JP2019028331A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】走査露光においてマークを形成した部品とマークを形成していない部品との位置関係を求めることができる露光装置を提供する。【解決手段】マスク保持部20を第1方向に移動させて露光する露光装置であり、マスク保持部の、第1方向と略直交する側面にテンプレートが設けられる。光照射部からテンプレートに向けて光が照射されると、カメラは、光照射部から照射されたパターンと、テンプレートに形成されたパターンとが重なった画像を読み取る。【選択図】図1
Description
本発明は、露光装置に関する。
特許文献1には、型に形成されたマークと、基板ステージに載置された基板上に形成されたマークとの干渉縞をスコープで検出し、これに基づいて2つの物体の位置関係を求める検出装置が開示されている。
特許文献1に記載の発明では、2つの物体の位置関係を求めるのに2つの部品のそれぞれにマークを形成しなければならないという問題がある。また、特許文献1に記載の発明では、型及び基板のそれぞれに複数のマークを形成し、マークを一つ一つ順番に検出する必要があるため、特許文献1に記載の発明を、基板を移動させながら露光を行なう、いわゆる走査露光に適用することはできない。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、走査露光においてマークを形成した部品とマークを形成していない部品との位置関係を求めることができる露光装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明に係る露光装置は、例えば、上側に略水平な面である第1面が形成された定盤と、前記第1面に第1方向に沿って移動可能に設けられた平面視略矩形形状の略板状のマスク保持部であって、前記第1面と対向する面と反対側の面である略水平な第2面にマスクが載置されるマスク保持部と、前記マスク保持部を前記第1方向に移動させる駆動部と、前記マスク保持部の、前記第2面と隣接し、かつ前記第1方向と略直交する第3面に隣接して設けられたテンプレートと、前記マスク保持部の上方に、前記第1方向と略直交する方向である第2方向に沿って設けられた複数の光照射部と、前記光照射部から照射され、前記テンプレートを通過した光を受光するカメラと、を備え、前記テンプレートには、前記第1方向に沿った第1線が、当該第1線の幅と略同一の間隔で配置された第1パターンが形成された第1領域と、前記第2方向に沿った第2線が、当該第2線の幅と略同一の間隔で配置された第2パターンが形成された第2領域と、が前記第1方向に隣接して形成され、前記テンプレートは、前記第1パターン及び前記第2パターンが上側に露出するように設けられ、前記光照射部は、前記光照射部の下側に前記テンプレートが位置するように前記駆動部により前記マスク保持部が移動されたときに、前記テンプレートに向けて光を照射し、前記カメラは、前記光照射部から照射されたパターンと、前記第1パターン及び前記第2パターンとが重なった画像を読み取ることを特徴とする。
本発明に係る露光装置によれば、マスク保持部を第1方向に移動させて露光する露光装置であり、マスク保持部の、第1方向と略直交する側面に隣接してテンプレートが設けられる。光照射部からテンプレートに向けて光が照射されると、カメラは、光照射部から照射されたパターンと、テンプレートに形成されたパターンとが重なった画像を読み取る。これにより、走査露光においてマークを形成した部品(テンプレート、マスク保持部)とマークを形成していない部品(光照射部)との位置関係を求めることができる。そして、マスク保持部と光照射部との位置関係に基づいて、複数の光照射部の位置関係を求めることができる。
また、テンプレートには、第1方向に沿った第1線が、第1線の幅と略同一の間隔で配置された第1パターンが形成された第1領域と、第1方向と略直交する方向である第2方向に沿った第2線が、第2線の幅と略同一の間隔で配置された第2パターンが形成された第2領域と、が第1方向に隣接して形成されるため、カメラがパターンを読み取ることで、マスク保持部(テンプレート)と光照射部と(複数の光照射部間)の、第1方向に沿った位置関係と、第2方向に沿った位置関係とを求めることができる。パターンのピッチに応じて位置関係が求められるので、第1パターン、第2パターンをマイクロメートル単位のピッチとすることで、ナノメートル単位の高い精度で位置関係を求めることができる。
ここで、前記テンプレートが設けられるテンプレート保持部を備え、前記テンプレート保持部は、前記第3面に、前記第3面と略平行方向に移動可能に設けられ、前記マスク保持部は、前記マスクの上面と、前記テンプレートの上面とが略一致するように、前記テンプレート保持部を前記第3面と略平行方向に移動させるテンプレート駆動部を有してもよい。これにより、マスクの種類による厚さの差異分にかかわらず、マスクの上面とテンプレートの上面とを略一致させることができる。
ここで、前記テンプレート保持部は、透明な材料で形成され、前記テンプレート保持部の上側の面には、前記テンプレートが設けられる凹部が形成され、前記凹部と前記テンプレートとの間には、弾性を有する透明な樹脂材料が充填されてもよい。これにより、テンプレートを凹部に接着しつつ、温度等の変化やテンプレート保持部の平行移動による歪みを防ぐことができる。
ここで、前記駆動部及び前記光照射部を制御する制御部を備え、前記光照射部は、前記第1方向に沿った縞状の第3パターンであって、前記第1パターンより縞の幅が広い又は幅が狭い第3パターンの光と、前記第2方向に沿った縞状の第4パターンであって、前記第2パターンより縞の幅が広い又は幅が狭い第4パターンの光と、を照射し、前記カメラは、前記第1パターンと前記第3パターンとが重なることで形成されたモアレ縞である第1モアレ縞と、前記第2パターンと前記第4パターンとが重なることで形成されたモアレ縞である第2モアレ縞とを読み取り、前記制御部は、前記第1モアレ縞に基づいて前記光照射部の前記第2方向の位置ずれを取得し、前記第2モアレ縞に基づいて前記光照射部の前記第1方向の位置ずれを取得してもよい。このように、モアレ縞の黒のピーク位置、白のピーク位置やモアレ縞の位相を検出することで、光照射部の位置ずれを容易に取得することができる。また、カメラでモアレ縞を観察するため、カメラが高性能で無い(例えば、カメラが第1パターン、第2パターンを直接読めない)場合においても、マスク保持部と光照射部との位置関係を高精度で求めることができる。
ここで、前記テンプレートには、前記第1方向に沿ってみたときに、前記第1領域の両側に前記第2領域が設けられてもよい。これにより、第1領域の+x側に配置された第2領域によるモアレ縞と、第1領域の−x側に配置された第2領域によるモアレ縞とを合わせる(必要に応じて第2領域間を補完する)ことで黒のピーク位置、白のピーク位置を複数検出することができ、これにより光照射部のx方向の位置ずれを正確に取得することができることができる。また、第2領域に挟まれる第1領域を、テンプレートに曲がりが発生したとしても延び縮みの無い(又は最も少ない)中央部分におくことができる。
