JP2019090000A - シンチレータ、その形成方法および放射線検出装置 - Google Patents
シンチレータ、その形成方法および放射線検出装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019090000A JP2019090000A JP2018167216A JP2018167216A JP2019090000A JP 2019090000 A JP2019090000 A JP 2019090000A JP 2018167216 A JP2018167216 A JP 2018167216A JP 2018167216 A JP2018167216 A JP 2018167216A JP 2019090000 A JP2019090000 A JP 2019090000A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scintillator
- additive
- crystal structure
- base material
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 52
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims abstract description 47
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 27
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 17
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 17
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 28
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 17
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 15
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 11
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000012190 activator Substances 0.000 claims description 9
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- -1 alkali metal halide compound Chemical class 0.000 claims description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 6
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 4
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 3
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims 2
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 abstract description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 abstract description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 abstract description 2
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 abstract 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 37
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 14
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 14
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 13
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 10
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 8
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 7
- XQPRBTXUXXVTKB-UHFFFAOYSA-M caesium iodide Chemical compound [I-].[Cs+] XQPRBTXUXXVTKB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 4
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- CMJCEVKJYRZMIA-UHFFFAOYSA-M thallium(i) iodide Chemical compound [Tl]I CMJCEVKJYRZMIA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-2-(4-fluorophenyl)acetate Chemical compound OC(=O)C(N)C1=CC=C(F)C=C1 JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- 102100031920 Dihydrolipoyllysine-residue succinyltransferase component of 2-oxoglutarate dehydrogenase complex, mitochondrial Human genes 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 101000992065 Homo sapiens Dihydrolipoyllysine-residue succinyltransferase component of 2-oxoglutarate dehydrogenase complex, mitochondrial Proteins 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021612 Silver iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010047571 Visual impairment Diseases 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M bromocopper(1+) Chemical compound Br[Cu+] ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001773 deep-level transient spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 1
- 238000001727 in vivo Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000002601 radiography Methods 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940045105 silver iodide Drugs 0.000 description 1
- FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M sodium iodide Chemical compound [Na+].[I-] FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
Abstract
Description
‐“半導体中の深いエネルギー準位の不純物の測定”、堺和夫ほか、生産研究、25巻、7号、278〜287頁、1973年7月
‐“電子デバイスにおける素材とその計測評価技術 DLTS法”、奥村次徳、HYBRIDS、Vol.7、No.5、29〜36頁、1991年
を参照することで補足されうる。
BB(t)≡{a(t)/b(t)}/{a(0)/b(0)}−1、
ここで、
a(0):焼付け前の露出部分21の輝度値(単位体積当たり。以下同様。)、
b(0):焼付け前の被覆部分22の輝度値、
a(t):焼付け後、時間t経過後の露出部分21の輝度値、
b(t):焼付け後、時間t経過後の被覆部分22の輝度値、
で表される。
a(0)/b(0)=1、
が成立するものとする。
a(t)/b(t)>1、
が成立することとなり、
BB(t)>0、
となる。一方、ブライトバーンが抑制ないし低減されている場合には、
BB(t)≒0、
となる。即ち、評価値BB(t)が小さいほどブライトバーンが抑制ないし低減されており、シンチレータ2の品質が良好であるといえる。
第6実験例は、第5実験例より多くの添加物を含有させた本実施形態の実験例に対応する。SEM観察およびICP分析の結果、第6実験例では、膜厚650μm程度、タリウム濃度1.37モル%程度、及び、添加物濃度240ppmの柱状結晶構造がシンチレータ2として得られた。
Claims (10)
- 基板に蒸着された柱状結晶構造のシンチレータであって、
前記結晶構造の各柱は、ハロゲン化アルカリ金属化合物を母体材料として備えると共に、水素(H)よりイオン化傾向の小さい金属である貴金属の化合物を添加物として含有しており、前記添加物は前記母体材料より融点が低い
ことを特徴とするシンチレータ。 - 前記添加物は、粒子状あるいは粉末状の不純物としては前記結晶構造に含有されていない
ことを特徴とする請求項1に記載のシンチレータ。 - 前記貴金属は、金(Au)、銀(Ag)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、イリジウム(Ir)、ルテニウム(Ru)、オスミウム(Os)、銅(Cu)及び水銀(Hg)の少なくとも1つである
