JP2019054228A - 光電変換素子および固体撮像装置 - Google Patents
光電変換素子および固体撮像装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019054228A JP2019054228A JP2018081098A JP2018081098A JP2019054228A JP 2019054228 A JP2019054228 A JP 2019054228A JP 2018081098 A JP2018081098 A JP 2018081098A JP 2018081098 A JP2018081098 A JP 2018081098A JP 2019054228 A JP2019054228 A JP 2019054228A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoelectric conversion
- group
- derivative
- unit
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims abstract description 358
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 125
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 92
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 77
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 62
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical compound C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 19
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 17
- PMJMHCXAGMRGBZ-UHFFFAOYSA-N subphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(=N3)N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C3=N1 PMJMHCXAGMRGBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 13
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 10
- 125000005103 alkyl silyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 6
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004441 haloalkylsulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 181
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 43
- 239000010408 film Substances 0.000 description 35
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 28
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 27
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 27
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 description 25
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 24
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 23
- 230000006870 function Effects 0.000 description 22
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 20
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 20
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 18
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 15
- 238000004770 highest occupied molecular orbital Methods 0.000 description 15
- 238000001727 in vivo Methods 0.000 description 15
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 13
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 12
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 12
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 11
- 238000002674 endoscopic surgery Methods 0.000 description 11
- 238000004768 lowest unoccupied molecular orbital Methods 0.000 description 10
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 9
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 9
- 210000001519 tissue Anatomy 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 8
- -1 carboalkoxy group Chemical group 0.000 description 8
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 8
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 8
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 7
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 7
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 7
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 7
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 7
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 7
- 125000005392 carboxamide group Chemical group NC(=O)* 0.000 description 7
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- 238000001356 surgical procedure Methods 0.000 description 6
- 125000004001 thioalkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 125000005000 thioaryl group Chemical group 0.000 description 6
- 238000004402 ultra-violet photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 6
- 125000005104 aryl silyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000005353 silylalkyl group Chemical group 0.000 description 5
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 4
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 4
- JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dizinc;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].[Zn+2].[Zn+2] JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 4
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 4
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 4
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ATLMFJTZZPOKLC-UHFFFAOYSA-N C70 fullerene Chemical compound C12=C(C3=C4C5=C67)C8=C9C%10=C%11C%12=C%13C(C%14=C%15C%16=%17)=C%18C%19=C%20C%21=C%22C%23=C%24C%21=C%21C(C=%25%26)=C%20C%18=C%12C%26=C%10C8=C4C=%25C%21=C5C%24=C6C(C4=C56)=C%23C5=C5C%22=C%19C%14=C5C=%17C6=C5C6=C4C7=C3C1=C6C1=C5C%16=C3C%15=C%13C%11=C4C9=C2C1=C34 ATLMFJTZZPOKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical class N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 3
- 238000000701 chemical imaging Methods 0.000 description 3
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 3
- 238000010336 energy treatment Methods 0.000 description 3
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 3
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 3
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N pentacene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC5=CC=CC=C5C=C4C=C3C=C21 SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 208000005646 Pneumoperitoneum Diseases 0.000 description 2
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003363 ZnMgO Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910007717 ZnSnO Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 2
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 210000004204 blood vessel Anatomy 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MOFVSTNWEDAEEK-UHFFFAOYSA-M indocyanine green Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)CCCCN1C2=CC=C3C=CC=CC3=C2C(C)(C)C1=CC=CC=CC=CC1=[N+](CCCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=C(C=CC=C3)C3=C2C1(C)C MOFVSTNWEDAEEK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229960004657 indocyanine green Drugs 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 2
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N neodymium(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Nd+3].[Nd+3] PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- ZIKATJAYWZUJPY-UHFFFAOYSA-N thulium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Tm+3].[Tm+3] ZIKATJAYWZUJPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- OGGKVJMNFFSDEV-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-n-[4-[4-(n-(3-methylphenyl)anilino)phenyl]phenyl]-n-phenylaniline Chemical compound CC1=CC=CC(N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=C(C)C=CC=2)=C1 OGGKVJMNFFSDEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017911 MgIn Inorganic materials 0.000 description 1
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018594 Si-Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910008465 Si—Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- UPEMFLOMQVFMCZ-UHFFFAOYSA-N [O--].[O--].[O--].[Pm+3].[Pm+3] Chemical compound [O--].[O--].[O--].[Pm+3].[Pm+3] UPEMFLOMQVFMCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005163 aryl sulfanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 229910003440 dysprosium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- NLQFUUYNQFMIJW-UHFFFAOYSA-N dysprosium(iii) oxide Chemical compound O=[Dy]O[Dy]=O NLQFUUYNQFMIJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 229910001940 europium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940075616 europium oxide Drugs 0.000 description 1