ここで、前記制御部は、前記マスクに描画するパターンの位置及び形状に関する情報である描画情報を取得し、前記描画情報に基づいて前記光照射部から前記マスクに光を照射して描画処理を行い、前記第1モアレ縞に基づいて前記光照射部の前記第2方向の位置ずれを取得し、当該位置ずれに基づいて前記描画情報の前記第2方向の位置を調整し、前記第2モアレ縞に基づいて前記光照射部の前記第1方向の位置ずれを取得し、当該位置ずれに基づいて前記光照射部へ出力する信号のタイミングを調整してもよい。これにより、光照射部同士の位置ずれを補正して描画処理を行うことができる。したがって、マスクに描画された画像において、光照射部間のつなぎ目のずれをなくし、マスクに綺麗な描画を行なうことができる。
ここで、前記マスク保持部の前記第1方向における位置を取得する位置測定部が設けられ、前記マスク保持部には、前記第3面と反対側の面である第4面に沿ってバーミラーが設けられ、前記光照射部には、前記バーミラーと平行なミラーが設けられ、前記定盤には、前記ミラーの位置を基準とした前記バーミラーの位置を測定することで、前記光照射部と前記マスク保持部との位置関係を測定するレーザ干渉計が設けられ、前記制御部は、前記位置測定部の測定結果と、前記レーザ干渉計の測定結果と、に基づいて前記光照射部から光を照射してもよい。空気中でレーザ干渉計を用いると10nm近い揺らぎが出てしまうが、位置測定部についても揺らぎは発生しない。このように、位置測定部の測定結果をレーザ干渉計を用いて補正することで、高い精度でマスク保持部の移動及び描画位置の補正を行うことができる。
本発明によれば、走査露光においてマークを形成した部品とマークを形成していない部品との位置関係を求めることができる。
以下、本発明の実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。各図面において、同一の要素には同一の符号が付されており、重複する部分については説明を省略する。
本発明における露光装置とは、略水平方向に保持した感光性基板(例えば、ガラス基板)を走査方向に移動させながらレーザ等の光を照射してフォトマスクを生成するマスク製造装置である。感光性基板としては、例えば、熱膨張率が非常に小さい(例えば、約5.5×10−7/K程度)石英ガラスが用いられる。
露光装置により生成されるフォトマスクは、例えば液晶表示装置用の基板を製造するために用いられる露光用マスクである。フォトマスクは、一辺が例えば1mを超える(例えば、1400mm×1220mm)大型の略矩形形状の基板上に、1個または複数個のイメージデバイス用転写パターンが形成されたものである。以下、加工前、加工中及び加工後の感光性基板(フォトマスク)を包括する概念として、マスクMという用語を使用する。
ただし、本発明の露光装置は、マスク製造装置に限定されない。本発明の露光装置は、略水平方向に保持した基板を走査方向に移動させながら光(レーザ、UV、偏光光等を含む)を照射する様々な装置を含む概念である。
図1は、第1の実施の形態に係る露光装置1の概略を示す斜視図である。露光装置1は、主として、定盤11と、板状部12と、レール13、14と、枠体15と、マスク保持部20と、光照射部30と、測定部40と、レーザ干渉計50と、を有する。なお、図1においては、一部の構成について図示を省略している。また、露光装置1は、装置全体を覆う図示しない温度調整部により、一定温度に保たれている。
定盤11は、略直方体形状(厚板状)の部材であり、例えば、石(例えば、花崗岩)や低膨張率の鋳物(例えば、ニッケル系の合金)で形成される。定盤11は、上側(+z側)に略水平(xy平面と略平行)な上面11aを有する。
定盤11は、設置面(例えば、床)上に載置された複数の除振台(図示せず)の上に載置される。これにより、定盤11が除振台を介して設置面上に載置される。除振台はすでに公知であるため、詳細な説明を省略する。なお、除振台は必須ではない。定盤11の+x側には、マスクMをマスク保持部20に設置するローダ(図示せず)が設けられる。
レール13は、セラミック製の細長い板状の部材であり、定盤11の上面11aに、長手方向がx方向に沿うように固定される。3本のレール13は、高さ(z方向の位置)が略同一であり、上面が高精度及び高平坦度で形成される。
ローダ側(+x側)のレール13は、端が上面11aの端部に設けられ、反ローダ側(−x側)のレール13は、端が上面11aの端部より内側に設けられる。
板状部12は、レール13の上に載置される。板状部12は、セラミック製の略板状の部材であり、全体として略矩形形状である。板状部12の下面(−z側の面)には、長手方向がx方向に沿うようにガイド部(図示せず)が設けられる。これにより、板状部12がx方向以外に移動しないように板状部12の移動方向が規制される。
板状部12の上面12aには、レール14が設けられる。レール14は、長手方向がy方向に沿うように固定される。レール14は、高さが略同一であり、上面が高精度及び高平坦度で形成される。
マスク保持部20は、平面視略矩形形状の略板状であり、熱膨張係数が略0.5〜1×10−7/Kの低膨張性セラミックを用いて形成される。これにより、マスク保持部20の変形を防止することができる。なお、マスク保持部20は、熱膨張係数が略5×10−8/Kの超低膨張性ガラスセラミックを用いて形成することもできる。この場合には、制御しきれない温度変化が発生したとしても、マスク保持部20の変形を確実に防止することができる。なお、マスク保持部20をマスクMと同様に伸び縮みする材料で形成してもよい。
マスク保持部20は、レール14の上に載置される。言い換えれば、マスク保持部20は、板状部12及びレール13、14を介して上面11aに設けられる。
マスク保持部20の下面には、長手方向がy方向に沿うようにガイド部(図示せず)が設けられる。これにより、マスク保持部20、すなわち板状部12がy方向以外に移動しないようにマスク保持部20の移動方向が規制される。
このように、マスク保持部20(板状部12)は、レール13に沿ってx方向に移動可能に設けられ、マスク保持部20は、レール14に沿ってy方向に移動可能に設けられる。
マスク保持部20は、略水平な上面20aを有する。上面20aには、マスクM(図示省略)が載置される。マスク保持部20の詳細については後に詳述する。
露光装置1は、図示しない駆動部61、62(図1では図示せず、図8参照)を有する。駆動部61、62は、例えばリニアモータである。駆動部61はマスク保持部20(板状部12)をレール13に沿ってx方向に移動させ、駆動部62はマスク保持部20をレール14に沿ってy方向に移動させる。駆動部61、62が板状部12やマスク保持部20を移動させる方法は、既に公知の様々な方法を用いることができる。
測定部40(図1では図示省略、図7参照)は、例えばリニアエンコーダであり、マスク保持部20の位置を測定する。測定部40は、位置測定部41、42を有する。測定部40については後に詳述する、
定盤11には、枠体15が設けられる。枠体15は、マスク保持部20の上方(+z方向)に光照射部30を保持する。
光照射部30は、マスクMに光(本実施の形態では、レーザ光)を照射する。光照射部30は、y方向に沿って一定間隔(例えば、略200mmおき)で設けられる。本実施の形態では、7個の光照射部30a、光照射部30b、光照射部30c、光照射部30d、光照射部30e、光照射部30f、光照射部30gを有する。光照射部30a〜30gは、それぞれ図示しない駆動部により、z方向に移動可能に設けられる。光照射部30a〜30g全体を10mm程度の範囲で動かす粗動軸(図示せず)と、光照射部30a〜30gを30μm程度の範囲で微動させる微動軸(図示せず)と、を有する。光照射部30については後に詳述する。
