JP2017151405A - Polarized light irradiation device - Google Patents

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Kazushige Hashimoto
和重 橋本
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Toshinari Arai
敏成 新井
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polarized light irradiation device capable of irradiating a single object with light of a polarization component in a predetermined first direction and light of a polarization component in a second direction that is different from the first direction.SOLUTION: At least either of a first region of a target object placed on a stage to be irradiated with light of a polarization component in a first direction and a second region thereof to be irradiated with light of a polarization component in a second direction that is different from the first direction is irradiated with light that is emitted from light sources disposed along a direction substantially perpendicular to a scanning direction for the target object and polarized by polarizers.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、偏光光照射装置に関する。   The present invention relates to a polarized light irradiation apparatus.

特許文献1には、ワイヤ・グリッド偏光子を用いた光配向用偏光光照射装置が開示されている。また、特許文献1には、大きなワイヤ・グリッド偏光子が必要な場合には、複数の偏光子を組み合わせて一つのワイヤ・グリッド偏光子として使用することが開示されている。   Patent Document 1 discloses a polarized light irradiation apparatus for photo-alignment using a wire grid polarizer. Patent Document 1 discloses that when a large wire grid polarizer is required, a plurality of polarizers are combined and used as one wire grid polarizer.

特許文献2には、基板の上に所定の間隔で遮光膜が設けられており、入射角が+θの紫外線を入射させて基板のA領域についての配向を行い、入射角が−θの紫外線を入射させて基板のB領域についての配向を行う(分配配向)光配向装置が開示されている。   In Patent Document 2, a light-shielding film is provided on a substrate at a predetermined interval, and an ultraviolet ray having an incident angle of + θ is incident to perform alignment with respect to the A region of the substrate, and an ultraviolet ray having an incident angle of −θ is applied. A photo-alignment device is disclosed that performs alignment on the B region of the substrate by being incident (distributed alignment).

特開2004−144884号公報JP 2004-144484 A 特開2002−350858号公報JP 2002-350858 A

特許文献1に記載の発明では、複数の偏光子を組み合わせたとしても、対象物には1方向の偏光光しか照射されない。特許文献2に記載の発明では、分配配向を行うには、照射ヘッドの回転や基板の位置あわせ等を精密に行わなければならないという問題がある。さらに、特許文献2に記載の発明における分配配向は、紫外線の入射角が異なるものであり、偏光光の向きが異なるものではない。   In the invention described in Patent Document 1, even if a plurality of polarizers are combined, the object is irradiated only with polarized light in one direction. In the invention described in Patent Document 2, in order to perform distributed orientation, there is a problem that rotation of the irradiation head, alignment of the substrate, and the like must be performed precisely. Furthermore, the distribution orientation in the invention described in Patent Document 2 is different in the incident angle of ultraviolet rays and not in the direction of polarized light.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、所定の方向である第1方向の偏光成分の光と、第1方向と異なる方向である第2方向の偏光成分の光とを、同一の対象物に対して照射することができる偏光光照射装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and the light of the polarization component in the first direction which is a predetermined direction is the same as the light of the polarization component in the second direction which is a direction different from the first direction. It aims at providing the polarized light irradiation apparatus which can irradiate with respect to the target object.

上記課題を解決するために、本発明に係る偏光光照射装置は、例えば、偏光光が照射される対象物が載置されるステージと、前記対象物の走査方向と略直交する方向に沿って設けられた光源と、前記光源と前記ステージとの間に設けられ、前記光源から照射された光を偏光する偏光子と、を有する偏光照射部と、を備え、前記偏光照射部は、前記対象物の第1領域であって、前記光源から照射された光のうちの所定の方向である第1方向の偏光成分の光が照射される第1領域、及び、前記対象物の第2領域であって、前記光源から照射された光のうちの前記第1方向と異なる方向である第2方向の偏光成分の光が照射される第2領域の少なくとも一方へ偏光光を照射することを特徴とする。   In order to solve the above-described problem, a polarized light irradiation apparatus according to the present invention includes, for example, a stage on which an object to be irradiated with polarized light is placed, and a direction substantially orthogonal to the scanning direction of the object. A polarized light irradiating unit provided between the light source provided and the polarizer disposed between the light source and the stage and polarizing light emitted from the light source, wherein the polarized light irradiating unit is the target The first region of the object, the first region irradiated with the light of the polarization component in the first direction that is a predetermined direction of the light emitted from the light source, and the second region of the object The polarized light is applied to at least one of the second regions irradiated with the light of the polarization component in the second direction that is different from the first direction of the light emitted from the light source. To do.

本発明に係る偏光光照射装置によれば、対象物の走査方向と略直交する方向に沿って設けられた光源から照射され、偏光子によって偏光された光は、ステージに載置された対象物のうちの、第1方向の偏光成分の光が照射される第1領域、及び第1方向と異なる方向である第2方向の偏光成分の光が照射される第2領域の少なくとも一方へ照射される。このように、第1方向の偏光成分の光と、第1方向と異なる方向である第2方向の偏光成分の光とを、同一の対象物に対して照射することができる。   According to the polarized light irradiation apparatus according to the present invention, the light irradiated from the light source provided along the direction substantially orthogonal to the scanning direction of the target and polarized by the polarizer is the target placed on the stage. Of the first direction irradiated with light having the polarization component in the first direction and at least one of the second region irradiated with light having the polarization component in the second direction, which is different from the first direction. The Thus, the light of the polarization component in the first direction and the light of the polarization component in the second direction, which is a direction different from the first direction, can be irradiated to the same object.

ここで、前記光源は、前記走査方向に隣接して設けられた第1光源及び第2光源を有し、
前記偏光子は、前記第1光源から照射された光のうちの前記第1方向の偏光成分を透過させる第1偏光子と、前記第2光源から照射された光のうちの前記第2方向の偏光成分を透過させる第2偏光子と、を有してもよい。これにより、対象物に対して、異なる方向の偏光光を同時に照射することができる。
Here, the light source includes a first light source and a second light source provided adjacent to the scanning direction,
The polarizer includes a first polarizer that transmits a polarization component in the first direction of light emitted from the first light source, and a second direction of light emitted from the second light source. A second polarizer that transmits the polarization component. Thereby, it is possible to simultaneously irradiate the object with polarized light in different directions.

ここで、前記偏光照射部は、前記偏光子と前記ステージとの間に設けられた第1遮光部であって、前記第1光源から照射された光の一部を遮光する第1遮光板と、前記第2光源から照射された光の一部を遮光する第2遮光板と、を有する第1遮光部を有してもよい。この場合には、遮光板が設けられていない領域には偏光光が照射され、遮光板が設けられている領域には偏光光が照射されず、これらの境界において露光量は急激に変化する。これにより、対象物において、異なる偏光成分の光を照射させる領域を隣接して設けることができる。   Here, the polarization irradiation unit is a first light shielding unit provided between the polarizer and the stage, and a first light shielding plate that shields a part of the light emitted from the first light source. A first light-shielding portion having a second light-shielding plate that shields a part of the light emitted from the second light source may be included. In this case, the region where the light shielding plate is not provided is irradiated with polarized light, and the region where the light shielding plate is provided is not irradiated with polarized light, and the exposure amount changes abruptly at these boundaries. Thereby, in a target object, the area | region which irradiates the light of a different polarization | polarized-light component can be provided adjacently.

ここで、前記対象物に関する情報を取得する情報取得部と、前記第1遮光板を前記第1光源に沿って移動させ、前記第2遮光板を前記第2光源に沿って移動させる遮光板駆動部と、前記情報取得部により取得された情報に基づいて前記第1遮光板及び前記第2遮光板の位置を決定し、当該決定された位置に前記第1遮光板及び前記第2遮光板を移動させるように前記遮光板駆動部を制御する遮光板制御部と、を備えてもよい。これにより、対象物に応じて自動的に遮光を行い、対象物に応じた方向の偏光光を自動的に照射することができる。   Here, an information acquisition unit that acquires information about the object, and a light shielding plate drive that moves the first light shielding plate along the first light source and moves the second light shielding plate along the second light source. And the positions of the first light-shielding plate and the second light-shielding plate based on the information acquired by the information acquisition unit, and the first light-shielding plate and the second light-shielding plate at the determined positions. A light-shielding plate control unit that controls the light-shielding plate driving unit so as to be moved. As a result, it is possible to automatically shield light according to the object and automatically irradiate polarized light in a direction according to the object.

ここで、前記ステージを前記走査方向に移動させると共に、前記ステージを前記走査方向と略直交するシフト方向にシフト量だけ移動させるステージ駆動部を備え、前記光源は、長手方向が前記走査方向に沿って設けられた複数のランプを有し、前記第1光源及び前記第2光源は、前記複数のランプを、前記走査方向と略直交する方向に並べて設けることにより、前記走査方向と略直交する方向に沿って設けられ、前記遮光板制御部は、前記ステージが前記シフト方向に前記シフト量だけ移動されたら、前記第1遮光板及び前記第2遮光板を前記シフト方向に前記シフト量だけ移動させてもよい。これにより、遮光板が設けられていない領域に対して、偏光光を安定して照射することができる。また、長手方向が走査方向に沿って設けられたランプを用いることで、ランプからの光の出射角度θを大きくし、遮光板が設けられている領域と設けられていない領域との境界における露光量の変化をより急峻にすることができる。その結果、異なる偏光成分の光を照射させる領域を対象物内に隣接して設け、より効率的に対象物を活用することができる。   Here, the stage includes a stage driving unit that moves the stage in the scanning direction and moves the stage by a shift amount in a shift direction substantially orthogonal to the scanning direction, and the light source has a longitudinal direction along the scanning direction. The first light source and the second light source are arranged in a direction substantially perpendicular to the scanning direction, and the first light source and the second light source are arranged in a direction substantially perpendicular to the scanning direction. The light shielding plate control unit moves the first light shielding plate and the second light shielding plate by the shift amount in the shift direction when the stage is moved by the shift amount in the shift direction. May be. Thereby, it is possible to stably irradiate polarized light to a region where the light shielding plate is not provided. Further, by using a lamp whose longitudinal direction is provided along the scanning direction, the light emission angle θ from the lamp is increased, and exposure at the boundary between the area where the light shielding plate is provided and the area where the light shielding plate is not provided. The change in quantity can be made steeper. As a result, a region for irradiating light of different polarization components is provided adjacent to the object, and the object can be utilized more efficiently.

ここで、前記光源は、長手方向が前記走査方向に沿って設けられた複数のランプを有し、前記第1光源及び前記第2光源は、前記複数のランプを、前記走査方向と略直交する方向に並べて設けることにより、前記走査方向と略直交する方向に沿って設けられ、前記対象物に関する情報を取得する情報取得部と、前記情報取得部により取得された情報に基づいて前記光源の点灯領域を求め、前記複数のランプのうちの前記点灯領域に位置するランプのみを点灯させる光源制御部と、を備えてもよい。これにより、点灯領域に位置するランプのみを点灯させて、熱が過度に発生することを防止することができる。   Here, the light source has a plurality of lamps whose longitudinal direction is provided along the scanning direction, and the first light source and the second light source have the plurality of lamps substantially orthogonal to the scanning direction. By arranging in a direction, an information acquisition unit that is provided along a direction substantially orthogonal to the scanning direction and acquires information about the object, and that the light source is turned on based on the information acquired by the information acquisition unit A light source control unit that obtains a region and lights only a lamp located in the lighting region among the plurality of lamps. Thereby, only the lamp located in the lighting region can be lit to prevent excessive heat generation.

ここで、前記ステージは、第1の位置と第2の位置との間で回転可能に設けられ、前記偏光子は、前記第1方向の偏光成分を透過させ、前記偏光照射部は、前記偏光子と前記ステージとの間に設けられた第2遮光部であって、前記走査方向に沿った長さが前記光源の前記走査方向に沿った長さ以上である第3遮光板と、前記走査方向と略直交する方向の長さが前記光源の前記走査方向と略直交する方向の長さ以上である第4遮光板と、を有する第2遮光部を有し、前記ステージが前記第1の向きにあるときには、前記第3遮光板は、前記光源を前記走査方向に沿って帯状に覆う位置であって、前記対象物の前記第1領域以外の領域に相当する位置に設けられ、前記ステージが第2の向きにあるときには、前記第4遮光板は、前記対象物の前記第1領域を覆う位置に設けられてもよい。これにより、1種類の偏光子で(第1方向の偏光成分を透過させる第1偏光子と、第2方向の偏光成分を透過させる第2偏光子を用いることなく)、異なる方向の偏光成分の光を同一の対象物Wに照射することができる。また、光源が全て常時点灯しているため、第3遮光板、第4遮光板の位置を変えるだけで、複数の種類の基板を連続して露光することができる。   Here, the stage is rotatably provided between a first position and a second position, the polarizer transmits a polarization component in the first direction, and the polarized light irradiation unit A third light-shielding plate provided between a child and the stage, the third light-shielding plate having a length along the scanning direction equal to or greater than a length along the scanning direction of the light source; and the scanning A second light-shielding portion having a fourth light-shielding plate having a length in a direction substantially orthogonal to the direction that is equal to or greater than a length in a direction substantially orthogonal to the scanning direction of the light source, and the stage is the first When in the direction, the third light shielding plate is provided at a position that covers the light source in a strip shape along the scanning direction and that corresponds to a region other than the first region of the object, and the stage Is in the second orientation, the fourth light-shielding plate is It may be provided at a position covering the first region. Thus, with one type of polarizer (without using a first polarizer that transmits the polarization component in the first direction and a second polarizer that transmits the polarization component in the second direction), The same object W can be irradiated with light. In addition, since all the light sources are always lit, a plurality of types of substrates can be continuously exposed by simply changing the positions of the third light shielding plate and the fourth light shielding plate.

ここで、前記対象物に関する情報を取得する情報取得部と、前記ステージを前記第1の位置と前記第2の位置との間で回転させ、かつ、前記ステージを前記走査方向に沿って移動させるステージ駆動部と、前記第3遮光板及び前記第4遮光板を移動させる遮光板駆動部と、前記ステージ駆動部及び前記遮光板駆動部を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記情報取得部により取得された情報に基づいて前記第3遮光板の位置を決定し、当該決定された位置に前記第3遮光板を移動させ、かつ、前記情報取得部により取得された情報に基づいて前記第4遮光板の位置を決定し、当該決定された位置に前記第4遮光板を保つように、前記第4遮光板を前記ステージと共に前記走査方向へ移動させてもよい。これにより、対象物に応じて自動的に不要な光を遮光することができる。   Here, an information acquisition unit that acquires information about the object, the stage is rotated between the first position and the second position, and the stage is moved along the scanning direction. A stage driving unit; a light shielding plate driving unit that moves the third light shielding plate and the fourth light shielding plate; and a control unit that controls the stage driving unit and the light shielding plate driving unit. Based on the information acquired by the information acquisition unit, the position of the third light shielding plate is determined, the third light shielding plate is moved to the determined position, and the information acquired by the information acquisition unit is The position of the fourth light shielding plate may be determined based on the position, and the fourth light shielding plate may be moved in the scanning direction together with the stage so as to keep the fourth light shielding plate at the determined position. Thereby, unnecessary light can be automatically shielded according to the object.

ここで、前記制御部は、前記ステージを回転させて前記第1の向きにし、かつ、前記情報取得部により取得された情報に基づいて、前記第3遮光板が前記光源を前記走査方向に沿って帯状に覆い、前記第4遮光板が前記光源を覆わないように前記第3遮光板及び前記第4遮光板を移動させ、前記第1の向きで前記ステージを前記走査方向へ移動させ、前記ステージを回転させて前記第2の向きにし、かつ、前記情報取得部により取得された情報に基づいて、前記第3遮光板が前記光源を覆わず、前記第4遮光板が前記第1領域を覆うように前記第3遮光板及び前記第4遮光板を移動させ、前記ステージと前記第4遮光板との位置関係を保ったまま、前記第2の向きで前記ステージを前記走査方向へ移動させつつ、前記第4遮光板を前記走査方向へ移動させてもよい。このように、それぞれの露光処理で別々の遮光板を用いて不要な光を遮光することで、全ての光源を点灯させたまま、同一の対象物Wに、第1方向の偏光成分の光が照射される第1領域と、第1方向と異なる方向である第2方向の偏光成分の光が照射される第2領域と、順番に形成することができる。   Here, the control unit rotates the stage to the first direction, and based on the information acquired by the information acquisition unit, the third light shielding plate moves the light source along the scanning direction. The third light shielding plate and the fourth light shielding plate are moved so that the fourth light shielding plate does not cover the light source, the stage is moved in the scanning direction in the first direction, The stage is rotated to the second orientation, and based on the information acquired by the information acquisition unit, the third light shielding plate does not cover the light source, and the fourth light shielding plate covers the first region. The third light-shielding plate and the fourth light-shielding plate are moved so as to cover, and the stage is moved in the scanning direction in the second direction while maintaining the positional relationship between the stage and the fourth light-shielding plate. While the fourth light shielding plate is It may be moved to. In this way, unnecessary light is shielded by using a separate light shielding plate in each exposure process, so that the light of the polarization component in the first direction is applied to the same object W while all the light sources are turned on. The first region to be irradiated and the second region to be irradiated with the light of the polarization component in the second direction that is different from the first direction can be formed in order.

ここで、前記ステージ駆動部は、前記ステージを前記走査方向に移動させると共に、前記ステージを前記走査方向と略直交するシフト方向にシフト量だけ移動させ、前記光源は、長手方向が前記走査方向に沿って設けられた複数のランプを有し、前記光源は、前記複数のランプを、前記走査方向と略直交する方向に並べて設けることにより、前記走査方向と略直交する方向に沿って設けられ、前記制御部は、前記ステージを前記シフト方向に前記シフト量だけ移動させ、かつ前記第3遮光板又は前記第4遮光板を前記シフト方向に前記シフト量だけ移動させてもよい。これにより、遮光板が設けられていない領域に対して、偏光光を安定して照射することができる。   Here, the stage driving unit moves the stage in the scanning direction, and moves the stage by a shift amount in a shift direction substantially orthogonal to the scanning direction, and the light source has a longitudinal direction in the scanning direction. A plurality of lamps provided along, and the light source is provided along a direction substantially orthogonal to the scanning direction by arranging the plurality of lamps in a direction substantially orthogonal to the scanning direction, The control unit may move the stage in the shift direction by the shift amount and move the third light shielding plate or the fourth light shielding plate in the shift direction by the shift amount. Thereby, it is possible to stably irradiate polarized light to a region where the light shielding plate is not provided.

本発明によれば、所定の方向である第1方向の偏光成分の光と、第1方向と異なる方向である第2方向の偏光成分の光とを、同一の対象物に対して照射することができる。   According to the present invention, the same object is irradiated with the light having the polarization component in the first direction that is the predetermined direction and the light having the polarization component in the second direction that is different from the first direction. Can do.

第1の実施の形態に係る偏光光照射装置1の概略を示す正面図である。It is a front view which shows the outline of the polarized light irradiation apparatus 1 which concerns on 1st Embodiment. 偏光照射部10の概略を示す平面図である。2 is a plan view illustrating an outline of a polarized light irradiation unit 10. FIG. 偏光照射部10を側面から見たときの概略を示す要部透視図である。It is a principal part perspective view which shows the outline when the polarized light irradiation part 10 is seen from the side. 偏光光照射装置1の電気的な構成を示すブロック図である。2 is a block diagram showing an electrical configuration of the polarized light irradiation apparatus 1. FIG. 偏光光照射装置1の処理の流れを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the flow of a process of the polarized light irradiation apparatus. 偏光照射部10の一部を模式的に示す図であり、光源列11aに位置するランプ11x、特定波長透過フィルタ12、偏光子13A及び遮光板14aを例示したものである。It is a figure which shows a part of polarized light irradiation part 10 typically, and illustrates the lamp | ramp 11x located in the light source row | line | column 11a, the specific wavelength transmission filter 12, the polarizer 13A, and the light-shielding plate 14a. 露光条件の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of exposure conditions. 図7に示す露光条件で対象物Wに偏光光を照射した場合において、対象物Wにおける偏光光の照射量を示す図である。It is a figure which shows the irradiation amount of the polarized light in the target object W, when the target object W is irradiated with polarized light on the exposure conditions shown in FIG. 偏光照射部10を用いて1方向の偏光光のみを対象物Wに照射する場合について説明する図である。It is a figure explaining the case where the target object W is irradiated only with the polarized light of one direction using the polarized light irradiation part. 第2の実施の形態に係る偏光光照射装置の偏光照射部10Aについて説明する図である。It is a figure explaining 10 A of polarized light irradiation parts of the polarized light irradiation apparatus which concerns on 2nd Embodiment. 第3の実施の形態に係る偏光光照射装置の偏光照射部10Bについて説明する図である。It is a figure explaining the polarized light irradiation part 10B of the polarized light irradiation apparatus which concerns on 3rd Embodiment. 第3の実施の形態の偏光光照射装置の処理の流れを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the flow of a process of the polarized light irradiation apparatus of 3rd Embodiment. 第4の実施の形態に係る偏光光照射装置の偏光照射部10Cについて説明する図である。It is a figure explaining 10 C of polarized light irradiation parts of the polarized light irradiation apparatus which concerns on 4th Embodiment. 第5の実施の形態に係る偏光光照射装置2の概略を示す正面図である。It is a front view which shows the outline of the polarized light irradiation apparatus 2 which concerns on 5th Embodiment. 偏光照射部10Dの概略を示す平面図である。It is a top view which shows the outline of polarized light irradiation part 10D. 偏光照射部10Dを側面から見たときの概略を示す要部透視図である。It is a principal part perspective view which shows the outline when the polarized light irradiation part 10D is seen from the side. 偏光光照射装置2の電気的な構成を示すブロック図である。3 is a block diagram showing an electrical configuration of the polarized light irradiation device 2. FIG. 偏光光照射装置2の処理の流れを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the flow of a process of the polarized light irradiation apparatus. 偏光光照射装置2が+y側に位置するステージ20に載置された対象物Wを露光処理するときの流れを説明する図であり、一度目の露光処理の模式図である。It is a figure explaining the flow when the polarized light irradiation apparatus 2 exposes the target object W placed on the stage 20 located on the + y side, and is a schematic diagram of the first exposure process. 偏光光照射装置2が+y側に位置するステージ20に載置された対象物Wを露光処理するときの流れを説明する図であり、二度目の露光処理の模式図である。It is a figure explaining the flow when the polarized light irradiation apparatus 2 performs the exposure process on the target object W placed on the stage 20 located on the + y side, and is a schematic diagram of the second exposure process. 偏光光照射装置2が+y側に位置するステージ20に載置された対象物Wを露光処理するときの流れを説明する図であり、三度目の露光処理の模式図である。It is a figure explaining the flow when the polarized light irradiation apparatus 2 exposes the target object W placed on the stage 20 located on the + y side, and is a schematic diagram of the third exposure process. 偏光光照射装置2が+y側に位置するステージ20に載置された対象物Wを露光処理するときの流れを説明する図であり、四度目の露光処理の模式図である。It is a figure explaining the flow when the polarized light irradiation apparatus 2 exposes the target object W placed on the stage 20 located on the + y side, and is a schematic diagram of the fourth exposure process. 遮光板14eとステージ20との位置関係が、ステップS34で決定された位置関係となったときの光源11B、遮光板14e及び対象物W(ステージ20)の位置関係を模式する図である。It is a figure which shows typically the positional relationship of the light source 11B, the light shielding plate 14e, and the target object W (stage 20) when the positional relationship of the light-shielding plate 14e and the stage 20 becomes a positional relationship determined by step S34. 遮光板14eを対象物W(ステージ20)と共にy方向(ここでは−y方向)へ移動させている状態を示す図である。It is a figure which shows the state which has moved the light-shielding plate 14e to the y direction (here -y direction) with the target object W (stage 20). 遮光板14e及び対象物W(ステージ20)をさらにy方向(ここでは−y方向)へ移動させて、遮光板14eが光源11Bの下を通過し終わった状態を示す図である。It is a figure which shows the state which moved the light-shielding plate 14e and the target object W (stage 20) to the y direction (here -y direction) further, and the light-shielding plate 14e finished passing under the light source 11B.

以下、本発明の実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

<第1の実施の形態>
図1は、第1の実施の形態に係る偏光光照射装置1の概略を示す正面図である。偏光光照射装置1は、例えば、光源からの光を偏光膜を通過させて偏光を得、この偏光をガラス基板等(以下、対象物Wという)の被露光面に照射して、液晶パネル用の配向膜等を生成するものである。特に、対象物Wのダミー領域の活用度を高めるために、1つの対象物W内に、複数の大きさのセル(例えば、ビッグサイズのセルとスモールサイズのセル)を複数個配置するMMG(Multi−Model on Glass)方式の露光をする場合に有用である。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a front view showing an outline of a polarized light irradiation apparatus 1 according to the first embodiment. For example, the polarized light irradiation device 1 obtains polarized light by passing light from a light source through a polarizing film, and irradiates this polarized light on an exposed surface of a glass substrate or the like (hereinafter referred to as an object W). The alignment film or the like is generated. In particular, in order to increase the utilization of the dummy area of the object W, an MMG (a plurality of cells having a plurality of sizes (for example, a big size cell and a small size cell) arranged in one object W ( This is useful when performing multi-model on glass (exposure) exposure.

以下、対象物Wの搬送方向をy方向とし、搬送方向に直交する方向をx方向とし、鉛直方向をz方向とする。   Hereinafter, the conveyance direction of the object W is defined as the y direction, the direction orthogonal to the conveyance direction is defined as the x direction, and the vertical direction is defined as the z direction.

偏光光照射装置1は、主として、偏光照射部10と、ステージ20と、ステージ駆動部30と、を有する。   The polarized light irradiation apparatus 1 mainly includes a polarized light irradiation unit 10, a stage 20, and a stage driving unit 30.

偏光照射部10は、対象物Wに偏光を照射する。偏光照射部10については後に詳述する。   The polarized light irradiation unit 10 irradiates the object W with polarized light. The polarized light irradiation unit 10 will be described in detail later.

ステージ20は、x方向(対象物Wの走査方向と略直交する方向)及びy方向(対象物Wの走査方向)に移動可能に設けられる。ステージ20の上面には、対象物Wが載置される。   The stage 20 is provided so as to be movable in the x direction (direction substantially orthogonal to the scanning direction of the object W) and the y direction (scanning direction of the object W). An object W is placed on the upper surface of the stage 20.

ステージ駆動部30は、y方向に延設されたステージガイドレール31と、アクチュエータ等を有する駆動部32と、を有する。駆動部32は、ステージガイドレール31(すなわち、走査方向)に沿ってステージ20を移動させる(図1の太矢印参照)。また、駆動部32は、ステージ20を走査方向(y方向)と略直交するシフト方向(x方向)にシフト量(後に詳述)だけ移動させる。ステージ駆動部30がステージ20を移動させる構成は、すでに公知であるため、説明を省略する。   The stage drive unit 30 includes a stage guide rail 31 extending in the y direction, and a drive unit 32 having an actuator and the like. The drive part 32 moves the stage 20 along the stage guide rail 31 (namely, scanning direction) (refer the thick arrow of FIG. 1). Further, the drive unit 32 moves the stage 20 by a shift amount (detailed later) in a shift direction (x direction) substantially orthogonal to the scanning direction (y direction). Since the configuration in which the stage drive unit 30 moves the stage 20 is already known, the description thereof is omitted.

次に、偏光照射部10について詳細に説明する。図2は、偏光照射部10の概略を示す平面図である。図3は、偏光照射部10を側面から見たときの概略を示す要部透視図である。   Next, the polarized light irradiation unit 10 will be described in detail. FIG. 2 is a plan view showing an outline of the polarized light irradiation unit 10. FIG. 3 is a perspective view of a main part showing an outline when the polarized light irradiation unit 10 is viewed from the side.

偏光照射部10は、主として、光源11と、特定波長透過フィルタ12と、偏光子13と、遮光部14と、リフレクタ15と、を有する。なお、図2では、特定波長透過フィルタ12及びリフレクタ15の図示を省略している。   The polarized light irradiation unit 10 mainly includes a light source 11, a specific wavelength transmission filter 12, a polarizer 13, a light shielding unit 14, and a reflector 15. In FIG. 2, the specific wavelength transmission filter 12 and the reflector 15 are not shown.

光源11は、複数のランプ11xを含む。ランプ11xは、棒状であり、偏光していない光(例えば、紫外光)を照射する。ランプ11xとして、光配向処理に必要な短波長紫外光(例えば、254nm波長光)を効率よく発光するロングアークランプを用いることができる。   The light source 11 includes a plurality of lamps 11x. The lamp 11x is rod-shaped and emits unpolarized light (for example, ultraviolet light). As the lamp 11x, a long arc lamp that efficiently emits short-wavelength ultraviolet light (for example, light having a wavelength of 254 nm) necessary for the photo-alignment process can be used.

ランプ11xは、長手方向がy方向に沿うように設けられる。複数のランプ11xをx方向に並べて設けることで、x方向に沿って延びる光源列11a、11b、11c、11dが配置される。光源列11a、11b、11c、11dは、y方向に隣接して設けられる。なお、光源列11a、11b、11c、11dのそれぞれに含まれるランプ11xの数は図2に示す形態に限られない。また、図2では、光源11は4つの光源列11a、11b、11c、11dを有するが、光源11が有する光源列の数も4つに限られない。   The lamp 11x is provided such that the longitudinal direction is along the y direction. By providing a plurality of lamps 11x side by side in the x direction, light source rows 11a, 11b, 11c, and 11d extending along the x direction are arranged. The light source rows 11a, 11b, 11c, and 11d are provided adjacent to each other in the y direction. The number of lamps 11x included in each of the light source arrays 11a, 11b, 11c, and 11d is not limited to the form shown in FIG. In FIG. 2, the light source 11 includes four light source rows 11a, 11b, 11c, and 11d, but the number of light source rows included in the light source 11 is not limited to four.

ランプ11xから照射された光は、リフレクタ15で反射され、特定波長透過フィルタ12と、偏光子13を通過して、対象物Wに照射される(図3参照)。   The light emitted from the lamp 11x is reflected by the reflector 15, passes through the specific wavelength transmission filter 12 and the polarizer 13, and is applied to the object W (see FIG. 3).

光源11の下側(−z側)、すなわち光源11とステージ20との間には、特定波長透過フィルタ12、偏光子13及び遮光部14が設けられる(図3参照)。特定波長透過フィルタ12及び偏光子13は、1つのランプ11xに対して1個ずつ設けられ、遮光部14は、光源列11a、11d毎に設けられる。   A specific wavelength transmission filter 12, a polarizer 13, and a light shielding unit 14 are provided below the light source 11 (on the −z side), that is, between the light source 11 and the stage 20 (see FIG. 3). One specific wavelength transmission filter 12 and one polarizer 13 are provided for each lamp 11x, and a light shielding unit 14 is provided for each of the light source rows 11a and 11d.

特定波長透過フィルタ12は、特定の波長範囲の光だけを透過し、他の波長の光を吸収するようにつくられたフィルタである。特定波長透過フィルタ12は、板状のガラス(石英ガラス等)である透明基板上に、特定の波長範囲の光だけを透過させるバンドパスフィルタのフィルタ層が形成されている。ただし、透明基板上に形成されるフィルタはバンドパスフィルタに限られず、例えばローカットフィルタや反射フィルタであってもよい。   The specific wavelength transmission filter 12 is a filter that transmits only light in a specific wavelength range and absorbs light of other wavelengths. In the specific wavelength transmission filter 12, a filter layer of a bandpass filter that transmits only light in a specific wavelength range is formed on a transparent substrate made of plate-like glass (quartz glass or the like). However, the filter formed on the transparent substrate is not limited to the band pass filter, and may be a low cut filter or a reflection filter, for example.

偏光子13は、無偏光の光を偏光するものであり、特定波長透過フィルタ12の下側(−z側)に設けられる。偏光子13は、ランプ11x毎に1つずつ設けられてもよいし、ランプ11x毎に2つ以上設けられてもよい。   The polarizer 13 polarizes unpolarized light and is provided on the lower side (−z side) of the specific wavelength transmission filter 12. One polarizer 13 may be provided for each lamp 11x, or two or more polarizers 13 may be provided for each lamp 11x.

偏光子13としては、入射角度依存性の少ないワイヤーグリッド偏光子が用いられる。ワイヤーグリッド偏光子とは、透明基板13a(図3参照)の表面に金属線13b(図3参照)が形成されたものである。金属線13bのピッチを入射する光の波長以下にすることで、金属線13bの長手方向に略平行な偏光成分を反射し、金属線13bの長手方向と略直交する偏光成分を通過させる。金属線13bは、例えばアルミニウムで形成される。図3においては、金属線13bの長手方向を図示している。   As the polarizer 13, a wire grid polarizer with little incident angle dependency is used. The wire grid polarizer is obtained by forming a metal wire 13b (see FIG. 3) on the surface of a transparent substrate 13a (see FIG. 3). By setting the pitch of the metal line 13b to be equal to or less than the wavelength of the incident light, the polarization component substantially parallel to the longitudinal direction of the metal line 13b is reflected and the polarization component substantially orthogonal to the longitudinal direction of the metal line 13b is allowed to pass. The metal wire 13b is made of, for example, aluminum. In FIG. 3, the longitudinal direction of the metal wire 13b is illustrated.

偏光子13は、偏光方向が異なる2種類の偏光子13A、13Bを有する。図3に示すように、偏光子13Aは、金属線13bの長手方向がy方向に沿っており、x方向の偏光成分を通過させる。偏光子13Bは、金属線13bの長手方向がx方向に沿っており、y方向の偏光成分を通過させる。このように、偏光子13A、13Bとは、通過させる偏光成分の方向が異なる。   The polarizer 13 has two types of polarizers 13A and 13B having different polarization directions. As shown in FIG. 3, in the polarizer 13A, the longitudinal direction of the metal wire 13b is along the y direction, and the polarized light component in the x direction passes therethrough. In the polarizer 13B, the longitudinal direction of the metal wire 13b is along the x direction, and the polarized component in the y direction is allowed to pass through. Thus, the direction of the polarization component to pass is different from the polarizers 13A and 13B.

光源列11a、11b、11cに位置するランプ11xの下には、偏光子13Aが設けられる。光源列11dに位置するランプ11xの下には、偏光子13Bが設けられる。図中、偏光光の向きを白抜き矢印で模式的に示す。   A polarizer 13A is provided under the lamp 11x located in the light source rows 11a, 11b, and 11c. A polarizer 13B is provided below the lamp 11x located in the light source row 11d. In the figure, the direction of polarized light is schematically indicated by white arrows.

図2に示すように、異なる偏光子13A、13Bが設けられた光源列11a、11dについては、光源列11a、11dに位置するランプ11xのx方向の位置は同じである。それに対し、同じ偏光子13Aが設けられた光源列である光源列11a、11b、11cについては、光源列11aに位置するランプ11xと、光源列11bに位置するランプ11xと、光源列11cに位置するランプ11xとは、それぞれ所定量(以下、ずれ量Sという)だけx方向にずれている。そして、この所定量に基づいてシフト量が定められる(後に詳述)。   As shown in FIG. 2, regarding the light source rows 11a and 11d provided with different polarizers 13A and 13B, the positions in the x direction of the lamps 11x located in the light source rows 11a and 11d are the same. On the other hand, for the light source rows 11a, 11b, and 11c, which are light source rows provided with the same polarizer 13A, the lamp 11x located in the light source row 11a, the lamp 11x located in the light source row 11b, and the light source row 11c. Each of the lamps 11x to be shifted is shifted in the x direction by a predetermined amount (hereinafter referred to as a shift amount S). A shift amount is determined based on the predetermined amount (detailed later).

なお、偏光子13は、ワイヤーグリッド偏光子に限られず、任意の方向の光のみを透過させる様々な種類の偏光子を用いることができる。   The polarizer 13 is not limited to a wire grid polarizer, and various types of polarizers that transmit only light in an arbitrary direction can be used.

遮光部14は、偏光子13を通過した偏光光を遮光して、対象物Wに偏光光が照射されないようにする。   The light shielding unit 14 shields the polarized light that has passed through the polarizer 13 so that the object W is not irradiated with the polarized light.

遮光部14は、遮光板14aを有する。図3に示すように、遮光板14aは、偏光子13の下側、すなわち偏光子13とステージ20との間に設けられる。本実施の形態では、2枚の遮光板14aを有し、光源列11a、11dのそれぞれに遮光板14aが1枚ずつ設けられる。図2に示すように、光源列11aに設けられた遮光板14aは、光源列11aに位置するランプ11xから照射された光の一部を遮光し、光源列11dに設けられた遮光板14aは、光源列11dに位置するランプ11xから照射された光の一部を遮光する。   The light shielding unit 14 includes a light shielding plate 14a. As shown in FIG. 3, the light shielding plate 14 a is provided below the polarizer 13, that is, between the polarizer 13 and the stage 20. In the present embodiment, there are two light shielding plates 14a, and one light shielding plate 14a is provided for each of the light source rows 11a and 11d. As shown in FIG. 2, the light shielding plate 14a provided in the light source row 11a shields part of the light emitted from the lamp 11x located in the light source row 11a, and the light shielding plate 14a provided in the light source row 11d A part of the light emitted from the lamp 11x located in the light source row 11d is shielded.

偏光光を効率的に遮光するため、遮光板14aは、対象物Wにできるだけ近い位置に設けられる。本実施の形態では、ランプ11xと対象物Wとの距離が130〜140mm程度であり、遮光板14aと対象物Wとの距離が2mm程度である(図3参照)。   In order to efficiently shield the polarized light, the light shielding plate 14a is provided at a position as close as possible to the object W. In the present embodiment, the distance between the lamp 11x and the object W is about 130 to 140 mm, and the distance between the light shielding plate 14a and the object W is about 2 mm (see FIG. 3).

また、遮光部14は、主として、x方向に沿った軸14b(図2参照)と、遮光板14aを軸14bに沿って移動させるアクチュエータ等の遮光板駆動部14c(図4参照)と、を有する。したがって、遮光板14aは、光源列11a、11dに沿って(x方向に)移動可能である。   The light shielding unit 14 mainly includes an axis 14b (see FIG. 2) along the x direction and a light shielding plate driving unit 14c (see FIG. 4) such as an actuator that moves the light shielding plate 14a along the axis 14b. Have. Therefore, the light shielding plate 14a is movable along the light source rows 11a and 11d (in the x direction).

図4は、偏光光照射装置1の電気的な構成を示すブロック図である。偏光光照射装置1は、主として、制御部101、記憶部102、入力部103、出力部104を含んで構成される。   FIG. 4 is a block diagram showing an electrical configuration of the polarized light irradiation apparatus 1. The polarized light irradiation apparatus 1 mainly includes a control unit 101, a storage unit 102, an input unit 103, and an output unit 104.

制御部101は、演算装置であるCPU(Central Processing Unit)等のプログラム制御デバイスであり、記憶部102に格納されたプログラムにしたがって動作する。本実施の形態では、この制御部101は、点灯領域(後に詳述)に位置するランプ11xのみを点灯させる光源制御部101a、遮光板駆動部14cを制御する遮光板制御部101b、及び駆動部32を制御するステージ制御部101cとして機能する。制御部101の詳しい動作の内容については、後に詳述する。   The control unit 101 is a program control device such as a CPU (Central Processing Unit) that is an arithmetic device, and operates according to a program stored in the storage unit 102. In the present embodiment, the control unit 101 includes a light source control unit 101a that turns on only the lamp 11x located in the lighting region (detailed later), a light shielding plate control unit 101b that controls the light shielding plate drive unit 14c, and a drive unit. It functions as a stage control unit 101c that controls 32. Details of the operation of the control unit 101 will be described later.

記憶部102は、不揮発性メモリ、揮発性メモリ等であり、制御部101によって実行されるプログラム等を保持するとともに、制御部101のワークメモリとして動作する。   The storage unit 102 is a non-volatile memory, a volatile memory, or the like, holds a program executed by the control unit 101, and operates as a work memory of the control unit 101.

入力部103は、キーボードやマウス等の入力デバイスを含む。本実施の形態では、入力部103から、対象物Wに関する情報が入力される。出力部104は、ディスプレイ等である。   The input unit 103 includes input devices such as a keyboard and a mouse. In the present embodiment, information regarding the object W is input from the input unit 103. The output unit 104 is a display or the like.

このように構成された偏光光照射装置1の作用について説明する。図5は、偏光光照射装置1の処理の流れを示すフローチャートである。処理を行う前には、ステージ20は図1に示す初期位置にある。   The operation of the polarized light irradiation apparatus 1 configured as described above will be described. FIG. 5 is a flowchart showing a processing flow of the polarized light irradiation apparatus 1. Prior to processing, the stage 20 is in the initial position shown in FIG.

入力部103から対象物Wに関する情報が入力されると、まず、光源制御部101aは、点灯領域を決定し、遮光板制御部101bは、遮光板14aの位置を決定する(ステップS10)。以下、ステップS10の処理について詳細に説明する。   When information about the object W is input from the input unit 103, first, the light source control unit 101a determines a lighting area, and the light shielding plate control unit 101b determines the position of the light shielding plate 14a (step S10). Hereinafter, the process of step S10 will be described in detail.

対象物Wに関する情報とは、例えば、対象物Wは領域Waと領域Wbとを有し、領域Wa(図2参照)はy方向に沿った偏光光を照射させる領域であり、領域Wb(図2参照)はx方向に沿った偏光光を照射させる領域であることを示す情報である。   The information on the object W includes, for example, the object W having a region Wa and a region Wb, and the region Wa (see FIG. 2) is a region to which the polarized light along the y direction is irradiated, and the region Wb (see FIG. 2). 2) is information indicating that the region is irradiated with polarized light along the x direction.

点灯領域は、x方向の位置で表される。光源制御部101aは、光源列11d(y方向の偏光成分が透過)について、露光前に対象物Wがステージ20に載置されたときにおける領域Waのx方向の位置を点灯領域と決定する。また、光源制御部101aは、光源列11a(x方向の偏光成分が透過)について、露光前に対象物Wがステージ20に載置されたときにおける領域Wbのx方向の位置を点灯領域と決定する。   The lighting area is represented by a position in the x direction. The light source control unit 101a determines the position in the x direction of the area Wa when the object W is placed on the stage 20 before exposure for the light source array 11d (polarized component in the y direction is transmitted). Further, the light source control unit 101a determines the position in the x direction of the area Wb when the object W is placed on the stage 20 before the exposure for the light source array 11a (the polarized light component in the x direction is transmitted) as the lighting area. To do.

記憶部102には、ランプ11xのそれぞれついて番号と位置とを関連付けた情報(ランプ11xについての情報)が記憶されている。光源制御部101aは、ランプ11xについての情報に基づいて、点灯領域に位置するランプ11xがどれであるかを判定することができる。   The storage unit 102 stores information (information about the lamp 11x) in which the number and position of each lamp 11x are associated with each other. The light source control unit 101a can determine which lamp 11x is located in the lighting region based on information about the lamp 11x.

また、遮光板制御部101bは、遮光板14aの端部が点灯領域の境界と略一致し、遮光板14aが点灯領域と重ならない位置を、遮光板14aの位置として決定する。   Further, the light shielding plate control unit 101b determines, as the position of the light shielding plate 14a, a position where the end of the light shielding plate 14a substantially coincides with the boundary of the lighting region and the light shielding plate 14a does not overlap the lighting region.

次に、光源制御部101aは、ステップS10で決定された点灯領域に位置するランプ11xを点灯させる(ステップS12)。図2においては、点灯領域に位置するランプ11xに対して網掛け表示をしている。それと共に、遮光板制御部101bは、遮光板駆動部14cを介して遮光板14aを軸14bに沿って移動させて、ステップS10で決定された位置に遮光板14aを移動させる(ステップS12)。図2においては、遮光板14aを網掛け表示している。   Next, the light source control unit 101a turns on the lamp 11x located in the lighting region determined in step S10 (step S12). In FIG. 2, the lamp 11x located in the lighting area is shaded. At the same time, the light shielding plate control unit 101b moves the light shielding plate 14a along the axis 14b via the light shielding plate driving unit 14c, and moves the light shielding plate 14a to the position determined in step S10 (step S12). In FIG. 2, the light shielding plate 14a is shaded.

図5の説明に戻る。ステージ制御部101cは、駆動部32を介してステージ20(すなわち、対象物W)を走査方向であるy方向に移動(一往復)させて、偏光照射部10から照射された光を対象物Wの被露光面に照射して配向膜等を生成する露光処理を行う(ステップS14)。   Returning to the description of FIG. The stage control unit 101c moves the stage 20 (that is, the target object W) in the y direction that is the scanning direction (one reciprocation) via the driving unit 32, and the light irradiated from the polarized light irradiation unit 10 is the target object W. An exposure process for generating an alignment film or the like by irradiating the surface to be exposed is performed (step S14).

図6は、偏光照射部10の一部を模式的に示す図であり、光源列11aに位置するランプ11x、特定波長透過フィルタ12、偏光子13A及び遮光板14aを例示したものである。図6において、ランプ11xから照射される光を細い2点鎖線で示す。   FIG. 6 is a diagram schematically illustrating a part of the polarized light irradiation unit 10, and illustrates the lamp 11 x, the specific wavelength transmission filter 12, the polarizer 13 </ b> A, and the light shielding plate 14 a located in the light source array 11 a. In FIG. 6, light emitted from the lamp 11x is indicated by a thin two-dot chain line.

遮光板14aが配置されていない部分については、ランプ11xから照射された光は、特定波長透過フィルタ12及び偏光子13を通過して対象物Wに照射される。それに対し、遮光板14aが配置されている部分については、ランプ11xから照射された光は、特定波長透過フィルタ12及び偏光子13を通過するが、遮光板14aでさえぎられて対象物Wに照射されない。   For the portion where the light shielding plate 14 a is not disposed, the light irradiated from the lamp 11 x passes through the specific wavelength transmission filter 12 and the polarizer 13 and is irradiated to the object W. On the other hand, in the portion where the light shielding plate 14a is disposed, the light irradiated from the lamp 11x passes through the specific wavelength transmission filter 12 and the polarizer 13, but is blocked by the light shielding plate 14a and irradiated to the object W. Not.

遮光板14aは、端部が点灯領域の境界と略一致し、かつ点灯領域と重ならない位置に設けられているため、点灯領域以外の領域については、対象物Wに偏光光が照射されない。   Since the light shielding plate 14a is provided at a position where the end portion substantially coincides with the boundary of the lighting region and does not overlap the lighting region, the object W is not irradiated with polarized light in the region other than the lighting region.

このように、ステップS14では、遮光板14aで遮光されなかった光のみが対象物Wの被露光面に照射される。本実施の形態では、領域Waには、光源列11dから照射された光のうちのy方向の偏光光のみが照射され、それと同時に、領域Wbには、光源列11aから照射された光のうちのx方向の偏光光のみが照射される。なお、露光処理自体は一般的な処理であるため、詳細な説明を省略する。   Thus, in step S14, only the light that has not been shielded by the light shielding plate 14a is irradiated onto the surface to be exposed of the object W. In the present embodiment, the region Wa is irradiated only with the polarized light in the y direction out of the light emitted from the light source row 11d, and at the same time, the region Wb is emitted from the light emitted from the light source row 11a. Only polarized light in the x direction is irradiated. Since the exposure process itself is a general process, detailed description thereof is omitted.

図5の説明に戻る。ステージ制御部101cは、規定の露光回数だけ露光処理(ステップS14)が行われたか否かを判定する(ステップS16)。露光回数は、シフト量等に基づいて予め定められており、記憶部102に記憶されている。また、シフト量は、ずれ量S(図2参照)に基づいて予め定められており、記憶部102に記憶されている。例えば、シフト量は、ずれ量Sの1/2の値、ずれ量Sの1/4の値等である。また、例えば、ずれ量Sが144mmであり、シフト量が24mmである場合には、露光回数は6回(=144mm/24mm)である。   Returning to the description of FIG. The stage control unit 101c determines whether or not the exposure process (step S14) has been performed for the specified number of exposures (step S16). The number of exposures is determined in advance based on the shift amount and the like, and is stored in the storage unit 102. The shift amount is determined in advance based on the shift amount S (see FIG. 2) and is stored in the storage unit 102. For example, the shift amount is a half value of the shift amount S, a 1/4 value of the shift amount S, or the like. For example, when the shift amount S is 144 mm and the shift amount is 24 mm, the number of exposures is 6 (= 144 mm / 24 mm).

露光回数だけ露光処理が行われていない場合(ステップS16でNO)には、ステージ制御部101cは、駆動部32を介して、ステージ20をシフト方向にシフト量だけ移動させる(ステップS18)。それと共に、遮光板制御部101bは、遮光板駆動部14cを介して、遮光板14aをシフト方向にシフト量だけ移動させる(ステップS18)。なお、シフト方向は、予め定められており、記憶部102に記憶されている。   If the exposure process has not been performed for the number of times of exposure (NO in step S16), the stage control unit 101c moves the stage 20 by the shift amount in the shift direction via the drive unit 32 (step S18). At the same time, the light shielding plate control unit 101b moves the light shielding plate 14a by the shift amount in the shift direction via the light shielding plate driving unit 14c (step S18). Note that the shift direction is determined in advance and stored in the storage unit 102.

そして、ステージ制御部101cは、ステージ20及び遮光板14aをシフト方向にシフト量だけ移動させた状態において、露光処理を行う(ステップS14)。   Then, the stage control unit 101c performs an exposure process in a state where the stage 20 and the light shielding plate 14a are moved by the shift amount in the shift direction (step S14).

露光回数だけ露光処理が行われた場合(ステップS16でYES)には、ステージ制御部101cは、1枚の対象物Wに対する処理を終了する。   When the exposure process is performed for the number of times of exposure (YES in step S16), the stage control unit 101c ends the process for one object W.

ここで、遮光板14aを設け、点灯領域のランプ11xのみ点灯させた場合において、図5に示す処理により対象物Wがどのように露光されるかについて説明する。図7は、露光条件(点灯領域、シフト量、シフト方向等)の一例を示す図であり、図8は、図7に示す露光条件で対象物Wに偏光光を照射した場合において、対象物Wにおける偏光光の照射量を示す図である。   Here, how the object W is exposed by the process shown in FIG. 5 when the light shielding plate 14a is provided and only the lamp 11x in the lighting area is turned on will be described. FIG. 7 is a diagram showing an example of exposure conditions (lighting area, shift amount, shift direction, etc.), and FIG. 8 shows an object when the object W is irradiated with polarized light under the exposure conditions shown in FIG. It is a figure which shows the irradiation amount of the polarized light in W.

図7においては、x方向が48mm、192mm、336mm及び480mmの位置にランプ11xが設けられている。また、図7においては、点灯領域はx≧192mmであり、x方向=192mm、336mm及び480mmに位置するランプ11xが点灯されている。図7では、点灯領域に位置するランプ11xを網掛け表示している。   In FIG. 7, the lamp 11x is provided at positions of 48 mm, 192 mm, 336 mm and 480 mm in the x direction. In FIG. 7, the lighting region is x ≧ 192 mm, and the lamp 11x located in the x direction = 192 mm, 336 mm, and 480 mm is turned on. In FIG. 7, the lamps 11x located in the lighting area are shaded.

また、遮光板14aは、1回目の露光時(シフト方向に対象物Wが移動されていない場合)において、端部のx方向の位置が192mmとなり、かつ点灯領域と重ならないように(すなわち、遮光板14aのx方向の位置が192mm以下となるように)設けられる。また、図7は、シフト方向が−x方向、シフト量が24mmで6回露光処理が行われたことを示す。   Further, the light shielding plate 14a has a position in the x direction of the end portion of 192 mm at the time of the first exposure (when the object W is not moved in the shift direction) and does not overlap the lighting region (that is, The light shielding plate 14a is provided so that the position in the x direction is 192 mm or less). FIG. 7 shows that the exposure process was performed six times with the shift direction being the -x direction and the shift amount being 24 mm.

図8の横軸の数字は1回目の露光時における対象物Wのx方向の位置を示す。図8に示すように、シフト方向に対象物Wが移動されていない状態における点灯領域(xが192mm以上)に相当する領域においては、対象物Wに偏光光が安定して照射されている。それに対し、遮光板14aが設けられている領域に対しては、対象物Wに偏光光が照射されていない。また、遮光板14aが設けられているため、シフト方向に対象物Wが移動されていない状態における点灯領域の端部近傍において、露光量は急激に変化しており、露光量が安定しない領域は狭くなっている。   The numbers on the horizontal axis in FIG. 8 indicate the position of the object W in the x direction during the first exposure. As shown in FIG. 8, in the region corresponding to the lighting region (x is 192 mm or more) in a state where the object W is not moved in the shift direction, the object W is stably irradiated with polarized light. In contrast, the object W is not irradiated with polarized light in the region where the light shielding plate 14a is provided. Further, since the light shielding plate 14a is provided, the exposure amount changes rapidly in the vicinity of the end of the lighting region in a state where the object W is not moved in the shift direction, and the region where the exposure amount is not stable is It is narrower.

本実施の形態によれば、同一の対象物に対して、異なる方向の偏光光を同時に照射することができる。例えば、ある光源列(例えば、光源列11a)から照射された光を、走査方向と略直交する又は略平行な第1方向の偏光成分を透過させる偏光子(例えば、偏光子13A)を透過させて、対象物Wのある領域(例えば、領域Wa)に照射させることができる。そして、それと同時に、別の光源列(例えば、光源列11d)から照射された光を、第1方向と異なる方向である第2方向の偏光成分を透過させる偏光子(例えば、偏光子13B)を透過させて、対象物Wの領域Waとは異なる領域(例えば、領域Wb)に照射させることができる。これにより、所定の方向である第1方向の偏光成分の光と、第1方向と異なる方向である第2方向の偏光成分の光とを同時に対象物Wに照射し、領域Wa、Wbにおいてそれぞれ向きの異なる配向膜等を同時に生成することができる。例えば、領域Waにスモールサイズのセルを形成し、領域Wbにビッグサイズのセルを形成することで、MMGに対応可能であり、対象物Wのダミー領域の活用度を高めることができる。   According to the present embodiment, the same object can be simultaneously irradiated with polarized light in different directions. For example, light irradiated from a certain light source array (for example, the light source array 11a) is transmitted through a polarizer (for example, the polarizer 13A) that transmits a polarization component in a first direction that is substantially orthogonal to or substantially parallel to the scanning direction. Thus, it is possible to irradiate a region (for example, the region Wa) where the object W is present. At the same time, a polarizer (for example, a polarizer 13B) that transmits light irradiated from another light source array (for example, the light source array 11d) through a polarization component in a second direction that is a direction different from the first direction. It is possible to transmit and irradiate a region (for example, the region Wb) different from the region Wa of the object W. Thereby, the light of the polarization component in the first direction which is a predetermined direction and the light of the polarization component in the second direction which is a direction different from the first direction are simultaneously irradiated onto the object W, and in the regions Wa and Wb, respectively. Alignment films having different directions can be generated simultaneously. For example, by forming a small size cell in the region Wa and forming a big size cell in the region Wb, it is possible to cope with MMG, and the utilization of the dummy region of the object W can be increased.

また、本実施の形態によれば、点灯領域に隣接する位置に遮光板14aを設けることで、1枚の対象物Wに対して異なる方向の偏光光を同時に照射する場合に、異なる偏光成分の光を照射させる領域(例えば、領域Wa、Wb)を隣接して設けることができる。   Further, according to the present embodiment, by providing the light shielding plate 14a at a position adjacent to the lighting region, when simultaneously irradiating polarized light in different directions to one object W, different polarization components Areas to be irradiated with light (for example, areas Wa and Wb) can be provided adjacent to each other.

また、本実施の形態によれば、点灯領域に位置するランプ11xのみを点灯するため、熱が過度に発生することを防止することができる。これは、長手方向が走査方向に沿って設けられたランプ11xを用いる場合にのみ可能である。   Moreover, according to this Embodiment, since only the lamp | ramp 11x located in a lighting area | region is lighted, it can prevent that a heat | fever generate | occur | produces excessively. This is possible only when the lamp 11x whose longitudinal direction is provided along the scanning direction is used.

また、本実施の形態によれば、長手方向が走査方向に沿って設けられたランプを用いることで、ランプからの光の出射角度θ(図6参照)を大きし、遮光板が設けられている領域と設けられていない領域との境界における露光量の変化をより急峻にすることができる。その結果、例えば、領域Waに形成するスモールサイズのセルと、領域Wbに形成するビッグサイズのセルとの距離を近くし、より効率的に対象物Wを活用することができる。   Further, according to the present embodiment, by using a lamp whose longitudinal direction is provided along the scanning direction, the light emission angle θ (see FIG. 6) from the lamp is increased, and the light shielding plate is provided. It is possible to make the change in the exposure amount at the boundary between the existing area and the non-provided area more steep. As a result, for example, the distance between the small-sized cell formed in the region Wa and the big-sized cell formed in the region Wb can be reduced, and the object W can be used more efficiently.

また、本実施の形態によれば、制御部101が自動的に点灯領域や遮光板14aの位置を決定するため、対象物Wに応じて自動的に露光を行うことができる。   Moreover, according to this Embodiment, since the control part 101 determines the lighting area | region and the position of the light-shielding plate 14a automatically, it can expose automatically according to the target object W. FIG.

なお、本実施の形態では、偏光子13Aが透過させる偏光成分の向きと、偏光子13Bが透過させる偏光成分の向きとは略直交するが、それぞれの偏光子が透過させる偏光の成分はこれに限られない。例えば、光源列11a、11b、11cの下側に設けられる偏光子は、走査方向と略直交する方向(又は、略平行な方向)の偏光成分を通過させ、光源列11dの下側に設けられる偏光子は、走査方向と略直交する方向(又は、略平行な方向)から5度〜10度程度傾いた方向の偏光成分を通過させてもよい。また、光源列11a、11b、11cの下側に設けられる偏光子は、走査方向と略直交する方向又は略平行な方向でもよいし、走査方向と関係のない所定の方向でもよい。そして、この所定の方向は、対象物Wに形成するパネル(セル)の仕様に基づいて定めることができる。   In the present embodiment, the direction of the polarization component transmitted by the polarizer 13A and the direction of the polarization component transmitted by the polarizer 13B are substantially orthogonal, but the polarization component transmitted by each polarizer is the same. Not limited. For example, the polarizer provided on the lower side of the light source rows 11a, 11b, and 11c passes the polarization component in the direction substantially orthogonal to the scanning direction (or the direction substantially parallel) and is provided on the lower side of the light source row 11d. The polarizer may pass a polarization component in a direction inclined by about 5 degrees to 10 degrees from a direction substantially orthogonal to the scanning direction (or a substantially parallel direction). In addition, the polarizer provided on the lower side of the light source rows 11a, 11b, and 11c may be in a direction substantially orthogonal to or substantially parallel to the scanning direction, or in a predetermined direction that is not related to the scanning direction. And this predetermined direction can be defined based on the specification of the panel (cell) formed in the target object W. FIG.

また、本実施の形態では、制御部101が対象物Wに関する情報に基づいて点灯領域及び遮光板14aの位置を決定したが、点灯領域や遮光板14aの位置を作業者が決定し、記憶部102に記憶させても良い。また、本実施の形態では、制御部101が点灯領域にあるランプ11xを自動的に点灯し、遮光板14aを自動的に移動させたが、作業者が手動で点灯領域のランプ11xを点灯させたり、作業者が手動で遮光板14aを配置したりしてもよい。   In the present embodiment, the control unit 101 determines the positions of the lighting region and the light shielding plate 14a based on the information about the object W. However, the operator determines the positions of the lighting region and the light shielding plate 14a, and the storage unit. 102 may be stored. In the present embodiment, the control unit 101 automatically turns on the lamp 11x in the lighting area and automatically moves the light shielding plate 14a. However, the operator manually turns on the lamp 11x in the lighting area. Or, the operator may manually place the light shielding plate 14a.

<第1の実施の形態の変形例1>
すでに説明したように、偏光光照射装置1は、対象物Wに同時に異なる方向の偏光光を照射することで、領域Wa、Wbにおいてそれぞれ向きの異なる配向膜等を同時に生成したが、1方向の偏光光のみを対象物Wに照射することもできる。
<Variation 1 of the first embodiment>
As already described, the polarized light irradiation apparatus 1 simultaneously generates polarized films in different directions in the regions Wa and Wb by simultaneously irradiating the object W with polarized light in different directions. The object W can also be irradiated with only polarized light.

図9は、偏光照射部10を用いて1方向の偏光光のみを対象物Wに照射する場合について説明する図である。   FIG. 9 is a diagram illustrating a case where the polarized light irradiating unit 10 is used to irradiate the object W only with polarized light in one direction.

遮光板14aを光源列11a、11dのランプ11xと重ならない位置まで移動させ、光源列11a、11b、11cのランプ11xを点灯させる(図9網掛け表示参照)。これにより、偏光子13Aを通過したx方向の偏光光のみを対象物Wに照射させることができる。   The light shielding plate 14a is moved to a position where it does not overlap the lamps 11x of the light source rows 11a, 11d, and the lamps 11x of the light source rows 11a, 11b, 11c are turned on (see the shaded display in FIG. 9). Thereby, only the polarized light in the x direction that has passed through the polarizer 13A can be irradiated onto the object W.

このように、偏光光照射装置1は、異なる方向の偏光光を同時に照射することもできるし、1方向の偏光光のみを照射させることもできる。なお、1方向の偏光光のみを照射させる場合についても、処理の流れは図5に示す場合と同様であるため、説明を省略する。   Thus, the polarized light irradiation device 1 can simultaneously irradiate polarized light in different directions, or can irradiate only polarized light in one direction. In the case of irradiating only polarized light in one direction, the processing flow is the same as that shown in FIG.

<第2の実施の形態>
本発明の第1の実施の形態は、各光源列11a、11dにそれぞれ遮光板14aを1枚ずつ用いたが、遮光板14aの数はこれに限られない。
<Second Embodiment>
In the first embodiment of the present invention, one light shielding plate 14a is used for each light source row 11a, 11d, but the number of light shielding plates 14a is not limited to this.

第2の実施の形態は、各光源列11a、11dにそれぞれ複数の遮光板14aを用いる形態である。以下、第2の実施の形態の偏光光照射装置について説明する。第1の実施の形態の偏光光照射装置1と、第2の実施の形態の偏光光照射装置との差異は、遮光板14aの数のみであるため、以下、第2の実施の形態の偏光光照射装置における偏光照射部10Aについてのみ説明する。また、第1の実施の形態と同一の部分については、同一の符号を付し、説明を省略する。   In the second embodiment, a plurality of light shielding plates 14a are used for the respective light source arrays 11a and 11d. The polarized light irradiation apparatus according to the second embodiment will be described below. Since the difference between the polarized light irradiation device 1 of the first embodiment and the polarized light irradiation device of the second embodiment is only the number of light shielding plates 14a, the polarization of the second embodiment will be described below. Only the polarization irradiation section 10A in the light irradiation apparatus will be described. Further, the same parts as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

図10は、偏光照射部10Aについて説明する図である。偏光照射部10Aは、主として、光源11と、特定波長透過フィルタ12(図示省略)と、偏光子13と、遮光部14Aと、リフレクタ15(図示省略)と、を有する。遮光部14Aは、各光源列11a、11dにそれぞれ3枚ずつ設けられた遮光板14aを有する。   FIG. 10 is a diagram illustrating the polarized light irradiation unit 10A. 10 A of polarized light irradiation parts mainly have the light source 11, the specific wavelength transmission filter 12 (illustration omitted), the polarizer 13, the light-shielding part 14A, and the reflector 15 (illustration omitted). The light shielding unit 14A includes three light shielding plates 14a provided in each of the light source rows 11a and 11d.

光源制御部101aは、光源列11dについて、露光前に対象物Wがステージ20に載置されたときにおける領域Wcのx方向の位置を点灯領域と決定する。また、光源制御部101aは、光源列11aについて、露光前に対象物Wがステージ20に載置されたときにおける領域Wdのx方向の位置を点灯領域と決定する。図10においては、点灯領域に位置するランプ11xを網掛け表示している。   The light source control unit 101a determines the position in the x direction of the area Wc when the object W is placed on the stage 20 before exposure for the light source array 11d as the lighting area. Further, the light source control unit 101a determines the position in the x direction of the area Wd when the object W is placed on the stage 20 before exposure for the light source array 11a as the lighting area. In FIG. 10, the lamps 11x located in the lighting area are shaded.

また、遮光板制御部101bは、光源列11aに設けられた遮光板14a及び光源列11dに設けられた遮光板14aの端部が点灯領域の境界と略一致し、遮光板14aが点灯領域と重ならない位置を、遮光板14aの位置として決定する。図10においては、遮光板14aを網掛け表示している。   In addition, the light shielding plate control unit 101b has the light shielding plate 14a provided in the light source row 11a and the end of the light shielding plate 14a provided in the light source row 11d substantially coincide with the boundary of the lighting region, and the light shielding plate 14a is defined as the lighting region. The position that does not overlap is determined as the position of the light shielding plate 14a. In FIG. 10, the light shielding plate 14a is shaded.

本実施の形態においても、対象物Wに対して、異なる方向の偏光光を同時に照射することができる。なお、処理の流れは、図5に示す場合と同様であるため、説明を省略する。   Also in the present embodiment, the object W can be irradiated with polarized light in different directions at the same time. Note that the processing flow is the same as that shown in FIG.

なお、遮光板14aの枚数を多くすることで、図10における点灯領域以外の領域を全て覆うように遮光板14aを配置することができる。したがって、点灯領域以外の領域を全て遮光板14aで覆う場合には、光源列11a、11dのランプ11xを全て点灯したとしても、点灯領域に位置するランプ11xのみを点灯した場合と同様の効果を得ることができる。   In addition, by increasing the number of the light shielding plates 14a, the light shielding plates 14a can be disposed so as to cover the entire region other than the lighting region in FIG. Therefore, when all the areas other than the lighting area are covered with the light shielding plate 14a, even if all the lamps 11x of the light source rows 11a and 11d are lit, the same effect as when only the lamp 11x located in the lighting area is lit. Can be obtained.

<第3の実施の形態>
本発明の第1の実施の形態は、遮光板14aを用いて遮光を行ったが、遮光板は必須ではない。
<Third Embodiment>
In the first embodiment of the present invention, light shielding is performed using the light shielding plate 14a, but the light shielding plate is not essential.

第3の実施の形態は、遮光板14aを用いない形態である。以下、第3の実施の形態の偏光光照射装置について説明する。第1の実施の形態の偏光光照射装置1と、第3の実施の形態の偏光光照射装置との差異は、遮光部14の有無のみであるため、以下、第3の実施の形態の偏光光照射装置における偏光照射部10Bについてのみ説明する。また、第1の実施の形態と同一の部分については、同一の符号を付し、説明を省略する。   In the third embodiment, the light shielding plate 14a is not used. Hereinafter, the polarized light irradiation apparatus according to the third embodiment will be described. Since the difference between the polarized light irradiation device 1 of the first embodiment and the polarized light irradiation device of the third embodiment is only the presence or absence of the light shielding unit 14, the polarization of the third embodiment will be described below. Only the polarization irradiation unit 10B in the light irradiation apparatus will be described. Further, the same parts as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

図11は、偏光照射部10Bについて説明する図である。偏光照射部10Bは、主として、光源11と、特定波長透過フィルタ12(図示省略)と、偏光子13と、リフレクタ15(図示省略)と、を有する(遮光部14は設けられていない)。   FIG. 11 is a diagram illustrating the polarized light irradiation unit 10B. The polarized light irradiation unit 10B mainly includes a light source 11, a specific wavelength transmission filter 12 (not shown), a polarizer 13, and a reflector 15 (not shown) (the light shielding unit 14 is not provided).

図12は、第3の実施の形態の偏光光照射装置の処理の流れを示すフローチャートである。   FIG. 12 is a flowchart illustrating a flow of processing of the polarized light irradiation apparatus according to the third embodiment.

入力部103から対象物Wに関する情報が入力されると、まず、光源制御部101aは、点灯領域を決定する(ステップS11)。例えば、光源制御部101aは、光源列11dについて、露光前に対象物Wがステージ20に載置されたときにおける領域Weのx方向の位置を点灯領域と決定する。また、光源制御部101aは、光源列11aについて、露光前に対象物Wがステージ20に載置されたときにおける領域Wfのx方向の位置を点灯領域と決定する。   When information about the object W is input from the input unit 103, first, the light source control unit 101a determines a lighting area (step S11). For example, the light source control unit 101a determines the position in the x direction of the region We when the object W is placed on the stage 20 before exposure for the light source row 11d as the lighting region. In addition, the light source control unit 101a determines the position in the x direction of the region Wf when the object W is placed on the stage 20 before exposure for the light source row 11a as the lighting region.

次に、光源制御部101aは、ステップS10で決定された点灯領域に位置するランプ11xを点灯させる(ステップS13)。図12においては、点灯領域に位置するランプ11xを網掛け表示している。   Next, the light source control unit 101a turns on the lamp 11x located in the lighting region determined in step S10 (step S13). In FIG. 12, the lamps 11x located in the lighting area are shaded.

ステージ制御部101cは露光処理を行い(ステップS14)、規定の露光回数だけ露光処理が行われたか否かを判定する(ステップS16)。露光回数だけ露光処理が行われていない場合(ステップS16でNO)には、ステージ制御部101cは、駆動部32を介して、ステージ20をシフト方向にシフト量だけ移動させる(ステップS19)。そして、ステージ制御部101cは、ステージ20をシフト方向にシフト量だけ移動させた状態において、露光処理を行う(ステップS14)。   The stage controller 101c performs an exposure process (step S14), and determines whether or not the exposure process has been performed for the specified number of exposures (step S16). If the exposure process has not been performed for the number of times of exposure (NO in step S16), the stage control unit 101c moves the stage 20 in the shift direction by the shift amount via the drive unit 32 (step S19). Then, the stage control unit 101c performs an exposure process in a state where the stage 20 is moved by the shift amount in the shift direction (step S14).

露光回数だけ露光処理が行われた場合(ステップS16でYES)には、ステージ制御部101cは、1枚の対象物Wに対する処理を終了する。   When the exposure process is performed for the number of times of exposure (YES in step S16), the stage control unit 101c ends the process for one object W.

本実施の形態においても、対象物Wに対して、異なる方向の偏光光を同時に照射することができる。ただし、本実施の形態においては、遮光板14aを設けないため、異なる方向の偏光光を照射させる領域We、Wfを隣接させることができない。したがって、効率的に配向膜等を生成するためには、遮光板14aを設けることが望ましい。また、領域We、Wfをできるだけ近くするためには、ランプ11xからの出射角度θ(図6参照)をできるだけ大きく(例えば、略45度以下)することが望ましい。そして、ランプ11xからの出射角度θをできるだけ大きくするためには、長手方向がy方向に沿うように設けた棒状のランプ11xを、x方向に複数並べてx方向に沿って延びる光源列11a、11b、11c、11dとした光源11を用いることが望ましい。   Also in the present embodiment, the object W can be irradiated with polarized light in different directions at the same time. However, in this embodiment, since the light shielding plate 14a is not provided, the regions We and Wf irradiated with polarized light in different directions cannot be adjacent to each other. Therefore, in order to efficiently generate an alignment film or the like, it is desirable to provide the light shielding plate 14a. Further, in order to make the regions We and Wf as close as possible, it is desirable to make the emission angle θ (see FIG. 6) from the lamp 11x as large as possible (for example, approximately 45 degrees or less). In order to increase the emission angle θ from the lamp 11x as much as possible, a plurality of rod-shaped lamps 11x provided so that the longitudinal direction is along the y direction are arranged in the x direction and extend along the x direction. , 11c, and 11d are preferably used.

<第4の実施の形態>
本発明の第1の実施の形態は、長手方向がy方向に沿うように設けられたランプ11xをx方向に複数並べて光源列を形成したが、光源の形態はこれに限られない。
<Fourth embodiment>
In the first embodiment of the present invention, the light source array is formed by arranging a plurality of lamps 11x provided so that the longitudinal direction is along the y direction in the x direction, but the form of the light source is not limited to this.

第4の実施の形態は、x方向に沿った長いランプを用いる形態である。以下、第4の実施の形態の偏光光照射装置について説明する。第1の実施の形態の偏光光照射装置1と、第4の実施の形態の偏光光照射装置との差異は、光源の形態のみであるため、以下、第4の実施の形態の偏光光照射装置における偏光照射部10Cについてのみ説明する。また、第1の実施の形態と同一の部分については、同一の符号を付し、説明を省略する。   In the fourth embodiment, a long lamp along the x direction is used. Hereinafter, a polarized light irradiation apparatus according to the fourth embodiment will be described. Since the difference between the polarized light irradiation apparatus 1 of the first embodiment and the polarized light irradiation apparatus of the fourth embodiment is only the form of the light source, hereinafter, the polarized light irradiation of the fourth embodiment will be described. Only the polarized light irradiation unit 10C in the apparatus will be described. Further, the same parts as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

図13は、偏光照射部10Cについて説明する図である。偏光照射部10Cは、主として、光源11Aと、特定波長透過フィルタ12(図示省略)と、偏光子13と、遮光部14Bと、リフレクタ15(図示省略)と、を有する。   FIG. 13 is a diagram illustrating the polarized light irradiation unit 10C. The polarized light irradiation unit 10C mainly includes a light source 11A, a specific wavelength transmission filter 12 (not shown), a polarizer 13, a light shielding unit 14B, and a reflector 15 (not shown).

光源11Aは、x方向に沿って設けられたランプ11yを2本有する。2本のランプ11yは、y方向に隣接して設けられる。なお、ランプ11yの本数は2本に限られない。   The light source 11A has two lamps 11y provided along the x direction. The two lamps 11y are provided adjacent to each other in the y direction. The number of lamps 11y is not limited to two.

ランプ11yの下側には、複数の偏光子13A、13Bが隣接して設けられる。遮光部14Bは、2本のランプ11yに対してそれぞれ設けられた複数の遮光板14aと、軸14bと、を有する。   A plurality of polarizers 13A and 13B are provided adjacent to the lower side of the lamp 11y. The light shielding part 14B includes a plurality of light shielding plates 14a and shafts 14b provided for the two lamps 11y, respectively.

第3の実施の形態の偏光光照射装置においては、入力部103から対象物Wに関する情報が入力されると、遮光板制御部101bは、対象物Wに関する情報に基づいて遮光板14aの位置を決定し、決定された位置へと遮光板14aを移動させる。なお、図13においては、遮光板14aに対して網掛け表示をしている。   In the polarized light irradiation apparatus according to the third embodiment, when information on the object W is input from the input unit 103, the light shielding plate control unit 101b determines the position of the light shielding plate 14a based on the information on the object W. The light shielding plate 14a is moved to the determined position. In FIG. 13, the shading plate 14a is shaded.

次に、光源制御部101aはランプ11yを点灯し、ステージ制御部101cは露光処理を行う。   Next, the light source control unit 101a turns on the lamp 11y, and the stage control unit 101c performs an exposure process.

本実施の形態においても、対象物Wに対して、異なる方向の偏光光を同時に照射することができる。なお、本実施の形態では、光源制御部101aは無くてもよい。また、ランプ11yから照射された光を遮光するため、遮光板14aを多数設けることが望ましい。   Also in the present embodiment, the object W can be irradiated with polarized light in different directions at the same time. In the present embodiment, the light source control unit 101a may not be provided. It is desirable to provide a large number of light shielding plates 14a in order to shield the light emitted from the lamp 11y.

また、本実施の形態においても、遮光板14aをランプ11yと重ならない位置まで移動させ、一方のランプ11yのみを点灯させることにより、偏光子13A又は偏光子13Bを通過した1方向の偏光光のみを対象物Wに照射させることができる。   Also in the present embodiment, only the polarized light in one direction that has passed through the polarizer 13A or the polarizer 13B is obtained by moving the light shielding plate 14a to a position that does not overlap the lamp 11y and lighting only one of the lamps 11y. Can be irradiated to the object W.

<第5の実施の形態>
本発明の第1の実施の形態は、所定の方向である第1方向の偏光成分の光と、第1方向と異なる方向である第2方向の偏光成分の光とを同時に対象物Wに照射して、対象物Wに領域Wa、Wbを同時に生成したが、第1方向の偏光成分の光と第2方向の偏光成分の光とを同時に対象物Wに照射しなくても、第1方向の偏光成分の光が照射される領域と、第2方向の偏光成分の光が照射される領域とを対象物Wに生成することができる。
<Fifth embodiment>
In the first embodiment of the present invention, the object W is simultaneously irradiated with light having a polarization component in a first direction that is a predetermined direction and light having a polarization component in a second direction that is different from the first direction. Thus, the regions Wa and Wb are simultaneously generated on the object W, but the first direction can be obtained without simultaneously irradiating the object W with the light having the polarization component in the first direction and the light having the polarization component in the second direction. The region where the light of the polarized light component is irradiated and the region where the light of the polarized light component in the second direction is irradiated can be generated on the object W.

第5の実施の形態は、第1方向の偏光成分の光が照射された領域と、第2方向の偏光成分の光が照射された領域とを、別個の露光動作により対象物Wに生成する形態である。以下、第5の実施の形態の偏光光照射装置2について説明する。第1の実施の形態の偏光光照射装置1と、第5の実施の形態の偏光光照射装置2とで同一の部分については、同一の符号を付し、説明を省略する。   In the fifth embodiment, a region irradiated with light having a polarization component in the first direction and a region irradiated with light having a polarization component in the second direction are generated on the object W by separate exposure operations. It is a form. Hereinafter, the polarized light irradiation apparatus 2 of 5th Embodiment is demonstrated. The same reference numerals are given to the same parts in the polarized light irradiation device 1 of the first embodiment and the polarized light irradiation device 2 of the fifth embodiment, and the description thereof is omitted.

図14は、偏光光照射装置2の概略を示す正面図である。偏光光照射装置2は、主として、偏光照射部10Dと、ステージ20と、ステージ駆動部30Aと、を有する。偏光光照射装置2は、偏光照射部10Dの両側に2個のステージ20が設けられている。   FIG. 14 is a front view showing an outline of the polarized light irradiation device 2. The polarized light irradiation device 2 mainly includes a polarized light irradiation unit 10D, a stage 20, and a stage driving unit 30A. The polarized light irradiation device 2 is provided with two stages 20 on both sides of the polarized light irradiation unit 10D.

偏光照射部10Dは、対象物Wに偏光を照射する。偏光照射部10Dについては後に詳述する。ステージ20は、第1の位置と第2の位置との間で回転可能に設けられる。ステージ駆動部30Aは、ステージガイドレール31と、駆動部32と、ステージ20をxy平面に沿って回転させる回転駆動部33と、を有する。回転駆動部33は、図示しない回動軸とアクチュエータ等を有し、ステージ20を第1の位置と第2の位置との間で略90度回転させる。なお、ステージ20を回転させる構成は、すでに公知であるため、説明を省略する。また、ステージ20を回転させる角度は略90度に限定されない。   The polarized light irradiation unit 10D irradiates the object W with polarized light. The polarization irradiation unit 10D will be described in detail later. The stage 20 is rotatably provided between the first position and the second position. The stage drive unit 30A includes a stage guide rail 31, a drive unit 32, and a rotation drive unit 33 that rotates the stage 20 along the xy plane. The rotation drive unit 33 includes a rotation shaft and an actuator (not shown), and rotates the stage 20 approximately 90 degrees between the first position and the second position. In addition, since the structure which rotates the stage 20 is already well-known, description is abbreviate | omitted. Further, the angle at which the stage 20 is rotated is not limited to approximately 90 degrees.

次に、偏光照射部10Dについて詳細に説明する。図15は、偏光照射部10Dの概略を示す平面図である。図16は、偏光照射部10Dを側面から見たときの概略を示す要部透視図である。   Next, the polarization irradiation unit 10D will be described in detail. FIG. 15 is a plan view showing an outline of the polarized light irradiation unit 10D. FIG. 16 is a perspective view of a principal part showing an outline when the polarized light irradiation unit 10D is viewed from the side.

偏光照射部10は、主として、光源11Bと、特定波長透過フィルタ12と、偏光子13Aと、遮光部14Cと、リフレクタ15と、を有する。なお、図15では、特定波長透過フィルタ12、偏光子13A及びリフレクタ15の図示を省略している。   The polarized light irradiation unit 10 mainly includes a light source 11B, a specific wavelength transmission filter 12, a polarizer 13A, a light shielding unit 14C, and a reflector 15. In FIG. 15, the specific wavelength transmission filter 12, the polarizer 13A, and the reflector 15 are not shown.

光源11Bは、長手方向がy方向に沿うように設けられた複数のランプ11xを含む。複数のランプ11xをx方向に並べて設けることで、x方向に沿って延びる光源列11e、11f、11g、11hが配置される。光源列11e、11f、11g、11hは、y方向に隣接して設けられる。積算照射量を均一化するため、4列の光源列11e、11f、11g、11hの間のずれ量Sは、各光源列11e、11f、11g、11hにおけるランプ11x間の距離Lの4分の1である。例えば、距離Lが144mmの場合は、ずれ量Sは36mm(144mm/4=36mm)である。   The light source 11B includes a plurality of lamps 11x provided such that the longitudinal direction is along the y direction. By providing a plurality of lamps 11x arranged in the x direction, light source rows 11e, 11f, 11g, and 11h extending along the x direction are arranged. The light source rows 11e, 11f, 11g, and 11h are provided adjacent to each other in the y direction. In order to make the integrated irradiation amount uniform, the shift amount S between the four light source rows 11e, 11f, 11g, and 11h is a quarter of the distance L between the lamps 11x in each of the light source rows 11e, 11f, 11g, and 11h. 1. For example, when the distance L is 144 mm, the shift amount S is 36 mm (144 mm / 4 = 36 mm).

なお、本実施の形態では、光源11Bは、4列の光源列11e、11f、11g、11hを有するが、光源11Bの形態はこれに限られず、3列の光源列を有していてもよい。3列の光源列を有する場合には、距離Lが144mmとすると、ずれ量Sは48mm(144mm/3=48mm)である。   In the present embodiment, the light source 11B has four light source rows 11e, 11f, 11g, and 11h. However, the light source 11B is not limited to this, and may have three light source rows. . In the case of having three light source rows, if the distance L is 144 mm, the shift amount S is 48 mm (144 mm / 3 = 48 mm).

光源列11e、11f、11g、11hに位置するランプ11xの下には、x方向の偏光成分を通過させる偏光子13Aが設けられる。なお、偏光子13Aは、1つのランプ11xに対して1個ずつ設けられてもよいし、1つのランプ11xに対して2つ以上設けられてもよい。   Below the lamp 11x located in the light source rows 11e, 11f, 11g, and 11h, a polarizer 13A that passes a polarization component in the x direction is provided. One polarizer 13A may be provided for each lamp 11x, or two or more polarizers 13A may be provided for one lamp 11x.

遮光部14Cは、偏光子13Aの下側、すなわち偏光子13Aとステージ20との間に設けられ、偏光子13Aを通過した偏光光を遮光して、対象物Wの光照射が不要な箇所に偏光光が照射されないようにする。遮光部14Cは、x方向に移動する遮光板14dと、y方向に移動する遮光板14eと、を有する。遮光板14d、14eは、遮光板14aと同様に、対象物Wにできるだけ近い位置に設けられる。   The light shielding unit 14C is provided below the polarizer 13A, that is, between the polarizer 13A and the stage 20, and shields the polarized light that has passed through the polarizer 13A so that light irradiation of the object W is not required. Avoid irradiation with polarized light. The light shielding unit 14C includes a light shielding plate 14d that moves in the x direction and a light shielding plate 14e that moves in the y direction. The light shielding plates 14d and 14e are provided at a position as close as possible to the object W, similarly to the light shielding plate 14a.

遮光板14dは、y方向に沿った長さが、光源11Bのy方向の長さ以上である。遮光板14dは、x方向に沿って延設された軸(図示せず)に設けられており、アクチュエータ等の遮光板駆動部14f(図17参照)によりx方向に沿って移動可能である。   The light shielding plate 14d has a length along the y direction equal to or longer than the length of the light source 11B in the y direction. The light shielding plate 14d is provided on a shaft (not shown) extending along the x direction, and can be moved along the x direction by a light shielding plate driving unit 14f (see FIG. 17) such as an actuator.

遮光板14eは、x方向の長さが、光源11Bのx方向の長さ以上である。遮光板14eは、y方向に沿って延設された軸(図示せず)に設けられており、アクチュエータ等の遮光板駆動部14g(図17参照)によりy方向に沿って移動可能である。遮光板14eは、ステージ20との位置関係を保ったまま、ステージ20とともにy方向に移動する(後に詳述する)。   The length of the light shielding plate 14e in the x direction is equal to or longer than the length of the light source 11B in the x direction. The light shielding plate 14e is provided on a shaft (not shown) extending along the y direction, and is movable along the y direction by a light shielding plate driving unit 14g (see FIG. 17) such as an actuator. The light shielding plate 14e moves in the y direction together with the stage 20 while maintaining the positional relationship with the stage 20 (described in detail later).

遮光板14d、14eは、側面(x方向又はy方向)から見たときに、周縁が斜めに切断されている。図16に示すように、切断された部分の辺は、鉛直方向(z方向)に対してランプ11xからの出射角度θ(図6参照)だけ傾いている。本実施の形態では、θ=略60度である。   The light shielding plates 14d and 14e are cut obliquely at the periphery when viewed from the side surface (x direction or y direction). As shown in FIG. 16, the side of the cut portion is inclined by the emission angle θ (see FIG. 6) from the lamp 11x with respect to the vertical direction (z direction). In the present embodiment, θ = approximately 60 degrees.

図17は、偏光光照射装置2の電気的な構成を示すブロック図である。偏光光照射装置2は、主として、制御部101A、記憶部102、入力部103、出力部104を含んで構成される。   FIG. 17 is a block diagram showing an electrical configuration of the polarized light irradiation device 2. The polarized light irradiation device 2 mainly includes a control unit 101A, a storage unit 102, an input unit 103, and an output unit 104.

制御部101Aは、制御部101と同様、演算装置であるCPU等のプログラム制御デバイスであり、記憶部102に格納されたプログラムにしたがって動作する。本実施の形態では、この制御部101Aは、遮光板駆動部14f、14gを制御する遮光板制御部101d、及び駆動部32及び回転駆動部33を制御するステージ制御部101eとして機能する。制御部101Aの詳しい動作の内容については、後に詳述する。   Similar to the control unit 101, the control unit 101 </ b> A is a program control device such as a CPU that is an arithmetic device, and operates according to a program stored in the storage unit 102. In the present embodiment, the control unit 101A functions as a light shielding plate control unit 101d that controls the light shielding plate driving units 14f and 14g, and a stage control unit 101e that controls the driving unit 32 and the rotation driving unit 33. Details of the operation of the control unit 101A will be described later.

このように構成された偏光光照射装置2の作用について説明する。図18は、偏光光照射装置2の処理の流れを示すフローチャートである。図19〜22は、偏光光照射装置2が+y側に位置するステージ20に載置された対象物Wを露光処理するときの流れを説明する図である。図19は、一度目の露光処理の模式図であり、図20は、二度目の露光処理の模式図であり、図21は、三度目の露光処理の模式図であり、図22は、四度目の露光処理の模式図である。図19〜22において、偏光光が照射される領域に網掛け表示をしている。   The operation of the polarized light irradiation device 2 configured as described above will be described. FIG. 18 is a flowchart showing a process flow of the polarized light irradiation device 2. 19-22 is a figure explaining the flow when the polarized light irradiation apparatus 2 exposes the target object W mounted on the stage 20 located on the + y side. 19 is a schematic diagram of the first exposure process, FIG. 20 is a schematic diagram of the second exposure process, FIG. 21 is a schematic diagram of the third exposure process, and FIG. It is a schematic diagram of the exposure process of the time. In FIGS. 19 to 22, the shaded display is performed on the area irradiated with polarized light.

処理に先立ち、制御部101Aは、まず全てのランプ11xを点灯させる。また、制御部101Aは、処理に先立ち、ステージ20を第1の向き(図19参照)にする(ステージ20が第2の向きになっている場合には、ステージ20を回転させる)。そして、制御部101Aは、ステージ20に対象物Wが載置された後に、図18に示す処理を開始する。   Prior to the processing, the control unit 101A first turns on all the lamps 11x. Further, the control unit 101A sets the stage 20 in the first direction (see FIG. 19) prior to processing (when the stage 20 is in the second direction, the stage 20 is rotated). Then, after the object W is placed on the stage 20, the control unit 101A starts the process shown in FIG.

さらに、制御部101Aは、処理に先立ち、対象物Wに関する情報を入力部103を介して取得する。本実施の形態において、対象物Wに関する情報とは、例えば、対象物Wは領域Wcと領域Wd(図19、21等参照)とを有し、領域Wcはステージ20が第1の向きにあるときにx方向に沿った偏光光を照射させる領域であり、領域Wdはステージ20が第2の向きにあるときにx方向に沿った偏光光を照射させる領域であることを示す情報である。なお、本実施の形態では、領域Wc、Wdは、走査方向に沿った又は走査方向と略直交する方向に沿った帯状の領域であり、隣接して設けられる。領域Wc、Wdは、ステージ20が第1の向きにあるとき(図19、20参照)には走査方向に沿った帯状の領域であり、ステージ20が第2の向きにあるとき(図21、22参照)に走査方向と略直交する方向に沿った帯状の領域である。   Furthermore, the control unit 101 </ b> A acquires information regarding the object W via the input unit 103 prior to processing. In the present embodiment, the information on the object W includes, for example, the object W includes a region Wc and a region Wd (see FIGS. 19 and 21, etc.), and the region Wc has the stage 20 in the first direction. The region is sometimes irradiated with polarized light along the x direction, and the region Wd is information indicating that the stage 20 is irradiated with polarized light along the x direction when the stage 20 is in the second direction. In the present embodiment, the regions Wc and Wd are band-like regions along the scanning direction or along a direction substantially orthogonal to the scanning direction, and are provided adjacent to each other. The areas Wc and Wd are band-shaped areas along the scanning direction when the stage 20 is in the first direction (see FIGS. 19 and 20), and when the stage 20 is in the second direction (FIG. 21, 22) is a band-like region along a direction substantially orthogonal to the scanning direction.

また、対象物Wは、領域Wc、Wdの間にグレーゾーンWe(図23〜25参照)を有する。グレーゾーンWeとは、領域Wcに照射される偏光成分の光と、領域Wdに照射される偏光成分の光と、が照射される領域である。グレーゾーンWeには、セルが形成されない。   Moreover, the target object W has a gray zone We (see FIGS. 23 to 25) between the regions Wc and Wd. The gray zone We is a region where the polarized component light irradiated on the region Wc and the polarized component light irradiated on the region Wd are irradiated. No cells are formed in the gray zone We.

遮光板制御部101dは、対象物Wに関する情報に基づいて、露光時に遮光板14dを配置する位置を決定する(ステップS20)。露光時に遮光板14dを配置する位置は、光源11Bを走査方向に沿って帯状に覆う位置であり、露光前に対象物Wがステージ20に載置されたときにおける領域Wc以外の領域に相当する位置である。遮光板14dのy方向に沿った長さは、光源11Bのy方向の長さ以上であるため、遮光板14dは、光源11Bの走査方向に沿った全域を覆う。   Based on the information related to the object W, the light shielding plate control unit 101d determines a position where the light shielding plate 14d is arranged during exposure (step S20). The position where the light shielding plate 14d is arranged at the time of exposure is a position that covers the light source 11B in a strip shape along the scanning direction, and corresponds to a region other than the region Wc when the object W is placed on the stage 20 before the exposure. Position. Since the length of the light shielding plate 14d along the y direction is equal to or longer than the length of the light source 11B in the y direction, the light shielding plate 14d covers the entire area along the scanning direction of the light source 11B.

そして、遮光板制御部101dは、遮光板駆動部14fを介して、ステップS20で決定された位置へ遮光板14dを移動させる(ステップS22)。図19、20においては、光源11Bにおける、領域Wd及びグレーゾーンWe(つまり、領域Wc以外の領域)に相当する位置を覆うように、遮光板14dが移動されている。これにより、対象物に応じて自動的に不要な光を遮光することができる。実際には、遮光板14dは光源11Bの下側にあるが、説明のため、図19、20では遮光板14dを実線で記載している。また、図19、20ではグレーゾーンWeの図示を省略している。なお、遮光板14eは、光源11Bを覆わない位置にある。   Then, the light shielding plate control unit 101d moves the light shielding plate 14d to the position determined in step S20 via the light shielding plate driving unit 14f (step S22). 19 and 20, the light shielding plate 14d is moved so as to cover positions corresponding to the region Wd and the gray zone We (that is, the region other than the region Wc) in the light source 11B. Thereby, unnecessary light can be automatically shielded according to the object. Actually, the light shielding plate 14d is below the light source 11B, but for the sake of explanation, the light shielding plate 14d is indicated by a solid line in FIGS. 19 and 20, the illustration of the gray zone We is omitted. The light shielding plate 14e is in a position that does not cover the light source 11B.

制御部101Aは、1回目の露光処理を行う(ステップS24)。具体的には、光源11Bのランプ11xが全て点灯し、遮光板14dにより光源11Bが一部覆われた状態で、ステージ制御部101eは、駆動部32を介してステージ20(すなわち、対象物W)を走査方向であるy方向に移動させて、光源11Bから照射された光を対象物Wの被露光面に照射して配向膜等を生成する。ステップS24では、図19に示すように、ステージ20を−y方向に移動させて1回目の露光処理を行う。   The control unit 101A performs the first exposure process (step S24). Specifically, in a state where all the lamps 11x of the light source 11B are turned on and the light source 11B is partially covered by the light shielding plate 14d, the stage control unit 101e passes the stage 20 (that is, the object W) via the driving unit 32. ) Is moved in the y direction, which is the scanning direction, and the exposure surface of the object W is irradiated with the light irradiated from the light source 11B to generate an alignment film or the like. In step S24, as shown in FIG. 19, the stage 20 is moved in the -y direction to perform the first exposure process.

1回目の露光処理(ステップS24)終了後、ステージ制御部101eは、図20に示すように、駆動部32を介して、ステージ20をシフト方向にシフト量だけ移動させる(ステップS26)。それと共に、遮光板制御部101dは、図20に示すように、遮光板駆動部14fを介して、遮光板14dをシフト方向にシフト量だけ移動させる(ステップS26)。例えば、シフト量は、ずれ量S(図15参照)の1/2の値、ずれ量Sの1/4の値等であり、記憶部102に記憶されている。   After completion of the first exposure process (step S24), the stage control unit 101e moves the stage 20 by the shift amount in the shift direction via the drive unit 32 as shown in FIG. 20 (step S26). At the same time, as shown in FIG. 20, the light shielding plate control unit 101d moves the light shielding plate 14d by the shift amount in the shift direction via the light shielding plate drive unit 14f (step S26). For example, the shift amount is a half value of the deviation amount S (see FIG. 15), a quarter value of the deviation amount S, and the like, and is stored in the storage unit 102.

ステージ20及び遮光板14dをシフト方向にシフト量だけ移動させた(ステップS26)ら、制御部101Aは、2回目の露光処理を行う(ステップS28)。1、2回目の露光処理(ステップS24、S28)により、領域Wc及びグレーゾーンWeに、対象物Wの長手方向と略直交する方向の偏光成分(本実施の形態における第1方向)の光が照射される。ステージ20及び遮光板14dをシフト方向にシフト量だけ移動させて2回目の露光処理を行うため、領域Wcに偏光光を安定して照射することができる。2回目の露光処理では、ステージ20を+y方向に移動させる点(図20参照)以外は、1回目の露光(ステップS24)と同じであるため、説明を省略する。   After moving the stage 20 and the light shielding plate 14d by the shift amount in the shift direction (step S26), the control unit 101A performs the second exposure process (step S28). Through the first and second exposure processes (steps S24 and S28), the light of the polarization component (the first direction in the present embodiment) in the direction substantially orthogonal to the longitudinal direction of the object W is applied to the region Wc and the gray zone We. Irradiated. Since the second exposure process is performed by moving the stage 20 and the light shielding plate 14d by the shift amount in the shift direction, it is possible to stably irradiate the region Wc with polarized light. Since the second exposure process is the same as the first exposure (step S24) except that the stage 20 is moved in the + y direction (see FIG. 20), the description is omitted.

2回目の露光処理(ステップS28)終了後、遮光板制御部101dは、図21に示すように、遮光板駆動部14fを介して、遮光板14dを、光源11Bを覆わない位置へと移動させる(ステップS30)。また、ステージ制御部101eは、図21に示すように、回転駆動部33を介してステージ20(すなわち、対象物W)を略90度回転させる(ステップS32)。   After completion of the second exposure process (step S28), the light shielding plate control unit 101d moves the light shielding plate 14d to a position where the light source 11B is not covered via the light shielding plate driving unit 14f, as shown in FIG. (Step S30). Further, as shown in FIG. 21, the stage control unit 101e rotates the stage 20 (that is, the target object W) approximately 90 degrees via the rotation driving unit 33 (step S32).

遮光板制御部101dは、対象物Wに関する情報に基づいて、露光時に遮光板14eを配置する位置を決定する(ステップS34)。露光時に遮光板14eを配置する位置は、ステージ20が第2の向きにあるときに、直前(1回目及び2回面)に露光された領域である領域Wcを覆う位置であり、対象物W(すなわち、ステージ20)との関係で決定される。ステージ20が略90度回転されている(第2の向き)ため、領域Wcはx方向に沿っている。遮光板14eは、x方向の長さが、光源11Bのx方向の長さ以上であるため、領域Wc全体を覆うことができる。   Based on the information about the object W, the light shielding plate control unit 101d determines a position where the light shielding plate 14e is arranged at the time of exposure (step S34). The position at which the light shielding plate 14e is arranged at the time of exposure is a position that covers the area Wc that is the area exposed immediately before (first and second surfaces) when the stage 20 is in the second direction. (That is, determined in relation to stage 20). Since the stage 20 is rotated by approximately 90 degrees (second direction), the region Wc is along the x direction. Since the length in the x direction is equal to or longer than the length in the x direction of the light source 11B, the light shielding plate 14e can cover the entire region Wc.

制御部101Aは、3回目の露光処理を行う(ステップS36)。まず、ステージ制御部101eは、駆動部32を介して、ステージ20を第2の向きでy方向(図21では−y方向)に移動させる(ステップS361)。   The control unit 101A performs the third exposure process (step S36). First, the stage control unit 101e moves the stage 20 in the second direction in the y direction (−y direction in FIG. 21) via the drive unit 32 (step S361).

遮光板制御部101dは、遮光板14eとステージ20との位置関係が、ステップS34で決定された位置関係となったか否かを判定する(ステップS363)。遮光板14eとステージ20との位置関係が、ステップS34で決定された位置関係となっていない場合(ステップS363でNO)は、ステップS361に戻る。   The light shielding plate control unit 101d determines whether or not the positional relationship between the light shielding plate 14e and the stage 20 is the positional relationship determined in Step S34 (Step S363). If the positional relationship between the light shielding plate 14e and the stage 20 is not the positional relationship determined in step S34 (NO in step S363), the process returns to step S361.

遮光板14eとステージ20との位置関係が、ステップS34で決定された位置関係となった場合(ステップS363でYES)は、制御部101Aは、遮光板14eをステージ20と同時に同じ速度で(遮光板14eをステージ20とを同期させて)y方向(図21では−y方向)へ移動させる(同期スキャン)(ステップS365)。   When the positional relationship between the light shielding plate 14e and the stage 20 is the positional relationship determined in step S34 (YES in step S363), the control unit 101A moves the light shielding plate 14e at the same speed as the stage 20 (light shielding). The plate 14e is moved in the y direction (-y direction in FIG. 21) in synchronization with the stage 20 (synchronous scanning) (step S365).

ステップS36の処理について、図23、24、25を用いて説明する。なお、図23〜25ではステージ20を省略している。また、図中、太矢印は、遮光板14e及び対象物Wの移動の様子を示し、網掛け部は、光源11Bからの光が照射される領域を示す。   The process of step S36 will be described with reference to FIGS. 23 to 25, the stage 20 is omitted. Further, in the figure, a thick arrow indicates a state of movement of the light shielding plate 14e and the object W, and a shaded portion indicates a region irradiated with light from the light source 11B.

図23は、遮光板14eとステージ20との位置関係が、ステップS34で決定された位置関係となったときの光源11B、遮光板14e及び対象物W(ステージ20)の位置関係を模式する図である。このように、遮光板14eにより領域Wcに光が照射されない状態が、ステップS34で決定された位置関係(ステップS363でYES)である。   FIG. 23 is a diagram schematically illustrating the positional relationship between the light source 11B, the light shielding plate 14e, and the object W (stage 20) when the positional relationship between the light shielding plate 14e and the stage 20 is the positional relationship determined in step S34. It is. Thus, the state in which light is not applied to the region Wc by the light shielding plate 14e is the positional relationship determined in step S34 (YES in step S363).

図24は、遮光板14eを対象物W(ステージ20)と共にy方向(ここでは−y方向)へ移動させている状態を示す図である。ステージ制御部101eは、駆動部32を介してステージ20(すなわち、対象物W)を−y方向に移動させ、それと共に、遮光板制御部101dは、遮光板駆動部14gを介して、遮光板14eを−y方向に移動させる。これにより、ステップS34で決定された位置に遮光板14eを保つように、遮光板14eをステージ20と共に走査方向へ移動される。   FIG. 24 is a diagram illustrating a state in which the light shielding plate 14e is moved in the y direction (here, the −y direction) together with the object W (stage 20). The stage control unit 101e moves the stage 20 (that is, the object W) in the −y direction via the driving unit 32, and the light shielding plate control unit 101d also moves the light shielding plate via the light shielding plate driving unit 14g. 14e is moved in the -y direction. Thereby, the light shielding plate 14e is moved in the scanning direction together with the stage 20 so as to keep the light shielding plate 14e at the position determined in step S34.

図25は、図24に示す状態から遮光板14e及び対象物W(ステージ20)をさらにy方向(ここでは−y方向)へ移動させて、遮光板14eが光源11Bの下を通過し終わった状態を示す図である。光源11Bからの光は、領域Wd及びグレーゾーンWeに照射され、領域Wcには照射されない。   In FIG. 25, the light shielding plate 14e and the object W (stage 20) are further moved in the y direction (here, the -y direction) from the state shown in FIG. 24, and the light shielding plate 14e has finished passing under the light source 11B. It is a figure which shows a state. The light from the light source 11B is applied to the region Wd and the gray zone We, and is not applied to the region Wc.

このように、遮光板14eを対象物W(ステージ20)と共にy方向へ移動させることで、光源11Bからの光が領域Wcに照射されないように、不要光を自動的に遮光することができる。   In this manner, by moving the light shielding plate 14e in the y direction together with the object W (stage 20), unnecessary light can be automatically shielded so that the light from the light source 11B is not irradiated onto the region Wc.

なお、遮光板14eの周縁では、上端面が切断されており、その角度はランプ11xからの出射角度θ(図6参照)と略同じである。したがって、光源11Bから照射された光を確実に遮光することができる。   In addition, the upper end surface is cut at the periphery of the light shielding plate 14e, and the angle thereof is substantially the same as the emission angle θ (see FIG. 6) from the lamp 11x. Therefore, it is possible to reliably shield the light emitted from the light source 11B.

図18の説明に戻る。3回目の露光処理(ステップS36)終了後、ステージ制御部101eは、図22に示すように、駆動部32を介して、ステージ20をシフト方向にシフト量だけ移動させる(ステップS38)。それと共に、遮光板制御部101dは、図22に示すように、遮光板駆動部14gを介して、遮光板14eをシフト方向にシフト量だけ移動させる(ステップS38)。   Returning to the description of FIG. After the third exposure process (step S36), the stage control unit 101e moves the stage 20 by the shift amount in the shift direction via the drive unit 32 as shown in FIG. 22 (step S38). At the same time, as shown in FIG. 22, the light shielding plate control unit 101d moves the light shielding plate 14e by the shift amount in the shift direction via the light shielding plate driving unit 14g (step S38).

その後、制御部101Aは、4回目の露光処理を行う(ステップS40)。3、4回目の露光処理(ステップS36、S40)により、領域Wd及びグレーゾーンWeに、対象物Wの長手方向と略平行方向の偏光成分(本実施の形態における第2方向)の光が照射される。また、図21、22ではグレーゾーンWeの図示を省略している。4回目の露光処理では、ステージ20を+y方向に移動させる点(図22参照)以外は、3回目の露光処理(ステップS36)と同じであるため、説明を省略する。これにより、1枚の対象物Wに対する露光処理が終了される。   Thereafter, the control unit 101A performs a fourth exposure process (step S40). Through the third and fourth exposure processes (steps S36 and S40), the region Wd and the gray zone We are irradiated with light having a polarization component (second direction in the present embodiment) in a direction substantially parallel to the longitudinal direction of the object W. Is done. 21 and 22, the illustration of the gray zone We is omitted. Since the fourth exposure process is the same as the third exposure process (step S36) except that the stage 20 is moved in the + y direction (see FIG. 22), the description thereof is omitted. Thereby, the exposure process with respect to one target object W is complete | finished.

以上、偏光光照射装置2の処理の流れを、偏光照射部10Dの+y側に位置するステージ20を例に説明したが、偏光照射部10Dの−y側に位置するステージ20についても同様の処理を行う。偏光光照射装置2はステージ20を2個有するため、1つのステージ20に対して対象物Wの取り出しや載置を行なっている間に、他のステージ20に載置された対象物Wに対して露光処理を行うことができる。   The processing flow of the polarized light irradiation apparatus 2 has been described above by taking the stage 20 positioned on the + y side of the polarized light irradiation unit 10D as an example, but the same processing is performed on the stage 20 positioned on the −y side of the polarized light irradiation unit 10D. I do. Since the polarized light irradiation device 2 has two stages 20, while the object W is being taken out or placed on one stage 20, the object W placed on the other stage 20 can be removed. Exposure processing can be performed.

本実施の形態によれば、同一の対象物に対して、異なる方向の偏光光を照射することができる。例えば、シフト方向に移動する遮光板14dと、走査方向に移動する遮光板14eとを設け、対象物Wを回転させない状態と、対象物Wを回転させた状態とでそれぞれ露光処理を行うことで、1種類の偏光子13Aで(複数種類の偏光子13A、13Bを用いることなく)、異なる方向の偏光成分の光を同一の対象物Wに照射することができる。また、それぞれの露光処理で遮光板14d、14eを用いて不要な光を遮光することで、同一の対象物Wに、第1方向の偏光成分の光が照射される領域Wcと、第1方向と異なる方向である第2方向の偏光成分の光が照射される領域Wdと、を形成することができる。したがって、同一の対象物W内で異なる偏光方向の露光を行うMMGに対応することができる。   According to the present embodiment, the same object can be irradiated with polarized light in different directions. For example, a light shielding plate 14d that moves in the shift direction and a light shielding plate 14e that moves in the scanning direction are provided, and exposure processing is performed in a state where the object W is not rotated and a state where the object W is rotated. One type of polarizer 13A (without using multiple types of polarizers 13A and 13B) can irradiate the same object W with light of polarized components in different directions. Further, by shielding unnecessary light by using the light shielding plates 14d and 14e in each exposure process, the same object W is irradiated with the light of the polarized light component in the first direction, and the first direction. And a region Wd that is irradiated with light having a polarization component in the second direction, which is different from the first direction. Therefore, it is possible to cope with MMG that performs exposure in different polarization directions in the same object W.

また、本実施の形態によれば、遮光板14d、14eが光源11B又は対象物Wを覆わないようにするだけで、通常の基板に対して通常の露光処理(例えば、全てのランプ11xを点灯させた一往復の露光)を行うことができる。例えば、ランプ11xの点灯、消灯を繰り返す場合には、ランプ11xの点灯状態、消灯状態が安定するまでに30分程度の時間がかかるため、複数の種類の基板(例えばMMG基板と通常の基板)を連続して露光することができない。それに対し、本実施の形態では、全てのランプ11xが常時点灯しているため、遮光板14d、14eの位置を変えることで、複数の種類の基板を連続して露光することができる。   Further, according to the present embodiment, a normal exposure process (for example, lighting all the lamps 11x) is performed on a normal substrate only by preventing the light shielding plates 14d and 14e from covering the light source 11B or the object W. (One reciprocal exposure) can be performed. For example, when the lighting and extinguishing of the lamp 11x are repeated, it takes about 30 minutes for the lighting and extinguishing states of the lamp 11x to be stabilized, and therefore, a plurality of types of substrates (for example, MMG substrates and normal substrates). Cannot be continuously exposed. On the other hand, in this embodiment, since all the lamps 11x are always lit, a plurality of types of substrates can be continuously exposed by changing the positions of the light shielding plates 14d and 14e.

なお、本実施の形態では、長手方向がy方向に沿うように設けられたランプ11xをx方向に複数並べて光源列11e、11f、11g、11hを形成したが、x方向に沿った長いランプ11y(図13参照)を用いることもできる。   In the present embodiment, a plurality of lamps 11x provided so that the longitudinal direction is along the y direction are arranged in the x direction to form the light source rows 11e, 11f, 11g, and 11h. However, the long lamp 11y along the x direction is formed. (See FIG. 13) can also be used.

また、本実施の形態では、遮光板14d、14eをそれぞれ2枚ずつ設けたが、遮光板14d、14eの枚数はこれに限定されない。例えば、遮光板14d、14eは、それぞれ、1枚であってもよいし、3枚以上であっても良い。また、遮光板14d、14eの大きさも図15等に示す大きさに限定されない。   In this embodiment, two light shielding plates 14d and 14e are provided, but the number of light shielding plates 14d and 14e is not limited to this. For example, each of the light shielding plates 14d and 14e may be one, or may be three or more. Further, the size of the light shielding plates 14d and 14e is not limited to the size shown in FIG.

また、本実施の形態では、まず遮光板14dが光源11Bの一部を覆った状態で領域Wcの露光処理を行い、次に遮光板14eが領域Wcを覆った状態で領域Wdの露光処理を行ったが、領域Wc、Wdを露光する順番はこれに限られず、領域Wdの露光処理を行った後で領域Wcの露光処理を行っても良い。   In the present embodiment, first, the exposure processing of the region Wc is performed with the light shielding plate 14d covering a part of the light source 11B, and then the exposure processing of the region Wd is performed with the light shielding plate 14e covering the region Wc. Although the order in which the regions Wc and Wd are exposed is not limited to this, the region Wc may be exposed after the region Wd is exposed.

以上、この発明の実施形態を、図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。   The embodiment of the present invention has been described in detail with reference to the drawings. However, the specific configuration is not limited to this embodiment, and design changes and the like within a scope not departing from the gist of the present invention are included. .

また、本発明において、「略」とは、厳密に同一である場合のみでなく、同一性を失わない程度の誤差や変形を含む概念である。例えば、略平行とは、厳密に平行の場合には限られない。また、例えば、単に平行、直交等と表現する場合において、厳密に平行、直交等の場合のみでなく、略平行、略直交等の場合を含むものとする。また、本発明において「近傍」とは、例えばAの近傍であるときに、Aの近くであって、Aを含んでもいても含んでいなくてもよいことを示す概念である。   Further, in the present invention, “substantially” is a concept including not only a case where they are exactly the same but also errors and deformations that do not lose the identity. For example, “substantially parallel” is not limited to being strictly parallel. Further, for example, when simply expressing as parallel, orthogonal, etc., not only strictly parallel, orthogonal, etc. but also cases of substantially parallel, substantially orthogonal, etc. are included. Further, in the present invention, the “neighborhood” is a concept indicating that when it is in the vicinity of A, for example, it is near A and may or may not include A.

1、2 :偏光光照射装置
10、10A、10B、10C、10D:偏光照射部
11、11A、11B :光源
11a、11b、11c、11d、11e、11f、11g、11h:光源列
11x、11y :ランプ
12 :特定波長透過フィルタ
13、13A、13B :偏光子
13a :透明基板
13b :金属線
14、14A、14B、14C :遮光部
14a、14d、14e :遮光板
14b :軸
14c、14f、14g :遮光板駆動部
15 :リフレクタ
20 :ステージ
30、30A :ステージ駆動部
31 :ステージガイドレール
32 :駆動部
33 :回転駆動部
101、101A :制御部
101a :光源制御部
101b、101d :遮光板制御部
101c、101e :ステージ制御部
102 :記憶部
103 :入力部
104 :出力部
1, 2: Polarized light irradiation devices 10, 10A, 10B, 10C, 10D: Polarized light irradiation units 11, 11A, 11B: Light sources 11a, 11b, 11c, 11d, 11e, 11f, 11g, 11h: Light source arrays 11x, 11y: Lamp 12: Specific wavelength transmission filters 13, 13A, 13B: Polarizer 13a: Transparent substrate 13b: Metal wires 14, 14A, 14B, 14C: Light shielding portions 14a, 14d, 14e: Light shielding plates 14b: Shafts 14c, 14f, 14g: Shading plate driving unit 15: reflector 20: stage 30, 30A: stage driving unit 31: stage guide rail 32: driving unit 33: rotation driving unit 101, 101A: control unit 101a: light source control unit 101b, 101d: light shielding plate control unit 101c, 101e: stage control unit 102: storage unit 103: input unit 104: output unit

Claims (10)

偏光光が照射される対象物が載置されるステージと、
前記対象物の走査方向と略直交する方向に沿って設けられた光源と、前記光源と前記ステージとの間に設けられ、前記光源から照射された光を偏光する偏光子と、を有する偏光照射部と、
を備え、
前記偏光照射部は、前記対象物の第1領域であって、前記光源から照射された光のうちの所定の方向である第1方向の偏光成分の光が照射される第1領域、及び、前記対象物の第2領域であって、前記光源から照射された光のうちの前記第1方向と異なる方向である第2方向の偏光成分の光が照射される第2領域の少なくとも一方へ偏光光を照射することを特徴とする偏光光照射装置。
A stage on which an object to be irradiated with polarized light is placed;
Polarized light irradiation comprising: a light source provided along a direction substantially orthogonal to the scanning direction of the object; and a polarizer provided between the light source and the stage and polarizing light emitted from the light source. And
With
The polarized light irradiation unit is a first region of the object, and is irradiated with light of a polarized component in a first direction that is a predetermined direction of light emitted from the light source, and Polarization to at least one of the second regions of the object that is irradiated with light having a polarization component in a second direction that is different from the first direction of the light emitted from the light source. A polarized light irradiation apparatus characterized by irradiating light.
前記光源は、前記走査方向に隣接して設けられた第1光源及び第2光源を有し、
前記偏光子は、前記第1光源から照射された光のうちの前記第1方向の偏光成分を透過させる第1偏光子と、前記第2光源から照射された光のうちの前記第2方向の偏光成分を透過させる第2偏光子と、を有することを特徴とする請求項1に記載の偏光光照射装置。
The light source has a first light source and a second light source provided adjacent to each other in the scanning direction,
The polarizer includes a first polarizer that transmits a polarization component in the first direction of light emitted from the first light source, and a second direction of light emitted from the second light source. It has a 2nd polarizer which permeate | transmits a polarization component, The polarized light irradiation apparatus of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
前記偏光照射部は、前記偏光子と前記ステージとの間に設けられた第1遮光部であって、前記第1光源から照射された光の一部を遮光する第1遮光板と、前記第2光源から照射された光の一部を遮光する第2遮光板と、を有する第1遮光部を有することを特徴とする請求項2に記載の偏光光照射装置。   The polarized light irradiation unit is a first light shielding unit provided between the polarizer and the stage, the first light shielding plate for shielding a part of the light emitted from the first light source, and the first light shielding plate. The polarized light irradiation apparatus according to claim 2, further comprising: a first light-shielding portion having a second light-shielding plate that shields part of light emitted from the two light sources. 前記対象物に関する情報を取得する情報取得部と、
前記第1遮光板を前記第1光源に沿って移動させ、前記第2遮光板を前記第2光源に沿って移動させる遮光板駆動部と、
前記情報取得部により取得された情報に基づいて前記第1遮光板及び前記第2遮光板の位置を決定し、当該決定された位置に前記第1遮光板及び前記第2遮光板を移動させるように前記遮光板駆動部を制御する遮光板制御部と、
を備えたことを特徴とする請求項3に記載の偏光光照射装置。
An information acquisition unit for acquiring information on the object;
A light shielding plate driving unit that moves the first light shielding plate along the first light source and moves the second light shielding plate along the second light source;
The positions of the first light shielding plate and the second light shielding plate are determined based on the information acquired by the information acquisition unit, and the first light shielding plate and the second light shielding plate are moved to the determined positions. A light shielding plate control unit for controlling the light shielding plate drive unit,
The polarized light irradiation apparatus according to claim 3, further comprising:
前記ステージを前記走査方向に移動させると共に、前記ステージを前記走査方向と略直交するシフト方向にシフト量だけ移動させるステージ駆動部を備え、
前記光源は、長手方向が前記走査方向に沿って設けられた複数のランプを有し、
前記第1光源及び前記第2光源は、前記複数のランプを、前記走査方向と略直交する方向に並べて設けることにより、前記走査方向と略直交する方向に沿って設けられ、
前記遮光板制御部は、前記ステージが前記シフト方向に前記シフト量だけ移動されたら、前記第1遮光板及び前記第2遮光板を前記シフト方向に前記シフト量だけ移動させる
ことを特徴とする請求項4に記載の偏光光照射装置。
A stage driving unit that moves the stage in the scanning direction and moves the stage by a shift amount in a shift direction substantially orthogonal to the scanning direction;
The light source has a plurality of lamps whose longitudinal direction is provided along the scanning direction,
The first light source and the second light source are provided along a direction substantially orthogonal to the scanning direction by arranging the plurality of lamps in a direction substantially orthogonal to the scanning direction,
The light-shielding plate controller moves the first light-shielding plate and the second light-shielding plate by the shift amount in the shift direction when the stage is moved by the shift amount in the shift direction. Item 5. The polarized light irradiation apparatus according to Item 4.
前記光源は、長手方向が前記走査方向に沿って設けられた複数のランプを有し、
前記第1光源及び前記第2光源は、前記複数のランプを、前記走査方向と略直交する方向に並べて設けることにより、前記走査方向と略直交する方向に沿って設けられ、
前記対象物に関する情報を取得する情報取得部と、
前記情報取得部により取得された情報に基づいて前記光源の点灯領域を求め、前記複数のランプのうちの前記点灯領域に位置するランプのみを点灯させる光源制御部と、を備えたことを特徴とする請求項2に記載の偏光光照射装置。
The light source has a plurality of lamps whose longitudinal direction is provided along the scanning direction,
The first light source and the second light source are provided along a direction substantially orthogonal to the scanning direction by arranging the plurality of lamps in a direction substantially orthogonal to the scanning direction,
An information acquisition unit for acquiring information on the object;
A light source control unit that obtains a lighting region of the light source based on the information acquired by the information acquisition unit and lights only a lamp located in the lighting region of the plurality of lamps. The polarized light irradiation apparatus according to claim 2.
前記ステージは、第1の位置と第2の位置との間で回転可能に設けられ、
前記偏光子は、前記第1方向の偏光成分を透過させ、
前記偏光照射部は、前記偏光子と前記ステージとの間に設けられた第2遮光部であって、前記走査方向に沿った長さが前記光源の前記走査方向に沿った長さ以上である第3遮光板と、前記走査方向と略直交する方向の長さが前記光源の前記走査方向と略直交する方向の長さ以上である第4遮光板と、を有する第2遮光部を有し、
前記ステージが前記第1の向きにあるときには、前記第3遮光板は、前記光源を前記走査方向に沿って帯状に覆う位置であって、前記対象物の前記第1領域以外の領域に相当する位置に設けられ、
前記ステージが第2の向きにあるときには、前記第4遮光板は、前記対象物の前記第1領域を覆う位置に設けられる
ことを特徴とする請求項1に記載の偏光光照射装置。
The stage is rotatably provided between a first position and a second position;
The polarizer transmits the polarization component in the first direction,
The polarized light irradiating unit is a second light shielding unit provided between the polarizer and the stage, and a length along the scanning direction is equal to or longer than a length along the scanning direction of the light source. A second light-shielding portion having a third light-shielding plate and a fourth light-shielding plate whose length in a direction substantially orthogonal to the scanning direction is equal to or longer than a length of the light source in a direction substantially orthogonal to the scanning direction ,
When the stage is in the first direction, the third light shielding plate is a position that covers the light source in a strip shape along the scanning direction, and corresponds to a region other than the first region of the object. In place,
The polarized light irradiation apparatus according to claim 1, wherein when the stage is in the second direction, the fourth light shielding plate is provided at a position that covers the first region of the object.
前記対象物に関する情報を取得する情報取得部と、
前記ステージを前記第1の位置と前記第2の位置との間で回転させ、かつ、前記ステージを前記走査方向に沿って移動させるステージ駆動部と、
前記第3遮光板及び前記第4遮光板を移動させる遮光板駆動部と、
前記ステージ駆動部及び前記遮光板駆動部を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記情報取得部により取得された情報に基づいて前記第3遮光板の位置を決定し、当該決定された位置に前記第3遮光板を移動させ、かつ、前記情報取得部により取得された情報に基づいて前記第4遮光板の位置を決定し、当該決定された位置に前記第4遮光板を保つように、前記第4遮光板を前記ステージと共に前記走査方向へ移動させる
ことを特徴とする請求項7に記載の偏光光照射装置。
An information acquisition unit for acquiring information on the object;
A stage drive unit that rotates the stage between the first position and the second position, and moves the stage along the scanning direction;
A light shielding plate driving unit for moving the third light shielding plate and the fourth light shielding plate;
A control unit for controlling the stage driving unit and the light shielding plate driving unit;
With
The control unit determines the position of the third light shielding plate based on the information acquired by the information acquisition unit, moves the third light shielding plate to the determined position, and the information acquisition unit Determining the position of the fourth light shielding plate based on the acquired information, and moving the fourth light shielding plate together with the stage in the scanning direction so as to keep the fourth light shielding plate at the determined position. The polarized light irradiation apparatus according to claim 7.
前記制御部は、
前記ステージを回転させて前記第1の向きにし、かつ、前記情報取得部により取得された情報に基づいて、前記第3遮光板が前記光源を前記走査方向に沿って帯状に覆い、前記第4遮光板が前記光源を覆わないように前記第3遮光板及び前記第4遮光板を移動させ、前記第1の向きで前記ステージを前記走査方向へ移動させ、
前記ステージを回転させて前記第2の向きにし、かつ、前記情報取得部により取得された情報に基づいて、前記第3遮光板が前記光源を覆わず、前記第4遮光板が前記第1領域を覆うように前記第3遮光板及び前記第4遮光板を移動させ、前記ステージと前記第4遮光板との位置関係を保ったまま、前記第2の向きで前記ステージを前記走査方向へ移動させつつ、前記第4遮光板を前記走査方向へ移動させる
ことを特徴とする請求項8に記載の偏光光照射装置。
The controller is
The stage is rotated to be in the first direction, and based on the information acquired by the information acquisition unit, the third light shielding plate covers the light source in a strip shape along the scanning direction, and the fourth Moving the third light-shielding plate and the fourth light-shielding plate so that the light-shielding plate does not cover the light source, moving the stage in the scanning direction in the first direction,
Based on the information acquired by the information acquisition unit by rotating the stage, the third light shielding plate does not cover the light source, and the fourth light shielding plate is in the first region. The third light-shielding plate and the fourth light-shielding plate are moved so as to cover the stage, and the stage is moved in the scanning direction in the second direction while maintaining the positional relationship between the stage and the fourth light-shielding plate. The polarized light irradiation apparatus according to claim 8, wherein the fourth light shielding plate is moved in the scanning direction while moving the fourth light shielding plate.
前記ステージ駆動部は、前記ステージを前記走査方向に移動させると共に、前記ステージを前記走査方向と略直交するシフト方向にシフト量だけ移動させ、
前記光源は、長手方向が前記走査方向に沿って設けられた複数のランプを有し、
前記光源は、前記複数のランプを、前記走査方向と略直交する方向に並べて設けることにより、前記走査方向と略直交する方向に沿って設けられ、
前記制御部は、前記ステージを前記シフト方向に前記シフト量だけ移動させ、かつ前記第3遮光板又は前記第4遮光板を前記シフト方向に前記シフト量だけ移動させる
ことを特徴とする請求項8又は9に記載の偏光光照射装置。
The stage driving unit moves the stage in the scanning direction, and moves the stage by a shift amount in a shift direction substantially orthogonal to the scanning direction,
The light source has a plurality of lamps whose longitudinal direction is provided along the scanning direction,
The light source is provided along a direction substantially orthogonal to the scanning direction by arranging the plurality of lamps in a direction substantially orthogonal to the scanning direction,
The control unit moves the stage in the shift direction by the shift amount, and moves the third light shielding plate or the fourth light shielding plate in the shift direction by the shift amount. Or the polarized light irradiation apparatus according to 9.
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