- AEBZCFFCDTZXHP-UHFFFAOYSA-N europium(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Eu+3].[Eu+3] AEBZCFFCDTZXHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003914 fluoranthenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC=C4C1=C23)* 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 238000002073 fluorescence micrograph Methods 0.000 description 1
- 229910001938 gadolinium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940075613 gadolinium oxide Drugs 0.000 description 1
- CMIHHWBVHJVIGI-UHFFFAOYSA-N gadolinium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Gd+3].[Gd+3] CMIHHWBVHJVIGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001195 gallium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 210000000936 intestine Anatomy 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910003443 lutetium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- QENHCSSJTJWZAL-UHFFFAOYSA-N magnesium sulfide Chemical compound [Mg+2].[S-2] QENHCSSJTJWZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000004400 mucous membrane Anatomy 0.000 description 1
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 210000000056 organ Anatomy 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPARYNQUYZOBJM-UHFFFAOYSA-N oxo(oxolutetiooxy)lutetium Chemical compound O=[Lu]O[Lu]=O MPARYNQUYZOBJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMKQUGHLEMYQSG-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);praseodymium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Pr+3].[Pr+3] MMKQUGHLEMYQSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZLYXNNZYFBAQO-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);ytterbium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Yb+3].[Yb+3] UZLYXNNZYFBAQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000002572 peristaltic effect Effects 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- 125000001792 phenanthrenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C=CC12)* 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N phosphine group Chemical group P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005575 polycyclic aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- 229910003447 praseodymium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 229910001954 samarium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940075630 samarium oxide Drugs 0.000 description 1
- FKTOIHSPIPYAPE-UHFFFAOYSA-N samarium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Sm+3].[Sm+3] FKTOIHSPIPYAPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical group C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000002784 stomach Anatomy 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 229910003451 terbium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- SCRZPWWVSXWCMC-UHFFFAOYSA-N terbium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Tb+3].[Tb+3] SCRZPWWVSXWCMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001935 tetracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 125000005580 triphenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000870 ultraviolet spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003454 ytterbium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940075624 ytterbium oxide Drugs 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/14636—Interconnect structures
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/649—Aromatic compounds comprising a hetero atom
- H10K85/657—Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons
- H10K85/6576—Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons comprising only sulfur in the heteroaromatic polycondensed ring system, e.g. benzothiophene
