JP2019015224A - 電磁弁の駆動制御装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】電磁弁により燃料の多段噴射を実施する際に、第1噴射後の電磁弁の残留磁束が消磁しない状態でも、第2噴射の燃料噴射量を精度良く制御できる電磁弁の駆動制御装置を提供する。【解決手段】ECU1は、電磁弁2に通電して第1噴射、第2噴射の制御を行う。記憶部8には電磁弁2のB−H曲線モデル、Bc1−Ti−Brマップが記憶される。制御部3は、エンジンの状態信号SSから第1噴射、第2噴射のパルスを設定し、制御IC4,駆動回路5を通じて電磁弁2に第1噴射の通電を行う。制御部3は、通電後の電磁弁2の残留磁束Bc1をB−H曲線モデルから演算し、インターバル時間Tiから第2噴射時の残留磁束Brを演算して第2噴射のパルスを補正する。残留磁束Brが残る場合でも第2噴射を精度良く実施できる。【選択図】図1
Description
本発明は、電磁弁の駆動制御装置に関する。
エンジンの燃料噴射技術において、燃料多段噴射を行う場合には、前段の噴射により後段の燃料噴射量がばらつくおそれがある。これは、燃料噴射を行う電磁弁の開弁及び閉弁動作に伴って燃料圧が脈動するためである。この不具合を回避するために、従来では前段と後段の実インターバル時間のばらつきが発生しないように噴射信号を補正することで、噴射圧のばらつきを低減し、後段噴射の噴射量ばらつきを抑制する技術がある。
しかしながら、燃料噴射のインターバル期間が短くなるにつれて、前段噴射後の電磁弁の残留磁束を後段噴射までの短期間で消磁することが困難になる。これは、従来の消磁技術を用いたとしても、短インターバル時には同様の問題を回避できないものであった。
そのため、電磁弁の残留磁束により後段噴射の開弁時期・速度にずれが生じ、後段噴射の噴射量がばらつく。また、電磁弁の磁性体や周囲環境の温度・圧力、回路中の電流特性はサイクル/時間毎にばらつきが発生するため、残留磁束にもばらつきが生じる。つまり、後段噴射開始時の残留磁束を推定し、後段噴射を補正しなければ、残留磁束起因の噴射量ばらつきを抑制することが困難である。
本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、その目的は、電磁弁により燃料の多段噴射を実施する際に、第1噴射の後の電磁弁の残留磁束が消磁しない状態でも、第2噴射の燃料噴射量を精度良く制御できる電磁弁の駆動制御装置を提供することにある。
請求項1に記載の電磁弁の駆動制御装置は、内燃機関の燃料噴射用の電磁弁を駆動制御する電磁弁の駆動制御装置であって、前記内燃機関の1燃焼サイクルあたりに要求される燃料噴射量を少なくとも第1噴射と第2噴射に多段分割供給するように通電電流を制御する制御部を備え、前記制御部は、前記第2噴射の通電開始時における電磁弁の磁性体に残留する残留磁束量を、非線形特性を用いて演算する演算部と、前記演算部による演算結果に基づいて第2噴射信号を生成する生成部とを備えている。
上記構成を採用することにより、制御部は、第1噴射後に電磁弁の磁性体の残留磁束量を演算部により非線形特性を用いて演算し、得られた残留磁束量に基づいて生成部により第2噴射信号を生成するので、第2噴射においても精度良く燃料噴射の制御を行うことができる。
(第1実施形態)
以下、本発明の第1実施形態について、図1〜図7を参照して説明する。電気的構成を示す図1において、エンジンの燃料噴射を制御する電磁弁の駆動制御装置として設けられるECU(Electronic Control Unit)1は、電磁弁2を構成するソレノイドの通電制御を行うものである。ECU1は、内部にマイコンからなる制御部3、制御IC4、駆動回路5を備えている。
以下、本発明の第1実施形態について、図1〜図7を参照して説明する。電気的構成を示す図1において、エンジンの燃料噴射を制御する電磁弁の駆動制御装置として設けられるECU(Electronic Control Unit)1は、電磁弁2を構成するソレノイドの通電制御を行うものである。ECU1は、内部にマイコンからなる制御部3、制御IC4、駆動回路5を備えている。
