JP2019035930A - Polarized light irradiating device - Google Patents

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Abstract

To provide a polarized light irradiating device with which it is possible to perform an exposure process on a large-sized workpiece in one step.SOLUTION: A first lamp 11 and a second lamp 12 whose longitudinal directions are approximately orthogonal to the conveyance direction of an object are arranged by being shifted in the conveyance direction and in approximately the orthogonal direction to the conveyance direction, a first end of the first lamp 11 overlapping the second lamp 12 and a second end of the second lamp 12 overlapping the first lamp 11 in the orthogonal direction. A first shading part is provided so as to overlap, in a plan view, a first region that is a portion of a long belt-like region in the orthogonal direction in which light from the first lamp 11 is shined, and a second shading part is provided so as to overlap a second region that is a portion of the long belt-like region in the orthogonal direction in which light from the second lamp is shined, the positions of the first and second regions in the orthogonal direction being approximately the same. The sum of the areas of the first and second shading parts is approximately the same as the areas of the first and second regions.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、偏光光照射装置に関する。   The present invention relates to a polarized light irradiation apparatus.

特許文献1には、光配向膜の搬送方向に対して直交する方向に伸びる線状のランプが光配向膜の搬送方向に沿って多段に配置され、光源の伸びる方向に沿って複数のワイヤーグリッド偏光素子が並べられている光配向用偏光光照射装置が開示されている。   In Patent Document 1, linear lamps extending in a direction orthogonal to the transport direction of the photo-alignment film are arranged in multiple stages along the transport direction of the photo-alignment film, and a plurality of wire grids are formed along the direction in which the light source extends. A polarized light irradiation apparatus for photo-alignment in which polarizing elements are arranged is disclosed.

特許第4815995号公報Japanese Patent No. 4815995

近年、液晶等の表示パネルの大型化に伴い、幅が3mを越える大型のワークに対して露光処理を行いたいという要請が強くなっている。しかしながら、ランプの製造上における撓み等の問題から、3m程度の長いランプを製造することは困難である。   In recent years, with an increase in the size of a display panel such as a liquid crystal display, there is a strong demand for performing exposure processing on a large workpiece having a width exceeding 3 m. However, it is difficult to manufacture a lamp having a length of about 3 m due to problems such as bending in manufacturing the lamp.

特許文献1に記載の発明では、ワークの幅(搬送方向に対して直交する方向の長さ)がランプの幅より狭くなるため、大型のワークに露光処理を行いたいという要請に対応することができない。   In the invention described in Patent Document 1, since the width of the work (the length in the direction orthogonal to the conveyance direction) is narrower than the width of the lamp, it is possible to meet the demand for performing an exposure process on a large work. Can not.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、大型のワークに対して一度で露光処理を行うことができる偏光光照射装置を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of such a situation, and it aims at providing the polarized light irradiation apparatus which can perform an exposure process with respect to a large sized workpiece | work at once.

上記課題を解決するために、本発明に係る偏光光照射装置は、例えば、偏光光が照射される対象物が載置されるステージと、長手方向が前記対象物の搬送方向に対して略直交するように設けられた第1ランプ及び第2ランプと、前記第1ランプ及び前記第2ランプと前記ステージとの間に設けられ、前記第1ランプ及び前記第2ランプから照射された光を偏光する偏光部材と、前記第1ランプと前記ステージとの間に設けられ、前記第1ランプから照射された光を遮る第1遮光部と、前記第2ランプと前記ステージとの間に設けられ、前記第2ランプから照射された光を遮る第2遮光部と、を備え、前記第1ランプと前記第2ランプとは、前記搬送方向及び前記搬送方向と略直交する方向である直交方向にずらして配置され、前記直交方向において、前記第1ランプの第1端が前記第2ランプと重なり、前記第2ランプの第2端が前記第1ランプと重なり、平面視において、前記第1遮光部は、前記第1ランプからの光が照射される前記直交方向に長い帯状の領域の一部である第1領域と重なるように設けられ、平面視において、前記第2遮光部は、前記第2ランプからの光が照射される前記直交方向に長い帯状の領域の一部である第2領域と重なるように設けられ、前記第1領域と前記第2領域とは、前記直交方向の位置が略同一であり、前記第1遮光部の面積と前記第2遮光部の面積との和は、前記第1領域及び前記第2領域の面積と略同一であることを特徴とする。   In order to solve the above-described problem, a polarized light irradiation apparatus according to the present invention includes, for example, a stage on which an object to be irradiated with polarized light is placed, and a longitudinal direction that is substantially orthogonal to the conveyance direction of the object. Polarized light emitted from the first lamp and the second lamp provided between the first lamp and the second lamp, and between the first lamp, the second lamp and the stage. A polarizing member that is provided between the first lamp and the stage, and is provided between the second lamp and the stage, a first light-shielding portion that shields light emitted from the first lamp, A second light-shielding portion that shields light emitted from the second lamp, and the first lamp and the second lamp are shifted in an orthogonal direction that is substantially perpendicular to the transport direction and the transport direction. Arranged in the orthogonal direction A first end of the first lamp overlaps with the second lamp, a second end of the second lamp overlaps with the first lamp, and the first light-shielding portion is separated from the first lamp in plan view. Is provided so as to overlap a first region that is a part of a band-like region that is long in the orthogonal direction, and the second light-shielding unit is irradiated with light from the second lamp in plan view. The first region and the second region have substantially the same position in the orthogonal direction, and are overlapped with a second region that is a part of a belt-like region that is long in the orthogonal direction. The sum of the area of the light shielding part and the area of the second light shielding part is substantially the same as the areas of the first region and the second region.

本発明に係る偏光光照射装置によれば、長手方向が対象物の搬送方向に対して略直交する第1ランプ及び第2ランプは、搬送方向及び搬送方向と略直交する方向である直交方向にずらして配置され、直交方向において、第1ランプの第1端が第2ランプと重なり、第2ランプの第2端が第1ランプと重なる。平面視において、第1ランプからの光が照射される直交方向に長い帯状の領域の一部である第1領域と重なるように第1遮光部が設けられ、第2ランプからの光が照射される直交方向に長い帯状の領域の一部である第2領域と重なるように第2遮光部が設けられ、第1領域と第2領域とは直交方向の位置が略同一である。このように、第1ランプと第2ランプとを搬送方向及び直交方向に沿って並べ、第1領域及び第2領域(継ぎ部領域)に第1遮光部、第2遮光部を設けることで、2本のランプを継ぐことができる。また、第1遮光部の面積と第2遮光部の面積との和は、第1領域及び第2領域の面積と略同一である。これにより、継ぎ部領域における第1ランプから照射された光の積算光量と第2ランプから照射された光の積算光量との和は、継ぎ部領域以外の領域における第1ランプから照射された光の積算光量及び第2ランプから照射された光の積算光量と略同一とすることができ、継ぎ部領域における露光量ムラをなくすことができる。したがって、第1ランプ、第2ランプの長さより幅が広い大型のワークに対して一度で露光処理を行うことができる。   According to the polarized light irradiation apparatus according to the present invention, the first lamp and the second lamp whose longitudinal direction is substantially orthogonal to the conveyance direction of the object are in the orthogonal direction that is the direction substantially orthogonal to the conveyance direction and the conveyance direction. In the orthogonal direction, the first end of the first lamp overlaps the second lamp, and the second end of the second lamp overlaps the first lamp. In plan view, the first light-shielding portion is provided so as to overlap with the first region that is a part of the belt-like region long in the orthogonal direction to which the light from the first lamp is irradiated, and the light from the second lamp is irradiated. A second light-shielding portion is provided so as to overlap with a second region that is a part of a belt-like region that is long in the orthogonal direction, and the first region and the second region have substantially the same position in the orthogonal direction. In this way, by arranging the first lamp and the second lamp along the conveyance direction and the orthogonal direction, and providing the first light shielding part and the second light shielding part in the first region and the second region (joint region), Two lamps can be inherited. The sum of the area of the first light shielding part and the area of the second light shielding part is substantially the same as the areas of the first region and the second region. As a result, the sum of the integrated light amount emitted from the first lamp in the joint region and the integrated light amount emitted from the second lamp is the light emitted from the first lamp in the region other than the joint region. The integrated light amount and the integrated light amount of the light emitted from the second lamp can be made substantially the same, and the exposure amount unevenness in the joint region can be eliminated. Therefore, it is possible to perform the exposure process once for a large workpiece having a width wider than the length of the first lamp and the second lamp.

ここで、平面視において、前記第1遮光部は前記搬送方向に対して斜めの第1辺を有し、前記第2遮光部は前記搬送方向に対して斜めの第2辺を有し、前記第1辺と前記第2辺とを略一致させて前記第1遮光部及び前記第2遮光部を並べた形状は略矩形形状であってもよい。これにより、第1遮光部や第2遮光部の位置が回転方向にずれたり平行方向にずれたりした場合でも、露光量や光学特性に与える影響を少なくすることができる。   Here, in plan view, the first light-shielding portion has a first side that is oblique with respect to the transport direction, and the second light-shielding portion has a second side that is oblique with respect to the transport direction, The shape in which the first light-shielding portion and the second light-shielding portion are arranged so that the first side and the second side are substantially matched may be a substantially rectangular shape. Thereby, even when the positions of the first light-shielding part and the second light-shielding part are shifted in the rotation direction or in the parallel direction, the influence on the exposure amount and the optical characteristics can be reduced.

ここで、平面視における前記第1ランプの照度分布は、前記第1ランプの長手方向に沿って略平行な第3領域と、前記第1ランプの長手方向に沿って略平行でない第4領域と、を有し、平面視における前記第2ランプの照度分布は、前記第2ランプの長手方向に沿って略平行な第5領域と、前記第1ランプの長手方向に沿って略平行でない第6領域と、を有し、前記第1ランプの真下と略同一の照度で光が照射される領域において、前記第1辺の前記第1端側の端は、前記第3領域と前記第4領域との境界線上にあり、前記第2ランプの真下と略同一の照度で光が照射される領域において、前記第2辺の前記第2端側の端は、前記第5領域と前記第6領域との境界線上にあってもよい。これにより、対象物に照射される光の露光量の分布を、1本の長いランプから光が照射された場合の露光量の分布と略同一とすることができる。   Here, the illuminance distribution of the first lamp in plan view includes a third region that is substantially parallel along the longitudinal direction of the first lamp, and a fourth region that is not substantially parallel along the longitudinal direction of the first lamp. The second lamp has an illuminance distribution in plan view having a fifth region that is substantially parallel along the longitudinal direction of the second lamp and a sixth region that is not substantially parallel along the longitudinal direction of the first lamp. A region where light is irradiated with substantially the same illuminance as directly below the first lamp, and the end on the first end side of the first side is the third region and the fourth region In the region where light is irradiated with substantially the same illuminance as directly below the second lamp, the ends of the second side on the second end side are the fifth region and the sixth region. It may be on the boundary line. Thereby, the distribution of the exposure amount of the light irradiated to the object can be made substantially the same as the distribution of the exposure amount when the light is irradiated from one long lamp.

ここで、前記搬送方向から見て、前記第1ランプ及び前記第2ランプの照度分布は、それぞれ、中心部分が高く、端に行くにしたがって低くなる略台形形状であり、前記略台形形状の上底部分の高さを100としたときの、前記略台形形状の底と略平行であり、略90〜略99の高さに存在する線と、前記照度分布を示す線とが交差する点の前記直交方向における位置は、前記第1辺の前記第1端側の端及び前記第2辺の前記第2端側の端と略一致していてもよい。これにより、対象物に照射される光の露光量の分布を、1本の長いランプから光が照射された場合の露光量の分布と略同一とすることができる。   Here, when viewed from the transport direction, the illuminance distributions of the first lamp and the second lamp are each substantially trapezoidal, with the central portion being high and decreasing toward the end. When the height of the bottom portion is 100, the line that is substantially parallel to the bottom of the substantially trapezoidal shape and exists at a height of about 90 to about 99 intersects the line indicating the illuminance distribution. The position in the orthogonal direction may substantially coincide with the end on the first end side of the first side and the end on the second end side of the second side. Thereby, the distribution of the exposure amount of the light irradiated to the object can be made substantially the same as the distribution of the exposure amount when the light is irradiated from one long lamp.

ここで、前記第1ランプと前記ステージとの間に、前記第1ランプからの光が照射される領域を覆うように設けられた第1アパーチャと、前記第2ランプと前記ステージとの間に、前記第2ランプからの光が照射される領域を覆うように設けられた第2アパーチャと、を備え、前記第1遮光部及び前記第2遮光部は、複数のドットを含むドットパターンであり、前記第1アパーチャは、略板状の第1透光部材と、前記第1透光部材に形成された前記第1遮光部とを有し、前記第2アパーチャは、略板状の第2透光部材と、前記第2透光部材に形成された前記第2遮光部とを有し、前記第1領域においては、前記第1端に近づくほど単位面積当たりの前記ドットの数が多くなり、前記第1端から遠ざかるほど単位面積当たりの前記ドットの数が少なくなるように、単位面積当たりの前記ドットの数が徐々に変化し、前記第2領域においては、前記第2端に近づくほど単位面積当たりの前記ドットの数が多くなり、前記第2端から遠ざかるほど単位面積当たりの前記ドットの数が少なくなるように、単位面積当たりの前記ドットの数が徐々に変化してもよい。これにより、継ぎ部領域における露光量ムラをなくすことができる。   Here, between the first lamp and the stage, a first aperture provided so as to cover a region irradiated with light from the first lamp, and between the second lamp and the stage. A second aperture provided so as to cover a region irradiated with light from the second lamp, wherein the first light-shielding portion and the second light-shielding portion are dot patterns including a plurality of dots. The first aperture includes a substantially plate-shaped first light-transmitting member and the first light-shielding portion formed on the first light-transmitting member, and the second aperture includes a substantially plate-shaped second light-transmitting member. A light-transmitting member and the second light-shielding portion formed on the second light-transmitting member. In the first region, the number of dots per unit area increases as the distance from the first end increases. The number of dots per unit area increases as the distance from the first end increases. The number of dots per unit area gradually changes so as to disappear, and in the second region, the number of dots per unit area increases as the distance from the second end increases, and the distance from the second end increases. The number of dots per unit area may gradually change so that the number of dots per unit area decreases. Thereby, the exposure amount unevenness in the joint area can be eliminated.

ここで、前記第1ランプと前記対象物との距離が略150mm〜略160mmの場合に、前記第1領域の長さは前記第1ランプの長手方向の長さの略8%〜略15%であり、前記第2ランプと前記対象物との距離が略150mm〜略160mmの場合に、前記第2領域の長さは前記第2ランプの長手方向の長さの略8%〜略15%であってもよい。このように、第1ランプや第2ランプが劣化した場合に黒くなって露光量が低下する領域を第1遮光部や第2遮光部で覆うことで、第1ランプや第2ランプの劣化による露光量の低下が露光に影響を及ぼさないようにすることから、露光量ムラをなくすことができる。   Here, when the distance between the first lamp and the object is about 150 mm to about 160 mm, the length of the first region is about 8% to about 15% of the length in the longitudinal direction of the first lamp. When the distance between the second lamp and the object is approximately 150 mm to approximately 160 mm, the length of the second region is approximately 8% to approximately 15% of the length in the longitudinal direction of the second lamp. It may be. As described above, when the first lamp or the second lamp deteriorates, the first light shielding part or the second light shielding part covers a region that becomes black and the exposure amount decreases, thereby causing the deterioration of the first lamp or the second lamp. Since the reduction of the exposure amount does not affect the exposure, the uneven exposure amount can be eliminated.

ここで、平面視において、前記第1遮光部の形状は、前記第2辺と前記第2ランプの中心軸とが交差する点である第2点を中心として前記第2遮光部を略180度回転させた形状であり、前記第2遮光部の形状は、前記第1辺と前記第1ランプの中心軸とが交差する点である第1点を中心として前記第1遮光部を略180度回転させた形状であってもよい。これにより、対象物に照射される偏光の偏光軸のばらつき、すなわち光学特性ムラをなくすことができる。   Here, in a plan view, the shape of the first light-shielding part is approximately 180 degrees with respect to the second light-shielding part about a second point where the second side and the central axis of the second lamp intersect. The shape of the second light-shielding part is approximately 180 degrees around the first point, which is the point where the first side and the central axis of the first lamp intersect. It may be a rotated shape. Thereby, the dispersion | variation in the polarization axis of the polarized light irradiated to a target object, ie, an optical characteristic nonuniformity, can be eliminated.

ここで、前記第1ランプ又は前記第2ランプを前記搬送方向と略直交する方向に移動させる移動部を有してもよい。これにより、第1ランプや第2ランプが劣化した場合に黒くなって露光量が低下する領域を使用する必要がなくなる。したがって、第1ランプや第2ランプの劣化による露光量の低下が露光に影響しないようにすることで、露光量ムラをなくすことができる。   Here, you may have a moving part which moves the said 1st lamp | ramp or the said 2nd lamp | ramp in the direction substantially orthogonal to the said conveyance direction. This eliminates the need to use a region that becomes black and the exposure amount decreases when the first lamp or the second lamp deteriorates. Therefore, exposure amount unevenness can be eliminated by preventing the exposure amount from being lowered by the deterioration of the first lamp or the second lamp.

本発明によれば、大型のワークに対して一度で露光処理を行うことができる。   According to the present invention, an exposure process can be performed on a large workpiece at a time.

第1の実施の形態に係る偏光光照射装置1の概略を示す正面図である。It is a front view which shows the outline of the polarized light irradiation apparatus 1 which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係る偏光光照射装置1の概略を示す平面図である。It is a top view which shows the outline of the polarized light irradiation apparatus 1 which concerns on 1st Embodiment. 偏光照射部10及びワークWを側面から見たときの概略を示す要部透視図である。It is a principal part perspective view which shows the outline when the polarized light irradiation part 10 and the workpiece | work W are seen from the side. 偏光光照射装置1の平面視におけるアパーチャ17、18の配置を示す図である。It is a figure which shows arrangement | positioning of the apertures 17 and 18 in planar view of the polarized light irradiation apparatus 1. FIG. アパーチャ17、18と、ワークWへ照射される光の積算光量との関係を示す図であり、(A)は平面視におけるアパーチャ17、18の配置を示し、(B)はランプ11、12毎の積算光量を示し、(C)はランプ11、12の積算光量の合計を示す。It is a figure which shows the relationship between the apertures 17 and 18 and the integrated light quantity of the light irradiated to the workpiece | work W, (A) shows arrangement | positioning of the apertures 17 and 18 in planar view, (B) is every lamp | ramp 11 and 12 (C) indicates the total of the integrated light amounts of the lamps 11 and 12. 光の偏光軸と、アパーチャ17、18の位置との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the polarization axis of light, and the position of the apertures 17 and 18. FIG. 平面視におけるランプ11、12の照度分布の一例である。It is an example of the illumination intensity distribution of the lamps 11 and 12 in planar view. 偏光光照射装置2の平面視におけるアパーチャ17A、18Aと照度分布との関係を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the relationship between the apertures 17A and 18A in planar view of the polarized light irradiation apparatus 2, and illuminance distribution. 変形例にかかる偏光光照射装置2Aの平面視におけるアパーチャ17B、18Bと照度分布との関係を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the relationship between the apertures 17B and 18B in planar view of the polarized light irradiation apparatus 2A concerning a modification, and illumination intensity distribution. (A)は、ランプ11、12の長手方向の位置と照度分布との関係を示し、(B)は照度分布とアパーチャ17Cとの関係を示し、(C)は照度分布とアパーチャ18Cとの関係を示す。(A) shows the relationship between the longitudinal position of the lamps 11 and 12 and the illuminance distribution, (B) shows the relationship between the illuminance distribution and the aperture 17C, and (C) shows the relationship between the illuminance distribution and the aperture 18C. Indicates. 偏光光照射装置3の平面視におけるアパーチャ17C、18Cの配置を示す図である。It is a figure which shows arrangement | positioning of the apertures 17C and 18C in planar view of the polarized light irradiation apparatus 3. FIG. 偏光光照射装置4の平面視における偏光照射部10Aの配置を示す図である。It is a figure which shows arrangement | positioning of 10 A of polarized light irradiation parts in planar view of the polarized light irradiation apparatus. アパーチャ17E、18Eの概略を示す平面図である。It is a top view which shows the outline of the apertures 17E and 18E. アパーチャ17E、18Eと、ワークWへ照射される光の積算光量との関係を示す図であり、(A)は平面視におけるアパーチャ17E、18Eの配置を示し、(B)はランプ11、12毎の積算光量を示し、(C)はランプ11、12の積算光量の合計を示す。It is a figure which shows the relationship between the apertures 17E and 18E and the integrated light quantity of the light irradiated to the workpiece | work W, (A) shows arrangement | positioning of the apertures 17E and 18E in planar view, (B) is lamp | ramp 11 and 12 every (C) indicates the total of the integrated light amounts of the lamps 11 and 12.

以下、本発明の実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。本発明の偏光光照射装置は、例えば、光源からの光を偏光膜を通過させて偏光を得、この偏光をガラス基板等(以下、ワークWという)の被露光面に照射して、液晶パネル用の配向膜等を生成するものである。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The polarized light irradiation apparatus of the present invention, for example, obtains polarized light by passing light from a light source through a polarizing film, and irradiates the exposed surface of a glass substrate or the like (hereinafter referred to as a work W) with a liquid crystal panel. An alignment film for use is generated.

<第1の実施の形態>
図1は、第1の実施の形態に係る偏光光照射装置1の概略を示す正面図である。図2は、第1の実施の形態に係る偏光光照射装置1の概略を示す平面図である。ここで、ワークWの搬送方向をy方向とし、搬送方向に直交する方向をx方向とし、鉛直方向をz方向とする。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a front view showing an outline of a polarized light irradiation apparatus 1 according to the first embodiment. FIG. 2 is a plan view showing an outline of the polarized light irradiation apparatus 1 according to the first embodiment. Here, the conveyance direction of the workpiece W is the y direction, the direction orthogonal to the conveyance direction is the x direction, and the vertical direction is the z direction.

偏光光照射装置1は、主として、偏光照射部10と、ステージ20と、ステージ駆動部30と、を有する。   The polarized light irradiation apparatus 1 mainly includes a polarized light irradiation unit 10, a stage 20, and a stage driving unit 30.

偏光照射部10は、ワークWに偏光を照射する。偏光照射部10は、2本のランプ11、12を有する。ランプ11、12は、発光長が略1500mm〜2000mmと長い棒状のランプであり、偏光していない光(例えば、紫外光)を照射する。ランプ11、12には、光配向処理に必要な短波長紫外光(例えば、254nm波長光)を効率よく発光するロングアークランプを用いることができる。ランプ11、12の両端には、それぞれ電極11a、11b、12a、12bが設けられる。   The polarized light irradiation unit 10 irradiates the work W with polarized light. The polarized light irradiation unit 10 includes two lamps 11 and 12. The lamps 11 and 12 are rod-shaped lamps having a long emission length of about 1500 mm to 2000 mm, and irradiate light that is not polarized (for example, ultraviolet light). For the lamps 11 and 12, a long arc lamp that efficiently emits short-wavelength ultraviolet light (for example, light having a wavelength of 254 nm) necessary for the photo-alignment treatment can be used. Electrodes 11a, 11b, 12a and 12b are provided at both ends of the lamps 11 and 12, respectively.

ランプ11、12は、長手方向がワークWの搬送方向(y方向)に対して略直交するように(x方向に略沿って)設けられる。また、ランプ11、12はx方向及びy方向にずらして配置される。   The lamps 11 and 12 are provided so that the longitudinal direction is substantially orthogonal to the conveyance direction (y direction) of the workpiece W (substantially along the x direction). The lamps 11 and 12 are arranged so as to be shifted in the x direction and the y direction.

図3は、偏光照射部10及びワークWを側面から見たときの概略を示す要部透視図である。偏光照射部10は、主として、ランプ11、12と、リフレクタ13と、特定波長透過フィルタ14と、偏光部材15と、カバーガラス16と、アパーチャ17、18と、を有する。   FIG. 3 is a perspective view of a main part showing an outline when the polarized light irradiation unit 10 and the workpiece W are viewed from the side. The polarized light irradiation unit 10 mainly includes lamps 11 and 12, a reflector 13, a specific wavelength transmission filter 14, a polarizing member 15, a cover glass 16, and apertures 17 and 18.

ランプ11、12の下側(−z側)、すなわちランプ11、12とステージ20との間には、それぞれ、特定波長透過フィルタ14、偏光部材15及びカバーガラス16が設けられる。ランプ11、12から照射された光は、それぞれリフレクタ13で反射され、特定波長透過フィルタ14、偏光部材15等を通過して、ワークWに照射される。   A specific wavelength transmission filter 14, a polarizing member 15, and a cover glass 16 are provided on the lower side (−z side) of the lamps 11 and 12, that is, between the lamps 11 and 12 and the stage 20, respectively. Light emitted from the lamps 11 and 12 is reflected by the reflector 13, passes through the specific wavelength transmission filter 14, the polarizing member 15, and the like, and is applied to the workpiece W.

リフレクタ13は、側面視が略椀形状であり、平面視が略矩形形状である。リフレクタ13は、ランプ11、12からの光が照射領域に集中するように、ランプ11、12からの光を反射する。   The reflector 13 has a substantially bowl shape in a side view and a substantially rectangular shape in a plan view. The reflector 13 reflects the light from the lamps 11 and 12 so that the light from the lamps 11 and 12 is concentrated on the irradiation region.

特定波長透過フィルタ14は、特定の波長範囲の光だけを透過し、他の波長の光を吸収するように作られたフィルタである。特定波長透過フィルタ14は、板状のガラス(石英ガラス等)である透明基板上に、特定の波長範囲の光だけを透過させるバンドパスフィルタのフィルタ層が形成されている。ただし、透明基板上に形成されるフィルタはバンドパスフィルタに限られず、例えばローカットフィルタや反射フィルタであってもよい。   The specific wavelength transmission filter 14 is a filter that transmits only light in a specific wavelength range and absorbs light of other wavelengths. In the specific wavelength transmission filter 14, a filter layer of a band pass filter that transmits only light in a specific wavelength range is formed on a transparent substrate made of plate-like glass (quartz glass or the like). However, the filter formed on the transparent substrate is not limited to the band pass filter, and may be a low cut filter or a reflection filter, for example.

偏光部材15は、入射角度依存性の少ないワイヤーグリッド偏光子をx方向に沿って複数並べることで形成される。ワイヤーグリッド偏光子とは、透明基板の表面に金属線が形成されたものであり、金属線のピッチを入射する光の波長以下にすることで、金属線の長手方向に略平行な偏光成分を反射し、金属線の長手方向と略直交する偏光成分を通過させる。なお、偏光部材15はワイヤーグリッド偏光子に限られない。   The polarizing member 15 is formed by arranging a plurality of wire grid polarizers with little incident angle dependency along the x direction. A wire grid polarizer has a metal wire formed on the surface of a transparent substrate. By making the pitch of the metal wire equal to or less than the wavelength of incident light, a polarization component substantially parallel to the longitudinal direction of the metal wire is obtained. Reflects and passes a polarization component substantially orthogonal to the longitudinal direction of the metal wire. The polarizing member 15 is not limited to a wire grid polarizer.

偏光部材15の下側には、カバーガラス16が設けられる。ただし、カバーガラス16は必須ではない。   A cover glass 16 is provided below the polarizing member 15. However, the cover glass 16 is not essential.

カバーガラス16の下側、すなわちカバーガラス16とステージ20との間には、アパーチャ17、18が設けられる。アパーチャ17はランプ11の下側に設けられ、アパーチャ18はランプ12の下側に設けられる。アパーチャ17、18については、後に詳述する。また、アパーチャ17、18は、カバーガラス16とステージ20との間ではなく、例えば特定波長透過フィルタ14と偏光部材15との間に設けられてもよい。   Apertures 17 and 18 are provided below the cover glass 16, that is, between the cover glass 16 and the stage 20. The aperture 17 is provided below the lamp 11, and the aperture 18 is provided below the lamp 12. The apertures 17 and 18 will be described in detail later. In addition, the apertures 17 and 18 may be provided not between the cover glass 16 and the stage 20 but between the specific wavelength transmission filter 14 and the polarizing member 15, for example.

図1、2の説明に戻る。ステージ20は、y方向に移動可能に設けられる。ステージ20の上面には、偏光光が照射されるワークWが載置される。   Returning to the description of FIGS. The stage 20 is provided to be movable in the y direction. On the upper surface of the stage 20, a work W to be irradiated with polarized light is placed.

ステージ駆動部30は、y方向に延設されたステージガイドレール31と、ステージスキャン軸32と、アクチュエータ等を有する駆動部33と、を有する。   The stage drive unit 30 includes a stage guide rail 31 extending in the y direction, a stage scan shaft 32, and a drive unit 33 having an actuator and the like.

ステージ20は、図示しない駆動手段により、ステージガイドレール31に沿って移動可能に設けられる(図1、2の太矢印参照)。駆動部33は、ステージガイドレール31(すなわち、搬送方向)に沿ってステージ20を移動させる(図1の太矢印参照)。   The stage 20 is provided so as to be movable along the stage guide rail 31 by driving means (not shown) (see thick arrows in FIGS. 1 and 2). The drive part 33 moves the stage 20 along the stage guide rail 31 (namely, conveyance direction) (refer the thick arrow of FIG. 1).

ステージ20がステージガイドレール31に沿ってy方向に移動する際には、図示しない位置検出部によりステージスキャン軸32におけるステージ20の位置が検出される。これにより、ステージ20のy方向の位置が調整できる。なお、ステージ20の移動及び位置決めは、すでに公知の技術であるため、説明を省略する。   When the stage 20 moves in the y direction along the stage guide rail 31, the position of the stage 20 on the stage scan shaft 32 is detected by a position detector (not shown). Thereby, the position of the stage 20 in the y direction can be adjusted. In addition, since the movement and positioning of the stage 20 are already well-known techniques, description is abbreviate | omitted.

ロボット40は、ワークWをステージ20へ移動させたり、ワークWをステージ20から移動させたりする移動手段である。ロボット40は、すでに公知であるため、説明を省略する。なお、ロボット40の位置は、図1、2等に示す位置に限られない。また、ワークWをステージ20へ移動させたり、ワークWをステージ20から移動させたりする移動手段は、ロボット40に限定されない。   The robot 40 is a moving unit that moves the workpiece W to the stage 20 and moves the workpiece W from the stage 20. Since the robot 40 is already known, a description thereof will be omitted. The position of the robot 40 is not limited to the position shown in FIGS. Further, the moving means for moving the workpiece W to the stage 20 and moving the workpiece W from the stage 20 is not limited to the robot 40.

偏光照射部10と、ステージ20と、ステージ駆動部30とは、装置枠50の内部に設けられる。装置枠50には、作業者が出入りしたり、ロボット40がワークWをステージ20に対して移動させたりするための開口部(図示せず)が設けられる。   The polarized light irradiation unit 10, the stage 20, and the stage driving unit 30 are provided inside the apparatus frame 50. The apparatus frame 50 is provided with an opening (not shown) through which an operator enters and exits and the robot 40 moves the workpiece W relative to the stage 20.

次に、アパーチャ17、18について詳細に説明する。図4は、平面視(+z方向から見たとき)におけるアパーチャ17、18の配置を示す図である。図4において、ランプ11、12を二点鎖線で示す。また、図4においては、説明のため、遮光部17a、18aを網掛け表示している。   Next, the apertures 17 and 18 will be described in detail. FIG. 4 is a diagram showing the arrangement of the apertures 17 and 18 in a plan view (when viewed from the + z direction). In FIG. 4, the lamps 11 and 12 are indicated by two-dot chain lines. In FIG. 4, the light shielding portions 17a and 18a are shaded for explanation.

アパーチャ17、18は、それぞれ、遮光部17a、18aと、開口部17b、18bと、を有する。アパーチャ17、18は、平面視において、ランプ11、12からの光が照射される領域を覆うように設けられる。   The apertures 17 and 18 have light shielding portions 17a and 18a and openings 17b and 18b, respectively. The apertures 17 and 18 are provided so as to cover regions irradiated with light from the lamps 11 and 12 in plan view.

遮光部17aは、開口部17bのランプ12側(+x側)に設けられ、遮光部18aは、開口部18bのランプ11側(−x側)に設けられる。   The light shielding part 17a is provided on the lamp 12 side (+ x side) of the opening part 17b, and the light shielding part 18a is provided on the lamp 11 side (−x side) of the opening part 18b.

ここで、ランプ11、12からの光が照射される領域は、平面視において、それぞれ、x方向に長い帯状の領域である。ランプ11からの光が照射される領域は、図4における遮光部17a及び開口部17bが配置された領域と略一致する。また、ランプ12からの光が照射される領域は、図4における遮光部18a及び開口部18bが配置された領域と略一致する。   Here, the regions irradiated with the light from the lamps 11 and 12 are strip-like regions that are long in the x direction in plan view. The region irradiated with light from the lamp 11 substantially coincides with the region where the light shielding portion 17a and the opening portion 17b are arranged in FIG. Further, the region irradiated with the light from the lamp 12 substantially coincides with the region where the light shielding portion 18a and the opening 18b are arranged in FIG.

x方向において、ランプ11の端11c(+x側の端)は、ランプ12と重なる位置にあり、この位置をx=X1とする。また、x方向において、ランプ12の端12c(−x側の端)は、ランプ11と重なる位置にあり、この位置をx=X2とする。   In the x direction, the end 11c (the end on the + x side) of the lamp 11 is at a position overlapping the lamp 12, and this position is set to x = X1. Further, in the x direction, the end 12c (end on the −x side) of the lamp 12 is at a position overlapping the lamp 11, and this position is set to x = X2.

平面視において、遮光部17aは、ランプ11からの光が照射されるx方向に長い帯状の領域のうち、+x側の領域A1と重なるように設けられる。また、平面視において、遮光部18aは、ランプ12からの光が照射されるx方向に長い帯状の領域のうち、−x側の領域A2と重なるように設けられる。領域A1、A2は、それぞれランプ11、12からの光が照射されるx方向に長い帯状の領域の一部である。領域A1、A2は視認できないが、説明のため、図4では領域A1、A2の端を点線で表示する。領域A1と領域A2とは、x方向の位置が略同一であり、領域A1、A2を継ぎ部領域と定義する。   In plan view, the light-shielding portion 17a is provided so as to overlap with the region A1 on the + x side in the belt-like region long in the x direction irradiated with light from the lamp 11. Further, in plan view, the light shielding portion 18a is provided so as to overlap the −x side region A2 in the belt-like region long in the x direction irradiated with the light from the lamp 12. Regions A1 and A2 are part of a strip-like region that is long in the x direction and irradiated with light from the lamps 11 and 12, respectively. Although the areas A1 and A2 cannot be visually recognized, the ends of the areas A1 and A2 are indicated by dotted lines in FIG. The region A1 and the region A2 have substantially the same position in the x direction, and the regions A1 and A2 are defined as joint regions.

遮光部17a、18aは、x方向及びy方向に対して斜めの辺17m、18mを有する。辺17m、18mは、x方向及びy方向に対してそれぞれ略45度傾いている。ただし、辺17m、18mの傾きは略45度に限られない。   The light shielding portions 17a and 18a have sides 17m and 18m that are oblique to the x direction and the y direction. The sides 17m and 18m are inclined by approximately 45 degrees with respect to the x direction and the y direction, respectively. However, the inclination of the sides 17m and 18m is not limited to approximately 45 degrees.

遮光部17a、18aは、それぞれ、略矩形形状の板状部材をy方向に対して斜めに切断したような形状である。言い換えれば、辺17mと辺18mとを略一致させて遮光部17aと遮光部18aとを並べた形状は、略矩形形状である。遮光部17aの面積と遮光部18aの面積との和は、領域A1、A2の面積と略同一である。   Each of the light shielding portions 17a and 18a has a shape obtained by cutting a substantially rectangular plate-shaped member obliquely with respect to the y direction. In other words, the shape in which the light shielding part 17a and the light shielding part 18a are arranged with the side 17m and the side 18m substantially aligned with each other is a substantially rectangular shape. The sum of the area of the light shielding part 17a and the area of the light shielding part 18a is substantially the same as the area of the regions A1 and A2.

辺17mの+x側の端の位置をx=X4とし、辺18mの−x側の端の位置をx=X3とする。ランプ11、12とワークWとの距離H(図3参照)が略150mm〜略160mmの場合に、位置X2と位置X3との距離d及び位置X1と位置X4との距離dは、ランプ11、12の長手方向(ここではx方向)の長さの略8%〜略15%である。例えばランプ11、12の長さが略2500mmの場合は、距離dは、略200mmであり、ランプ11、12の長さの略8%である。また、例えばランプ11、12の長さが略2250mmの場合は、距離dは、略225mmであり、ランプ11、12の長さの略10%である。また、例えばランプ11、12の長さが略1500mmの場合は、距離dは、略200mmであり、ランプ11、12の長さの略13.3%である。   The position of the end on the + x side of the side 17m is x = X4, and the position of the end on the −x side of the side 18m is x = X3. When the distance H (see FIG. 3) between the lamps 11 and 12 and the workpiece W is approximately 150 mm to approximately 160 mm, the distance d between the position X2 and the position X3 and the distance d between the position X1 and the position X4 are as follows. It is about 8% to about 15% of the length of 12 longitudinal directions (here, the x direction). For example, when the length of the lamps 11 and 12 is about 2500 mm, the distance d is about 200 mm, which is about 8% of the length of the lamps 11 and 12. For example, when the length of the lamps 11 and 12 is approximately 2250 mm, the distance d is approximately 225 mm, which is approximately 10% of the length of the lamps 11 and 12. For example, when the length of the lamps 11 and 12 is about 1500 mm, the distance d is about 200 mm, which is about 13.3% of the length of the lamps 11 and 12.

ランプ11、12の端から、ランプ11、12の長手方向の長さの略8%〜略15%の領域とは、ランプ11、12が劣化した場合にランプが黒くなり、露光量が低下する領域である。遮光部17a、18aを用いてこの領域を覆うことで、ランプ11、12の劣化による露光量の低下がワークWの露光に影響しないため、露光量ムラをなくすことができる。   The region of about 8% to about 15% of the length in the longitudinal direction of the lamps 11 and 12 from the ends of the lamps 11 and 12 means that when the lamps 11 and 12 deteriorate, the lamps become black and the exposure amount decreases. It is an area. By covering this area with the light shielding portions 17a and 18a, the exposure amount decrease due to the deterioration of the lamps 11 and 12 does not affect the exposure of the workpiece W, so that the exposure amount unevenness can be eliminated.

偏光光照射装置1の作用について説明する。偏光照射部10から光を照射させつつ、駆動部33を介してステージ20(すなわち、ワークW)を搬送方向であるy方向に移動(一往復)させながら偏光照射部10から照射された光をワークWの被露光面に照射して、配向膜等を生成する露光処理を行う。   The operation of the polarized light irradiation device 1 will be described. While irradiating light from the polarized light irradiation unit 10, the light irradiated from the polarized light irradiation unit 10 while moving (one reciprocation) the stage 20 (that is, the workpiece W) through the driving unit 33 in the y direction that is the transport direction. An exposure process for generating an alignment film or the like is performed by irradiating the exposed surface of the workpiece W.

図5は、アパーチャ17、18と、ワークWへ照射される光の積算光量との関係を示す図であり、(A)は平面視におけるアパーチャ17、18の配置を示し、(B)はランプ11、12毎の積算光量を示し、(C)はランプ11、12の積算光量の合計を示す。ランプ11から照射された光はアパーチャ17の開口部17bを通過してワークWに照射されるが、遮光部17aにより遮られるため、領域A1において+x側にいくにつれて積算光量が徐々に小さくなる。また、ランプ12から照射された光はアパーチャ18の開口部18bを通過してワークWに照射されるが、遮光部18aにより遮られるため、領域A2において−x側にいくにつれて積算光量が徐々に小さくなる。   5A and 5B are diagrams showing the relationship between the apertures 17 and 18 and the integrated light quantity of light irradiated to the workpiece W. FIG. 5A shows the arrangement of the apertures 17 and 18 in a plan view, and FIG. 11 and 12 show the integrated light amount, and (C) shows the total integrated light amount of the lamps 11 and 12. The light irradiated from the lamp 11 passes through the opening 17b of the aperture 17 and is irradiated to the workpiece W. However, since the light is blocked by the light blocking portion 17a, the integrated light amount gradually decreases toward the + x side in the area A1. The light irradiated from the lamp 12 passes through the opening 18b of the aperture 18 and is irradiated to the workpiece W. However, since the light is blocked by the light blocking portion 18a, the integrated light amount gradually increases toward the −x side in the region A2. Get smaller.

遮光部17aの面積と遮光部18aの面積との和は、領域A1、A2の面積と略同一であるため、継ぎ部領域におけるランプ11から照射された光の積算光量とランプ12から照射された光の積算光量との和は、継ぎ部領域以外の領域におけるランプ11から照射された光の積算光量及びランプ12から照射された光の積算光量と略同一である。これにより、継ぎ部領域における露光量ムラをなくすことができる。   Since the sum of the area of the light shielding part 17a and the area of the light shielding part 18a is substantially the same as the area of the areas A1 and A2, the integrated light amount emitted from the lamp 11 and the lamp 12 irradiated in the joint area. The sum with the integrated light quantity of light is substantially the same as the integrated light quantity of light emitted from the lamp 11 and the integrated light quantity of light emitted from the lamp 12 in the region other than the joint region. Thereby, the exposure amount unevenness in the joint area can be eliminated.

図6は、ランプ11、12から照射され、偏光部材15で偏光された光の偏光軸と、アパーチャ17、18の位置との関係を示す図である。平面視における遮光部17aの形状は、ランプ12の中心軸ax2と辺18mとが交差する点18sを中心として遮光部18aを略180度回転させた形状であり、平面視における遮光部18aの形状は、ランプ11の中心軸ax1と辺17mとが交差する点17sを中心として遮光部17aを略180度回転させた形状であるため、遮光部17a、18aは、図6において右肩下がりで表示された偏光軸を有する偏光光を主に遮光し、ワークWには図6において右肩上がりで表示された偏光軸を有する偏光光が主に照射される。したがって、ワークWに照射される偏光の偏光軸のばらつき、すなわち光学特性ムラをなくすことができる。   FIG. 6 is a diagram showing the relationship between the polarization axis of the light irradiated from the lamps 11 and 12 and polarized by the polarizing member 15 and the positions of the apertures 17 and 18. The shape of the light-shielding portion 17a in plan view is a shape obtained by rotating the light-shielding portion 18a approximately 180 degrees around the point 18s where the central axis ax2 of the lamp 12 and the side 18m intersect, and the shape of the light-shielding portion 18a in plan view. Is a shape obtained by rotating the light-shielding portion 17a about 180 degrees around a point 17s where the central axis ax1 of the lamp 11 and the side 17m intersect, so that the light-shielding portions 17a and 18a are displayed in a downward-sloping manner in FIG. The polarized light having the polarization axis is mainly shielded, and the work W is mainly irradiated with the polarized light having the polarization axis displayed ascending in FIG. Therefore, it is possible to eliminate variations in the polarization axis of the polarized light applied to the workpiece W, that is, uneven optical characteristics.

本実施の形態によれば、ランプ11、12をx方向及びy方向に沿って複数(ここでは、2つ)並べ、継ぎ部領域に遮光部17a、18aを設けることで、露光量ムラや光学特性ムラがない状態で2本のランプを継ぐことができる。したがって、大型のワークに対して一度で(一往復で)露光処理を行うことができる。   According to the present embodiment, a plurality (two in this case) of lamps 11 and 12 are arranged along the x direction and the y direction, and the light shielding portions 17a and 18a are provided in the joint region. Two lamps can be connected with no characteristic unevenness. Therefore, an exposure process can be performed on a large workpiece at once (one reciprocation).

また、本実施の形態によれば、ランプ11、12が劣化した場合にランプが黒くなり、露光量が低下する領域(本実施の形態では、ランプ11、12の端から、ランプ11、12の長手方向の長さの略8%〜略15%の領域)を遮光部17a、18aにより覆うため、ランプ11、12の劣化により露光量が低下したとしても影響なく露光処理を行うことができる。   Further, according to the present embodiment, when the lamps 11 and 12 are deteriorated, the lamps become black and the exposure amount decreases (in the present embodiment, from the ends of the lamps 11 and 12, the lamps 11 and 12 Since a region of about 8% to about 15% of the length in the longitudinal direction) is covered with the light shielding portions 17a and 18a, the exposure process can be performed without being affected even if the exposure amount is reduced due to the deterioration of the lamps 11 and 12.

また、本実施の形態によれば、遮光部17a、18aは、x方向及びy方向に対して斜めの辺17m、18mを有するため、アパーチャ17、18の位置が回転方向にずれたりy方向にずれたりした場合でも、露光量や光学特性に与える影響を少なくすることができる。   Further, according to the present embodiment, the light-shielding portions 17a and 18a have sides 17m and 18m that are oblique with respect to the x and y directions, so that the positions of the apertures 17 and 18 are shifted in the rotational direction or in the y direction. Even when they are shifted, the influence on the exposure amount and the optical characteristics can be reduced.

なお、本実施の形態では、遮光部17a、18aと開口部17b、18bとを有するアパーチャ17、18を設けることでランプ11、12からの光を部分的に覆ったが、ランプ11、12からの光を遮りたい部分に遮光部17a、18aのみ(開口部17b、18bはなくてもよい)を設けてもよい。   In the present embodiment, the light from the lamps 11 and 12 is partially covered by providing the apertures 17 and 18 having the light shielding parts 17a and 18a and the openings 17b and 18b. Only the light shielding portions 17a and 18a (the openings 17b and 18b may be omitted) may be provided in a portion where it is desired to block the light.

<第2の実施の形態>
本発明の第1の実施の形態は、ランプ11、12の端から、ランプ11、12の長手方向の長さの略8%〜略15%の領域を遮光部17a、18aで覆ったが、遮光部17a、18aの配置はこれに限られない。
<Second Embodiment>
In the first embodiment of the present invention, the regions of about 8% to about 15% of the lengths of the lamps 11 and 12 from the ends of the lamps 11 and 12 are covered with the light shielding portions 17a and 18a. The arrangement of the light shielding portions 17a and 18a is not limited to this.

第2の実施の形態は、ランプ11、12の照度分布に基づいて遮光部17a、18aで覆う領域を定める形態である。以下、第2の実施の形態の偏光光照射装置2について説明する。第1の実施の形態の偏光光照射装置1と、第2の実施の形態の偏光光照射装置2との差異は、アパーチャのみであるため、以下、第2の実施の形態の偏光光照射装置2におけるアパーチャ17A、18Aについて主に説明する。また、第1の実施の形態と同一の部分については、同一の符号を付し、説明を省略する。   In the second embodiment, a region covered by the light shielding portions 17a and 18a is determined based on the illuminance distribution of the lamps 11 and 12. Hereinafter, the polarized light irradiation apparatus 2 of 2nd Embodiment is demonstrated. Since the difference between the polarized light irradiation apparatus 1 of the first embodiment and the polarized light irradiation apparatus 2 of the second embodiment is only the aperture, the polarized light irradiation apparatus of the second embodiment will be described below. The apertures 17A and 18A in FIG. Further, the same parts as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

まず、ランプ11、12から照射される光の照度分布について説明する。図7は、平面視におけるランプ11、12の照度分布の一例である。ランプ11、12の照度分布は、ランプ11、12の長手方向に沿って略平行な領域Iと、ランプ11、12の長手方向に沿って略平行でない領域IIと、を有する。なお、照度分布の図6における上下端は、リフレクタ13(図6では図示省略)の両端面により遮光される。   First, the illuminance distribution of light emitted from the lamps 11 and 12 will be described. FIG. 7 is an example of the illuminance distribution of the lamps 11 and 12 in plan view. The illuminance distribution of the lamps 11 and 12 has a region I that is substantially parallel along the longitudinal direction of the lamps 11 and 12 and a region II that is not substantially parallel along the longitudinal direction of the lamps 11 and 12. Note that the upper and lower ends of the illuminance distribution in FIG. 6 are shielded by both end faces of the reflector 13 (not shown in FIG. 6).

図8は、平面視におけるアパーチャ17A、18Aと照度分布との関係を模式的に示す図である。図8では、説明のため、照度分布を二点鎖線で図示している。アパーチャ17A、18Aは、アパーチャ17、18と同様、それぞれ、ランプ11、12の下側に設けられ、ランプ11、12からの光が照射される領域を覆うように設けられる。アパーチャ17A、18Aは、それぞれ、遮光部17c、18cと、開口部17d、18dと、を有する。   FIG. 8 is a diagram schematically showing the relationship between the apertures 17A and 18A and the illuminance distribution in plan view. In FIG. 8, the illuminance distribution is illustrated by a two-dot chain line for explanation. As with the apertures 17 and 18, the apertures 17A and 18A are provided below the lamps 11 and 12, respectively, and are provided so as to cover regions irradiated with light from the lamps 11 and 12. Apertures 17A and 18A have light shielding portions 17c and 18c and openings 17d and 18d, respectively.

遮光部17cは、開口部17dの+x側に設けられ、遮光部18cは、開口部18dの−x側に設けられる。遮光部17c、18cは、x方向及びy方向に対して斜めの辺17n、18nを有する。辺17nと辺18nとを略一致させて遮光部17cと遮光部18cとを並べた形状は、略矩形形状である。遮光部17cの面積と遮光部18cの面積との和は、継ぎ部領域A3の面積と略同一である。   The light shielding part 17c is provided on the + x side of the opening part 17d, and the light shielding part 18c is provided on the −x side of the opening part 18d. The light shielding parts 17c and 18c have sides 17n and 18n that are oblique to the x direction and the y direction. The shape in which the side 17n and the side 18n are substantially matched and the light shielding part 17c and the light shielding part 18c are arranged is a substantially rectangular shape. The sum of the area of the light shielding portion 17c and the area of the light shielding portion 18c is substantially the same as the area of the joint region A3.

平面視における遮光部17cの形状は、ランプ12の中心軸ax2と辺18nとが交差する点18tを中心として遮光部18cを略180度回転させた形状であり、平面視における遮光部18cの形状は、ランプ11の中心軸ax1と辺17nとが交差する点17tを中心として遮光部17cを略180度回転させた形状である。   The shape of the light-shielding portion 17c in plan view is a shape obtained by rotating the light-shielding portion 18c about 180 degrees around a point 18t where the central axis ax2 of the lamp 12 and the side 18n intersect, and the shape of the light-shielding portion 18c in plan view. Is a shape obtained by rotating the light shielding portion 17c by approximately 180 degrees around a point 17t where the central axis ax1 of the lamp 11 and the side 17n intersect.

辺17nの+x側の端は、領域Iと領域IIとの境界線上にあり、辺18mの−x側の端は、領域Iと領域IIとの境界線上にある。したがって、継ぎ部領域A3におけるランプ11から照射された光の積算光量とランプ12から照射された光の積算光量との和は、継ぎ部領域A3以外の領域におけるランプ11から照射された光の積算光量及びランプ12から照射された光の積算光量と略同一となる。   The + x side end of the side 17n is on the boundary line between the region I and the region II, and the −x side end of the side 18m is on the boundary line between the region I and the region II. Therefore, the sum of the integrated light amount emitted from the lamp 11 in the joint region A3 and the integrated light amount emitted from the lamp 12 is the sum of the light emitted from the lamp 11 in the region other than the joint region A3. The amount of light and the integrated amount of light emitted from the lamp 12 are substantially the same.

本実施の形態によれば、ワークWに照射される光の露光量の分布が、1本の長いランプから光が照射された場合の露光量の分布と略同一となるため、大型のワークに対して適切な露光処理を行うことができる。   According to the present embodiment, the distribution of the exposure amount of light irradiated onto the workpiece W is substantially the same as the distribution of the exposure amount when light is irradiated from one long lamp. On the other hand, an appropriate exposure process can be performed.

なお、本実施の形態では、辺17nの+x側の端は、領域Iと領域IIとの境界線上にあり、辺18nの−x側の端は、領域Iと領域IIとの境界線上にあったが、例えば図9に示すように、ランプ11の中心軸ax1と辺17oとが交差する点17uが領域Iと領域IIとの境界線上にある遮光部17eを有するアパーチャ17Bと、ランプ12の中心軸ax2と辺18oとが交差する点18uが領域Iと領域IIとの境界線上にある遮光部18eを有するアパーチャ18Bと、を用いてもよい。   In the present embodiment, the end on the + x side of the side 17n is on the boundary line between the region I and the region II, and the end on the −x side of the side 18n is on the boundary line between the region I and the region II. However, for example, as shown in FIG. 9, an aperture 17B having a light shielding portion 17e in which a point 17u where the central axis ax1 of the lamp 11 intersects the side 17o is on the boundary line between the region I and the region II, An aperture 18B having a light shielding portion 18e in which a point 18u where the central axis ax2 and the side 18o intersect is on the boundary line between the region I and the region II may be used.

アパーチャ17B、18Bは、遮光部17e、18eと、開口部17f、18fと、を有する。遮光部17e、18eは平面視略三角形状である。平面視における遮光部17eの形状は、点18uを中心として遮光部18eを略180度回転させた形状であり、平面視における遮光部18eの形状は、点17uを中心として遮光部17eを略180度回転させた形状である。この場合には、継ぎ目領域においてワークWに照射される光の露光量が少し低下するが、ワークWに照射される光の露光量の分布を1本の長いランプから光が照射された場合の露光量の分布と略同一とした状態で、より広い範囲でランプ11、12を使用することができる。   The apertures 17B and 18B have light shielding portions 17e and 18e and openings 17f and 18f. The light shielding portions 17e and 18e have a substantially triangular shape in plan view. The shape of the light-shielding part 17e in plan view is a shape obtained by rotating the light-shielding part 18e about 180 degrees around the point 18u, and the shape of the light-shielding part 18e in plan view is about 180 around the point 17u. It is a shape rotated by a degree. In this case, although the exposure amount of the light irradiated to the workpiece W in the joint area is slightly reduced, the distribution of the exposure amount of the light irradiated to the workpiece W is a case where the light is irradiated from one long lamp. The lamps 11 and 12 can be used in a wider range with the exposure amount distribution being substantially the same.

