自在に設けられた走行機構と
前記走行機構に接続されると共に、前記複数の処理容器の各々に対して着脱自在に構成され、当該処理容器と接続された状態にて外部から隔離された操作空間を形成し、内部操作を実施するためのグローブが設けられたグローブボックスと、を備えたことを特徴とする。

本発明は、処理室の床面に設定された中央部の周囲に、周方向に沿って複数の処理容器が並べられているので、当該中央部側から見て、被処理物を払い出す際の条件を揃えることができる。
また、これら複数の処理容器の並び方向に沿って、グローブボックスの走行軌道が設けられているので、これらの処理容器間でグローブボックスを共有して利用することができる。

実施の形態に係るアイソレーターシステムを備えた処理室の平面図である。 前記処理室の側面図である。 前記処理室に設けられているＧＢの側面図である。 前記処理室を含む処理設備の縦断側面図である。 前記アイソレーターシステムの他の構成例を示す平面図である。

はじめに、図１、２を参照しながら実施の形態に係るアイソレーターシステムが設けられた処理室１０の構成について説明する。
例えば処理室１０は、ファインケミカルプラントや製薬プラントを構成する処理設備１を成す階層構造の建屋の上層階側に配置されている（図４参照）。

図１の平面図に示すように、処理室１０には複数基（本例では４基）の反応容器２１が設けられている。反応容器２１は、本実施の形態の処理容器に相当し、当該反応容器２１内に投入された被処理物の反応を進行させて、中間生成物や最終生成物を生成する。上記反応を進行させるために、反応容器２１には、反応容器２１に投入された被処理物の温度を調整する温度調整部や、被処理物の撹拌混合を行う撹拌翼などが設けられている（いずれも不図示）。
以下の説明では、上述の反応後の中間生成物や最終生成物を含めて「被処理物」と呼ぶ。例えば被処理物は、液体、またはスラリー、または粉粒体により構成される。

本例の処理室１０内において、各反応容器２１には、反応容器２１から排出されたガスを冷却するコンデンサー２２と、コンデンサー２２にて凝縮した凝縮液を受け入れる受槽２３とが併設されている。
これら反応容器２１とコンデンサー２２と受槽２３との各セットは、処理室１０の床部（床面）１０３に設定された中央部（図１に示すＯ点の周辺領域。以下、「中央部Ｏ」とも記す）の周囲に、周方向に沿って並べて設けられている。

図２、４に示すように、各反応容器２１は、処理室１０の床部１０３を上下方向に貫通し、その下部領域が下層階１０４ａ側に挿入されるように設けられている。また、中央部Ｏを囲む既述の反応容器２１、コンデンサー２２、受槽２３のセットの配置に伴い、４基の反応容器２１についても中央部Ｏの周囲に、周方向に沿って並べて配置された状態となっている。

なお、「中央部Ｏ」との呼称は、複数の反応容器２１に囲まれたほぼ中央の位置を意味し、処理室１０の中央部を意味するものではない。従って、広い処理室の片隅に複数の反応容器２１が配置されている場合には、これらの反応容器２１に囲まれた領域のほぼ中央が「中央部Ｏ」となる。

これら反応容器２１には、グローブボックス（ＧＢ）３を備えたアイソレーターシステムが併設され、ＧＢ３内部の操作空間３０を介して、被処理物の投入や、反応容器２１内からサンプリングされた被処理物の分析などの内部操作を行うことができる。
また、本アイソレーターシステムは、４基の反応容器２１間で、ＧＢ３を共有して利用する構成となっている。このため、ＧＢ３は、処理室１０の天井部１０２に設けられた走行軌道３２を走行自在に構成され、各反応容器２１の配置位置へと移動することができる。

図１には、天井部１０２側に設けられた走行軌道３２の配置位置を併記してある。図１に示すように、前述の中央部Ｏと各反応容器２１の配置位置との間には、ＧＢ３を移動させることが可能な空間が確保されている。この、ＧＢ３が移動する空間には、平面視したとき環状に構成された走行軌道３２が設けられている。

上述の構成を言い替えると、アイソレーターシステムは、平面視したとき、中央部Ｏの周囲を囲むように設けられた環状の走行軌道３２を備え、当該走行軌道３２に沿って走行自在に構成されたＧＢ３の移動経路に沿って４基の反応容器２１が配置されている。

本例のアイソレーターシステムは、実施可能な内部操作の内容が互いに異なる複数基、例えば２基のＧＢ３（３ａ、３ｂ）を備え、それぞれのＧＢ３ａ、３ｂを各反応容器２１に接続することができる。例えば一方側のＧＢ３ａは、被処理物の投入に係る内部操作が実施可能であり、他方側のＧＢ３ｂは反応容器２１からの被処理物のサンプリングと、その分析に係る内部操作が実施可能となっている。

図２、３に示すように、ＧＢ３（３ａ、３ｂ）は、例えば金属製の筐体の前面に、ガラス製のパネル部（不図示）を設けた構造となっていて、外部空間から隔離された操作空間３０を形成する。
作業者に対向して配置されるＧＢ３の前面には、グローブ３０２が気密に取り付けられている。

前記グローブ３０２に加えて、例えば操作空間３０の側面に、ＧＢ３における物の搬入出を行うための搬入出バッグが取り付けられるバッグイン／バッグアウトポートを設けてもよい（搬入出バッグ、バッグイン／バッグアウトポートは不図示）。

ＧＢ３の底面には、被処理物の投入が行われる投入管３０１が設けられている。投入管３０１は、ＧＢ３の底板を貫通するように設けられ、その下端部には、反応容器２１側に設けられた受入管２１１と締結可能なフランジが設けられている。一方、投入管３０１の上端部は操作空間３０内に挿入されている。

また、各ＧＢ３の操作空間３０には、当該操作空間３０内で実施される内部操作に応じて必要な機器が配置されている。例えば被処理物の投入を行うＧＢ３ａでは、投入される被処理物の秤量を行う秤量計や、被処理物の投入機構、被処理物の分析を行うＧＢ３ｂでは、反応容器２１からの被処理物のサンプリングを行うサンプリング機構や、分析機器を例示することができる（内部操作用の機器は不図示）。

またＧＢ３の上面には、処理室１０内の気体（例えば空気）を操作空間３０に取り込むための不図示の吸気口が形成され、当該吸気口にはＨＥＰＡ（High Efficiency Particulate Air）フィルターなどが設けられる。さらにＧＢ３の上面には、操作空間３０内の排気を行う排気管と接続された排気口が形成され、操作空間３０内で取り扱われる被処理物の漏洩を防止するためのフィルターなどが設けられる（排気管や排気口は不図示）。

排気管は、操作空間３０から排気された気体を処理室１０内に戻すように構成してもよいし、処理室１０の外部に排出する構成としてもよい。
処理室１０の外部に気体を排出する場合には、ＧＢ３が各反応容器２１に接続される際の配置位置に対応させて、例えば天井部１０２の上面側に外部側の排気管を配置し、天井部１０２を介して当該外部側排気管の上流端部を配置する接続ポートを設けてもよい（外部側排気管や接続ポートについても図示省略）。この構成では、ＧＢ３側に設けられた排気管の末端部を接続ポートに対して着脱自在に構成することにより、移動自在に構成されたＧＢ３内の気体を処理室１０の外部へと排気することができる。

操作空間３０から排気された気体を処理室１０内に戻す場合や、処理室１０の外部に排出する場合のいずれにおいても、排気管（外部側排気管であってもよい）に不図示の流量調整機構や圧力調整機構を設け、処理室１０内の圧力に対して操作空間３０内の圧力を負圧に保つとよい。

次に、走行軌道３２を利用してＧＢ３（３ａ、３ｂ）を移動させる構成について説明する。
図２の平面図に示すように、処理室１０の天井部１０２の下面側には、床部１０３側に設定された既述の中央部Ｏを囲む位置に、環状の走行軌道３２が設けられている。例えば走行軌道３２は、予め設定された間隔を開けて平行に配置された２本の走行レール３２１、３２２によって構成されている。

これらの走行レール３２１、３２２は、例えば車輪３１１と車軸３１２とからなる走行機構３１の車輪３１１を係止させることが可能な構成となっており、走行軌道３２に沿って当該走行機構３１を自在に走行させることができる。また、走行機構３１の車軸３１２には、ＧＢ３を吊り下げ支持する支持部３３が取り付けられている。
上記構成により、ＧＢ３は走行軌道３２に沿って処理室１０内を自由に移動させることができる（図１、３）。走行軌道３２、ＧＢ３、走行機構３１は、本例のアイソレーターシステムを構成している。

以上に説明した構成により、図１中に実線、及び一点鎖線で示すように、各ＧＢ３（３ａ、３ｂ）は、走行軌道３２の周囲に配置されたいずれの反応容器２１にも接続することができる。
また、走行軌道３２が環状に構成されていることにより、一方側のＧＢ３ａ、３ｂがいずれかの反応容器２１に接続されている場合であっても、異なる反応容器２１に対して他方側のＧＢ３ｂ、３ａを接続することができる。

図４は、図１〜３を用いて説明した処理室１０を含む処理設備１の階層構造を示している。例えば各反応容器２１の底部には、後段側に配置された各種の処理機器に向けて、反応処理後の被処理物を払い出すための払い出しライン２１２が設けられている。
本例の処理設備１において、処理室１０の下層側の空間である下層階１０４ａ、１０４ｂには、遠心分離機５１、ドライヤー５２、ＧＢ５３、５４、洗浄ブース５５などの種々の処理機器が設けられ、重力を利用して各反応容器２１から処理機器５１〜５５へ向けて被処理物が払い出される。

ここで、本例の処理設備１は、目的に応じて反応容器２１の用途を使い分けるマルチパーパスプラントとして構成されており、反応容器２１にて実施される被処理物の種類などに応じて、払い出し先の処理機器５１〜５５が切り替えられる。

各反応容器２１に接続された払い出しライン２１２と、後段の各処理機器５１〜５５に接続された払い出しライン２１３との間には、被処理物の払い出し先を切り替える操作を行うための切り替え設備４が設けられている。
反応容器２１側の各払い出しライン２１２の下流端部は、切り替え配管４１を介して、処理機器５１〜５５側の各払い出しライン２１３の上流端部と接続／切り離し自在に構成されている。

切り替え設備４は、これら払い出しライン２１２、２１３の端部が集合配置された領域として構成され、作業者が離れた場所まで移動しなくても被処理物の払い出し先の切り替え操作を行うことができる。例えば切り替え設備４は、処理室１０側の床部１０３に設定された中央部Ｏの下方側に配置される。
なお、固定配置されたＧＢ内に切り替え設備４を設け、外部から隔離された空間内にて切り替え操作を実施してもよい。

図４中に示す例では、切り替え設備４中に実線で示した切り替え配管４１を介して、同図中の右手側に配置された反応容器２１からの被処理物を遠心分離機５１に払い出し、左手側に配置された反応容器２１からの被処理物をドライヤー５２に払い出すように、各払い出しライン２１２、２１３が接続されている。

そして、図４中に破線で示すように切り替え配管４１の接続先を変更すると、同図中の右手側に配置された反応容器２１からの被処理物をドライヤー５２に払い出し、左手側に配置された反応容器２１からの被処理物を洗浄ブース５５に払い出すように、各払い出しライン２１２、２１３の接続状態を切り替えることができる。

以上に説明した構成を備える処理設備１の作用について説明する。
作業者は、処理室１０に入室して開閉扉１０１を閉じ、例えば被処理物の投入が行われる反応容器２１の配置位置まで投入用のＧＢ３ａを移動させ、投入管３０１と受入管２１１とを接続する（図２）。

しかる後、バッグインポートなどを介して被処理物を収容した容器をＧＢ３内に搬入し、容器を開封した後、投入機構を用いて反応容器２１への被処理物の投入を開始する。そして、容器内の被処理物の投入が完了したら、バッグアウトポートなどを介して、ＧＢ３から容器を搬出する。
ここで、反応容器２１の容量などによっては、上述した容器の搬入、開封、被処理物の投入、空の容器の搬出動作を複数回繰り返す。このため、例えば数時間に亘って、１基の反応容器２１にＧＢ３ａが接続されたままの状態となる場合がある。

一方で、被処理物の投入が行われていない他の３基の反応容器２１では、既に被処理物の反応処理が開始されている場合もある。このとき、反応の進行状況の確認するために、反応容器２１から被処理物をサンプリングして分析を行う場合について考える。

既述のように、被処理物の投入を行うため、１基の反応容器２１に対し、ＧＢ３ａが接続されたままの状態となっている場合であっても、走行軌道３２が環状に構成されていることにより、残る３基の反応容器２１のいずれに対しても被処理物のサンプリング、分析用のＧＢ３ｂを接続することができる。

そこで、サンプリングを行う対象の反応容器２１までＧＢ３ｂを移動させ、投入管３０１と受入管２１１とを接続する（図２）。しかる後、サンプリング機構を用いて反応容器２１内の被処理物をサンプリングし、サンプリングされた被処理物を分析機器により分析して、反応の進行状態の確認などを行う。
１基の反応容器２１にて被処理物の投入が行われている期間であっても、他の３基の反応容器２１では、上述の被処理物のサンプリング、分析をいつでも行うことができる。

以上に説明した被処理物の投入、被処理物のサンプリング、分析を行い、反応容器２１内での反応処理が完了したら、被処理物の払い出しを行う。
図４を用いて説明したように、反応容器２１の払い出しライン２１２は、切り替え設備４を用いて、所望の処理機器５１〜５５側の払い出しライン２１３と接続されている。

次いで、払い出しライン２１２に設けられた不図示の払い出しバルブを開き、反応容器２１から被処理物の払い出しを開始する。
ここで本例の処理設備１は、複数の反応容器２１に囲まれた中央部Ｏの下方側に切り替え設備４が配置されていることにより、各反応容器２１と切り替え設備４との間の水平方向の距離に大きな相違が生じない配置となっている。この結果、各反応容器２１から切り替え設備４までの払い出しライン２１２の経路長や傾きなどを揃えて、被処理物の払い出しを行うことができる。

これに対して、例えば中央部Ｏを挟んで２基ずつ直線状に反応容器２１を配置すると、中央部Ｏから離れた位置に配置される反応容器２１においては、切り替え設備４までの経路長が長くなり、払い出しライン２１２の傾きも緩やかになってしまう。
例えば被処理物がスラリーや粉粒体である場合には、経路長が長く、傾きが緩やかな払い出しライン２１２を用いると、反応容器２１や払い出しライン２１２内での被処理物の残留が発生しやすくなる。また、被処理物が液体の場合であっても、反応容器２１からの払い出しに長い時間を要したり、粘度の高い液体などでは反応容器２１や払い出しライン２１２内に被処理物が残留したりしてしまうおそれもある。

この点、図１に示すように、ＧＢ３（３ａ、３ｂ）を移動させる空間を確保したうえで、中央部Ｏにできるだけ近い位置に各反応容器２１を配置することにより、経路長を短く抑え、比較的、大きな傾きを有する払い出しライン２１２を配置することが可能となる。
なお、図１などには中央部Ｏを囲む反応容器２１の並びの内側に走行軌道３２を配置した例を示したが、中央部Ｏと距離を更に近付けて反応容器２１を配置し、反応容器２１の並びの外側を囲むように走行軌道３２を設けてもよい。

そして中央部Ｏを囲むよう複数の反応容器２１を配置することにより、例えばこれらの反応容器２１を一列に並べる場合と比較して、払い出しライン２１２の経路長や傾きが互いにより近い条件下で、各反応容器２１からの被処理物の払い出しを行うことができる。