レーザ干渉計50は、レーザ干渉計51、52を有する。枠体15の−y側に設けられた柱には、レーザ干渉計51が設けられる。また、定盤11の+x側の側面には、レーザ干渉計52(図1では図示省略)が設けられる。レーザ干渉計50については、後に詳述する。
次に、マスク保持部20について説明する。図2は、マスク保持部20の概略を示す斜視図である。
マスク保持部20は、上面20aと隣接する側面20b、20c、20dを有する。側面20dは側面20bの反対側の面である。側面20bは+x側の側面であり、側面20cは−y側の側面であり、側面20dは−x側の側面である。側面20b、20dは、x方向と略直交しており(y方向に略沿っており)、側面20cはx方向に略沿っている。側面20b、20c、20dは、z方向と略平行である。
上面20aには、バーミラー21、22、23が設けられる。バーミラー21、22は、側面20bに沿って設けられ、バーミラー23は、−y側の側面20cに沿って設けられる。
側面20dには、テンプレート保持部24が設けられる。テンプレート保持部24には、テンプレート25が設けられる。
図3は、テンプレート保持部24及びテンプレート25について説明する図である。テンプレート保持部24は、透明な材料(例えば、石英ガラス)で形成され、z方向と略平行方向に移動可能に設けられる。テンプレート保持部24を石英ガラスとすることで、テンプレート25の熱膨張による歪みを最小とすることができる。
テンプレート保持部24の上側の面24aには、テンプレート25が設けられる凹部24bが形成される。凹部24bとテンプレート25との間には、弾性を有する透明な樹脂材料26が充填される。これにより、テンプレート25を凹部24bに接着しつつ、温度等の変化による歪みを防ぐことができる。樹脂材料26が充填される空間の厚さは、図3における左右方向、高さ方向ともに略同一とする。
マスク保持部20には、駆動部63(図3では図示せず、図8参照)が設けられる。駆動部63は、テンプレート保持部24をz方向(図3の矢印方向)に移動させる。また、テンプレート保持部24は、側面20dに対し、図示しない真空吸着機構又は摩擦力により固定される。駆動部63や真空吸着機構は、既に公知の様々な方法を用いることができる。
駆動部63は、マスク保持部20の上面20aに載置されたマスクMの上面Maと、テンプレート25の上面25aとが略一致する(ここで略一致とは、略±30μm以内である)ように、テンプレート保持部24を側面20dと略平行方向に移動させる。テンプレート保持部24は、マスクMの種類による厚さの差異分(10mm程度)だけz方向に移動可能に設けられることが望ましい。
テンプレート25は、上面25aが上側に露出するようにテンプレート保持部24に設けられる。図4は、テンプレート25の上面25aの部分拡大図である。
上面25aには、x方向に略沿った線L1が、線L1の幅と略同一の間隔で配置された縞状のパターンP1が形成された領域R1と、y方向に略沿った線L2が、線L2の幅と略同一の間隔で配置された縞状のパターンP2が形成された領域R2と、が形成される。領域R1と領域R2とは、x方向に隣接して形成され、x方向に沿ってみたときに領域R1の両側に領域R2が設けられる。領域R1、R2のx方向の長さは略300μmである。
領域R1は、テンプレート25のx方向略中央に設けられる。テンプレート25のx方向略中央は、仮にテンプレート25に曲がりが発生したとしても延び縮みの無い(又は最も少ない)部分である。このように領域R1、R2を配置することで、モアレ縞を撮像する(後に詳述)処理をマスク保持部20が静止した状態で行う場合においても、+x側の領域R2と−x側の領域R2とで補完することで光照射部30の対物レンズ32の対称歪み成分をキャンセルすることができる。
パターンP1は、光照射部30a〜30gのy方向の位置を決定するためのパターンであり、パターンP2は、光照射部30a〜30gからマスクMへ光を照射するタイミングを決定するためのパターンである。線L1、L2の幅l1、l2は略1〜2μmである。
パターンP1、P2の外側には、十字パターンP5が形成される。十字パターンP5は、光照射部30a〜30gのy方向の間隔と略同一の間隔で形成される。
テンプレート25は、図5に示すように、1枚のマスク(感光性基板)から複数作成される。マスクは例えば幅1400mm×1220mm程度の大きさであり、マスク上に帯状の領域R1、R2を複数形成し、これを中心とした所定の幅(例えば50mm)でマスクを切断することでテンプレート25が形成される。テンプレート25はマスクMと同じ材質であるため、たとえ環境温度が変化してマスクMが熱膨張又は熱収縮したとしても、テンプレート25も同じ量だけ膨張又は収縮するため、温度変化による不具合を最小限にすることができる。
図3の説明に戻る。テンプレート保持部24には、面24aと対向する面24cに隣接してレンズ27が設けられる。図3の二点鎖線で示すように、テンプレート25には光照射部30(図3では図示省略)から光が照射され、テンプレート25及びレンズ27を通過した光は、カメラ18に入射する。
カメラ18は、レール13(図3では図示省略)に設けられる。カメラ18は、z方向に移動可能に設けられ、図示しない駆動部によりz方向に駆動される。カメラ18は、y方向に沿って7個(カメラ18a〜18g、図12参照)設けられる。
カメラ18は、CCD、CMOS等の撮像素子18xを有し、テンプレート25及びレンズ27を通過した光を受光する。カメラ18の視野は略1mm×1.2mm程度であり、撮像素子18xにはパターンP1、P2及び十字パターンP5が全て結像される。
カメラ18及びレンズ27は、高性能である必要はない。例えば、光学歪の有無は問わず、撮像素子18xの解像度が低くてもよい。これについては後に詳述する。
次に、光照射部30について説明する。光照射部30a〜光照射部30gは、同一の構成であるため、以下、光照射部30aについて説明する。
図6は、光照射部30aの概略を示す要部透視図である。光照射部30aは、主として、DMD31と、対物レンズ32と、光源部33と、AF処理部34と、を有する。
DMD31は、デジタルミラーデバイス(Digital Mirror Device、DMD)であり、面状のレーザ光が照射可能である。DMD31は、多数の可動式のマイクロミラー(図示省略)を有し、1枚のマイクロミラーから1画素分の光が照射される。マイクロミラーは、大きさが略10μmであり、2次元状に配置されている。DMD31には光源部33(後に詳述)から光が照射され、光は各マイクロミラーで反射される。マイクロミラーは、その対角線と略平行な軸を中心に回転可能であり、ON(マスクMに向けて光を反射させる)とOFF(マスクMに向けて光を反射させない)との切り替えが可能である。DMD31はすでに公知であるため、詳細な説明を省略する。
対物レンズ32は、DMD31の各マイクロミラーで反射されたレーザ光をマスクMの表面に結像させる。描画時には、光照射部30a〜光照射部30gのそれぞれから光が照射され、この光がマスクM上で結像することにより、マスクMにパターンが描画される。
光源部33は、主として、光源33aと、レンズ33bと、フライアイレンズ33cと、レンズ33d、33eと、ミラー33fと、を有する。光源33aは、例えばレーザダイオードであり、光源33aから出射された光は、光ファイバ等を介してレンズ33bに導かれる。
