JP2019042887A - 研磨液濃度調整方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】研磨液を適切な濃度に調整して研磨液を無駄にしないようにする。【解決手段】タンクに純水と濃縮研磨液とを供給する供給工程S1と、プロペラを回転させタンク内の純水と濃縮研磨液とをかき混ぜるかき混ぜ工程S2と、かき混ぜ工程S2で検出したプロペラの回転数が、予め設定した回転数nより大きいか小さいかを判断する判断工程S3と、検出した回転数が予め設定した回転数Nより小さい(n<N)ときはタンクに純水を供給してプロペラの回転数nを予め設定した回転数Nにする第1の調整工程S4と、検出した回転数が予め設定した回転数Nより速い(n>N)ときはタンクに濃縮研磨液を供給してプロペラの回転数nを予め設定した回転数Nにする第2の調整工程S5とを備えた。【選択図】図2
Description
本発明は、研磨液の濃度を調整する研磨液濃度調整方法に関する。
半導体ウェーハやガラス基板等のワークの表面を平坦化する方法として、CMP(Chemical Mechanical Polishing)が用いられる。CMPでは、研磨装置においてワークの表面に回転する研磨パッドを押し付けつつ研磨液を供給することにより、研磨液中の砥粒による機械的作用と研磨液による化学的作用とにより研磨がなされる。
CMP用の研磨液としては、研磨するワークに応じて研磨装置外において濃縮研磨液が純水で希釈されたものが使用される。従来は、濃縮研磨液を予め所定の濃度に調整した研磨液の入ったタンクを研磨装置に設置し、そのタンクから研磨液を配管で汲み上げて研磨中のワークの表面に供給していた(例えば、特許文献1参照)。
しかし、上述したタンク内の研磨液の濃度が適切に調整されていないと、その研磨液が研磨中のワークの表面に供給されることにより、ワークの表面が予定よりも研磨されなかったり研磨され過ぎたりするなどの加工不良が生じる。そのような場合、配管内の研磨液をすべて抜き取る必要があり研磨液が無駄になってしまう。
本発明は、このような問題にかんがみなされたもので、研磨液を適切な濃度に調整して研磨液を無駄にしないようにすることを課題とする。
本発明は、タンクと、該タンクに純水を供給する純水供給部と、該タンクに濃縮された濃縮研磨液を供給する濃縮研磨液供給部と、該タンクに供給された純水と濃縮研磨液とをかき混ぜるプロペラを回転させる回転部と、該プロペラの回転数を検出する回転数検出部と、を備え所定の濃度の研磨液を生成する研磨液生成機構を用いて研磨液の濃度を調整する研磨液濃度調整方法であって、該タンクに純水と濃縮研磨液とを供給する供給工程と、該回転部により該プロペラを回転させ該タンク内の純水と濃縮研磨液とをかき混ぜるかき混ぜ工程と、該かき混ぜ工程で該回転数検出部が検出した回転数が、予め設定した回転数より遅いか、予め設定した回転数より速いかを判断する判断工程と、該判断工程において、該回転数検出部が検出した回転数が予め設定した回転数より遅いと判断した場合に、該純水供給部にて該タンクに純水を供給して該回転数検出部が検出する回転数を予め設定した回転数にする第1の調整工程と、該判断工程において、該回転数検出部が検出した回転数が予め設定した回転数より速いと判断した場合に、該濃縮研磨液供給部にて該タンクに濃縮研磨液を供給して該回転数検出部が検出する回転数を予め設定した回転数にする第2の調整工程と、を備える。
本発明に係る研磨液濃度調整方法によれば、タンク内の研磨液をかき混ぜるプロペラの回転数に基づき研磨液の濃度が適切かどうかを判断し、検出した回転数が予め設定した回転数より遅いときはタンクに純水を供給して研磨液を適切な濃度まで希釈し、予め設定した回転数より速いときはタンクに濃縮研磨液を供給して研磨液を適切な濃度まで濃くすることにより、研磨液を適切な濃度に調整することができる。そして、その研磨液を研磨装置に供給することにより、研磨液に無駄が生じるのを防止することができる。
