JP2019055888A - レーザーアシストエッチング用ガラス基板、及びそれを用いた有孔ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
まず表1のガラス組成になるように、ガラス原料を調合したガラスバッチを白金坩堝に入れた後、1400〜1650℃で24時間溶融した。ガラスバッチの溶解に際しては、白金スターラーを用いて攪拌し、均質化を行った。次いで、溶融ガラスをカーボン板上に流し出して、板状に成形した後、徐冷点付近の温度で30分間徐冷した。これにより、レーザーアシストエッチング用ガラス基板を得た。
上記で得られたガラス基板について、両面を鏡面研磨して0.5mmの厚みとした。ガラス基板に波長1035nmのフェムト秒レーザー(パルス幅450fs)を照射することにより、ガラス基板に直径10μm、厚み0.5mm程度の略円柱形の変質部を形成した。
(エッチング処理後の変質部における片面の孔部の深さ−エッチング処理前の変質部における片面の孔部の深さ)/{(エッチング処理前の非変質部の厚み−エッチング処理後の非変質部の厚み)÷2)}
Claims (8)
- ホウケイ酸ガラスからなり、ガラス中におけるB元素の配位数の割合として、3配位/(3配位+4配位)が0.4以上であることを特徴とするレーザーアシストエッチング用ガラス基板。
- モル%でR2O(Rは、Li、Na及びKから選択される少なくとも一種)を1超〜4.5%含有することを特徴とする請求項1に記載のレーザーアシストエッチング用ガラス。
- モル%で、SiO2 50〜85%、B2O3 5〜30%、R2O(Rは、Li、Na及びKから選択される少なくとも一種) 1超〜4.5%、Al2O3 0〜5%、及び、MgO 0〜5%を含有することを特徴とする請求項1または2に記載のレーザーアシストエッチング用ガラス。
- 熱膨張係数が20〜50×10−7/Kであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のレーザーアシストエッチング用ガラス基板。
- 請求項1〜4のいずれかに記載のレーザーアシストエッチング用ガラス基板にレーザー光を照射することにより変質部を形成する工程、及び、
ガラス基板をエッチング処理して変質部を溶解することにより孔部を形成する工程、
を備えることを特徴とする有孔ガラス基板の製造方法。 - レーザー光が、波長700〜1200nmのフェムト秒パルスレーザー光であることを特徴とする請求項5に記載の有孔ガラス基板の製造方法。
- エッチング処理を、酸溶液またはアルカリ溶液を用いて行うことを特徴とする請求項5または6に記載の有孔ガラス基板の製造方法。
- 有孔ガラス基板がインターポーザ用ガラス基板として使用されることを特徴とする請求項5〜7のいずれかに記載の有孔ガラス基板の製造方法。
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