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/1462—Coatings
- H01L27/14621—Colour filter arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/14625—Optical elements or arrangements associated with the device
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K19/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic element specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, covered by group H10K10/00
- H10K19/20—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic element specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, covered by group H10K10/00 comprising components having an active region that includes an inorganic semiconductor
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
- H10K30/30—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising bulk heterojunctions, e.g. interpenetrating networks of donor and acceptor material domains
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic radiation-sensitive element covered by group H10K30/00
- H10K39/30—Devices controlled by radiation
- H10K39/32—Organic image sensors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/20—Carbon compounds, e.g. carbon nanotubes or fullerenes
- H10K85/211—Fullerenes, e.g. C60
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/20—Carbon compounds, e.g. carbon nanotubes or fullerenes
- H10K85/211—Fullerenes, e.g. C60
- H10K85/215—Fullerenes, e.g. C60 comprising substituents, e.g. PCBM
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/30—Coordination compounds
- H10K85/311—Phthalocyanine
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/649—Aromatic compounds comprising a hetero atom
- H10K85/654—Aromatic compounds comprising a hetero atom comprising only nitrogen as heteroatom
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/649—Aromatic compounds comprising a hetero atom
- H10K85/655—Aromatic compounds comprising a hetero atom comprising only sulfur as heteroatom
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14643—Photodiode arrays; MOS imagers
- H01L27/14645—Colour imagers
- H01L27/14647—Multicolour imagers having a stacked pixel-element structure, e.g. npn, npnpn or MQW elements
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
Abstract
Description
(R1〜R4は、各々独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数6〜60の芳香族炭化水素基、炭素数3〜30の芳香族複素環基、炭素数1〜30のハロアルキル基、炭素数1〜30のアルキルアミノ基、炭素数2〜60のジアルキルアミノ基、炭素数1〜30のアルキルスルホニル基、炭素数1〜3のハロアルキルスルホニル基、炭素数3〜30のアルキルシリル基、炭素数5〜60のアルキルシリルアセチレン基、シアノ基、またはその誘導体である。)
1.実施の形態(ChDT1誘導体またはChDT2誘導体を含む有機光電変換層を備えた光電変換素子)
1−1.光電変換素子の構成
1−2.光電変換素子の製造方法
1−3.作用・効果
2.変形例(複数の有機光電変換部が積層された光電変換素子)
3.適用例
4.実施例
図1は、本開示の一実施の形態の光電変換素子(光電変換素子10)の断面構成を表したものである。光電変換素子10は、例えば、裏面照射型(裏面受光型)のCCD(Charge Coupled Device)イメージセンサまたはCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)イメージセンサ等の固体撮像素子(固体撮像素子1)において1つの画素(単位画素P)を構成するものである(図8参照)。光電変換素子10は、それぞれ異なる波長域の光を選択的に検出して光電変換を行う1つの有機光電変換部11Gと、2つの無機光電変換部11B,11Rとが縦方向に積層された、いわゆる縦方向分光型のものである。本実施の形態では、有機光電変換部11Gを構成する有機光電変換層16が、Chryseno[1,2-b:8,7-b’]dithiophene誘導体(以下、ChDT1誘導体と称す)またはChryseno[1,2-b:7,8-b’]dithiophene誘導体(以下、ChDT2誘導体と称す)を少なくとも1種含んで形成された構成を有する。
光電変換素子10は、単位画素P毎に、1つの有機光電変換部11Gと、2つの無機光電変換部11B,11Rとが縦方向に積層されたものである。有機光電変換部11Gは、半導体基板11の裏面(第1面11S1)側に設けられている。無機光電変換部11B,11Rは、半導体基板11内に埋め込み形成されており、半導体基板11の厚み方向に積層されている。有機光電変換部11Gは、p型半導体およびn型半導体を含んで構成され、層内にバルクヘテロ接合構造を有する有機光電変換層16を含む。バルクヘテロ接合構造は、p型半導体およびn型半導体が混ざり合うことで形成されたp/n接合面である。
(R1〜R4は、各々独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数6〜60の芳香族炭化水素基、炭素数3〜30の芳香族複素環基、炭素数1〜30のハロアルキル基、炭素数1〜30のアルキルアミノ基、炭素数2〜60のジアルキルアミノ基、炭素数1〜30のアルキルスルホニル基、炭素数1〜3のハロアルキルスルホニル基、炭素数3〜30のアルキルシリル基、炭素数5〜60のアルキルシリルアセチレン基、シアノ基、またはその誘導体である。)