制御部3は、機能ブロックとして噴射パルス・駆動電流生成部6、演算部7および半導体メモリなどからなる記憶部8が設けられている。記憶部8には、後述するB−H曲線モデルのデータおよびBc1−Ti−Brのマップデータが記憶されている。B−H曲線モデルは、電磁弁2の磁性体の磁気回路特性であり、磁界強度Hと磁束密度Bとの関係を示すモデルデータであり、非線形特性を有するものである。また、Bc1−Ti−Brのマップデータは、残留磁束Bc1のデータとインターバル期間Tiのデータとから残留磁束Brを求めるためのマップデータである。
生成部として機能する噴射パルス・駆動電流生成部6は、外部からエンジンの動作状態を把握するための信号SSとして、エンジンの回転数、負荷、燃料圧力、燃料温度、水温、油温などのデータが入力される。噴射パルス・駆動電流生成部6は、これらの信号SSに基づいて燃料噴射用の電磁弁2を駆動するための噴射パルスおよび駆動電流を生成する。また、噴射パルス・駆動電流生成部6は、演算部7からの補正データに基づいて、生成した噴射パルスおよび駆動電流を補正した駆動パルスを制御IC4に出力する。
演算部7は、モデル演算部7a、マップ演算部7bおよび補正ロジック部7cの機能ブロックを備えている。モデル演算部7aは、記憶部8に記憶されているB−H曲線モデルのデータを読み出し、電磁弁2の通電後の電流ゼロの時点での残留磁束Bc1をマップ演算部7bに出力する。マップ演算部7bは、噴射パルス・駆動電流生成部6から第1噴射と第2噴射とのインターバル時間Tiのデータが入力される。
マップ演算部7bは、記憶部8から読み出したBc1−Ti−Brのマップに基づいて、残留磁束Bc1のデータおよびインターバル時間Tiから第2噴射の開始時の残留磁束Brを算出して補正ロジック部7cに出力する。補正ロジック部7cは、残留磁束Brのデータから第2噴射の通電パルスを補正するデータを生成して噴射パルス・駆動電流生成部6に出力する。
制御IC4は、ロジック部9、駆動制御部10、電流制御部11およびゲイン部12を備える。ロジック部9は、制御部6から駆動パルス信号が入力されると共に、電流制御部11から電流信号が入力され、これらに基づいて駆動制御部10に駆動信号を出力する。電流制御部11は、駆動回路5からゲイン部12を介して電流信号が入力され、制御部6から与えられる電流信号と比較してロジック部9に駆動電流の信号を出力する。駆動制御部10は、駆動回路5の各部に駆動信号を出力して電磁弁2に通電制御する。
駆動回路5は、昇圧電源VHおよびバッテリVBから給電され、電磁弁2に通電する。Pチャンネル型のMOSFET13は、ソースが昇圧電源VHに接続され、ドレインは電磁弁2の一端子側に接続される。Pチャンネル型のMOSFET14は、ソースがバッテリVBに接続され、ドレインはダイオード15を順方向に介して電磁弁2の一端子側に接続される。また、MOSFET13のドレインは、ダイオード16を逆方向に介してグランドに接続され、さらに、抵抗17、コンデンサ18を並列に介してグランドに接続される。
Nチャンネル型のMOSFET19は、ドレインが電磁弁2の他端子側に接続され、ソースが電流検出抵抗20を介してグランドに接続されている。MOSFET19のドレインは、コンデンサ21を介してグランドに接続されている。また、MOSFET19のドレインは、ツェナーダイオード22を逆方向に、ダイオード23を順方向に直列に介してゲートに接続されている。MOSFET13、14、19の各ゲートには、制御IC4の駆動制御部10から駆動信号が与えられる。電流検出抵抗20の両端子は制御IC4のゲイン部12に接続され、電磁弁2に流れる電流のレベル信号が電流制御部11に入力される。
次に、上記構成の作用について、図2〜図8も参照して説明する。