図1に示す研磨液生成機構1は、研磨液を貯留するタンク2と、タンク2に純水Wを供給する純水供給部3と、タンク2に濃縮研磨液Cを供給する濃縮研磨液供給部4と、タンク2に供給された純水Wと濃縮研磨液Cとをかき混ぜるプロペラ5と、プロペラ5を回転させる回転部6と、プロペラ5の回転数を検出する回転数検出部7と、タンク2内の研磨液Rの液面Raを検出する液面検出部8と、回転数検出部7及び液面検出部8による検出値に基づいて純水供給部3及び濃縮研磨液供給部4を制御する制御部9とを備えている。
タンク2は、研磨装置に隣接して設置される。タンク2の一方の側壁2bの下部には、タンク2内の研磨液Rを汲み上げて図示しない研磨装置に供給するためのポンプ10が接続されている。
純水供給部3は、純水を貯留する純水供給源31を備え、純水供給源31は配管32を介してタンク2の上部に接続されている。配管32には、純水供給源31からタンク2への純水Wの供給量を制御するための電磁弁33が設けられている。
濃縮研磨液供給部4は、濃縮研磨液を貯留する濃縮研磨液供給源41を備え、濃縮研磨液供給源41は配管42を介してタンク2の上部に接続されている。配管42には、濃縮研磨液供給源41からタンク2への濃縮研磨液Cの供給量を制御するための電磁弁43が設けられている。
プロペラ5は、タンク2の底2aの近傍に配置されている。回転部6は、上下方向に延びる回転シャフト61と、回転シャフト61を回転させるモータ62とを備え、回転シャフト61の下端にプロペラ5が固定されている。回転シャフト61の上端は、モータ62の回転軸に連結されている。モータ62は、DCモータであり、常時一定の電力で駆動される。DCモータは、一定の電力で駆動されているときに、回転軸に掛かる負荷が大きくなるとそれに比例して回転数が減少し、回転軸に掛かる負荷が小さくなるとそれに比例して回転数が増大する。
なお、モータ62は、DCモータに限定されるものでなく、回転軸にかかる負荷によって回転数が変化するモータであればよい。
なお、モータ62は、DCモータに限定されるものでなく、回転軸にかかる負荷によって回転数が変化するモータであればよい。
ここで、モータ62の回転軸に掛かる負荷は、プロペラ5に作用する研磨液Rの粘性抵抗である。したがって、研磨液Rの粘度が高くなると、モータ62の回転軸に掛かる負荷も高くなり、モータ62及びプロペラ5の回転数が低下する。一方、研磨液Rの粘度が低くなると、モータ62の回転軸に掛かる負荷も低下し、モータ62及びプロペラ5の回転数が上昇する。研磨液Rの濃度が高くなるほど研磨液Rの粘度も高くなることから、研磨液Rの濃度の高低をプロペラ5の回転数の大小として検出し得る。
タンク2内の研磨液Rの液面Raを検出する液面検出部8によって検出した液面Raの高さに応じて係数を設定し、回転検出部7が検出した回転数に係数を掛けて濃度を算出ようにしても良い。予め設定される係数は、液面検出部8が検出した液面Raの高さが高いときには大きく、液面Raの高さが低いときには小さい。よって、回転検出部7が検出した回転数が同じ値であっても、液面Raが高いときは、液面Raが低いときより研磨液Rの濃度が低くなる。
タンク2内の研磨液Rの液面Raを検出する液面検出部8によって検出した液面Raの高さに応じて係数を設定し、回転検出部7が検出した回転数に係数を掛けて濃度を算出ようにしても良い。予め設定される係数は、液面検出部8が検出した液面Raの高さが高いときには大きく、液面Raの高さが低いときには小さい。よって、回転検出部7が検出した回転数が同じ値であっても、液面Raが高いときは、液面Raが低いときより研磨液Rの濃度が低くなる。
回転数検出部7は、コードホイール71と、光センサ部72とを有している。コードホイール71は、周方向に等間隔に複数のスリット(貫通孔)が設けられた円板状の部材であり、回転シャフト61に同心状に固定されている。光センサ部72は、コードホイール71の上下にそれぞれ配設された発光素子と受光素子とを備え、発光素子から発せられた光がコードホイール71のスリットを通過して受光素子に受光される毎に出力信号を発する。コードホイール71は、プロペラ5が固定された回転シャフト61と共に回転するため、光センサ部72の出力信号に基づいてプロペラ5の回転数nが検出される。
液面検出部8は、タンク2の深さ方向の中間位置に設けられており、タンク2内の研磨液Rの液面Raが所定の高さ以上のときに出力信号を発する。液面検出部8としては、フロート式、光学式などのレベルセンサが用いられる。
制御部9は、CPU及びメモリを備え、CPUがメモリを作業領域に使用しつつプログラムを逐次実行することにより、回転数検出部7及び液面検出部8からの検出信号に応じた制御信号を生成し、純水供給部3及び濃縮研磨液供給部4の電磁弁33、43を制御する。
以下では、図1に示す研磨液生成機構1を用いた研磨液生成方法について、図2のフローチャートを参照して説明する。図2に示した各工程は、制御部9による制御下で実施される。
(1)供給工程
この研磨液生成方法では、先ず、タンク2に純水Wと濃縮研磨液Cとを供給する供給工程S1が実施される。すなわち、純水供給部3の電磁弁33を開弁することにより純水供給源31からタンク2に純水Wが供給されるとともに、濃縮研磨液供給部4の電磁弁43を開弁することにより濃縮研磨液供給源41からタンク2に濃縮研磨液Cが供給される。
この研磨液生成方法では、先ず、タンク2に純水Wと濃縮研磨液Cとを供給する供給工程S1が実施される。すなわち、純水供給部3の電磁弁33を開弁することにより純水供給源31からタンク2に純水Wが供給されるとともに、濃縮研磨液供給部4の電磁弁43を開弁することにより濃縮研磨液供給源41からタンク2に濃縮研磨液Cが供給される。
(2)かき混ぜ工程
タンク2への純水W及び濃縮研磨液Cの供給を開始した後、プロペラ5を回転させて、タンク2内の純水Wと濃縮研磨液Cとをかき混ぜるかき混ぜ工程S2が開始される。本工程では、タンク2内において、純水Wと濃縮研磨液Cとの混合液である研磨液Rが生成される。
タンク2への純水W及び濃縮研磨液Cの供給を開始した後、プロペラ5を回転させて、タンク2内の純水Wと濃縮研磨液Cとをかき混ぜるかき混ぜ工程S2が開始される。本工程では、タンク2内において、純水Wと濃縮研磨液Cとの混合液である研磨液Rが生成される。
(3)判断工程
タンク2に純水W及び濃縮研磨液Cが供給され、タンク2内に純水Wと濃縮研磨液Cとの混合液である研磨液Rが溜まっていき、液面検出部8が、研磨液Rの液面Raが所定の高さ以上になったことを検出すると、回転数検出部7が、プロペラ5の回転数を検出する。そして、その検出された回転数nが予め設定された回転数Nより遅いか速いかを判断する判断工程S3が開始される。ここで、予め設定された回転数Nは、制御部9に備えたメモリに記憶されており、回転数nと回転数Nとの比較処理も、制御部9において行われる。
タンク2に純水W及び濃縮研磨液Cが供給され、タンク2内に純水Wと濃縮研磨液Cとの混合液である研磨液Rが溜まっていき、液面検出部8が、研磨液Rの液面Raが所定の高さ以上になったことを検出すると、回転数検出部7が、プロペラ5の回転数を検出する。そして、その検出された回転数nが予め設定された回転数Nより遅いか速いかを判断する判断工程S3が開始される。ここで、予め設定された回転数Nは、制御部9に備えたメモリに記憶されており、回転数nと回転数Nとの比較処理も、制御部9において行われる。
(4)第1の調整工程
判断工程S3において、回転数検出部7により検出された回転数nが予め設定した回転数Nより小さい(n<N)と判断されたときは、第1の調整工程S4が実施される。第1の調整工程S4では、電磁弁43を閉弁することによりタンク2への濃縮研磨液Cの供給が停止され、純水供給部3の電磁弁33が開弁されたままの状態で純水Wの供給のみが実施される。
判断工程S3において、回転数検出部7により検出された回転数nが予め設定した回転数Nより小さい(n<N)と判断されたときは、第1の調整工程S4が実施される。第1の調整工程S4では、電磁弁43を閉弁することによりタンク2への濃縮研磨液Cの供給が停止され、純水供給部3の電磁弁33が開弁されたままの状態で純水Wの供給のみが実施される。
第1の調整工程S4は、回転数検出部7により検出された回転数nが予め設定した回転数Nになるまで実施される。回転数nが予め設定した回転数Nになったことは、研磨液Rの粘度が所定の粘度まで低下したこと、すなわち研磨液Rが適切な濃度になったことを意味する。
(5)第2の調整工程
判断工程S3において、回転数検出部7により検出された回転数nが予め設定した回転数Nより大きい(n>N)と判断されたときは、第2の調整工程S5が実施される。第2の調整工程S5では、純水供給部3の電磁弁33は閉弁されてタンク2への純水Wの供給が停止され、濃縮研磨液供給部4の電磁弁43が開弁されたままの状態で濃縮研磨液Cの供給のみ実施される。
判断工程S3において、回転数検出部7により検出された回転数nが予め設定した回転数Nより大きい(n>N)と判断されたときは、第2の調整工程S5が実施される。第2の調整工程S5では、純水供給部3の電磁弁33は閉弁されてタンク2への純水Wの供給が停止され、濃縮研磨液供給部4の電磁弁43が開弁されたままの状態で濃縮研磨液Cの供給のみ実施される。
第2の調整工程S5は、回転数検出部7により検出された回転数nが予め設定した回転数Nになるまで実施される。回転数nが予め設定した回転数Nになったことは、研磨液Rの粘度が所定の粘度まで上昇したこと、すなわち研磨液Rが適切な濃度になったことを意味する。
なお、判断工程において、検出された回転数nが予め設定された回転数Nと等しい場合は、第1の調整工程S4及び第2の調整工程S5のいずれも実施せず、タンク2に対する純水W及び濃縮研磨液Cの供給の割合をそのままとする。
なお、予め設定した回転数Nは、図3のように幅(回転数幅Na)を設けても良い。つまり、予め設定した回転数幅Na内に検出された回転数nが入っていれば研磨液Rが適切な濃度であることを意味する。例えば、図3に示すように、検出された回転数nが回転数幅Naの範囲より小さい場合は、第1の調整開始時から濃縮研磨液Cの供給が停止されるとともに純水Wの供給のみが実施され、検出される回転数nが上昇して回転数幅Naの範囲に入ると、濃縮研磨液Cの供給も再開する。一方、検出された回転数nが回転数幅Naの範囲より大きい場合は、第2の調整開始時から純水Wの供給が停止されるとともに濃縮研磨液Cの供給のみが実施され、検出される回転数nが下降して回転数幅Naの範囲に入ると、純水Wの供給も再開する。
なお、予め設定した回転数Nは、図3のように幅(回転数幅Na)を設けても良い。つまり、予め設定した回転数幅Na内に検出された回転数nが入っていれば研磨液Rが適切な濃度であることを意味する。例えば、図3に示すように、検出された回転数nが回転数幅Naの範囲より小さい場合は、第1の調整開始時から濃縮研磨液Cの供給が停止されるとともに純水Wの供給のみが実施され、検出される回転数nが上昇して回転数幅Naの範囲に入ると、濃縮研磨液Cの供給も再開する。一方、検出された回転数nが回転数幅Naの範囲より大きい場合は、第2の調整開始時から純水Wの供給が停止されるとともに濃縮研磨液Cの供給のみが実施され、検出される回転数nが下降して回転数幅Naの範囲に入ると、純水Wの供給も再開する。
(6)加工工程
判断工程S3による回転数nの判断結果に応じて、第1の調整工程S4及び第2の調整工程S5が実施されることにより、タンク2内の研磨液Rの粘度が適切な濃度に保たれる。このようにしてタンク2内の研磨液Rが適切な濃度に保たれている状態で、加工工程S6が実施される。加工工程S6では、ポンプ10が駆動され、タンク2内の研磨液Rが汲み上げられて研磨装置で研磨中のワークに供給される。
判断工程S3による回転数nの判断結果に応じて、第1の調整工程S4及び第2の調整工程S5が実施されることにより、タンク2内の研磨液Rの粘度が適切な濃度に保たれる。このようにしてタンク2内の研磨液Rが適切な濃度に保たれている状態で、加工工程S6が実施される。加工工程S6では、ポンプ10が駆動され、タンク2内の研磨液Rが汲み上げられて研磨装置で研磨中のワークに供給される。
以上説明したように、本実施形態によれば、タンク2内の研磨液Rをかき混ぜるプロペラ5の回転数nが予め設定した回転数Nより大きいか小さいかにより研磨液Rの濃度を判断し、予め設定した回転数Nより小さいときはタンク2に純水Wを供給して研磨液Rを適切な濃度まで希釈し、予め設定した回転数Nより大きいときはタンク2に濃縮研磨液Cを供給して研磨液Rを適切な濃度まで濃くすることにより、研磨液Rを適切な濃度に調整することができる。したがって、研磨液Rの濃度調整ミスによるワークの加工不良や研磨液の無駄を防止することができる。
また、プロペラ5に作用する研磨液Rの粘性抵抗によって回転数が変化するモータ62を使用して、研磨液Rの濃度の高低をプロペラ5の回転数nの大小として検出し、その回転数nに応じてタンク2への純水W及び濃縮研磨液Cの供給量を制御するようにしたので、研磨液Rの濃度を調整するための制御系を安価な構成で実現することができる。
また、研磨液Rの濃度を調整してからポンプ10によって研磨装置に供給するため、研磨液生成機構1と研磨装置との間の配管内には、常に適切な濃度の研磨液が流通する。したがって、当該配管から研磨液を抜き取る必要がなくなり、研磨液に無駄が生じるのを防止することができる。
1:研磨液生成機構 2:タンク 2a:底 2b:側壁
3:純水供給部 4:濃縮研磨液供給部 5:プロペラ 6:回転部
7:回転数検出部 8:液面検出部 9:制御部 10:ポンプ
31:純水供給源 32:配管 33:電磁弁
41:濃縮研磨液供給源 42:配管 43:電磁弁
61:回転シャフト 62:モータ
71:コードホイール 72:光センサ部
W:純水 C:濃縮研磨液 R:研磨液 Ra:液面
S1:供給工程 S2:かき混ぜ工程 S3:判断工程 S4:第1の調整工程
S5:第2の調整工程 S6:加工工程
3:純水供給部 4:濃縮研磨液供給部 5:プロペラ 6:回転部
7:回転数検出部 8:液面検出部 9:制御部 10:ポンプ
31:純水供給源 32:配管 33:電磁弁
41:濃縮研磨液供給源 42:配管 43:電磁弁
61:回転シャフト 62:モータ
71:コードホイール 72:光センサ部
W:純水 C:濃縮研磨液 R:研磨液 Ra:液面
S1:供給工程 S2:かき混ぜ工程 S3:判断工程 S4:第1の調整工程
S5:第2の調整工程 S6:加工工程
Claims (1)
- タンクと、該タンクに純水を供給する純水供給部と、該タンクに濃縮された濃縮研磨液を供給する濃縮研磨液供給部と、該タンクに供給された純水と濃縮研磨液とをかき混ぜるプロペラを回転させる回転部と、該プロペラの回転数を検出する回転数検出部と、を備え所定の濃度の研磨液を生成する研磨液生成機構を用いて研磨液の濃度を調整する研磨液濃度調整方法であって、
該タンクに純水と濃縮研磨液とを供給する供給工程と、
該回転部により該プロペラを回転させ該タンク内の純水と濃縮研磨液とをかき混ぜるかき混ぜ工程と、
該かき混ぜ工程で該回転数検出部が検出した回転数が、予め設定した回転数より遅いか、予め設定した回転数より速いかを判断する判断工程と、
該判断工程において、該回転数検出部が検出した回転数が予め設定した回転数より遅いと判断した場合に、該純水供給部にて該タンクに純水を供給して該回転数検出部が検出する回転数を予め設定した回転数にする第1の調整工程と、
該判断工程において、該回転数検出部が検出した回転数が予め設定した回転数より速いと判断した場合に、該濃縮研磨液供給部にて該タンクに濃縮研磨液を供給して該回転数検出部が検出する回転数を予め設定した回転数にする第2の調整工程と、
を備えた研磨液濃度調整方法。
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TW201913797A (zh) | 2019-04-01 |
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