光は、レンズ33bからフライアイレンズ33cに導かれる。フライアイレンズ33cは複数枚のレンズ(図示せず)を2次元状に配置したものであり、フライアイレンズ33cにおいて多数の点光源が作られる。フライアイレンズ33cを通過した光は、レンズ33d、33e(例えば、コンデンサレンズ)を通って平行光となり、ミラー33fでDMD31に向けて反射される。
AF処理部34は、マスクMへ照射される光の焦点をマスクMに合わせるものであり、主として、AF用光源34aと、コリメータレンズ34bと、AF用シリンドリカルレンズ34c、ミラー34d、34eと、レンズ34fと、AFセンサ34g、34hと、を有する。AF用光源34aから照射された光はコリメータレンズ34bで平行光となり、AF用シリンドリカルレンズ34cで線状の光となり、ミラー34dで反射されてマスクMの表面に結像する。マスクMで反射した光は、ミラー34eで反射され、レンズ34fで集光されて、AFセンサ34g、34hに入射する。AF処理部34は、AFセンサ34g、34hで受光された結果に基づいて合焦位置を求めるオートフォーカス処理を行う。なお、オートフォーカス処理はすでに公知であるため、詳細な説明を省略する。
図7は、測定部40及びレーザ干渉計50がマスク保持部20の位置を測定する様子を示す概略図である。なお、図7では、レール13、14の一部のみ図示している。また、図7では、光照射部30a、30gのみ図示し、光照射部30b〜30fについては図示を省略する。
位置測定部41、42は、それぞれ、スケール41a、42aと、検出ヘッド41b、42bと、を有する。
スケール41aは、+y側のレール13の+y側の端面及び−y側のレール13の−y側の端面に設けられる。検出ヘッド41bは、板状部12(図6では図示省略)の+y側及び−y側の端面に設けられる。図7では、+y側のスケール41a及び検出ヘッド41bについての図示を省略する。
スケール42aは、+x側のレール14の+x側の端面及び−x側のレール13の−x側の端面に設けられる。検出ヘッド42b(図1では図示省略)は、マスク保持部20の+x側及び−x側の端面に設けられる。図7では、−x側のスケール42a及び検出ヘッド42bについての図示を省略する。
スケール41a、42aは、例えばレーザホログラムスケールであり、0.512μmピッチでメモリが形成されている。検出ヘッド41b、42bは、光(例えば、レーザ光)を照射し、スケール41a、42aで反射された光を取得し、これにより発生する信号を512等分して1nmを得、これにより発生する信号を5120等分して0.1nmを得る。位置測定部41、42はすでに公知であるため、詳細な説明を省略する。
光照射部30aには、xz平面と略平行な反射面を有するミラー35aが設けられる。光照射部30gには、xz平面と略平行な反射面を有するミラー35b、35cが設けられる。ミラー35a、35b、35cは、x方向の位置が重ならないように設けられる。
光照射部30aには、yz平面と略平行な反射面を有するミラー36aが設けられる。光照射部30gには、yz平面と略平行な反射面を有するミラー36gが設けられる。
レーザ干渉計51、52は、4本のレーザ光を照射する。レーザ干渉計51は、レーザ干渉計51a、51b、51cを有する。レーザ干渉計52は、レーザ干渉計52a、52gを有する。
図7において、レーザ光の経路を2点鎖線で示す。レーザ干渉計51a、51b、51cから照射される光のうちの2本は、バーミラー23で反射されて、その反射光がレーザ干渉計51a、51b、51cで受光される。
レーザ干渉計51aから照射される光のうちの残りの2本はミラー35aで反射して、その反射光がレーザ干渉計51aで受光される。レーザ干渉計51bから照射される光のうちの残りの2本はミラー35bで反射して、その反射光がレーザ干渉計51bで受光される。レーザ干渉計51cから照射される光のうちの残りの2本はミラー35cで反射して、その反射光がレーザ干渉計51cで受光される。
レーザ干渉計51a〜51cは、それぞれミラー35a〜35cの位置を基準としバーミラー23の位置を測定することで、光照射部30a、30gとマスク保持部20とのy方向の位置関係を測定する。
レーザ干渉計52aから照射される光のうちの2本は、バーミラー22で反射されて、その反射光がレーザ干渉計52aで受光される。レーザ干渉計52gから照射される光のうちの2本は、バーミラー21で反射されて、その反射光がレーザ干渉計52gで受光される。
レーザ干渉計52aから照射される光のうちの残りの2本はミラー36aで反射して、その反射光がレーザ干渉計52aで受光される。レーザ干渉計52gから照射される光のうちの残りの2本はミラー36gで反射して、その反射光がレーザ干渉計52gで受光される。
レーザ干渉計52a、52gは、それぞれミラー36a、36gの位置を基準としバーミラー21、22の位置を測定することで、光照射部30a〜30gとマスク保持部20とのx方向の位置関係を測定する。
本実施の形態では、光照射部30b〜30fにはミラーが設けられず、そのミラーの位置を測定するレーザ干渉計も設けられない。これは、光照射部30b〜30fの位置を光照射部30a、30gの位置に基づいて内挿により求められることと、カメラ18で撮像されるモアレ縞を用いた補正処理(後に詳述)により補正が可能だからである。これにより、装置を小型化することができ、かつコストを下げることができる。
図8は、露光装置1の電気的な構成を示すブロック図である。露光装置1は、CPU(Central Processing Unit)151と、RAM(Random Access Memory)152と、ROM(Read Only Memory)153と、入出力インターフェース(I/F)154と、通信インターフェース(I/F)155と、メディアインターフェース(I/F)156と、を有し、これらは光照射部30、位置測定部41、42、レーザ干渉計51、52、駆動部61、62、63等と互いに接続されている。
CPU151は、RAM152、ROM153に格納されたプログラムに基づいて動作し、各部の制御を行う。CPU151には、位置測定部41、42、レーザ干渉計51、52等から信号が入力される。CPU151から出力された信号は、駆動部61、62、63、光照射部30に出力される。
RAM152は、揮発性メモリである。ROM153は、各種制御プログラム等が記憶されている不揮発性メモリである。CPU151は、RAM152、ROM153に格納されたプログラムに基づいて動作し、各部の制御を行う。また、ROM153は、露光装置1の起動時にCPU151が行うブートプログラムや、露光装置1のハードウェアに依存するプログラム、マスクMへの描画データなどを格納する。また、RAM152は、CPU151が実行するプログラム及びCPU151が使用するデータなどを格納する。
CPU151は、入出力インターフェース154を介して、キーボードやマウス等の入出力装置141を制御する。通信インターフェース155は、ネットワーク142を介して他の機器からデータを受信してCPU151に送信すると共に、CPU151が生成したデータを、ネットワーク142を介して他の機器に送信する。
メディアインターフェース156は、記憶媒体143に格納されたプログラム又はデータを読み取り、RAM152に格納する。なお、記憶媒体143は、例えば、ICカード、SDカード、DVD等である。