(R15〜R26は、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、直鎖,分岐,または環状アルキル基、チオアルキル基、チオアリール基、アリールスルホニル基、アルキルスルホニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、フェニル基、カルボキシ基、カルボキソアミド基、カルボアルコキシ基、アシル基、スルホニル基、シアノ基およびニトロ基からなる群から選択され、且つ、隣接した任意のR15〜R26は縮合脂肪族環または縮合芳香環の一部であってもよい。前記縮合脂肪族環または縮合芳香環は、炭素以外の1または複数の原子を含んでいてもよい。Mはホウ素または2価あるいは3価の金属である。Xは、ハロゲン、ヒドロキシ基、チオール基、イミド基、置換もしくは未置換のアルコキシ基、置換もしくは未置換のアリールオキシ基、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルキルチオ基、置換もしくは未置換のアリールチオ基からなる群より選択されるいずれかの置換基である。)
(R27,R28は、水素原子、ハロゲン原子、直鎖,分岐または環状のアルキル基、フェニル基、直鎖または縮環した芳香族化合物を有する基、ハロゲン化物を有する基、パーシャルフルオロアルキル基、パーフルオロアルキル基、シリルアルキル基、シリルアルコキシ基、アリールシリル基、アリールスルファニル基、アルキルスルファニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルフィド基、アルキルスルフィド基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、カルボニル基、カルボキシ基、カルボキソアミド基、カルボアルコキシ基、アシル基、スルホニル基、シアノ基、ニトロ基、カルコゲン化物を有する基、ホスフィン基、ホスホン基あるいはそれらの誘導体である。n,mは2以上の整数である。)
本実施の形態の光電変換素子10は、例えば、次のようにして製造することができる。
光電変換素子10へ入射した光のうち、まず、緑色光が、有機光電変換部11Gにおいて選択的に検出(吸収)され、光電変換される。
続いて、有機光電変換部11Gを透過した光のうち、青色光は無機光電変換部11B、赤色光は無機光電変換部11Rにおいて、それぞれ順に吸収され、光電変換される。無機光電変換部11Bでは、入射した青色光に対応した電子が無機光電変換部11Bのn領域に蓄積され、蓄積された電子は、縦型トランジスタTr1によりフローティングディフュージョンFD1へと転送される。同様に、無機光電変換部11Rでは、入射した赤色光に対応した電子が無機光電変換部11Rのn領域に蓄積され、蓄積された電子は、転送トランジスタTr2によりフローティングディフュージョンFD2へと転送される。
近年提案されている縦型分光撮像素子に用いられている有機光電変換膜には、所望の波長の光のみを吸収する分光特性、高い光電変換特性、低暗電流特性および高速応答(オン/オフ)特性が求められる。
図7は、本開示の変形例に係る光電変換素子(光電変換素子20)の断面構成を表したものである。光電変換素子20は、上記実施の形態等の光電変換素子10と同様に、例えば、裏面照射型のCCDイメージセンサまたはCMOSイメージセンサ等の固体撮像素子(固体撮像素子1)において1つの単位画素Pを構成するものである。本変形例の光電変換素子20は、シリコン基板81上に絶縁層82を介して赤色光電変換部40R、緑色光電変換部40Gおよび青色光電変換部40Bがこの順に積層された構成を有する。
(R29〜R46は、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、直鎖,分岐,または環状アルキル基、チオアルキル基、チオアリール基、アリールスルホニル基、アルキルスルホニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、フェニル基、カルボキシ基、カルボキソアミド基、カルボアルコキシ基、アシル基、スルホニル基、シアノ基およびニトロ基からなる群から選択され、且つ、隣接した任意のR29〜R46は縮合脂肪族環または縮合芳香環の一部であってもよい。前記縮合脂肪族環または縮合芳香環は、炭素以外の1または複数の原子を含んでいてもよい。M1はホウ素または2価あるいは3価の金属である。Y1は、ハロゲン、ヒドロキシ基、チオール基、イミド基、置換もしくは未置換のアルコキシ基、置換もしくは未置換のアリールオキシ基、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルキルチオ基、置換もしくは未置換のアリールチオ基からなる群より選択されるいずれかの置換基である。)
(R47〜R62は、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、直鎖,分岐,または環状アルキル基、アリール基、パーシャルフルオロアルキル基、パーフルオロアルキル基、シリルアルキル基、シリルアルコキシ基、アリールシリル基、チオアルキル基、チオアリール基、アリールスルホニル基、アルキルスルホニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、カルボキシ基、カルボキソアミド基、カルボアルコキシ基、アシル基、スルホニル基、シアノ基およびニトロ基である。隣り合う任意のR47〜R62は、互いに結合して縮合脂肪族環または縮合芳香環を形成していてもよい。縮合脂肪族環または縮合芳香環は、炭素以外の1または複数の原子を含んでいてもよい。Z1〜Z4は、各々独立して窒素原子、R63は、水素原子、ハロゲン原子、直鎖,分岐,または環状アルキル基、アリール基、パーシャルフルオロアルキル基、パーフルオロアルキル基、シリルアルキル基、シリルアルコキシ基、アリールシリル基、チオアルキル基、チオアリール基、アリールスルホニル基、アルキルスルホニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、カルボキシ基、カルボキソアミド基、カルボアルコキシ基、アシル基、スルホニル基、シアノ基およびニトロ基である。M2はホウ素または2価あるいは3価の金属である。)
(R64〜R69は、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、直鎖,分岐,または環状アルキル基、アリール基、パーシャルフルオロアルキル基、パーフルオロアルキル基、シリルアルキル基、シリルアルコキシ基、アリールシリル基、チオアルキル基、チオアリール基、アリールスルホニル基、アルキルスルホニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、カルボキシ基、カルボキソアミド基、カルボアルコキシ基、アシル基、スルホニル基、シアノ基およびニトロ基である。隣り合う任意のR64〜R69は、互いに結合して縮合脂肪族環または縮合芳香環を形成していてもよい。縮合脂肪族環または縮合芳香環は、炭素以外の1または複数の原子を含んでいてもよい。)
(R70〜R81は、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、直鎖,分岐,または環状アルキル基、アリール基、パーシャルフルオロアルキル基、パーフルオロアルキル基、シリルアルキル基、シリルアルコキシ基、アリールシリル基、チオアルキル基、チオアリール基、アリールスルホニル基、アルキルスルホニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、カルボキシ基、カルボキソアミド基、カルボアルコキシ基、アシル基、スルホニル基、シアノ基およびニトロ基である。隣り合う任意のR70〜R81は、互いに結合して縮合脂肪族環または縮合芳香環を形成していてもよい。縮合脂肪族環または縮合芳香環は、炭素以外の1または複数の原子を含んでいてもよい。M3は、金属、金属ハロゲン化物、金属酸化物、金属水素化物、または2個の水素のいずれかである。)
(適用例1)
図8は、例えば、上記実施の形態において説明した光電変換素子10を各画素に用いた固体撮像素子1の全体構成を表したものである。この固体撮像素子1は、CMOSイメージセンサであり、半導体基板11上に、撮像エリアとしての画素部1aを有すると共に、この画素部1aの周辺領域に、例えば、行走査部131、水平選択部133、列走査部134およびシステム制御部132からなる周辺回路部130を有している。