ことを特徴とする請求項1に記載のシンチレータ。 - 前記貴金属は、金(Au)、銀(Ag)及び銅(Cu)の少なくとも1つである
ことを特徴とする請求項1に記載のシンチレータ。 - 前記添加物は、10ppmから30ppmの範囲内である
ことを特徴とする請求項1に記載のシンチレータ。 - 前記結晶構造の各柱は、前記結晶構造のバンドギャップ間にトラップ準位を形成する他の添加物を更に含有する
ことを特徴とする請求項1に記載のシンチレータ。 - 前記他の添加物は、前記母体材料の発光効率を向上させるための賦活剤である
ことを特徴とする請求項6に記載のシンチレータ。 - 請求項1に記載のシンチレータと、
複数の光電変換素子が配列されたセンサ部と、を備える
ことを特徴とする放射線検出装置。 - 基板に蒸着された柱状結晶構造のシンチレータであって、
前記結晶構造の各柱は、ハロゲン化アルカリ金属化合物を母体材料として備えると共に、前記母体材料より融点が低い添加物として、水素(H)よりイオン化傾向の小さい金属である貴金属の化合物を、シンチレーション光の輝度が維持される濃度で含有している
ことを特徴とするシンチレータ。 - シンチレータの形成方法であって、
基板を準備する工程と、
前記基板に対して、ハロゲン化アルカリ金属化合物と、水素(H)よりイオン化傾向の小さい金属である貴金属とを蒸着させて柱状結晶構造のシンチレータを形成する工程と、を含み、
前記結晶構造の各柱は、母体材料として前記ハロゲン化アルカリ金属化合物を備えると共に、前記母体材料より融点の低い添加物として前記貴金属の化合物を含有する
ことを特徴とするシンチレータの形成方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16/178,920 US11073626B2 (en) | 2017-11-10 | 2018-11-02 | Scintillator, method of forming the same, and radiation detection apparatus |
CN201811309709.4A CN109765602A (zh) | 2017-11-10 | 2018-11-06 | 闪烁体、其形成方法和放射线检测装置 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017217513 | 2017-11-10 | ||
JP2017217513 | 2017-11-10 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019090000A true JP2019090000A (ja) | 2019-06-13 |
JP7117950B2 JP7117950B2 (ja) | 2022-08-15 |
Family
ID=66835952
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018167216A Active JP7117950B2 (ja) | 2017-11-10 | 2018-09-06 | シンチレータ、その形成方法および放射線検出装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7117950B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021256179A1 (ja) * | 2020-06-19 | 2021-12-23 | キヤノン株式会社 | シンチレータプレート、放射線検出装置、放射線検出システム、および、シンチレータプレートの製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007058087A1 (ja) * | 2005-11-16 | 2007-05-24 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 放射線用シンチレータプレートの製造方法及び放射線用シンチレータプレート |
JP2007212218A (ja) * | 2006-02-08 | 2007-08-23 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | シンチレータプレート |
JP2007211199A (ja) * | 2006-02-13 | 2007-08-23 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 放射線用シンチレータプレート及びその製造方法 |
-
2018
- 2018-09-06 JP JP2018167216A patent/JP7117950B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007058087A1 (ja) * | 2005-11-16 | 2007-05-24 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 放射線用シンチレータプレートの製造方法及び放射線用シンチレータプレート |
JP2007212218A (ja) * | 2006-02-08 | 2007-08-23 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | シンチレータプレート |
JP2007211199A (ja) * | 2006-02-13 | 2007-08-23 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 放射線用シンチレータプレート及びその製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021256179A1 (ja) * | 2020-06-19 | 2021-12-23 | キヤノン株式会社 | シンチレータプレート、放射線検出装置、放射線検出システム、および、シンチレータプレートの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7117950B2 (ja) | 2022-08-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5089195B2 (ja) | 放射線検出装置、シンチレータパネル、放射線検出システム及び放射線検出装置の製造方法 | |
JP6072232B2 (ja) | シンチレータパネルおよびその製造方法並びに放射線検出器およびその製造方法 | |
US11073626B2 (en) | Scintillator, method of forming the same, and radiation detection apparatus | |
JP5188440B2 (ja) | 放射線画像補正方法および放射線画像撮影装置 | |
JP6266324B2 (ja) | シンチレータパネルおよびその製造方法 | |
JP2007070646A (ja) | 放射線像変換パネルの製造方法および製造装置 | |
JP7117950B2 (ja) | シンチレータ、その形成方法および放射線検出装置 | |
JP2007212218A (ja) | シンチレータプレート | |
JP2014153074A (ja) | 放射線像変換パネルの製造方法、及び、放射線像変換パネル | |
WO2015072197A1 (ja) | 放射線検出器、シンチレータパネルおよびそれらの製造方法 | |
JP7149834B2 (ja) | シンチレータの製造方法 | |
JP2010014469A (ja) | 放射線像変換パネルの製造方法 | |
US20080054222A1 (en) | Scintillator and scintillator plate fitted with the same | |
JP5347967B2 (ja) | シンチレータプレート | |
JP6770286B2 (ja) | シンチレータパネルおよびその製造方法 | |
Nagarkar et al. | Suppression Of Afterglow In CsI (Tl) By Codoping With Eu/sup 2+: Fabrication Of Microcolumnar Films For High-Resolution High-Speed Imaging | |
JP2015001387A (ja) | 放射線検出器の製造方法 | |
WO2015008542A1 (ja) | 放射線検出器、シンチレータパネルおよびそれらの製造方法 | |
JP2007211199A (ja) | 放射線用シンチレータプレート及びその製造方法 | |
WO2021256179A1 (ja) | シンチレータプレート、放射線検出装置、放射線検出システム、および、シンチレータプレートの製造方法 | |
JP2009084471A (ja) | シンチレータプレート | |
JP2015096819A (ja) | シンチレータパネルおよびその製造方法 | |
JP4768576B2 (ja) | 平面放射線画像検出器の製造方法 | |
JP2009236705A (ja) | 放射線検出装置 | |
JP6508790B2 (ja) | 放射線検出器の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20210103 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210113 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210906 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220418 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220425 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220620 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220704 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220802 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7117950 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |