KR20010036331A

KR20010036331A - 반도체 웨이퍼 식각장비의 약액농도조절장치

Info

Publication number: KR20010036331A
Application number: KR1019990043289A
Authority: KR
Inventors: 김한영
Original assignee: 김영환; 현대반도체 주식회사
Priority date: 1999-10-07
Filing date: 1999-10-07
Publication date: 2001-05-07

Abstract

본 발명 반도체 웨이퍼 식각장비의 약액농도조절장치는 약액순환라인(13)으로 흐르는 약액(10)의 농도를 검출하기 위한 약액농도검출기(30)를 구비하여, 콘트롤러(18)에서 펌프(14)를 동작시켜서 소진되는 약액(10)을 보충함과 아울러 약액농도검출기(30)에서 검출된 농도값과 설정치를 비교하여 약액(10)이 항상 적정 농도를 유지할 수 있도록 함으로써, 농도변화에 따른 롯드별 식각불균일이 발생되는 것을 방지하는 효과가 있다.

Description

반도체 웨이퍼 식각장비의 약액농도조절장치{APPARATUS FOR CONTROLLING CONCENTRATION OF SEMICONDUCTOR WAFER ETCHING SYSTEM}

본 발명은 반도체 웨이퍼 식각장비의 약액농도조절장치에 관한 것으로, 특히 약액의 농도를 자동으로 정확하게 조절할 수 있도록 하는데 적합한 반도체 웨이퍼 식각장비의 약액농도조절장치에 관한 것이다.

반도체 웨이퍼를 식각하기 위한 식각장비가 도 1에 도시되어 있는 바, 이를 간단히 설명하면 다음과 같다.

도시된 바와 같이 종래의 식각장비는 내,외조(1)(2)로 구성되는 식각베스(3)의 일측에는 제1 정량탱크(4)와 제2 정량탱크(4')가 설치되어 있고, 그 제1/2 정량탱크(4)(4')에 있는 케미컬들은 콘트롤러(5)에 의하여 동작되는 제1/2 펌프(6)(6')에 의하여 각각의 공급라인(7)(7')을 통하여 식각베스(3)로 공급되도록 되어 있다.

상기 식각베스(3)의 하측으로는 외조(2)에서 내조(1)로 케미컬을 순환시킬 수 있도록 약액순환라인(8)이 설치되어 있고, 그 약액순환라인(8) 상에는 펌프(9), 댐퍼(10), 필터(11), 히터(12)가 설치되어 있다.

상기와 같이 구성되어 있는 종래 반도체 웨이퍼 제조용 식각장비는 일정 비율로 혼합된 약액이 내조(1)에 수납된 상태에서 식각하고자 하는 웨이퍼들을 약액에 침적시키고 일정시간 지체하여 식각작업을 실시하고, 그와 같이 식각작업이 진행되는 동안 약액은 약액순환라인(8) 상에 설치된 펌프(9)에 의하여 외조(2)의 펌핑되어 내조(1)로 공급되고, 내조(1)에서 외조(2)로 다시 오버 플로우되면서 순환된다.

상기와 같이 내조(1)에 수납되어 사용되어지는 약액은 장시간 사용하게 되면 웨이퍼에 묻거나 증발되어 소모되고, 그와 같이 소모되는 약액은 콘트롤러(5)에서 제1/2 펌프(6)(6')를 동작시켜서 주기적으로 일정량을 내조(1)로 공급하여 보충한다.

그러나, 상기와 같은 종래 반도체 웨이퍼 식각장비는 소모되는 약액을 보충시에 남아있는 약액의 농도에 관계없이 항상 일정한 양을 공급하게 되어 설정된 정상적인 약액의 농도와 차이가 발생되고, 그와 같이 농도차이가 발생되는 약액에 규정시간동안 웨이퍼를 침적하여 식각이 이루어지므로 작업되는 롯드별로 식각차이가 발생되는 문제점이 있었다.

상기와 같은 문제점을 감안하여 안출한 본 발명의 목적은 약액이 항상 일정한 농도를 유지할 수 있도록 내조에 케미컬을 적정비율로 공급하는데 적합한 반도체 웨이퍼 식각장비의 약액농도조절장치를 제공함에 있다.

도 1은 종래 반도체 웨이퍼 식각장비의 구성을 보인 배관도.

도 2는 본 발명 약액농도조절장치가 구비된 반도체 웨이퍼 식각장비의 구성을 보인 배관도.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *

10 : 약액 11 : 내조

13 : 약액순환라인 18 : 콘트롤러

19,19' : 제1/2 정량펌프 20,20' : 제1/2 정량탱크

21,21' : 케미컬 23 : 식각베스

30 : 약액농도검출기

상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 식각베스의 약액이 약액순환라인을 통하여 순환되고, 콘트롤러에 의하여 제1/2 펌프가 동작하여 제1/2 정량탱크의 케미컬을 내조로 보충하도록 되어 있는 반도체 웨이퍼 식각장비에 있어서, 상기 약액의 농도를 검출하기 위한 약액농도검출기를 구비하여서 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 식각장비의 약액농도조절장치가 제공된다.

이하, 상기와 같이 구성되는 본 발명 반도체 웨이퍼 식각장비의 약액농도조절장치를 첨부된 도면의 실시예를 참고하여 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 2는 본 발명 약액농도조절장치가 구비된 반도체 웨이퍼 식각장비의 구성을 보인 배관도로서, 도시된 바와 같이, 본 발명 약액농도조절장치가 구비된 식각장비는 케미컬 혼합액인 약액(10)이 수납되는 내조(11)의 상단부보다 외조(12)의 상단부가 높게 설치된 식각베스(23)의 하측으로 내,외조(11)(12)를 연결하는 약액순환라인(13)이 설치되어 있고, 그 약액순환라인(13) 상에는 펌프(14), 댐퍼(15), 필터(16), 히터(17)가 설치되어 있으며, 상기 식각베스(13)의 일측에는 콘트롤러(18)에 의하여 동작되는 제1/2 정량펌프(19)(19')에 의하여 제1/2정량탱크(20)(20')의 단일 케미컬(21)(21')을 케미컬공급라인(22)(22')을 통하여 내조(11)의 내부로 공급할 수 있도록 되어 있다.

그리고, 상기와 같이 약액(10)이 순환하는 약액순환라인(13)에는 약액(10)의 농도를 검출하여 콘트롤러(18)로 송신하기 위한 약액농도검출기(30)가 설치되어 있어서, 약액(10)의 농도변화를 계속검출할 수 있도록 되어 있다.

상기와 같이 구성되어 있는 본 발명 약액농도조절장치가 구비된 반도체 웨이퍼 식각장비는 케미컬(21)(21')이 일정비율로 혼합된 약액(10)이 식각베스(23)의 내조(11)에 수납되어 있는 상태에서 웨이퍼들을 내조(11)에 수납된 약액(10)에 일정시간 침적시켜서 웨이퍼들을 식각하고, 그와 같은 식각작업이 이루어지는 동안 펌프(14)로 외조(12)의 약액(10)을 펌핑하여 내조(11)로 공급하고, 내조(11)로 공급된 약액(10)이 다시 외조(12)로 오버 플로우되도록 하여 약액(10)을 계속 순환시키게 된다.

상기와 같은 식각작업이 계속적으로 이루어지면 약액(10)이 소진되면서 농도가 변하게 되는데, 그와 같은 약액(10)의 농도변화를 약액농도검출기(30)에서 검출하여 콘트롤러(18)로 보내고, 콘트롤러(18)에서 그 검출된 농도수치를 규정치와 비교하여 규정된 농도를 유지하도록 제1/2 정량펌프(19)(19')를 각각 적정시간 동작시켜서 제1/2 정량탱크(20)(20')에 수납된 케미컬(21)(21')들을 각각 필요한 양만큼 내조(11)로 공급하여 약액(10)이 소진된 만큼 지속적으로 보충함과 아울러 약액(10)이 일정 농도가 유지되도록 한다.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명 반도체 웨이퍼 식각장비의 약액농도조절장치는 약액순환라인으로 흐르는 약액의 농도를 검출하기 위한 약액농도검출기를 구비하여, 콘트롤러에서 펌프를 동작시켜서 소진되는 약액을 보충함과 아울러 약액농도검출기에서 검출된 농도값과 설정치를 비교하여 약액이 항상 적정 농도를 유지할 수 있도록 함으로써, 농도변화에 따른 롯드별 식각불균일이 발생되는 것을 방지하는 효과가 있다.

Claims

식각베스의 약액이 약액순환라인을 통하여 순환되고, 콘트롤러에 의하여 제1/2 펌프가 동작하여 제1/2 정량탱크의 케미컬을 내조로 보충하도록 되어 있는 반도체 웨이퍼 식각장비에 있어서, 상기 약액의 농도를 검출하기 위한 약액농도검출기를 구비하여서 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 식각장비의 약액농도조절장치.
제 1항에 있어서, 상기 약액농도검출기는 약액순환라인 상에 설치되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 식각장비의 약액농도조절장치.