上述の固体撮像素子1は、例えば、デジタルスチルカメラやビデオカメラ等のカメラシステムや、撮像機能を有する携帯電話等、撮像機能を備えたあらゆるタイプの固体撮像装置(電子機器)に適用することができる。図9に、その一例として、カメラ2の概略構成を示す。このカメラ2は、例えば、静止画または動画を撮影可能なビデオカメラであり、固体撮像素子1と、光学系(光学レンズ)310と、シャッタ装置311と、固体撮像素子1およびシャッタ装置311を駆動する駆動部313と、信号処理部312とを有する。
<体内情報取得システムへの応用例>
更に、本開示に係る技術(本技術)は、様々な製品へ応用することができる。例えば、本開示に係る技術は、内視鏡手術システムに適用されてもよい。
<4.内視鏡手術システムへの応用例>
本開示に係る技術(本技術)は、様々な製品へ応用することができる。例えば、本開示に係る技術は、内視鏡手術システムに適用されてもよい。
<移動体への応用例>
本開示に係る技術は、様々な製品へ応用することができる。例えば、本開示に係る技術は、自動車、電気自動車、ハイブリッド電気自動車、自動二輪車、自転車、パーソナルモビリティ、飛行機、ドローン、船舶、ロボット、建設機械、農業機械(トラクター)などのいずれかの種類の移動体に搭載される装置として実現されてもよい。
次に、本開示の実施例について詳細に説明する。
ChDT1誘導体、ChDT2誘導体およびその他の材料のエネルギーレベルを評価するため、蒸着装置を用いて、シリコン基板411上に厚み50nmの有機薄膜412を成膜した(図15)。実験1では、ChDT1誘導体およびChDT2誘導体として、式(1−1)に示したChDT1、式(1−3)に示したBP−ChDT1、式(1−2)に示したDP−ChDT1および式(2−3)に示したBP−ChDT2を用いた。その他の材料としては、下記式(11−1)に示したF6−SubPc−OC6F5および下記式(12−1)に示したC60を用いた。これら材料のエネルギーレベルは、紫外線光電子分光法(UPS)により、各材料のHOMOレベルを評価した。LUMOレベルは、分光測定の結果から光学バンドギャップを算出し、光学バンドギャップとUPSで算出されたHOMOレベルから算出した。これによって得られた各材料のHOMO値およびLUMO値が、上記表1にまとめたものである。
ChDT1誘導体およびChDT2誘導体の分光特性を評価するため、蒸着装置を用いて、石英基板410上に厚み50nmの有機薄膜412を成膜した(図16)。実験2では、ChDT1誘導体およびChDT2誘導体として、式(1−1)に示したChDT1、式(1−3)に示したBP−ChDT1、式(1−2)に示したDP−ChDT1および式(2−3)に示したBP−ChDT2を用いた。各材料の分光特性は、紫外可視分光光度計を用いて測定した。図17は、ChDT1、BP−ChDT1、DP−ChDT1およびBP−ChDT2の分光特性を表したものである。ChDT1、BP−ChDT1、DP−ChDT1およびBP−ChDT2いずれも、可視光をほぼ吸収しないことがわかった。
まず、p型半導体材料(p材料)としてBP−ChDT1を用いた光電変換素子を作製した。石英基板410上に、下部電極415としてITO電極を形成し、UV/オゾン(O3)洗浄を行った。こののち、石英基板410を有機蒸着室に移動し室内を1×10−5Pa以下に減圧した。続いて、基板ホルダーを回転させながら、昇華精製したBP−ChDT1(式(1−3)と、昇華精製を行ったF6−SubPc−OC6F5(式(11−1))と、昇華精製を行ったC60(式(12−1))とを、BP−ChDT1:F6−SubPc−OC6F5:C60=4:4:2となるように蒸着速度を調整して合計100nmとなるように下部電極415上に蒸着させてバルクヘテロ構造を有する有機光電変換層416を成膜した。次いで、バッファ層420として、下記式(18)に示したB4PyMPMを5nmの厚みとなるように成膜した。続いて、上部電極417としてAl−Si−Cu合金を厚み100nmとなるように蒸着成膜することで、1mm×1mmの光電変換領域を有する光電変換素子(実験例1)を作製した(図18)。
[1]
第1電極と、
前記第1電極に対向配置された第2電極と、
前記第1電極と前記第2電極との間に設けられると共に、下記一般式(1)で表されるChryseno[1,2-b:8,7-b’]dithiophene(ChDT1)誘導体または下記一般式(2)で表されるChryseno[1,2-b:7,8-b’]dithiophene(ChDT2)誘導体を少なくとも1種含んでいる有機光電変換層と
を備えた光電変換素子。
(R1〜R4は、各々独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数6〜60の芳香族炭化水素基、炭素数3〜30の芳香族複素環基、炭素数1〜30のハロアルキル基、炭素数1〜30のアルキルアミノ基、炭素数2〜60のジアルキルアミノ基、炭素数1〜30のアルキルスルホニル基、炭素数1〜3のハロアルキルスルホニル基、炭素数3〜30のアルキルシリル基、炭素数5〜60のアルキルシリルアセチレン基、シアノ基、またはその誘導体である。)
[2]
前記有機光電変換層は、450nmよりも長波長側に吸収極大波長を有する有機半導体材料をさらに含む、前記[1]に記載の光電変換素子。
[3]
前記有機半導体材料は、サブフタロシアニンまたはサブフタロシアニン誘導体である、前記[2]に記載の光電変換素子。
[4]
前記有機半導体材料は、フラーレンまたはフラーレン誘導体である、前記[2]または[3]のうちのいずれかに記載の光電変換素子。
[5]
前記有機光電変換層は、前記ChDT1誘導体および前記ChDT2誘導体の少なくとも一方と、サブフタロシアニンまたはサブフタロシアニン誘導体と、フラーレンまたはフラーレン誘導体とを、それぞれ1種ずつ含む、前記[1]乃至[4]のうちのいずれかに記載の光電変換素子。
[6]
各画素が1または複数の有機光電変換部を含み、
前記有機光電変換部は、
第1電極と、
前記第1電極に対向配置された第2電極と、
前記第1電極と前記第2電極との間に設けられると共に、下記一般式(1)で表されるChryseno[1,2-b:8,7-b’]dithiophene(ChDT1)誘導体または下記一般式(2)で表されるChryseno[1,2-b:7,8-b’]dithiophene(ChDT2)誘導体を少なくとも1種含んでいる有機光電変換層と
を備えた固体撮像装置。
(R1〜R4は、各々独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数6〜60の芳香族炭化水素基、炭素数3〜30の芳香族複素環基、炭素数1〜30のハロアルキル基、炭素数1〜30のアルキルアミノ基、炭素数2〜60のジアルキルアミノ基、炭素数1〜30のアルキルスルホニル基、炭素数1〜3のハロアルキルスルホニル基、炭素数3〜30のアルキルシリル基、炭素数5〜60のアルキルシリルアセチレン基、シアノ基、またはその誘導体である。)
[7]
各画素では、1または複数の前記有機光電変換部と、前記有機光電変換部とは異なる波長域の光電変換を行う1または複数の無機光電変換部とが積層されている、前記[6]に記載の固体撮像装置。
[8]
前記無機光電変換部は、半導体基板内に埋め込み形成され、
前記有機光電変換部は、前記半導体基板の第1面側に形成されている、前記[7]に記載の固体撮像装置。
[9]
前記半導体基板の第2面側に多層配線層が形成されている、前記[8]に記載の固体撮像装置。
[10]
前記有機光電変換部が緑色光の光電変換を行い、
前記半導体基板内に、青色光の光電変換を行う無機光電変換部と、赤色光の光電変換を行う無機光電変換部とが積層されている、前記[8]または[9]に記載の固体撮像装置。
[11]
各画素では、互いに異なる波長域の光電変換を行う複数の前記有機光電変換部が積層されている、前記[6]乃至[10]のうちのいずれかに記載の固体撮像装置。
Claims (11)
- 第1電極と、
前記第1電極に対向配置された第2電極と、
前記第1電極と前記第2電極との間に設けられると共に、下記一般式(1)で表されるChryseno[1,2-b:8,7-b’]dithiophene(ChDT1)誘導体または下記一般式(2)で表されるChryseno[1,2-b:7,8-b’]dithiophene(ChDT2)誘導体を少なくとも1種含んでいる有機光電変換層と
を備えた光電変換素子。
(R1〜R4は、各々独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数6〜60の芳香族炭化水素基、炭素数3〜30の芳香族複素環基、炭素数1〜30のハロアルキル基、炭素数1〜30のアルキルアミノ基、炭素数2〜60のジアルキルアミノ基、炭素数1〜30のアルキルスルホニル基、炭素数1〜3のハロアルキルスルホニル基、炭素数3〜30のアルキルシリル基、炭素数5〜60のアルキルシリルアセチレン基、シアノ基、またはその誘導体である。) - 前記有機光電変換層は、450nmよりも長波長側に吸収極大波長を有する有機半導体材料をさらに含む、請求項1に記載の光電変換素子。
- 前記有機半導体材料は、サブフタロシアニンまたはサブフタロシアニン誘導体である、請求項2に記載の光電変換素子。
- 前記有機半導体材料は、フラーレンまたはフラーレン誘導体である、請求項2に記載の光電変換素子。
- 前記有機光電変換層は、前記ChDT1誘導体および前記ChDT2誘導体の少なくとも一方と、サブフタロシアニンまたはサブフタロシアニン誘導体と、フラーレンまたはフラーレン誘導体とを、それぞれ1種ずつ含む、請求項1に記載の光電変換素子。
- 各画素が1または複数の有機光電変換部を含み、
前記有機光電変換部は、
第1電極と、
前記第1電極に対向配置された第2電極と、
前記第1電極と前記第2電極との間に設けられると共に、下記一般式(1)で表されるChryseno[1,2-b:8,7-b’]dithiophene(ChDT1)誘導体または下記一般式(2)で表されるChryseno[1,2-b:7,8-b’]dithiophene(ChDT2)誘導体を少なくとも1種含んでいる有機光電変換層と
を備えた固体撮像装置。
(R1〜R4は、各々独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数6〜60の芳香族炭化水素基、炭素数3〜30の芳香族複素環基、炭素数1〜30のハロアルキル基、炭素数1〜30のアルキルアミノ基、炭素数2〜60のジアルキルアミノ基、炭素数1〜30のアルキルスルホニル基、炭素数1〜3のハロアルキルスルホニル基、炭素数3〜30のアルキルシリル基、炭素数5〜60のアルキルシリルアセチレン基、シアノ基、またはその誘導体である。) - 各画素では、1または複数の前記有機光電変換部と、前記有機光電変換部とは異なる波長域の光電変換を行う1または複数の無機光電変換部とが積層されている、請求項6に記載の固体撮像装置。
- 前記無機光電変換部は、半導体基板内に埋め込み形成され、
前記有機光電変換部は、前記半導体基板の第1面側に形成されている、請求項7に記載の固体撮像装置。 - 前記半導体基板の第2面側に多層配線層が形成されている、請求項8に記載の固体撮像装置。
- 前記有機光電変換部が緑色光の光電変換を行い、
前記半導体基板内に、青色光の光電変換を行う無機光電変換部と、赤色光の光電変換を行う無機光電変換部とが積層されている、請求項8に記載の固体撮像装置。 - 各画素では、互いに異なる波長域の光電変換を行う複数の前記有機光電変換部が積層されている、請求項6に記載の固体撮像装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2018/030548 WO2019054125A1 (ja) | 2017-09-15 | 2018-08-17 | 光電変換素子および固体撮像装置 |
US16/645,038 US11690293B2 (en) | 2017-09-15 | 2018-08-17 | Photoelectric conversion element and solid-state imaging device |
US18/318,873 US20230292614A1 (en) | 2017-09-15 | 2023-05-17 | Photoelectric conversion element and solid-state imaging device |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017177775 | 2017-09-15 | ||
JP2017177775 | 2017-09-15 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019054228A true JP2019054228A (ja) | 2019-04-04 |
JP7109240B2 JP7109240B2 (ja) | 2022-07-29 |
Family
ID=66013921
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018081098A Active JP7109240B2 (ja) | 2017-09-15 | 2018-04-20 | 光電変換素子および固体撮像装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11690293B2 (ja) |
JP (1) | JP7109240B2 (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020013246A1 (ja) | 2018-07-13 | 2020-01-16 | 富士フイルム株式会社 | 光電変換素子、撮像素子、光センサ、化合物 |
WO2020235257A1 (ja) * | 2019-05-17 | 2020-11-26 | ソニー株式会社 | 光電変換素子および撮像装置 |
WO2021141078A1 (ja) | 2020-01-10 | 2021-07-15 | 富士フイルム株式会社 | 光電変換素子、撮像素子、光センサ |
WO2021221108A1 (ja) | 2020-04-30 | 2021-11-04 | 富士フイルム株式会社 | 光電変換素子、撮像素子、光センサ、化合物 |
WO2022014721A1 (ja) | 2020-07-17 | 2022-01-20 | 富士フイルム株式会社 | 光電変換素子、撮像素子、光センサ、及び化合物 |
WO2022138833A1 (ja) | 2020-12-24 | 2022-06-30 | 富士フイルム株式会社 | 光電変換素子、撮像素子、光センサ、化合物 |
WO2022168856A1 (ja) | 2021-02-05 | 2022-08-11 | 富士フイルム株式会社 | 光電変換素子、撮像素子、光センサ、化合物 |
KR20230113324A (ko) | 2020-11-27 | 2023-07-28 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 촬상용 광전 변환 소자용 재료 |
KR20230113567A (ko) | 2020-11-27 | 2023-07-31 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 촬상용 광전 변환 소자 재료 및 광전 변환 소자 |
KR20240035756A (ko) | 2021-07-15 | 2024-03-18 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 촬상용 광전 변환 소자용 재료 |
KR20240035755A (ko) | 2021-07-15 | 2024-03-18 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 촬상용의 광전 변환 소자용 재료 및 촬상용 광전 변환 소자 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009538529A (ja) * | 2006-05-25 | 2009-11-05 | ザ、トラスティーズ オブ プリンストン ユニバーシティ | サブフタロシアニン化合物を用いた有機感光性デバイス |
WO2010024388A1 (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-04 | 出光興産株式会社 | 有機薄膜トランジスタ用化合物及びそれを用いた有機薄膜トランジスタ |
WO2016203925A1 (ja) * | 2015-06-17 | 2016-12-22 | ソニー株式会社 | 光電変換素子 |
WO2017022761A1 (ja) * | 2015-08-04 | 2017-02-09 | 富士フイルム株式会社 | 有機薄膜トランジスタ及びその製造方法、有機薄膜トランジスタ用材料、有機薄膜トランジスタ用組成物、化合物、並びに、有機半導体膜 |
JP2017157801A (ja) * | 2016-03-04 | 2017-09-07 | ソニー株式会社 | 光電変換素子および光電変換素子の製造方法ならびに固体撮像装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6567276B2 (ja) | 2014-05-13 | 2019-08-28 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 固体撮像素子、および電子機器 |
WO2017170279A1 (ja) | 2016-04-01 | 2017-10-05 | 富士フイルム株式会社 | 有機半導体素子、重合体、有機半導体組成物及び有機半導体膜 |
-
2018
- 2018-04-20 JP JP2018081098A patent/JP7109240B2/ja active Active
- 2018-08-17 US US16/645,038 patent/US11690293B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009538529A (ja) * | 2006-05-25 | 2009-11-05 | ザ、トラスティーズ オブ プリンストン ユニバーシティ | サブフタロシアニン化合物を用いた有機感光性デバイス |
WO2010024388A1 (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-04 | 出光興産株式会社 | 有機薄膜トランジスタ用化合物及びそれを用いた有機薄膜トランジスタ |
WO2016203925A1 (ja) * | 2015-06-17 | 2016-12-22 | ソニー株式会社 | 光電変換素子 |
WO2017022761A1 (ja) * | 2015-08-04 | 2017-02-09 | 富士フイルム株式会社 | 有機薄膜トランジスタ及びその製造方法、有機薄膜トランジスタ用材料、有機薄膜トランジスタ用組成物、化合物、並びに、有機半導体膜 |
JP2017157801A (ja) * | 2016-03-04 | 2017-09-07 | ソニー株式会社 | 光電変換素子および光電変換素子の製造方法ならびに固体撮像装置 |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020013246A1 (ja) | 2018-07-13 | 2020-01-16 | 富士フイルム株式会社 | 光電変換素子、撮像素子、光センサ、化合物 |
EP4306526A2 (en) | 2018-07-13 | 2024-01-17 | FUJIFILM Corporation | Compound for photoelectric conversion element |
WO2020235257A1 (ja) * | 2019-05-17 | 2020-11-26 | ソニー株式会社 | 光電変換素子および撮像装置 |
WO2021141078A1 (ja) | 2020-01-10 | 2021-07-15 | 富士フイルム株式会社 | 光電変換素子、撮像素子、光センサ |
WO2021221108A1 (ja) | 2020-04-30 | 2021-11-04 | 富士フイルム株式会社 | 光電変換素子、撮像素子、光センサ、化合物 |
WO2022014721A1 (ja) | 2020-07-17 | 2022-01-20 | 富士フイルム株式会社 | 光電変換素子、撮像素子、光センサ、及び化合物 |
KR20230113324A (ko) | 2020-11-27 | 2023-07-28 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 촬상용 광전 변환 소자용 재료 |
KR20230113567A (ko) | 2020-11-27 | 2023-07-31 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 촬상용 광전 변환 소자 재료 및 광전 변환 소자 |
WO2022138833A1 (ja) | 2020-12-24 | 2022-06-30 | 富士フイルム株式会社 | 光電変換素子、撮像素子、光センサ、化合物 |
WO2022168856A1 (ja) | 2021-02-05 | 2022-08-11 | 富士フイルム株式会社 | 光電変換素子、撮像素子、光センサ、化合物 |
KR20240035756A (ko) | 2021-07-15 | 2024-03-18 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 촬상용 광전 변환 소자용 재료 |
KR20240035755A (ko) | 2021-07-15 | 2024-03-18 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 촬상용의 광전 변환 소자용 재료 및 촬상용 광전 변환 소자 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7109240B2 (ja) | 2022-07-29 |
US20210119149A1 (en) | 2021-04-22 |
US11690293B2 (en) | 2023-06-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7109240B2 (ja) | 光電変換素子および固体撮像装置 | |
JP7367128B2 (ja) | 固体撮像素子および固体撮像装置 | |
JP7208148B2 (ja) | 光電変換素子および撮像装置 | |
US20230292614A1 (en) | Photoelectric conversion element and solid-state imaging device | |
JP7248580B2 (ja) | 光電変換素子および撮像装置 | |
JP2019057704A (ja) | 光電変換素子および撮像装置 | |
WO2019150988A1 (ja) | 光電変換素子および撮像装置 | |
JP2023145449A (ja) | 光電変換素子の製造方法 | |
JP2023162281A (ja) | 光電変換素子および固体撮像装置 | |
WO2019058994A1 (ja) | 光電変換素子および撮像装置 | |
WO2019098003A1 (ja) | 光電変換素子および固体撮像装置 | |
US20220181568A1 (en) | Solid-state imaging element, method for manufacturing solid-state imaging element, photoelectric conversion element, imaging device, and electronic apparatus | |
WO2019203013A1 (ja) | 光電変換素子および撮像装置 | |
JP2021125682A (ja) | 光電変換素子および撮像素子 | |
WO2021157468A1 (ja) | 光電変換素子および撮像素子 | |
WO2022107654A1 (ja) | 光電変換素子および固体撮像装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210310 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220208 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220404 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220621 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220719 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7109240 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |