JP2019110152A - チャックプレート、アニール装置、及びアニール方法 - Google Patents
チャックプレート、アニール装置、及びアニール方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019110152A JP2019110152A JP2017240419A JP2017240419A JP2019110152A JP 2019110152 A JP2019110152 A JP 2019110152A JP 2017240419 A JP2017240419 A JP 2017240419A JP 2017240419 A JP2017240419 A JP 2017240419A JP 2019110152 A JP2019110152 A JP 2019110152A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- annealed
- holding table
- thermal radiation
- chuck plate
- annealing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
アニール対象物と保持テーブルとの間に配置されて使用され、前記アニール対象物から放射されて前記保持テーブルに向かう熱放射光を減衰させる機能を持つチャックプレートが提供される。
アニール対象物を保持する保持テーブルと、
前記保持テーブルと前記アニール対象物との間に配置されるチャックプレートと、
前記保持テーブルに保持された前記アニール対象物を加熱する加熱機構と、
前記保持テーブルに保持され、前記加熱機構によって加熱された前記アニール対象物からの熱放射光を検出する熱放射光検出器と
を有し、
前記チャックプレートは、前記アニール対象物から放射されて前記保持テーブルに向かう熱放射光を減衰させる機能を持つアニール装置が提供される。
保持テーブルの上にアニール対象物を保持し、
前記保持テーブルに保持された前記アニール対象物を加熱し、
加熱された前記アニール対象物から上方に向かう熱放射光の強度を測定し、
加熱された前記アニール対象物から前記保持テーブルに向かい、前記保持テーブルで反射され、前記アニール対象物を透過して前記アニール対象物の上方に向かう熱放射光を吸収または減衰させるアニール方法が提供される。
上記実施例では、吸収膜14B(図5A、図5B)として、黒色の色素を含む膜を用いたが、熱放射光検出器25(図1)で検出する対象となっている波長域の光を吸収または減衰させる材料を含む膜を用いてもよい。また、吸収膜14Bは、チャックプレート14の本体14Aの上面に設ける代わりに、下面に設けてもよいし、上面と下面との両方に設けてもよい。その他に、チャックプレート14を、熱放射光を減衰させる機能を持つ材料で形成してもよい。
11 レーザ透過窓
12 移動機構
13 保持テーブル
14 チャックプレート
14A チャックプレートの本体
14B 吸収膜
15 リフトピン用の穴
16 溝
17 リフトピン
18 リフトピン用貫通孔
19 吸着用貫通孔
20 レーザ光源
21 伝送光学系
22 ダイクロイックミラー
23、24 レンズ
25 熱放射光検出器
30 アニール対象物
31 高温になった箇所
32 貫通孔に対応する位置
40 制御装置
41 記憶装置
42 出力装置
Claims (8)
- アニール対象物と保持テーブルとの間に配置されて使用され、前記アニール対象物から放射されて前記保持テーブルに向かう熱放射光を減衰させる機能を持つチャックプレート。
- 前記アニール対象物が保持される上面は、前記アニール対象物が保持された状態で前記アニール対象物に接触する一様な領域と、前記アニール対象物と重なるが前記アニール対象物に接触しない非接触領域とを含む請求項1に記載のチャックプレート。
- 前記アニール対象物が保持される上面、及び前記保持テーブルの方を向く下面の少なくとも一方に、前記アニール対象物から放射されて前記保持テーブルに向かう熱放射光を吸収する色素を含む吸収膜が設けられている請求項1または2に記載のチャックプレート。
- アニール対象物を保持する保持テーブルと、
前記保持テーブルと前記アニール対象物との間に配置されるチャックプレートと、
前記保持テーブルに保持された前記アニール対象物を加熱する加熱機構と、
前記保持テーブルに保持され、前記加熱機構によって加熱された前記アニール対象物からの熱放射光を検出する熱放射光検出器と
を有し、
前記チャックプレートは、前記アニール対象物から放射されて前記保持テーブルに向かう熱放射光を減衰させる機能を持つアニール装置。 - 前記チャックプレートは、前記熱放射光検出器によって検出される波長域の熱放射光を減衰させる請求項4に記載のアニール装置。
- 前記チャックプレートの、前記アニール対象物が保持される上面は、前記アニール対象物が保持された状態で前記アニール対象物に接触する一様な領域と、前記アニール対象物と重なるが前記アニール対象物に接触しない非接触領域とを含む請求項4または5に記載のアニール装置。
- 前記チャックプレートの、前記アニール対象物が保持される上面、及び前記保持テーブルの方を向く下面の少なくとも一方に、前記アニール対象物から放射されて前記保持テーブルに向かう熱放射光を吸収する色素が塗布されている請求項4乃至6のいずれか1項に記載のアニール装置。
- 保持テーブルの上にアニール対象物を保持し、
前記保持テーブルに保持された前記アニール対象物を加熱し、
加熱された前記アニール対象物から上方に向かう熱放射光の強度を測定し、
加熱された前記アニール対象物から前記保持テーブルに向かい、前記保持テーブルで反射され、前記アニール対象物を透過して前記アニール対象物の上方に向かう熱放射光を吸収または減衰させるアニール方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017240419A JP6976658B2 (ja) | 2017-12-15 | 2017-12-15 | チャックプレート及びアニール装置 |
KR1020207014250A KR102337481B1 (ko) | 2017-12-15 | 2018-11-16 | 척플레이트, 어닐링장치, 및 어닐링방법 |
EP18887501.7A EP3726564B1 (en) | 2017-12-15 | 2018-11-16 | Chuck plate, annealing device, and annealing method |
CN201880074747.8A CN111433892B (zh) | 2017-12-15 | 2018-11-16 | 卡盘板、退火装置及退火方法 |
PCT/JP2018/042511 WO2019116826A1 (ja) | 2017-12-15 | 2018-11-16 | チャックプレート、アニール装置、及びアニール方法 |
US16/899,801 US11355344B2 (en) | 2017-12-15 | 2020-06-12 | Chuck plate, annealing device, and annealing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017240419A JP6976658B2 (ja) | 2017-12-15 | 2017-12-15 | チャックプレート及びアニール装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019110152A true JP2019110152A (ja) | 2019-07-04 |
JP6976658B2 JP6976658B2 (ja) | 2021-12-08 |
Family
ID=67180115
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017240419A Active JP6976658B2 (ja) | 2017-12-15 | 2017-12-15 | チャックプレート及びアニール装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6976658B2 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006140230A (ja) * | 2004-11-10 | 2006-06-01 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ照射装置及びレーザ照射方法 |
JP2006156915A (ja) * | 2004-12-01 | 2006-06-15 | Ultratech Inc | レーザー熱処理のための加熱チャック |
JP2006298607A (ja) * | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 基板処理方法、基板搬送装置及び搬送装置 |
JP2014192277A (ja) * | 2013-03-27 | 2014-10-06 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 半導体アニール装置及び温度測定方法 |
-
2017
- 2017-12-15 JP JP2017240419A patent/JP6976658B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006140230A (ja) * | 2004-11-10 | 2006-06-01 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ照射装置及びレーザ照射方法 |
JP2006156915A (ja) * | 2004-12-01 | 2006-06-15 | Ultratech Inc | レーザー熱処理のための加熱チャック |
JP2006298607A (ja) * | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 基板処理方法、基板搬送装置及び搬送装置 |
JP2014192277A (ja) * | 2013-03-27 | 2014-10-06 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 半導体アニール装置及び温度測定方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6976658B2 (ja) | 2021-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN109937100B (zh) | 用于校准扫描装置的方法和加工机 | |
US10739191B2 (en) | Determining a beam profile of a laser beam | |
US20140314121A1 (en) | Optical non-destructive inspection apparatus and optical non-destructive inspection method | |
US20200122276A1 (en) | Methods and device for monitoring a beam guiding optical unit in a laser processing head during laser material processing | |
JP2017142346A (ja) | 照明装置及び光学測定装置 | |
EP2796858A1 (en) | Optical non-destructive inspection apparatus and optical non-destructive inspection method | |
JP2012198511A (ja) | 走査型ミラーデバイス | |
US11355344B2 (en) | Chuck plate, annealing device, and annealing method | |
TWI688006B (zh) | 熱處理裝置、熱處理方法及半導體裝置的製造方法 | |
CN110050184B (zh) | 检查透明基材上的缺陷的方法和设备及发射入射光的方法 | |
US20140321497A1 (en) | Optical non-destructive inspection apparatus and optical non-destructive inspection method | |
JP6976658B2 (ja) | チャックプレート及びアニール装置 | |
WO2016056110A1 (ja) | 解析装置及び解析方法 | |
JP6727724B2 (ja) | ウエハ位置計測装置及びウエハ位置計測方法 | |
KR20130088916A (ko) | 레이저간섭계를 이용한 두께측정방법 | |
KR102231509B1 (ko) | 해석 장치 및 해석 방법 | |
JP7051203B2 (ja) | アニール方法及びアニール装置 | |
KR20120071764A (ko) | 오토포커싱장치 | |
CN109427626B (zh) | 激光退火装置及表面电阻计算装置 | |
KR102258055B1 (ko) | 레이저 어닐링 장비의 온도 모니터링 시스템 | |
JP2010114293A (ja) | 熱処理装置 | |
JP2015230946A (ja) | 実装装置 | |
JP2023114756A (ja) | 形状測定装置の調整方法 | |
JP2587021B2 (ja) | シュリーレン法装置 | |
JP2020071103A (ja) | 高さ分布計測装置及び高さ分布計測方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200715 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210803 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210907 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211109 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211109 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6976658 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R157 | Certificate of patent or utility model (correction) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R157 |