なお、各機能を実現するプログラムは、例えば、記憶媒体143から読み出されて、RAM152を介して露光装置1にインストールされ、CPU151によって実行される。
CPU151は、入力信号に基づいて露光装置1の各部を制御する制御部151aの機能を有する。制御部151aは、CPU151が読み込んだ所定のプログラムを実行することにより構築される。制御部151aが行う処理については、後に詳述する。
図8に示す露光装置1の構成は、本実施形態の特徴を説明するにあたって主要構成を説明したのであって、例えば一般的な情報処理装置が備える構成を排除するものではない。露光装置1の構成要素は、処理内容に応じてさらに多くの構成要素に分類されてもよいし、1つの構成要素が複数の構成要素の処理を実行してもよい。
このように構成された露光装置1の作用について説明する。以下の処理は、主として制御部151aによって行われる。
制御部151aは、描画処理に先立って、レーザ干渉計51、52を用いて位置測定部41、42のキャリブレーションを行う。また、制御部151aは、駆動部63を制御してテンプレート保持部24をz方向に移動させて、マスクMの高さとテンプレート25の高さとを一致させる。次に、制御部151aは、位置測定部41、42で取得した測定値に基づいて、マスク保持部20を移動させる。
制御部151aは、位置測定部41、42の測定結果に基づいてマスク保持部20をx方向及びy方向に移動させる。図9は、制御部151aが行う駆動部61、62の制御について説明する図である。ここでは、駆動部61、62がリニアモータであるとして説明する。
まず、推力変換部164、174は、駆動部61、62の可動子のU相、V相、W相にそれぞれ信号を出力し、推力変換部164、174は、その結果に基づいて可動子のU相、V相、W相の力率(力率情報)を求めておく。
−y側の位置測定部41における計測信号は、Xカウンタ(1)161に入力され、+y側の位置測定部41における計測信号は、Xカウンタ(2)162に入力される。制御部151aは、Xカウンタ(1)161の出力と、Xカウンタ(2)162の出力との平均値を、現在位置とする。
−x側の位置測定部42における計測信号は、Yカウンタ(1)171に入力され、+x側の位置測定部42における計測信号は、Yカウンタ(2)172に入力される。制御部151aは、Yカウンタ(1)171の出力と、Yカウンタ(2)172の出力との平均値を、現在位置とする。
目標座標算出部163、173では、それぞれ、CPU151から出力されるパルス等に基づいて、現時点における目標座標(位置指令)が算出される。制御部151aは、Xカウンタ(1)161、Xカウンタ(2)162からの出力信号と、目標座標算出部163から出力された位置指令との偏差の一次関数(P)を算出する。また、制御部151aは、偏差の積分に比例して変化する入力値(I)と、偏差の微分に比例して変化する入力値(D)を算出する。これらの値は、推力変換部164へ入力される。制御部151aは、Yカウンタ(1)171、Yカウンタ(2)172からの出力信号と、目標座標算出部173から出力された位置指令との偏差の一次関数(P)を算出する。また、制御部151aは、偏差の積分に比例して変化する入力値(I)と、偏差の微分に比例して変化する入力値(D)を算出する。これらの値は、推力変換部174へ入力される。
さらに、制御部151aは、目標座標算出部163、173でそれぞれ算出された位置指令を1次微分する1次微分項と、位置指令を2次微分する2次微分項と、を算出し、それぞれ推力変換部164、174へ入力する。推力変換部164、174には、それぞれ原点センサ165、175から駆動部61、62の位置を管理するために基準となる原点信号が入力される。
推力変換部164、174は、それぞれ、入力された情報に基づいて駆動部61、62を駆動するための信号を生成する。具体的には、推力変換部164、174は、比例動作、積分動作、微分動作を組み合わせたPID制御と、目標座標算出部163、173から入力された位置指令、1次微分項、2次微分項とに基づいたフィードフォワード制御と、を行う。そして、推力変換部164、174では、制御結果、力率情報等に基づいて駆動信号を生成する。駆動信号は、U相、V相、W相のそれぞれに対応する信号であり、アンプでそれぞれ増幅された後、可動子のU相、V相、W相のコイルそれぞれに出力される。したがって、マスク保持部20を正確に移動させることができる。なお、精度の高い制御(nm〜数十nm単位の制御)を行うためには、アンプは、DCリニアアンプであることが望ましい。
制御部151aは、このようにしてマスク保持部20を移動させつつ、光照射部30の下側をマスクMが通過するときに光照射部30から光を照射して、描画処理を行う。
この描画処理において、制御部151aは、光照射部30の下側にテンプレート25が位置するときに、光照射部30からテンプレート25に向けて光を照射し、光照射部30のx方向及びy方向の位置ずれを取得する。以下、光照射部30のx方向及びy方向の位置ずれの取得方法について説明する。当該処理は、制御部151aが駆動部61、62によりマスク保持部20を移動させながら行なわれる。
図10は、光照射部30a〜30gがテンプレート25の上を通過するときに、光照射部30a〜30gからそれぞれ照射される光(以下、検査用パターンという)を示す図である。検査用パターンは、x方向に沿った線L3が、線L3の幅と略同一の間隔で配置された縞状のパターンP3を有する領域R3と、y方向に沿った線L4が、線L4の幅と略同一の間隔で配置された縞状のパターンP4が形成された領域R4と、を有する。領域R3と領域R4とは、x方向に隣接して形成され、x方向に沿ってみたときに領域R3の両側に領域R4が設けられる。線L3、L4の幅l3、l4は、それぞれ線L1、L2の幅l1、l2より太い。また、光照射部30a〜30gからは、十字パターンP6が照射される。
検査用パターンは、テンプレート25等を通過して、カメラ18の撮像素子18xに結像される。カメラ18a〜18g(図12参照)では、それぞれ光照射部30a〜30gから照射されたパターンP3、P4、P6と、テンプレート25に形成されたパターンP1、P2、P5と、が重なった画像を読み取る。
図11は、撮像素子18xに結像された画像の一部を例示する図であり、(A)はパターンP1とパターンP3とが重なった部分の画像の一例であり、(B)はパターンP2とパターンP4とが重なった部分の画像の一例である。なお、図11では、説明のため、パターンP1とパターンP3とをずらし、パターンP2とパターンP4とをずらして図示している。
線L3の幅l3が線L1の幅l1より太く、線L3間の間隔(幅l3と略同一)線L1間の間隔(幅l1と略同一)より広いため、図11(A)に示すように、撮像素子18xにはモアレ縞が結像される。制御部151aは、パターンP1、P3により形成されたモアレ縞の黒のピーク位置、白のピーク位置やモアレ縞の位相を検出することで、光照射部30a〜30gのy方向の位置ずれを取得する。
線L4の幅l4が線L2の幅l2より太く、線L4間の間隔(幅l4と略同一)が線L2間の間隔(幅l2と略同一)より広いため、図11(B)に示すように、撮像素子18xにはモアレ縞が結像される。制御部151aは、パターンP2、P4により形成されたモアレ縞の黒のピーク位置、白のピーク位置やモアレ縞の位相を検出することで、光照射部30a〜30gのx方向の位置ずれを取得する。
なお、本実施の形態では、線L3、L4の幅l3、l4がそれぞれ線L1、L2の幅l1、l2より太く、線L3、L4間の間隔が線L1、L2間の間隔より広いが、線L3、L4の幅l3、l4がそれぞれ線L、L21の幅l1、l2より細く、線L3、L4間の間隔が線L1、L2間の間隔より狭くてもよい。この場合にも、撮像素子18xにはモアレ縞が結像される。
領域R1、R3はy方向に沿って連続しているため、撮像素子18xで読み取られるモアレ縞には黒のピーク位置、白のピーク位置が複数含まれる。しかしながら、領域R2、R4はx方向の幅が狭いため、領域R2、R4が1つの場合には黒のピーク位置、白のピーク位置が複数含まれないおそれがある。本実施の形態では、x方向に沿ってみたときに領域R1、R3の両側にが設けられるため、領域R1、R3の+x側に配置された領域R2、R4によるモアレ縞と、領域R1、R3の−x側に配置された領域R2、R4によるモアレ縞とを合わせる(必要に応じて領域R2、R4間を補完する)ことで黒のピーク位置、白のピーク位置を複数検出することができ、これにより光照射部30a〜30gのx方向の位置ずれを正確に取得することができる。
本実施の形態では、モアレ縞を用いるため、線L1、L2が読み取り不可能なカメラ18を用いたとしても、線L1、L2の幅の数百分の一の精度で位置ずれを取得することができる(具体的には、線L1、L2が略1μm、位置ずれの取得精度は略1nm)。また、モアレ縞が読み取り可能であれば、レンズ27に光学歪があっても問題はない。
なお、十字パターンP5、P6についてはモアレ縞ではなく、十字パターンP5と十字パターンP6とが同時にカメラ18に結像される。これにより、光照射部30a〜30gの大まかな位置ずれ(例えば、光照射部30bが光照射部30aのy方向真横で一定間隔の位置にある等)を取得することができる。
このようにして光照射部30a〜30gのそれぞれに対してx方向及びy方向の位置ずれを取得した後に、制御部151aは、位置ずれを補正するように光照射部30a〜30gからマスクMへ光を照射する。具体的には、制御部151aは、パターンP2、P4によるモアレ縞の計測結果からx方向のオフセット値を調整して、光照射部30a〜30gへ光を照射する信号(水平同期信号)のタイミングを変えることでx方向の位置ズレを補正する。また制御部151aは、パターンP1、P3によるモアレ縞の計測結果からy方向のオフセット値を調整して、描画データを位置ずれ分だけy方向に移動させることでy方向の位置ズレを補正する。
ここで、描画処理において制御部151aが行なう光照射部30の制御について説明する。図12は、制御部151aが行う描画位置補正処理について説明する図である。
位置測定部41、42の測定結果とレーザ干渉計52の測定結果は、LUT181a〜187aに入力される。LUT181aについてはレーザ干渉計52aの測定結果に基づき、LUT187aについてはレーザ干渉計52gの測定結果に基づく。LUT182a〜186aについてはレーザ干渉計52a、52gの測定結果に基づいて内挿により算出する。
制御部151aは、レーザ干渉計51、52における測定結果に基づいて各光照射部30a〜30gのLUT181a〜187aを算出する。なお、LUT181a〜187aは、位置測定部41、42とレーザ干渉計51、52との計測差が変化しない限り定常値である。また、LUT181a〜187aは、光照射部30a〜30gの位置毎にxy座標に対応して値が2次元状に配置されたものである。
このように、位置測定部41、42の測定結果をレーザ干渉計51、52を用いて補正する。空気中でレーザ干渉計51、52を用いると、どうしても10nm近い揺らぎが出てしまう。それに対して位置測定部41、42では揺らぎは発生しない。このように2通りの方法の測定結果に基づいたLUT181a〜187aを用いた補正を行なうことで、精度を向上させることができる。
制御部151aは、推力変換部164、174において生成された駆動信号に基づいて駆動部61、62を駆動しながら、位置測定部41、42によりマスク保持部20のx方向の位置及びマスク保持部20のy方向の位置を測定する。そして、これらの値を各光照射部30a〜30gの位置に応じて重み付け加算して、現時点における光照射部30a〜30gのx方向の位置191〜197及び現時点における光照射部30aのy方向の位置198を算出する。重み付け加算による位置191〜198の算出は、位置測定部41、42が光照射部30a〜30gの位置にあると仮定したときの測定値の算出と同様の方法で行う。なお、位置測定部41、42の測定値はそれぞれヨー変位量を含むため、y方向の位置198は、位置測定部41、42の測定値から求められた回転量を足して算出する必要がある。
カメラ18a〜18gで計測されたモアレ縞は、それぞれ画像処理回路190a〜190gで解析される。画像処理回路190a〜190gでの解析結果は、それぞれ、Ofs181b〜187b、181c〜187cに入力される。Ofs181b〜187bは、それぞれ、画像処理回路190a〜190gにおける走査露光毎のパターンP2、P4に基づくモアレ縞の解析結果からオフセット値を算出し、Ofs181c〜187cは、それぞれ、画像処理回路190a〜190gにおける走査露光毎のパターンP1、P3に基づくモアレ縞の解析結果からオフセット値を算出する。
制御部151aは、光照射部30aのx方向の位置191を取得すると、この位置191における補正値をLUT181aから取得し、これにOfs181bの値を足した値を光照射部30aのx方向のパターン位置補正量として算出する。同様に、制御部151aは、光照射部30b〜30gのx方向の位置192〜197に基づいて、この位置192〜197における補正値をLUT182a〜187aから取得し、これにOfs182b〜187bを足した値を光照射部30b〜30gのx方向のパターン位置補正量としてそれぞれ算出する。
制御部151aは、x方向のパターン位置補正量に基づいて、水平同期信号(図12におけるH Drive)のタイミングを補正する。
また、制御部151aは、光照射部30aのy方向の位置198を取得すると、この位置191における補正値をLUT188aから取得し、これにOfs181cの値を足した値を光照射部30aのy方向のパターン位置補正量として算出する。同様に、制御部151aは、LUT188aの値にOfs182b〜187bの値を足した値を光照射部30b〜30gのy方向のパターン位置補正量としてそれぞれ算出する。なお、位置測定部41、42とレーザ干渉計51、52との計測差が変化しない限りLUT188aは定常値である。
制御部151aは、算出されたx方向のパターン位置補正量及びy方向のパターン位置補正量を用いて描画情報を補正する。制御部151aは、補正後の描画情報に基づいて、光照射部30a〜30gの下にマスクMが来たタイミングで照射を開始する。
描画は、水平同期信号が光照射部30a〜30gに入力されたタイミングで行われる。水平同期信号は、描画画素に対して1回入力される。
テンプレート25の位置からマスクMの端の位置までの水平同期信号の数は予め定められており、ROM153に記憶されている。制御部151aは、カメラ18で撮像された画像に基づいて光照射部30a〜30gのx方向の位置ズレを取得し、取得したx方向の位置ズレに基づいて所定回数の水平同期信号を出すタイミングを変える。
水平同期信号のカウントの開始時点は、パターンP2、P4の重ね合わせにより形成されたモアレ縞の黒のピーク位置(白のピーク位置でもよい)である。例えば、光照射部30aにおけるモアレ縞の黒のピーク位置が正しい位置(設計値)にあれば、制御部151aは、水平同期信号を通常のタイミングで光照射部30aに入力する。また、例えば、光照射部30bにおけるモアレ縞の黒のピーク位置が正しい位置よりΔX1だけ−x側にずれていれば、制御部151aは、水平同期信号を通常より早いタイミングで光照射部30bに入力し、光照射部30aにより描画が開始されるx方向の位置よりΔX1だけ−x側にずれた位置から描画を開始する。
なお、所定回数の水平同期信号は、位置測定部41及びレーザ干渉計52の測定結果に基づいて補正される。また、テンプレート25から描画開始位置までの水平同期信号のタイミングは、LUT181a〜187a及びオフセット値181b〜187bから算出された位置ズレに基づいて補正される。
制御部151aは、マスク保持部20を−x方向に移動させながら描画処理を行う。マスク保持部20が−x方向の端へと移動し、一列分の描画が終了したら、制御部151aは、マスク保持部20を+x方向の端へと移動させ、かつマスク保持部20をy方向へと移動させる。そして、制御部151aは、テンプレート25を通過した光のモアレ縞をカメラ18で読み取ることで光照射部30のx方向及びy方向の位置ずれを取得する処理と、この位置ずれを補正した描画処理とを繰り返す。なお描画処理では、描画位置の誤差を小さくするため、最初の一行の描画後に、略200mm程マスク保持部20を−y方向に動かして、隣の光照射部30が描画したすぐ横に二行目の描画を行い、次にマスク保持部20を+y方向に動かして一行目の描画の隣に三行目の描画を行い、次にマスク保持部20を−y方向に動かして二行目の横に四行目の描画を行う、という処理を繰り返し、最後に隣接する光照射部30の略中間位置の行を描画する。
本実施の形態によれば、マスク保持部20、すなわちテンプレート25を移動させながら光照射部30から光を照射し、光照射部30から照射されたパターンと、テンプレート25に形成されたパターンとが重なった画像をカメラ18で読み取ることで、走査露光においてマークを形成した部品(テンプレート25、すなわちマスク保持部20)とマークを形成していない部品(光照射部30)との位置関係を求めることができる。
また、この処理を光照射部30a〜30g毎に行なうことで、光照射部30a〜30g同士の位置ずれを補正して描画処理を行うことができる。したがって、マスクMに描画された画像において、光照射部30aと光照射部30bとのつなぎ目、光照射部30bと光照射部30cとのつなぎ目、光照射部30cと光照射部30dとのつなぎ目、光照射部30dと光照射部30eとのつなぎ目、光照射部30eと光照射部30fとのつなぎ目、光照射部30fと光照射部30gとのつなぎ目のずれをなくし、マスクMに綺麗な描画を行なうことができる。
また、本実施の形態によれば、テンプレート25に形成されたパターンP1、P2と、光照射部30a〜30gから照射されるパターンP3、P4のモアレ縞を観察することで、カメラ18がパターンP1、P2等を直接読めない場合においても、マスク保持部20と光照射部30a〜30gとの位置関係を求めることができる。したがって、カメラ18の性能が高度でなくても、ナノメートル単位の精度で光照射部30a〜30gの位置ずれを求めることができる。
また、本実施の形態によれば、テンプレート保持部24を側面20dと略平行方向に移動可能に設けることで、マスクMの種類による厚さの差異分にかかわらず、マスク保持部と光照射部30との位置関係や光照射部30a〜30g同士の位置ずれを取得することができる。
以上、この発明の実施形態を、図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。当業者であれば、実施形態の各要素を、適宜、変更、追加、変換等することが可能である。
また、本発明において、「略」とは、厳密に同一である場合のみでなく、同一性を失わない程度の誤差や変形を含む概念である。例えば、略水平とは、厳密に水平の場合には限られず、例えば数度程度の誤差を含む概念である。また、例えば、単に平行、直交等と表現する場合において、厳密に平行、直交等の場合のみでなく、略平行、略直交等の場合を含むものとする。また、本発明において「近傍」とは、基準となる位置の近くのある範囲(任意に定めることができる)の領域を含むことを意味する。例えば、Aの近傍という場合に、Aの近くのある範囲の領域であって、Aを含んでもいても含んでいなくてもよいことを示す概念である。
1 :露光装置
11 :定盤
11a :上面
12 :板状部
12a :上面
13 :レール
14 :レール
15 :枠体
18 :カメラ
18x :撮像素子
20 :マスク保持部
20a :上面
20b、20c、20d:側面
21、22、23:バーミラー
24 :テンプレート保持部
24a、24c:面
24b :凹部
25 :テンプレート
25a :上面
26 :樹脂材料
27 :レンズ
30、30a、30b、30c、30d、30e、30f、30g:光照射部
31 :DMD
32 :対物レンズ
33 :光源部
33a :光源
33b :レンズ
33c :フライアイレンズ
33d :レンズ
33e :レンズ
33f :ミラー
34 :AF処理部
34a :AF用光源
34b :コリメータレンズ
34c :AF用シリンドリカルレンズ
34d、34e:ミラー
34f :レンズ
34g、34h:センサ
35a、35b、35c:ミラー
36a、36g:ミラー
40 :測定部
41、42:位置測定部
41a、42a:スケール
41b、42b:検出ヘッド
50、51、51a、51b、51c、52、52a、52g:レーザ干渉計
61、62、63:駆動部
141 :入出力装置
142 :ネットワーク
143 :記憶媒体
151 :CPU
151a :制御部
152 :RAM
153 :ROM
154 :入出力インターフェース
155 :通信インターフェース
156 :メディアインターフェース
163 :目標座標算出部
164 :推力変換部
165 :原点センサ
173 :目標座標算出部
174 :推力変換部
175 :原点センサ
181a、182a、183a、184a、185a、186a、187a、188a:LUT
181b、182b、183b、184b、185b、186b、187b、181c、182c、183c、184c、185c、186c、187c:Ofs
11 :定盤
11a :上面
12 :板状部
12a :上面
13 :レール
14 :レール
15 :枠体
18 :カメラ
18x :撮像素子
20 :マスク保持部
20a :上面
20b、20c、20d:側面
21、22、23:バーミラー
24 :テンプレート保持部
24a、24c:面
24b :凹部
25 :テンプレート
25a :上面
26 :樹脂材料
27 :レンズ
30、30a、30b、30c、30d、30e、30f、30g:光照射部
31 :DMD
32 :対物レンズ
33 :光源部
33a :光源
33b :レンズ
33c :フライアイレンズ
33d :レンズ
33e :レンズ
33f :ミラー
34 :AF処理部
34a :AF用光源
34b :コリメータレンズ
34c :AF用シリンドリカルレンズ
34d、34e:ミラー
34f :レンズ
34g、34h:センサ
35a、35b、35c:ミラー
36a、36g:ミラー
40 :測定部
41、42:位置測定部
41a、42a:スケール
41b、42b:検出ヘッド
50、51、51a、51b、51c、52、52a、52g:レーザ干渉計
61、62、63:駆動部
141 :入出力装置
142 :ネットワーク
143 :記憶媒体
151 :CPU
151a :制御部
152 :RAM
153 :ROM
154 :入出力インターフェース
155 :通信インターフェース
156 :メディアインターフェース
163 :目標座標算出部
164 :推力変換部
165 :原点センサ
173 :目標座標算出部
174 :推力変換部
175 :原点センサ
181a、182a、183a、184a、185a、186a、187a、188a:LUT
181b、182b、183b、184b、185b、186b、187b、181c、182c、183c、184c、185c、186c、187c:Ofs
Claims (7)
- 上側に略水平な面である第1面が形成された定盤と、
前記第1面に第1方向に沿って移動可能に設けられた平面視略矩形形状の略板状のマスク保持部であって、前記第1面と対向する面と反対側の面である略水平な第2面にマスクが載置されるマスク保持部と、
前記マスク保持部を前記第1方向に移動させる駆動部と、
前記マスク保持部の、前記第2面と隣接し、かつ前記第1方向と略直交する第3面に隣接して設けられたテンプレートと、
前記マスク保持部の上方に、前記第1方向と略直交する方向である第2方向に沿って設けられた複数の光照射部と、
前記光照射部から照射され、前記テンプレートを通過した光を受光するカメラと、
を備え、
前記テンプレートには、前記第1方向に沿った第1線が、当該第1線の幅と略同一の間隔で配置された第1パターンが形成された第1領域と、前記第2方向に沿った第2線が、当該第2線の幅と略同一の間隔で配置された第2パターンが形成された第2領域と、が前記第1方向に隣接して形成され、
前記テンプレートは、前記第1パターン及び前記第2パターンが上側に露出するように設けられ、
前記光照射部は、前記光照射部の下側に前記テンプレートが位置するように前記駆動部により前記マスク保持部が移動されたときに、前記テンプレートに向けて光を照射し、
前記カメラは、前記光照射部から照射されたパターンと、前記第1パターン及び前記第2パターンとが重なった画像を読み取る
ことを特徴とする露光装置。 - 前記テンプレートが設けられるテンプレート保持部を備え、
前記テンプレート保持部は、前記第3面に、前記第3面と略平行方向に移動可能に設けられ、
前記マスク保持部は、前記マスクの上面と、前記テンプレートの上面とが略一致するように、前記テンプレート保持部を前記第3面と略平行方向に移動させるテンプレート駆動部を有する
ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記テンプレート保持部は、透明な材料で形成され、
前記テンプレート保持部の上側の面には、前記テンプレートが設けられる凹部が形成され、
前記凹部と前記テンプレートとの間には、弾性を有する透明な樹脂材料が充填される
ことを特徴とする請求項2に記載の露光装置。 - 前記駆動部及び前記光照射部を制御する制御部を備え、
前記光照射部は、前記第1方向に沿った縞状の第3パターンであって、前記第1パターンより縞の幅が広い又は幅が狭い第3パターンの光と、前記第2方向に沿った縞状の第4パターンであって、前記第2パターンより縞の幅が広い又は幅が狭い第4パターンの光と、を照射し、
前記カメラは、前記第1パターンと前記第3パターンとが重なることで形成されたモアレ縞である第1モアレ縞と、前記第2パターンと前記第4パターンとが重なることで形成されたモアレ縞である第2モアレ縞とを読み取り、
前記制御部は、前記第1モアレ縞に基づいて前記光照射部の前記第2方向の位置ずれを取得し、前記第2モアレ縞に基づいて前記光照射部の前記第1方向の位置ずれを取得する
ことを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記テンプレートには、前記第1方向に沿ってみたときに、前記第1領域の両側に前記第2領域が設けられる
ことを特徴とする請求項4に記載の露光装置。 - 前記制御部は、
前記マスクに描画するパターンの位置及び形状に関する情報である描画情報を取得し、前記描画情報に基づいて前記光照射部から前記マスクに光を照射して描画処理を行い、
前記第1モアレ縞に基づいて前記光照射部の前記第2方向の位置ずれを取得し、当該位置ずれに基づいて前記描画情報の前記第2方向の位置を調整し、
前記第2モアレ縞に基づいて前記光照射部の前記第1方向の位置ずれを取得し、当該位置ずれに基づいて前記光照射部へ出力する信号のタイミングを調整する
ことを特徴とする請求項4又は5に記載の露光装置。 - 前記マスク保持部の前記第1方向における位置を取得する位置測定部が設けられ、
前記マスク保持部には、前記第3面と反対側の面である第4面に沿ってバーミラーが設けられ、
前記光照射部には、前記バーミラーと平行なミラーが設けられ、
前記定盤には、前記ミラーの位置を基準とした前記バーミラーの位置を測定することで、前記光照射部と前記マスク保持部との位置関係を測定するレーザ干渉計が設けられ、
前記制御部は、前記位置測定部の測定結果と、前記レーザ干渉計の測定結果と、に基づいて前記光照射部から光を照射する
ことを特徴とする請求項4から6のいずれか一項に記載の露光装置。
Priority Applications (5)
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Family Applications (1)
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JP2001296667A (ja) * | 2000-04-14 | 2001-10-26 | Nikon Corp | 走査露光方法および走査型露光装置並びにマスク |
JP2006309022A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 描画装置および描画方法 |
JP2008242066A (ja) * | 2007-03-27 | 2008-10-09 | Fujifilm Corp | 位置情報管理装置、描画システム、及び位置情報管理方法 |
US8363209B2 (en) * | 2007-07-10 | 2013-01-29 | Lg Electronics Inc. | Method and apparatus to adjust misalignment of the maskless exposure apparatus |
WO2009011119A1 (ja) * | 2007-07-13 | 2009-01-22 | Nikon Corporation | パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法及びデバイス |
DE102008004762A1 (de) * | 2008-01-16 | 2009-07-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer Messeinrichtung |
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