こうして、所定の反応容器２１からの被処理物の払い出しが完了したら、払い出しバルブを閉じ、当該反応容器２１に次の被処理物を受け入れ可能な状態で待機する。

本実施の形態に係る処理設備１によれば以下の効果がある。処理室１０の床部１０３に設定された中央部Ｏの周囲に、周方向に沿って複数の反応容器２１が並べられているので、中央部Ｏ側（例えば中央部Ｏの下方側に配置されている切り替え設備４）から見て、被処理物を払い出す際の条件を揃えることができる。
また、これら複数の反応容器２１の並び方向に沿って、ＧＢ３（３ａ、３ｂ）の走行軌道３２が設けられているので、これらの反応容器２１間でＧＢ３を共有して利用することができる。

ここで、図１〜４を用いて説明した処理室１０の例では、２基のＧＢ３を設ける例について説明したが、３基以上のＧＢ３を設けてもよいことは勿論である。また、複数基設けられるＧＢ３は、既述のように互いに異なる内部操作を実施すること可能な構成であってもよいし、共通の内部操作を行う構成であってもよい。
これとは反対に、走行軌道３２にＧＢ３を１基のみ設ける場合も、本処理設備１の実施の形態に含まれている。

また、走行軌道３２の構成は、図１に示した例のように、平面視したとき、環状に構成する場合に限定されない。
例えば図５に示すように、中央部Ｏを囲んで配置された反応容器２１の並び方向に沿って、平面視したときＵ字状に構成された走行軌道３２ａを配置してもよい。なお、本実施の形態における「Ｕ字状」とは、図１に示す閉じた環状の走行軌道３２と比較して、その一部が切り離された状態となっている形状を意味している。従って、例えば図５に示すＹ方向の走行軌道３２の距離が短く、平面視「Ｃ字を時計回りに９０°回転させた形状」に見える走行軌道３２を配置する場合も上述の「Ｕ字状」の概念に含まれる。

そして、走行軌道３２は、処理室１０の天井部１０２に設ける場合のほか、床部１０３側に設けてもよい。この場合のＧＢ３は、走行軌道３２を走行自在に構成された走行機構３１によって、例えば下方側から支持された状態で移動する。

また、走行軌道３２、３２ａに沿ってＧＢ３が移動する領域には、例えばＧＢ３内の洗浄を行う洗浄機構を設けてもよい。
この他、ＧＢ３が接続される容器は、既述の反応容器２１の例に限定されるものではない。被処理物が投入されて所定の処理（既述の反応処理のほか、混合処理や乾燥処理など）が行われる処理容器であってもよい。

また、ＧＢ３は被処理物を投入する操作に用いる場合に限定されるものではなく、被処理物を取り出す場合にも用いることができる。例えば既述の処理機器５１〜５５のうち、同種のものが複数台あり、目的に応じてこれら（以下の例では小型の遠心分離器５１）を切り替えて使用する場合を例に挙げて説明する。
この例において下層階１０４ａには、前記切り替え設備４を介して処理室１０側の各反応容器２１と接続自在に構成された処理機器である小型の遠心分離器５１が設けられているとする。

このとき、切り替え設備４の下方に位置する床面に中央部Ｏを設定し、この中央部Ｏの周囲に前記複数の遠心分離器５１を周方向に沿って並べ、その並び方向に沿って走行軌道３２を設けると共に、当該走行軌道３２に沿って走行自在な走行機構３１を備えるＧＢ３を配置することにより、アイソレーターシステムを構成してもよい。
このアイソレーターシステムでは、各遠心分離器５１が被処理物の処理（分離）を行う処理容器に相当し、各遠心分離機５１に対してＧＢ３を接続することにより内部操作（例えば投入管３０１、受入管２１１を介して遠心分離器５１にサンプリング機器を挿入し、遠心分離器５１で分離された被処理物を採取する操作など）を行うことができる。

さらに、中央部Ｏの下方側に切り替え機構を配置することは必須の要件ではない。例えば、各反応容器２１から被処理物を受け入れる中間受槽を配置してもよい。中間受槽には、後段側の処理機器５１〜５５へ向けて被処理物を払い出す払い出しライン２１３が接続され、いずれかの払い出しライン２１３の払い出しバルブを開くことにより、所望の処理機器５１〜５５へ向けて被処理物を払い出す構成としてもよい。

１ 処理設備
１０ 処理室
１０２ 天井部
１０３ 床部
２１ 反応容器
２１２、２１３
払い出しライン
３、３ａ、３ｂ
グローブボックス（ＧＢ）
３０ 操作空間
３０２ グローブ
３１ 走行機構
３２、３２ａ
走行軌道
４ 切り替え設備

Claims (15)

1. 被処理物に対する処理が行われる処理容器を備えた処理設備において、
   前記処理設備を構成する処理室の床面に設定された中央部の周囲に、周方向に沿って並べられた複数の処理容器と、
   前記複数の処理容器に対して着脱自在に構成され、いずれかの処理容器と接続された状態にて外部から隔離された操作空間を形成すると共に、内部操作を実施するためのグローブを備えたグローブボックスと、
   前記グローブボックスと接続された走行機構が走行自在に設けられ、前記複数の処理容器の並び方向に沿って配置された走行軌道と、を備えたことを特徴とする処理設備。
2. 前記走行軌道は前記処理室の天井面に設けられ、前記走行機構は前記グローブボックスを吊り下げ支持することを特徴とする請求項１に記載の処理設備。
3. 前記走行軌道には、前記グローブボックスが複数基設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載の処理設備。
4. 前記複数基のグローブボックスには、前記内部操作が互いに異なるものが含まれていることを特徴とする請求項３に記載の処理設備。
5. 前記走行軌道は、平面視したとき環状に構成されていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一つに記載の処理設備。
6. 前記走行軌道は、平面視したときＵ字状に構成されていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一つに記載の処理設備。
7. 前記複数の処理容器は、各々、前記処理室の下層側の空間へ向けて処理後の被処理物を払い出す払い出しラインを備えていることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一つに記載の処理設備。
8. 前記中央部の下方側には、前記複数の処理容器の各払い出しラインと接続され、外部から隔離された空間内で、これらの払い出しラインに払い出された処理後の被処理物の払い出し先を切り替える操作を行うための切り替え設備が設けられていることを特徴とする請求項７に記載の処理設備。
9. 前記処理後の被処理物は、液体またはスラリーまたは粉粒体であることを特徴とする請求項７または８に記載の処理設備。
10. 処理室の床面に設定された中央部の周囲に周方向に沿って並べられ、被処理物に対する処理が行われる複数の処理容器の並び方向に沿って設けられた走行軌道と、
    前記走行軌道を走行自在に設けられた走行機構と
    前記走行機構に接続されると共に、前記複数の処理容器の各々に対して着脱自在に構成され、当該処理容器と接続された状態にて外部から隔離された操作空間を形成し、内部操作を実施するためのグローブが設けられたグローブボックスと、を備えたことを特徴とするアイソレーターシステム。
11. 前記走行軌道は前記処理室の天井面に設けられ、前記走行機構は前記グローブボックスを吊り下げ支持することを特徴とする請求項１０に記載のアイソレーターシステム。
12. 前記走行軌道には、前記グローブボックスが複数基設けられていることを特徴とする請求項１０または１１に記載のアイソレーターシステム。
13. 前記複数基のグローブボックスには、前記内部操作が互いに異なるものが含まれていることを特徴とする請求項１２に記載のアイソレーターシステム。
14. 前記走行軌道は、平面視したとき環状に構成されていることを特徴とする請求項１０ないし１３のいずれか一つに記載のアイソレーターシステム。
15. 前記走行軌道は、平面視したときＵ字状に構成されていることを特徴とする請求項１０ないし１３のいずれか一つに記載のアイソレーターシステム。