<第3の実施の形態>
本発明の第2の実施の形態は、平面視におけるランプ11、12の照度分布に基づいてアパーチャ17A、18Aの形状を決めたが、アパーチャの形態はこれに限られない。
<Third Embodiment>
In the second embodiment of the present invention, the shape of the apertures 17A and 18A is determined based on the illuminance distribution of the lamps 11 and 12 in plan view, but the shape of the aperture is not limited to this.

第3の実施の形態は、搬送方向に略沿ってみたときのランプ11、12の照度分布に基づいてアパーチャの形状を決める形態である。以下、第3の実施の形態の偏光光照射装置3について説明する。第1の実施の形態の偏光光照射装置1と、第3の実施の形態の偏光光照射装置3との差異は、アパーチャのみであるため、以下、第3の実施の形態の偏光光照射装置3におけるアパーチャ17C、18Cについて主に説明する。また、第1の実施の形態と同一の部分については、同一の符号を付し、説明を省略する。   In the third embodiment, the shape of the aperture is determined based on the illuminance distribution of the lamps 11 and 12 when viewed substantially along the transport direction. Hereinafter, the polarized light irradiation device 3 of the third embodiment will be described. Since the difference between the polarized light irradiation apparatus 1 of the first embodiment and the polarized light irradiation apparatus 3 of the third embodiment is only the aperture, the polarized light irradiation apparatus of the third embodiment will be described below. The apertures 17C and 18C in FIG. Further, the same parts as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

図10(A)は、ランプ11、12の長手方向の位置と照度分布との関係を示し、図10(B)は照度分布とアパーチャ17Cとの関係を示し、図10(C)は照度分布とアパーチャ18Cとの関係を示す。図10では、ランプ11、12のある点からの放射角が30度である場合を例示している。   10A shows the relationship between the longitudinal position of the lamps 11 and 12 and the illuminance distribution, FIG. 10B shows the relationship between the illuminance distribution and the aperture 17C, and FIG. 10C shows the illuminance distribution. And the aperture 18C. FIG. 10 illustrates a case where the radiation angle from a certain point of the lamps 11 and 12 is 30 degrees.

図10(A)の二点鎖線は、ランプ11、12の発光領域の端から放射される光の様子を示す。図10(A)内側の二点鎖線より外側の領域は、内側から放射される光のみであり、外側から放射される光がない。したがって、y方向から見て、ランプ11、12の照度分布は、中心部分が高く、端に行くにしたがって低くなる略台形形状である。なお、照度分布の図10(A)における左右端は、リフレクタ13(図10では図示省略)の両端面により遮光される。   A two-dot chain line in FIG. 10A shows a state of light emitted from the ends of the light emitting regions of the lamps 11 and 12. The area outside the two-dot chain line in FIG. 10A is only light emitted from the inside, and there is no light emitted from the outside. Therefore, when viewed from the y direction, the illuminance distribution of the lamps 11 and 12 has a substantially trapezoidal shape in which the central portion is high and decreases toward the end. Note that the left and right ends of the illuminance distribution in FIG. 10A are shielded by both end faces of the reflector 13 (not shown in FIG. 10).

アパーチャ17C、18Cは、それぞれ、遮光部17g、18gと、開口部17h、18hと、を有する。遮光部17gは、開口部17hの+x側に設けられ、遮光部18gは、開口部18hの−x側に設けられる。遮光部17g、18gは、x方向及びy方向に対して斜めの辺17p、18pを有する。辺17pと辺18pとを略一致させて遮光部17gと遮光部18gとを並べた形状は、略矩形形状である。   Apertures 17C and 18C have light shielding portions 17g and 18g and openings 17h and 18h, respectively. The light shielding part 17g is provided on the + x side of the opening 17h, and the light shielding part 18g is provided on the −x side of the opening 18h. The light shielding portions 17g and 18g have sides 17p and 18p that are oblique to the x direction and the y direction. The shape in which the side 17p and the side 18p are substantially matched and the light shielding part 17g and the light shielding part 18g are arranged is a substantially rectangular shape.

線l1は、略台形形状の底と略平行な線であり、ランプ11、12の照度分布を示す略台形形状の上底部分の高さを100としたとき、略90〜略99の高さに存在する。線l1と、照度分布を示す線が交差する点P1、P2のx方向の位置は、辺17pの+x側の端及び辺18pの−x側の端と略一致する。   The line l1 is a line substantially parallel to the bottom of the substantially trapezoidal shape, and the height of approximately 90 to approximately 99 when the height of the upper base portion of the substantially trapezoidal shape indicating the illuminance distribution of the lamps 11 and 12 is 100. Exists. The positions in the x direction of the points P1 and P2 where the line l1 and the line indicating the illuminance distribution intersect substantially coincide with the + x side end of the side 17p and the −x side end of the side 18p.

図11は、平面視におけるアパーチャ17C、18Cの配置を示す図である。遮光部17gは領域A4と重なるように設けられ、遮光部18gは領域A5と重なるように設けられる。領域A4と領域A5とは、x方向の位置が略同一であり、領域A4、A5を継ぎ部領域と定義する。遮光部17gの面積と遮光部18gの面積との和は、領域A4、A5の面積と略同一である。   FIG. 11 is a diagram showing the arrangement of the apertures 17C and 18C in plan view. The light shielding part 17g is provided so as to overlap with the area A4, and the light shielding part 18g is provided so as to overlap with the area A5. The region A4 and the region A5 have substantially the same position in the x direction, and the regions A4 and A5 are defined as joint regions. The sum of the area of the light shielding part 17g and the area of the light shielding part 18g is substantially the same as the areas of the regions A4 and A5.

平面視における遮光部17gの形状は、ランプ12の中心軸ax2と辺18pとが交差する点18vを中心として遮光部18gを略180度回転させた形状であり、平面視における遮光部18gの形状は、ランプ11の中心軸ax1と辺17pとが交差する点17vを中心として遮光部17gを略180度回転させた形状である。   The shape of the light-shielding part 17g in plan view is a shape obtained by rotating the light-shielding part 18g approximately 180 degrees around the point 18v where the central axis ax2 of the lamp 12 and the side 18p intersect, and the shape of the light-shielding part 18g in plan view. Is a shape obtained by rotating the light shielding portion 17g by approximately 180 degrees around a point 17v where the central axis ax1 of the lamp 11 and the side 17p intersect.

本実施の形態によれば、ランプ11、12の中央部分の照度を100としたときに略90〜略99の照度となる領域を用いるため、2本のランプ11、12から照射される光により露光量の分布を、1本の長いランプから光が照射された場合の露光量の分布と略同一とすることができる。したがって、大型のワークに対して適切な露光処理を行うことができる。   According to the present embodiment, since an area having an illuminance of approximately 90 to approximately 99 when the illuminance at the center of the lamps 11 and 12 is 100 is used, the light irradiated from the two lamps 11 and 12 is used. The distribution of exposure amount can be made substantially the same as the distribution of exposure amount when light is irradiated from one long lamp. Therefore, an appropriate exposure process can be performed on a large workpiece.

<第4の実施の形態>
本発明の第1の実施の形態は、ランプ11、12が劣化したときに露光量が低下する領域を遮光部17a、18aにより覆うことで使わないようにしたが、ランプ11、12が劣化したときに露光量が低下する領域を使わないようにする形態はこれに限られない。
<Fourth embodiment>
In the first embodiment of the present invention, the regions where the exposure amount decreases when the lamps 11 and 12 deteriorate are not covered by the light shielding portions 17a and 18a, but the lamps 11 and 12 deteriorate. The form of not using the region where the exposure amount sometimes decreases is not limited to this.

第4の実施の形態は、ランプ11、12を移動させて劣化部分を使わないようにする形態である。以下、第4の実施の形態の偏光光照射装置4について説明する。   In the fourth embodiment, the lamps 11 and 12 are moved so that the deteriorated portion is not used. Hereinafter, the polarized light irradiation apparatus 4 of 4th Embodiment is demonstrated.

第1の実施の形態の偏光光照射装置1と、第4の実施の形態の偏光光照射装置4との差異は、偏光照射部の構成のみであるため、以下、第4の実施の形態の偏光光照射装置4における偏光照射部10Aについてのみ説明し、他については図示及び説明を省略する。また、第1の実施の形態と同一の部分については、同一の符号を付し、説明を省略する。   Since the difference between the polarized light irradiation device 1 of the first embodiment and the polarized light irradiation device 4 of the fourth embodiment is only the configuration of the polarized light irradiation unit, hereinafter, the fourth embodiment will be described. Only the polarized light irradiation unit 10A in the polarized light irradiation device 4 will be described, and the illustration and description of the others will be omitted. Further, the same parts as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

図12は、平面視における偏光照射部10Aの配置を示す図である。偏光照射部10Aは、主として、ランプ11、12と、リフレクタ13(図示省略)と、特定波長透過フィルタ14(図示省略)と、偏光部材15(図示省略)と、カバーガラス16(図示省略)と、アパーチャ17D、18Dと、ランプ移動部(図示省略)と、を有する。   FIG. 12 is a diagram illustrating the arrangement of the polarized light irradiation unit 10A in plan view. The polarized light irradiation unit 10A mainly includes lamps 11 and 12, a reflector 13 (not shown), a specific wavelength transmission filter 14 (not shown), a polarizing member 15 (not shown), and a cover glass 16 (not shown). , Apertures 17D and 18D, and a lamp moving unit (not shown).

アパーチャ17D、18Dは、それぞれ、遮光部17i、18iと、開口部17j、18jと、を有する。遮光部17iは、開口部17jの+x側に設けられ、遮光部18iは、開口部18jの−x側に設けられる。遮光部17i、18iは、平面視略三角形状であり、遮光部17i、18iのx方向及びy方向に対して斜めの辺を略一致させて遮光部17iと遮光部18iとを並べた形状は、略矩形形状である。   Apertures 17D and 18D have light shielding portions 17i and 18i and openings 17j and 18j, respectively. The light shielding part 17i is provided on the + x side of the opening part 17j, and the light shielding part 18i is provided on the −x side of the opening part 18j. The light shielding portions 17i and 18i have a substantially triangular shape in plan view, and the shape in which the light shielding portions 17i and 18i are arranged with the oblique sides substantially coincided with the x direction and the y direction of the light shielding portions 17i and 18i is as follows. It is a substantially rectangular shape.

ランプ移動部は、ランプ11、12をx方向に移動させる。ランプ移動部は、既に公知の技術を用いることができるため、説明を省略する。   The lamp moving unit moves the lamps 11 and 12 in the x direction. Since a known technique can be used for the lamp moving unit, description thereof is omitted.

ランプ11、12は、最初はアパーチャ17D、18Dと重なる位置(図12では点線で表示)にある。ランプ11、12が劣化して、ランプ11、12の端が黒くなると、ランプ移動部は、ランプ11を+x方向に移動させ、ランプ12を−x方向に移動させる(図12では実線で表示)。このとき、遮光部17i、18iがそれぞれランプ11、12の黒くなった部分を覆うように、ランプ11、12を配置する。   The lamps 11 and 12 are initially located at positions overlapping with the apertures 17D and 18D (indicated by dotted lines in FIG. 12). When the lamps 11 and 12 deteriorate and the ends of the lamps 11 and 12 become black, the lamp moving unit moves the lamp 11 in the + x direction and moves the lamp 12 in the −x direction (indicated by a solid line in FIG. 12). . At this time, the lamps 11 and 12 are arranged so that the light shielding portions 17i and 18i cover the black portions of the lamps 11 and 12, respectively.

本実施の形態によれば、ランプ11、12が劣化したときに露光量が低下する領域を、ランプ11、12をx方向に移動させることで使用しないようにするため、ランプ11、12の劣化による露光量の低下がワークWの露光に影響せず、露光量ムラをなくすことができる。   According to the present embodiment, the lamps 11 and 12 are deteriorated in order not to use the region where the exposure amount decreases when the lamps 11 and 12 deteriorate, by moving the lamps 11 and 12 in the x direction. The decrease in the exposure amount due to the above does not affect the exposure of the workpiece W, and the uneven exposure amount can be eliminated.

<第5の実施の形態>
本発明の第1の実施の形態は、アパーチャ17、18はそれぞれx方向及びy方向に対して斜めの辺17m、18mを有する略板状の遮光部17a、18aを有したが、アパーチャの形態はこれに限られない。
<Fifth embodiment>
In the first embodiment of the present invention, the apertures 17 and 18 have substantially plate-shaped light shielding portions 17a and 18a having sides 17m and 18m oblique to the x and y directions, respectively. Is not limited to this.

第5の実施の形態は、略板状の遮光部を用いない形態である。以下、第5の実施の形態の偏光光照射装置5について説明する。第1の実施の形態の偏光光照射装置1と、第5の実施の形態の偏光光照射装置5との差異は、アパーチャのみであるため、以下、第5の実施の形態の偏光光照射装置5におけるアパーチャ17E、18Eについて主に説明する。また、第1の実施の形態と同一の部分については、同一の符号を付し、説明を省略する。   In the fifth embodiment, a substantially plate-shaped light shielding portion is not used. Hereinafter, the polarized light irradiation apparatus 5 of 5th Embodiment is demonstrated. Since the difference between the polarized light irradiation apparatus 1 of the first embodiment and the polarized light irradiation apparatus 5 of the fifth embodiment is only the aperture, hereinafter, the polarized light irradiation apparatus of the fifth embodiment. The apertures 17E and 18E in FIG. Further, the same parts as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

図13は、アパーチャ17E、18Eの概略を示す平面図である。アパーチャ17Eは、ランプ11の下側に、平面視においてランプ11からの光が照射される領域を覆うように設けられる。アパーチャ18Eは、ランプ12の下側に、平面視においてランプ12からの光が照射される領域を覆うように設けられる。   FIG. 13 is a plan view schematically showing the apertures 17E and 18E. The aperture 17E is provided below the lamp 11 so as to cover a region irradiated with light from the lamp 11 in plan view. The aperture 18E is provided below the lamp 12 so as to cover a region irradiated with light from the lamp 12 in plan view.

アパーチャ17E、18Eは、それぞれ、遮光部17k、18kと、略板状の透光部材17l、18lと、を有する。遮光部17kは領域A1と重なるように設けられ、遮光部18kは領域A2と重なるように設けられる。   Apertures 17E and 18E have light shielding portions 17k and 18k, and substantially plate-like light transmitting members 17l and 18l, respectively. The light shielding part 17k is provided so as to overlap with the area A1, and the light shielding part 18k is provided so as to overlap with the area A2.

遮光部17k、18kは、複数のドットを含むドットパターンである。遮光部17kは透光部材17lに形成されており、遮光部18kは透光部材18lに形成されている。   The light shielding portions 17k and 18k are dot patterns including a plurality of dots. The light shielding part 17k is formed on the light transmitting member 17l, and the light shielding part 18k is formed on the light transmitting member 18l.

領域A1においては、端11cに近づくほど単位面積当たりのドットの数が多くなり、端11cから遠ざかるほど単位面積当たりのドットの数が少なくなるように、単位面積当たりのドットの数が徐々に変化する。これにより、領域A1では、端11cに隣接する位置におけるドットパターンが最も濃く、端11cから遠ざかるにつれてドットパターンが徐々に薄くなる。   In the area A1, the number of dots per unit area gradually increases so that the number of dots per unit area increases as it approaches the end 11c, and the number of dots per unit area decreases as the distance from the end 11c increases. To do. Thereby, in the area A1, the dot pattern at the position adjacent to the end 11c is the darkest, and the dot pattern gradually becomes thinner as the distance from the end 11c increases.

また、領域A2においては、端12cに近づくほど単位面積当たりのドットの数が多くなり、端12cから遠ざかるほど単位面積当たりのドットの数が少なくなるように、単位面積当たりのドットの数が徐々に変化する。図13においては、端12cに近い領域F1におけるドットの数は、端12cから遠い領域F2のドットの数より多い。これにより、領域A2では、端12cに隣接する位置におけるドットパターンが最も濃く、端12cから遠ざかるにつれてドットパターンが徐々に薄くなる。   In the area A2, the number of dots per unit area gradually increases so that the number of dots per unit area increases as the distance from the edge 12c increases, and the number of dots per unit area decreases as the distance from the edge 12c increases. To change. In FIG. 13, the number of dots in the region F1 near the end 12c is larger than the number of dots in the region F2 far from the end 12c. Thereby, in the area A2, the dot pattern at the position adjacent to the end 12c is the darkest, and the dot pattern gradually becomes thinner as the distance from the end 12c increases.

なお図13では、図示の都合上、ドットパターンの濃さが段階的に変化しているが、実際にはドットパターンの濃さは連続的に変化している。なお、ドットパターンの濃さを段階的に変化させることも可能であるが、遮光量のムラをなくすためにはドットパターンの濃さを連続的に変化させることが望ましい。   In FIG. 13, for the sake of illustration, the dot pattern density changes stepwise, but in reality the dot pattern density changes continuously. Although it is possible to change the density of the dot pattern step by step, it is desirable to change the density of the dot pattern continuously in order to eliminate unevenness in the light shielding amount.

図14は、アパーチャ17E、18Eと、ワークWへ照射される光の積算光量との関係を示す図であり、(A)は平面視におけるアパーチャ17E、18Eの配置を示し、(B)はランプ11、12毎の積算光量を示し、(C)はランプ11、12の積算光量の合計を示す。ランプ11から照射された光は遮光部17kにより遮られるため、領域A1では+x側にいくにつれて積算光量が徐々に小さくなる。また、ランプ12から照射された光は遮光部18kにより遮られるため、領域A2では−x側にいくにつれて積算光量が徐々に小さくなる。   14A and 14B are diagrams showing the relationship between the apertures 17E and 18E and the integrated light quantity of light applied to the workpiece W. FIG. 14A shows the arrangement of the apertures 17E and 18E in a plan view, and FIG. 11 and 12 show the integrated light amount, and (C) shows the total integrated light amount of the lamps 11 and 12. Since the light emitted from the lamp 11 is blocked by the light blocking portion 17k, the integrated light amount gradually decreases toward the + x side in the area A1. Further, since the light emitted from the lamp 12 is blocked by the light blocking portion 18k, the integrated light amount gradually decreases toward the −x side in the region A2.

遮光部17kの面積と遮光部18kの面積との和は、領域A1、A2の面積と略同一であるため、継ぎ部領域におけるランプ11から照射された光の積算光量とランプ12から照射された光の積算光量との和は、継ぎ部領域以外の領域におけるランプ11から照射された光の積算光量及びランプ12から照射された光の積算光量と略同一である。これにより、継ぎ部領域における露光量ムラをなくすことができる。   Since the sum of the area of the light shielding part 17k and the area of the light shielding part 18k is substantially the same as the area of the areas A1 and A2, the integrated light amount emitted from the lamp 11 and the lamp 12 irradiated in the joint area. The sum with the integrated light quantity of light is substantially the same as the integrated light quantity of light emitted from the lamp 11 and the integrated light quantity of light emitted from the lamp 12 in the region other than the joint region. Thereby, the exposure amount unevenness in the joint area can be eliminated.

本実施の形態によれば、露光量ムラや光学特性ムラがない状態で2本のランプを継ぐことができる。したがって、大型のワークに対して一度で露光処理を行うことができる。   According to the present embodiment, two lamps can be connected in a state where there is no exposure amount unevenness or optical characteristic unevenness. Therefore, the exposure process can be performed once for a large workpiece.

以上、この発明の実施形態を図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。また、上述した各実施形態や変形例として説明した構成を適宜組み合わせた構成を採用することが可能である。例えば、第1の実施形態の構成に第4の実施形態の構成を適宜組み合わせることができる。   The embodiment of the present invention has been described in detail with reference to the drawings. However, the specific configuration is not limited to this embodiment, and includes design changes and the like within a scope not departing from the gist of the present invention. In addition, it is possible to employ a configuration in which the configurations described as the embodiments and modifications described above are appropriately combined. For example, the configuration of the fourth embodiment can be appropriately combined with the configuration of the first embodiment.

また、本発明において、「略」とは、厳密に同一である場合のみでなく、同一性を失わない程度の誤差や変形を含む概念である。例えば、略平行とは、厳密に平行の場合には限られない。また、例えば、単に平行、直交等と表現する場合において、厳密に平行、直交等の場合のみでなく、略平行、略直交等の場合を含むものとする。   Further, in the present invention, “substantially” is a concept including not only a case where they are exactly the same but also errors and deformations that do not lose the identity. For example, “substantially parallel” is not limited to being strictly parallel. Further, for example, when simply expressing as parallel, orthogonal, etc., not only strictly parallel, orthogonal, etc. but also cases of substantially parallel, substantially orthogonal, etc. are included.

1、2、2A、3、4:偏光光照射装置
10、10A :偏光照射部
11、12 :ランプ
11a、11b、12a、12b:電極
11c、12c :端
13 :リフレクタ
14 :特定波長透過フィルタ
15 :偏光部材
16 :カバーガラス
17、17A、17B、17C、17D:アパーチャ
17a、17c、17e、17g、17i:遮光部
17b、17d、17f、17h、17j:開口部
17m、17n、17o、17p、:辺
18、18A、18B、18C、18D:アパーチャ
18a、18c、18e、18g、18i:遮光部
18b、18d、18f、18h、18j:開口部
18m、18n、18o、18p:辺
20 :ステージ
30 :ステージ駆動部
31 :ステージガイドレール
32 :ステージスキャン軸
33 :駆動部
40 :ロボット
50 :装置枠
1, 2, 2A, 3, 4: Polarized light irradiation device 10, 10A: Polarized light irradiation units 11, 12: Lamps 11a, 11b, 12a, 12b: Electrodes 11c, 12c: End 13: Reflector 14: Specific wavelength transmission filter 15 : Polarizing member 16: Cover glass 17, 17A, 17B, 17C, 17D: Apertures 17a, 17c, 17e, 17g, 17i: Light shielding portions 17b, 17d, 17f, 17h, 17j: Openings 17m, 17n, 17o, 17p, : Sides 18, 18A, 18B, 18C, 18D: Apertures 18a, 18c, 18e, 18g, 18i: Light shielding portions 18b, 18d, 18f, 18h, 18j: Openings 18m, 18n, 18o, 18p: Side 20: Stage 30 : Stage drive unit 31: Stage guide rail 32: Stage scan shaft 33: Drive unit 40: Robot 50: Device frame

Claims (8)

偏光光が照射される対象物が載置されるステージと、
長手方向が前記対象物の搬送方向に対して略直交するように設けられた第1ランプ及び第2ランプと、
前記第1ランプ及び前記第2ランプと前記ステージとの間に設けられ、前記第1ランプ及び前記第2ランプから照射された光を偏光する偏光部材と、
前記第1ランプと前記ステージとの間に設けられ、前記第1ランプから照射された光を遮る第1遮光部と、
前記第2ランプと前記ステージとの間に設けられ、前記第2ランプから照射された光を遮る第2遮光部と、
を備え、
前記第1ランプと前記第2ランプとは、前記搬送方向及び前記搬送方向と略直交する方向である直交方向にずらして配置され、
前記直交方向において、前記第1ランプの第1端が前記第2ランプと重なり、前記第2ランプの第2端が前記第1ランプと重なり、
平面視において、前記第1遮光部は、前記第1ランプからの光が照射される前記直交方向に長い帯状の領域の一部である第1領域と重なるように設けられ、
平面視において、前記第2遮光部は、前記第2ランプからの光が照射される前記直交方向に長い帯状の領域の一部である第2領域と重なるように設けられ、
前記第1領域と前記第2領域とは、前記直交方向の位置が略同一であり、
前記第1遮光部の面積と前記第2遮光部の面積との和は、前記第1領域及び前記第2領域の面積と略同一である
ことを特徴とする偏光光照射装置。
A stage on which an object to be irradiated with polarized light is placed;
A first lamp and a second lamp provided such that a longitudinal direction thereof is substantially orthogonal to a conveyance direction of the object;
A polarizing member that is provided between the first lamp and the second lamp and the stage and polarizes light emitted from the first lamp and the second lamp;
A first light-shielding portion that is provided between the first lamp and the stage and blocks light emitted from the first lamp;
A second light-shielding portion that is provided between the second lamp and the stage and blocks light emitted from the second lamp;
With
The first lamp and the second lamp are arranged to be shifted in an orthogonal direction which is a direction substantially orthogonal to the transport direction and the transport direction,
In the orthogonal direction, a first end of the first lamp overlaps the second lamp, a second end of the second lamp overlaps the first lamp,
In a plan view, the first light-shielding portion is provided so as to overlap a first region that is a part of a strip-shaped region that is long in the orthogonal direction to which light from the first lamp is irradiated,
In a plan view, the second light-shielding portion is provided so as to overlap a second region that is a part of a strip-shaped region that is long in the orthogonal direction to which the light from the second lamp is irradiated,
The first region and the second region have substantially the same position in the orthogonal direction,
The sum of the area of the first light-shielding part and the area of the second light-shielding part is substantially the same as the areas of the first region and the second region.
平面視において、前記第1遮光部は前記搬送方向に対して斜めの第1辺を有し、前記第2遮光部は前記搬送方向に対して斜めの第2辺を有し、
前記第1辺と前記第2辺とを略一致させて前記第1遮光部及び前記第2遮光部を並べた形状は略矩形形状である
ことを特徴とする請求項1に記載の偏光光照射装置。
In plan view, the first light-shielding part has a first side oblique to the transport direction, and the second light-shielding part has a second side oblique to the transport direction,
2. The polarized light irradiation according to claim 1, wherein a shape in which the first light-shielding portion and the second light-shielding portion are arranged so that the first side and the second side substantially coincide with each other is a substantially rectangular shape. apparatus.
平面視における前記第1ランプの照度分布は、前記第1ランプの長手方向に沿って略平行な第3領域と、前記第1ランプの長手方向に沿って略平行でない第4領域と、を有し、
平面視における前記第2ランプの照度分布は、前記第2ランプの長手方向に沿って略平行な第5領域と、前記第1ランプの長手方向に沿って略平行でない第6領域と、を有し、
前記第1ランプの真下と略同一の照度で光が照射される領域において、前記第1辺の前記第1端側の端は、前記第3領域と前記第4領域との境界線上にあり、
前記第2ランプの真下と略同一の照度で光が照射される領域において、前記第2辺の前記第2端側の端は、前記第5領域と前記第6領域との境界線上にある
ことを特徴とする請求項2に記載の偏光光照射装置。
The illuminance distribution of the first lamp in plan view has a third region that is substantially parallel along the longitudinal direction of the first lamp and a fourth region that is not substantially parallel along the longitudinal direction of the first lamp. And
The illuminance distribution of the second lamp in plan view has a fifth region that is substantially parallel along the longitudinal direction of the second lamp and a sixth region that is not substantially parallel along the longitudinal direction of the first lamp. And
In a region where light is irradiated with substantially the same illuminance as directly below the first lamp, an end on the first end side of the first side is on a boundary line between the third region and the fourth region,
In a region where light is irradiated with substantially the same illuminance as directly below the second lamp, an end of the second side on the second end side is on a boundary line between the fifth region and the sixth region. The polarized light irradiation apparatus according to claim 2.
前記搬送方向から見て、前記第1ランプ及び前記第2ランプの照度分布は、それぞれ、中心部分が高く、端に行くにしたがって低くなる略台形形状であり、
前記略台形形状の上底部分の高さを100としたときの、前記略台形形状の底と略平行であり、略90〜略99の高さに存在する線と、前記照度分布を示す線とが交差する点の前記直交方向における位置は、前記第1辺の前記第1端側の端及び前記第2辺の前記第2端側の端と略一致する
ことを特徴とする請求項2に記載の偏光光照射装置。
When viewed from the transport direction, the illuminance distribution of the first lamp and the second lamp has a substantially trapezoidal shape that has a high central portion and decreases toward the end,
A line that is substantially parallel to the bottom of the substantially trapezoidal shape and has a height of about 90 to about 99 when the height of the upper base portion of the substantially trapezoidal shape is 100, and a line that indicates the illuminance distribution The position in the orthogonal direction of the point where the crossing points substantially coincides with the end on the first end side of the first side and the end on the second end side of the second side. The polarized light irradiation apparatus according to 1.
前記第1ランプと前記ステージとの間に、前記第1ランプからの光が照射される領域を覆うように設けられた第1アパーチャと、
前記第2ランプと前記ステージとの間に、前記第2ランプからの光が照射される領域を覆うように設けられた第2アパーチャと、
を備え、
前記第1遮光部及び前記第2遮光部は、複数のドットを含むドットパターンであり、
前記第1アパーチャは、略板状の第1透光部材と、前記第1透光部材に形成された前記第1遮光部とを有し、
前記第2アパーチャは、略板状の第2透光部材と、前記第2透光部材に形成された前記第2遮光部とを有し、
前記第1領域においては、前記第1端に近づくほど単位面積当たりの前記ドットの数が多くなり、前記第1端から遠ざかるほど単位面積当たりの前記ドットの数が少なくなるように、単位面積当たりの前記ドットの数が徐々に変化し、
前記第2領域においては、前記第2端に近づくほど単位面積当たりの前記ドットの数が多くなり、前記第2端から遠ざかるほど単位面積当たりの前記ドットの数が少なくなるように、単位面積当たりの前記ドットの数が徐々に変化する
ことを特徴とする請求項1に記載の偏光光照射装置。
A first aperture provided between the first lamp and the stage so as to cover a region irradiated with light from the first lamp;
A second aperture provided between the second lamp and the stage so as to cover a region irradiated with light from the second lamp;
With
The first light shielding portion and the second light shielding portion are dot patterns including a plurality of dots,
The first aperture includes a substantially plate-shaped first light-transmitting member and the first light-shielding portion formed on the first light-transmitting member.
The second aperture includes a substantially plate-shaped second light transmissive member, and the second light shielding portion formed on the second light transmissive member,
In the first region, the closer to the first end, the larger the number of dots per unit area, and the further away from the first end, the smaller the number of dots per unit area. The number of dots of the
In the second region, the closer to the second end, the larger the number of dots per unit area, and the farther away from the second end, the smaller the number of dots per unit area. The polarized light irradiation apparatus according to claim 1, wherein the number of the dots of the light beam gradually changes.
前記第1ランプと前記対象物との距離が略150mm〜略160mmの場合に、前記第1領域の長さは前記第1ランプの長手方向の長さの略8%〜略15%であり、
前記第2ランプと前記対象物との距離が略150mm〜略160mmの場合に、前記第2領域の長さは前記第2ランプの長手方向の長さの略8%〜略15%である
ことを特徴とする請求項1、2又は5に記載の偏光光照射装置。
When the distance between the first lamp and the object is approximately 150 mm to approximately 160 mm, the length of the first region is approximately 8% to approximately 15% of the length in the longitudinal direction of the first lamp.
When the distance between the second lamp and the object is about 150 mm to about 160 mm, the length of the second region is about 8% to about 15% of the length in the longitudinal direction of the second lamp. The polarized light irradiation apparatus according to claim 1, 2, or 5.
平面視において、前記第1遮光部の形状は、前記第2辺と前記第2ランプの中心軸とが交差する点である第2点を中心として前記第2遮光部を略180度回転させた形状であり、前記第2遮光部の形状は、前記第1辺と前記第1ランプの中心軸とが交差する点である第1点を中心として前記第1遮光部を略180度回転させた形状である
ことを特徴とする請求項2から4のいずれか一項に記載の偏光光照射装置。
In a plan view, the shape of the first light-shielding portion is obtained by rotating the second light-shielding portion approximately 180 degrees around the second point where the second side and the central axis of the second lamp intersect. The shape of the second light-shielding portion is obtained by rotating the first light-shielding portion approximately 180 degrees around the first point where the first side intersects the central axis of the first lamp. The polarized light irradiation device according to claim 2, wherein the polarized light irradiation device has a shape.
前記第1ランプ又は前記第2ランプを前記搬送方向と略直交する方向に移動させる移動部を有する
ことを特徴とする請求項1から7のいずれか一項に記載の偏光光照射装置。
The polarized light irradiation apparatus according to claim 1, further comprising: a moving unit that moves the first lamp or the second lamp in a direction substantially orthogonal to the transport direction.
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