JP2019016715A - ステージ装置、および物品製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
次に、原版のパターンを基板に形成するリソグラフィ装置について説明する。本実施形態では、このリソグラフィ装置に上述のステージ装置が適用される。ここでは一例としてリソグラフィ装置が露光装置である例を説明する。図4は、実施形態における露光装置60の構成を示す概略図である。露光装置60は、例えば、半導体デバイスの製造工程に使用され、ステップ・アンド・リピート方式またはステップ・アンド・スキャン方式により原版Rに形成されているパターンを基板W上に露光(転写)する投影型露光装置とする。露光装置60は、照明系61と、原版Rを保持する原版ステージ62と、投影光学系63と、基板Wを保持する基板ステージ64と、制御部65とを備える。なお、図4では、投影光学系63の光軸(本実施形態では鉛直方向)と平行にZ軸を取り、Z軸に垂直な平面内で露光時の基板Wの走査方向にY軸を取り、Y軸に直交する非走査方向にX軸を取っている。
本発明の実施形態における物品製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品製造方法は、上記のリソグラフィ装置(露光装置やインプリント装置、描画装置など)を用いて基板に原版のパターンを転写する工程と、かかる工程でパターンが転写された基板を加工する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (8)
- 移動可能な第1ステージと、
前記第1ステージの上で移動可能な第2ステージと、
前記第1ステージを駆動する第1アクチュエータと、
前記第2ステージを駆動する第2アクチュエータと、
前記第1アクチュエータおよび前記第2アクチュエータを制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記第1アクチュエータを用いて前記第1ステージのダイナミックブレーキを作動させる際、前記第1ステージに対して前記第2ステージを前記第1ステージの進行方向にずらすように前記第2アクチュエータを制御する
ことを特徴とするステージ装置。 - 前記制御部は、前記ダイナミックブレーキを作動させる際、前記第1ステージに対して前記第2ステージを前記第1ステージの進行方向にずらして、前記進行方向側の前記第1ステージと第2ステージとの間隔が前記進行方向と反対側の前記第1ステージと前記第2ステージとの間隔より狭くなるように前記第2アクチュエータを制御することを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。
- 前記制御部は、前記ダイナミックブレーキを作動させる際、前記第1ステージに対して前記第2ステージを前記第1ステージの進行方向にずらして、前記第2ステージを前記第1ステージに接触させることを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。
- 前記第1アクチュエータは、前記進行方向に沿って配置された複数のコイルを含むリニアモータであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のステージ装置。
- 前記制御部は、緊急時に、前記複数のコイルのうちの少なくとも1つを含む閉回路を構成することにより、前記ダイナミックブレーキを作動させることを特徴とする請求項4に記載のステージ装置。
- 前記第1ステージは粗動ステージであり、
前記第2ステージは微動ステージである
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のステージ装置。 - 原版のパターンを基板に形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持する請求項1乃至6のいずれか1項に記載のステージ装置を有することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 請求項7に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記パターンが形成された基板を加工する工程と、
を有し、前記加工された基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
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