まず、電磁弁2による噴射動作の基本的な動作について説明する。この実施形態では、多段噴射制御として、例えば第1噴射、第2噴射の2回の噴射制御を行うものである。制御部3は、噴射制御を行う場合には、第1噴射あるいは第2噴射のいずれにおいても、噴射開始時に電磁弁2に対して昇圧電源VHから高電圧で所定時間通電し、この後、電磁弁2の状態を保持させるためにバッテリ電圧VBの通常電圧で短期間の通電を繰り返し実施する。
まず、電磁弁2による噴射動作の基本的な動作について説明する。この実施形態では、多段噴射制御として、例えば第1噴射、第2噴射の2回の噴射制御を行うものである。制御部3は、噴射制御を行う場合には、第1噴射あるいは第2噴射のいずれにおいても、噴射開始時に電磁弁2に対して昇圧電源VHから高電圧で所定時間通電し、この後、電磁弁2の状態を保持させるためにバッテリ電圧VBの通常電圧で短期間の通電を繰り返し実施する。
制御部3は、外部からの信号SSに応じて、噴射パルスおよび駆動電流を生成して制御IC4のロジック部9に対して第1噴射および第2噴射の噴射信号Siを出力する。制御IC4においては、噴射信号Siに応じて、ロジック部9において通電パターンを生成して駆動制御部10を介して駆動回路5を駆動させる。
この場合、通電開始時には、制御IC4により、MOSFET13および19がオン動作され、これによって、昇圧電源VHから高電圧が一定期間だけ電磁弁2のコイルに印加される。これにより、電磁弁2に流れる通電電流Iが所定電流に達するまで流され、この後、MOSFET13をオフさせ、以後は、所定タイミングでMOSFET14をオン動作させることで電磁弁2の通電電流Iを所定レベルに保持させる。
噴射信号Siがローレベルになると、MOSFET14をオフさせて電磁弁2への通電を停止する。このとき、電磁弁2のコイルには逆起電力が発生するので、通電電流IがゼロになるのはMOSFET14をオフさせてから逆起電力が所定レベル以下に低下した時点である。そして、電磁弁2においては、磁性体の磁束Bが通電電流Iに応じて発生しているが、通電電流Iがゼロになった時点で、ヒステリシス効果により残留磁束Bc1が残った状態となっている。この残留磁束Bc1は、通電電流Iがゼロになった後、一定時間が経過すると消磁されてゼロになる。
次に、上記のようにして第1噴射および第2噴射の制御を行う場合に、上記したように第1噴射後に通電電流Iがゼロになった時点で発生している残留磁束Bc1が、次の通電時に消磁されていない場合でも、第2噴射を精度良く実施する動作について、図2および図3を参照して説明する。
制御部3は、噴射パルス・駆動電流生成部6にて、ステップA1で、エンジンの回転数、負荷、燃料圧力、燃料温度、水温、エンジン油温などの運転条件から燃料噴射量および第1噴射、第2噴射の噴射割合の決定を行う。次に、制御部3は、噴射パルス・駆動電流生成部6にて、ステップA2で、運転条件から噴射信号Siにおける通電パルス開始時期を決定する。制御部3は、上記ステップA1およびA2の処理については、噴射パルス・駆動電流生成部6にて、予め記憶されているプログラムあるいはデータに基づいて決定するようになっている。
制御部3は、ステップA4に進み、噴射パルス・駆動電流生成部6にて、第1噴射の噴射信号Siの通電パルスを出力して制御IC4、駆動回路5を通じて電磁弁2に通電する。これにより、図4に示すように、時刻t0で出力された第1噴射の噴射信号Siに応じて、時刻t1で昇圧電源VHから電磁弁2に通電される。電磁弁2には通電電流Iが流れ、これに伴って磁界Hが発生し、電磁弁2の磁性体に磁束Bが発生すると、アクチュエータが動作して燃料が噴射される。このとき、電磁弁2のアクチュエータが移動する量すなわち電磁弁リフト量Pに比例して燃料の噴射量が得られる。
電磁弁2は、制御部3の噴射パルス・駆動電流生成部6にて決定された第1噴射と第2噴射の割合に基づいて噴射制御される。設定された量の燃料が噴射されると、第1噴射が終了する。このとき、通電電流Iがゼロになった時点で電磁弁2の磁性体に残留磁束Bc1が残っている。そして、制御部3は、この後、インターバル期間Tiが経過して第2噴射が始まる時点での残留磁束Brがどの程度であるかをステップA5で演算する。
この場合、制御部3は、図3に示す流れに従って残留磁束Brを演算する。すなわち、制御部3は、図3のステップB1で、まず、電磁弁2の磁気回路に対応したB−H曲線モデルから、第1噴射の後の通電電流Iがゼロの時点での残留磁束Bc1を演算する。ここでは、制御部3は、演算部7のモデル演算部7aにて、記憶部8に記憶されたB−H曲線モデルのデータを読み出し、ステップA1〜A3にて決定したデータに基づいて残留磁束Bc1を演算する。
次に、制御部3は、ステップB2で、第1噴射と第2噴射の間のインターバル期間Tiの情報を取得し、ステップB3で、Bc1−Ti−Brマップに基づいて第2噴射の電流通電時における残留磁束Brを演算する。ここでは、制御部3は、演算部7のマップ演算部7bにて、記憶部8からBc1−Ti−Brマップを読み出し、残留磁束Bc1および取得したインターバル期間Tiのデータを用いてマップから残留磁束Brを演算し、図2のステップA6に進む。
制御部3は、ステップA6では、上記演算結果の残留磁束Brの値がゼロでないか否かを判断する。残留磁束Brの演算結果がゼロでない場合には、制御部3は、ステップA6でYESと判断してステップA7に進む。制御部3は、ステップA7では、第2噴射の噴射信号Siの通電パルスの条件を残留磁束Brの大きさに応じて補正する。この場合、通電パルスの補正では、予め残留磁束Brの値に応じた補正量が設定されており、その設定された補正量に基づいて実施しており、この実施形態では、第2噴射の噴射信号Siの通電パルスの出力タイミングをシフトさせるように補正している。
この後、制御部3は、ステップA8に進み、第2噴射の噴射信号Siの通電パルスを電磁弁2に通電するように制御する。なお、ステップA6で、残留磁束Brがゼロであった場合には、補正をする必要がないので、制御部3は、ステップA8にジャンプし、ステップA1〜A3にて決定した第2噴射の噴射信号Siの通電パルスで電磁弁2に通電制御をする。
次に、上記動作において、ステップA5で実施した制御部3による残留磁束Brの演算およびステップA7で実施した第2噴射の通電パルスの補正について、図4〜図7を参照して説明する。なお、図4では、「本実施形態」に相当するものを実線で示し、本実施形態を適用していない従来相当のものを「比較例」として破線で示している。
前述したステップA1〜A3の処理で、制御部3は、図4(a)に示しているように、第1噴射の噴射信号Siの通電パルスが停止した時刻t2からインターバル期間Tiを存して第2噴射の噴射信号Siの通電パルスを出力するように決定している。しかし、図4(c)に示すように、時刻t2で第1噴射が終了した後、通電電流Iがゼロになった時刻t3では、図4(d)に示すように、電磁弁2の磁性体の磁束Bはゼロとならず、残留磁束Bc1を有した状態となっている。
電磁弁2の磁性体の残留磁束Bc1は、時間が経過すると徐々に低下してゆくが、インターバル期間Tiが経過した時刻t4すなわち第2噴射の開始時点においては、残留磁束Brが残った状態となっている。この残留磁束Brは、前述のように、制御部3により、ステップA5で演算により求めている。
図5は電磁弁2の磁性体の磁界強度Hと磁束密度Bとの関係を示す図で、両者は非線形特性の関係にある。すなわち、磁界強度Hと磁束密度Bとは線形関係になく、非線形な関数で表される。この図5において、電磁弁2の磁性体の磁界強度Hは、通電電流Iを流すことで図中原点位置から実線で示すように上昇する。これに伴い、電磁弁2の磁性体の磁束密度Bも上昇するが、磁界強度Hがある程度まで上昇すると、磁束密度Bは飽和レベルBsに達する。
そして、この後、通電電流Iをゼロまで減少させると、磁界強度Hは実線に沿ってゼロまで低下するが、磁束密度Bはゼロにならず、電磁弁2の磁性体の性質によって残留磁束Bc1が残った状態となる。これは、いわゆるヒステリシス特性であり、この残留磁束Bc1は、通電電流Iをゼロの状態に保持すると、時間が経過すると消磁効果によりゼロに戻る。図5中、点線で示すラインは、磁界強度Hが正側、負側に交互に印加された場合に発生する磁束密度Bを示すもので、ヒステリシスループと呼ばれるものである。
そして、上記実施形態で示しているように、第1噴射と第2噴射との間のインターバル期間Tiが短くなると、残留磁束Brがゼロとならず、図5中破線で示すように残留磁束Brの状態で第2噴射を実施することになる。この場合には、第1噴射の場合のように限定位置からの状態とは異なるので、第1噴射と同様の磁界強度Hを印加した場合には、磁束密度Bの上昇が異なるため、目標としている電磁弁2の動作が行われなくなる。
このため、制御部3は、第2噴射を開始する時点での残留磁束Brを演算により求めて、これを考慮した第2噴射の通電パルスとなるように補正しているのである。図5にて実線で示したB−H曲線の情報はB−H曲線モデルとして記憶部8に記憶されていて、制御部3は、記憶部8からこのB−H曲線モデルを読み出して、第1噴射時の通電電流から終了後の通電電流Iがゼロになった時刻t3での残留磁束Bc1を求める。
次に、制御部3は、図6に示すBc1−Ti−Brのマップデータを読み出して、残留磁束Bc1とインターバル期間Tiの情報に基づいて第2噴射開始時(t4)の残留磁束Brを求める。図6に示すように、Bc1−Ti−Brのマップは、横軸を残留磁束Bc1、縦軸をインターバル時間Tiとし、第2噴射開始時の残留磁束Brをパラメータとするデータ群がマップとして示されている。そして、残留磁束Bc1の値とインターバル期間Tiの値の交点に位置する残留磁束Brのパラメータ値が得られる。
得られた第2噴射開始時の残留磁束Brにより、制御部3は、第2噴射の通電パルスを補正する。補正の仕方としては、図7に定性的に関係を示すように、残留磁束Brが大きくなると、通電パルスの開始時期つまり噴射時期をより遅らせるように設定する。これにより、図4(a)に示しているように、第2噴射の通電パルスを与える噴射信号Siは、インターバル期間Tiの終了時点t4ではなく、これよりも遅れた時刻t5から出力する。つまり、インターバル期間Tiは、若干長いインターバル期間Tiaに変更されるのである。
これにより、通電電圧Vは、補正されない場合の時刻t4に対して、これよりも少し遅れた時刻t5で電磁弁2に印加される。そして、通電電流Iおよびこれにより発生する磁性体の磁束Bは、「比較例」に相当するものが時刻t6で立ち上がるのに対して、「本実施形態」のものは時刻t7で立ち上がる。
このようにして第2噴射の噴射信号Siの通電パルスを遅らせたタイミングとすることで、残留磁束Brがある状態で電磁弁2に通電電流Iが流された場合でも、残留磁束Brがゼロの状態の通電と同じタイミングt9で電磁弁2のリフト挙動のピークPsとなるように動作させることができる。これにより、目標タイミングである時刻t9で第2噴射を実施することができるようになる。
この場合、本実施形態のように通電タイミングを遅らせることをしない「比較例」の場合には、電磁弁2への通電開始時に磁束密度がBr存在していることになり、図4(e)に示すように、目標タイミングの時刻t9よりも早いタイミングt8で電磁弁2のリフト挙動のピークPsとなり、燃料噴射のタイミングが若干早くなる。
以上説明したように、本実施形態によれば、電磁弁2の磁性体のB−H曲線モデルおよび残留磁束Bc1、Brおよびインターバル期間Tiの相関を示すマップを記憶部8に設定し、制御部3により、第1噴射の後、第2噴射の噴射信号Siの通電パルスを補正して電磁弁2に通電制御する構成とした。
これにより、第1噴射と第2噴射との間のインターバル期間Tiが短い場合でも、電磁弁2の磁性体の残留磁束Brの影響で第2噴射の噴射精度が低下するのを抑制することができる。
(第2実施形態)
図8から図10は第2実施形態を示すもので、以下、第1実施形態と異なる部分について説明する。この実施形態では、制御部3により図2のステップA7で行っていた第2噴射の噴射信号Siの通電パルスの補正の仕方を異なる方法で実施するようにしている。
図8から図10は第2実施形態を示すもので、以下、第1実施形態と異なる部分について説明する。この実施形態では、制御部3により図2のステップA7で行っていた第2噴射の噴射信号Siの通電パルスの補正の仕方を異なる方法で実施するようにしている。
第1実施形態では、図7で定性的に示した残留磁束Brに対する噴射信号Siの通電パルスの位相を補正することで、第2噴射の噴射タイミングを補正する仕方を示したのに対して、この実施形態では、図8に示すように、第2噴射の通電パルスの補正の仕方として、噴射期間T2あるいは通電電流Iを補正する場合の対応関係に着目している。
まず、通電期間T2を補正する場合について説明する。第1実施形態では、第2噴射の噴射パルスの出力タイミングを遅らせることで、第2噴射の噴射タイミングを目標タイミングに合わせるようにしているが、噴射信号Siの通電パルス幅T2をそのままにすると、噴射量が変化することがある。そこで、目標噴射量となるように、噴射期間T2をより短い噴射期間T2aの噴射信号Siを設定することで補正する。
図8は、第2噴射の噴射期間T2の長さをこれよりも短い補正噴射時間T2aに補正する場合の残留磁束Brとの関係を示している。ここでは、制御部3は、噴射期間T2aについて、残留磁束Brが大きい場合にはより短く設定し、残留磁束Brが小さい場合には噴射期間T2よりは短いが比較的長く設定する。
図9は第2噴射の噴射タイミングを第1実施形態と同様に遅らせる補正をすると共に、噴射時間T2をこれよりも短い補正噴射時間T2aに補正した場合のタイムチャートを示している。図9(a)に示すように、第2噴射の噴射信号Siの通電パルスは、時刻t4よりも少し遅い時刻t5に出力され、噴射時間T2a(<T2)の期間出力される。これにより、電磁弁2のリフト挙動Pは、目標タイミングである時刻t9にて、第1実施形態で示したピーク値Psに対して、ピーク値Psaのように目標の噴射量となる。
また、第2噴射の噴射信号Siの通電パルスのもう一つの補正の仕方として、通電パルスそのものではなく、通電電流Iを補正する方法がある。これは、電磁弁2の磁性体に残留磁束Brがある状態で、電流を流す場合に、磁性体に発生する磁束密度Bを目標レベルと同じにするよう考慮したものである。すなわち、図8に示しているように、残留磁束Brと通電電流Iの相関により、制御部3は、残留磁束Brが大きい場合にはより低く設定し、残留磁束Brが小さい場合には元の通電電流Iよりは低いが比較的高く設定する。
図10は、第2噴射の通電電流Iを全体として低い電流に補正した場合のタイムチャートを示している。通電電流Iのレベルは、補正前のピーク電流Isに対してこれよりも低いレベルのピーク電流Isaとなるように設定されている。図10(a)に示すように、第2噴射の噴射信号Siの通電パルスは、変更することなく時刻t4で出力される。これに対して、通電電流Iは上記したように低いレベルに設定されているので、図10(d)に示すように、電磁弁2のリフト挙動Pは、目標タイミングである時刻t9にて、第1実施形態で示したピーク値Psに対して、ピーク値Psaのように目標の噴射量となる。
このような第2実施形態によっても、第2噴射の噴射信号Si出力タイミングでの残留磁束Brに対応して、噴射信号Siの通電パルス幅を補正したり、あるいは通電電流Iを適切に補正したりすることで、目標タイミングにて目標となる噴射量で制御することができ、第1実施形態と同様の効果を得ると共に、さらに精度の向上を図ることができる。
(第3実施形態)
図11から図14は第3実施形態を示すもので、以下、第1実施形態と異なる部分について説明する。この実施形態では、ECU30は、第1実施形態の制御部3に代わる制御部31を備えており、B−H曲線モデルによる残留磁束Brの演算精度を高めることができるようにしている。
図11から図14は第3実施形態を示すもので、以下、第1実施形態と異なる部分について説明する。この実施形態では、ECU30は、第1実施形態の制御部3に代わる制御部31を備えており、B−H曲線モデルによる残留磁束Brの演算精度を高めることができるようにしている。
全体構成を示す図11において、ECU30の制御部31は、演算部7に代わる演算部32を備えている。演算部32は、第1実施形態の演算部7の構成であるマップ演算部7b、補正ロジック部7cを備え、さらにモデル演算部7aに代わるモデル演算部7xを備え、B−H曲線モデルを通電電流の実測値に応じて補正する機能が加えられている。
制御部31は、駆動回路5で電磁弁2の通電電流Iを検出した電流検出信号を制御IC4のゲイン部12から取り込んでいる。制御部31は、A/D変換部33および開弁検出部34を備えていて、電流検出信号をデジタル信号に変換した信号から電磁弁2の開弁時の通電電流Ioを検出する。電磁弁2の開弁時の通電電流Ioのデータは、モデル演算部7xに入力される。
電磁弁2は、一般に、通電電流Iが与えられて弁体が動作し始めると、磁性体の磁路長さが変化するため、B−H曲線モデルと実挙動との乖離が大きくなる。このため、電磁弁2の開弁時の情報を通電電流Ioとして用いることで、B−H曲線モデルに近い実情報を得ることができる。また、開弁検出部34による電磁弁2の開弁時の通電電流Ioは、図13に示すように、通電電流Iの波形の変曲点を解析する一般的な手法で検出するものである。
図12は、実線で電磁弁2に対応して記憶部8に記憶されたB−H曲線モデルを示している。開弁時の磁束密度Bopenが既知の値であるとすると、電磁弁2のB−H曲線モデルによる磁界強度Hoは図中Mで示す点の値となる。開弁時の通電電流Ioから磁界強度Hoを求めることができるので、検出された開弁時の通電電流Ioが一致していれば、B−H曲線モデルを補正することなく残留磁束Brの演算を行うことができる。
これに対して、図12に示すように、開弁検出部34による検出で、上記した開弁時の通電電流Ioよりも大きい通電電流Ioaが得られた場合には、電磁弁2の開弁時の磁束密度Bopenと通電電流Ioaでの磁界強度Hoaが交差する点Dが実測データに一致する開弁時の点となる。したがって、図12中、点Mではなく点Dで開弁状態となるようにB−H曲線モデルを補正する必要がある。
そこで、モデル演算部7xでは、残留磁束Bc1を演算することに先立って、B−H曲線モデルを検出された開弁時の通電電流Ioaに相当するように、図12に破線で示すように補正処理を行って補正B−H曲線モデルを得る。この補正B−H曲線モデルに基づいて、モデル演算部7xでは、第1噴射後の通電電流Iがゼロでの残留磁束Bc1aを得ることができる。
上記したようにしてB−H曲線モデルを実情報に適合するように補正をすることで、残留磁束Bc1をより正確に算出することができ、これによって、残留磁束Brの算出精度を高めることができる。
このような第3実施形態によれば、記憶部8に記憶設定しているB−H曲線モデルの情報を実際の状態に対応して制御部31において補正B−H曲線モデルとして補正をした上で、残留磁束Brを演算し、第2噴射の噴射パルスの補正を実施するので、より精度の高い燃料噴射の制御を実施することができる。
なお、上記実施形態においては、電磁弁2の開弁時の通電電流Ioを検出するようにしているが、第1噴射における所定タイミングでの通電電流Iを検出することでB−H曲線モデルを補正するようにしても良い。
また、上記実施形態においては、電磁弁2の通電電流Iそのものを検出してB−H曲線モデルを補正するようにしたが、これに限らず、例えば、図14に示すように、第1噴射における通電開始時点から開弁時までの通電電流Iの積分値を用いることもできる。さらには、開弁時に限らず、所定期間の通電電流Iの積分値を用いることができる。
(他の実施形態)
なお、本発明は、上述した実施形態のみに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の実施形態に適用可能であり、例えば、以下のように変形または拡張することができる。
なお、本発明は、上述した実施形態のみに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の実施形態に適用可能であり、例えば、以下のように変形または拡張することができる。
上記各実施形態では、多段噴射制御として、第1噴射および第2噴射の2回で実施する場合を示したが、3回以上に噴射を分割することもできる。例えば3回に分ける場合では、第1噴射と第2噴射の関係に加えて、第2噴射と第3噴射の関係についても第1噴射と第2噴射の関係として残留磁束Brを演算することで第3噴射の噴射時間や通電電流の補正をすることができる。
また、上記第1実施形態では、残留磁束Brにより第2噴射の噴射時期が早くなる場合における、第2噴射の通電パルスの補正方法を示したが、残留磁束Brにより第2噴射の噴射時期が遅くなる場合にも第2噴射の通電パルスを補正することができる。例えば、残留磁束Brにより第2噴射の噴射時期が遅くなる場合では、第2噴射の通電パルスを少し早くすることで、残留磁束Brがゼロの状態の通電と同じタイミングt9(図4参照)で電磁弁2のリフト挙動のピークPsとなるように動作させることができる。
本開示は、実施例に準拠して記述されたが、本開示は当該実施例や構造に限定されるものではないと理解される。本開示は、様々な変形例や均等範囲内の変形をも包含する。加えて、様々な組み合わせや形態、さらには、それらに一要素のみ、それ以上、あるいはそれ以下、を含む他の組み合わせや形態をも、本開示の範疇や思想範囲に入るものである。
図面中、1、30はECU(電磁弁の駆動制御装置)、2は電磁弁、3、31は制御部、4は制御IC、5は駆動回路、6は噴射パルス・駆動電流生成部、7、32は演算部、7a、7xはモデル演算部、7bはマップ演算部、7cは補正ロジック部、8は記憶部、9はロジック部、10は駆動制御部、11は電流制御部、20は電流検出抵抗(電流検出部)、34は開弁検出部である。
Claims (11)
- 内燃機関の燃料噴射用の電磁弁(2)を駆動制御する電磁弁の駆動制御装置(1、30)であって、
前記内燃機関の1燃焼サイクルあたりに要求される燃料噴射量を少なくとも第1噴射と第2噴射に多段分割供給するように通電電流を制御する制御部(3、31)を備え、
前記制御部は、
前記第2噴射の通電開始時における電磁弁の磁性体に残留する残留磁束量を、非線形特性を用いて演算する演算部(7、32)と、
前記演算部による演算結果に基づいて第2噴射の噴射信号を生成する生成部(6)と
を備えた電磁弁の駆動制御装置。 - 前記電磁弁の磁性体磁気回路のB−H曲線モデルが記憶された記憶部(8)を備え、
前記演算部は、前記第2噴射の通電開始時における電磁弁の磁性体に残留する残留磁束量を、前記記憶部に記憶された前記B−H曲線モデルを用いて演算する請求項1に記載の電磁弁の駆動制御装置。 - 前記演算部は、前記第2噴射の通電開始時における電磁弁の磁性体に残留する残留磁束量を、前記記憶部に記憶された前記B−H曲線モデル、前記第1噴射時の電流値、および前記第1噴射から前記第2噴射までのインターバル期間を用いて演算する請求項2に記載の電磁弁の駆動制御装置。
- 前記生成部は、前記演算部の演算結果に基づいて、前記第2噴射の通電電流の通電開始時期を変更する噴射信号を生成する請求項1から3のいずれか一項に記載の電磁弁の駆動制御装置。
- 前記生成部は、前記演算部の演算結果に基づいて、前記第2噴射の通電電流の通電パルス幅を変更する噴射信号を生成する請求項1から4のいずれか一項に記載の電磁弁の駆動制御装置。
- 前記生成部は、前記演算部の演算結果に基づいて、前記第2噴射の通電電流の目標電流値を変更する噴射信号を生成する請求項1から3のいずれか一項に記載の電磁弁の駆動制御装置。
- 前記電磁弁の通電電流を検出する電流検出部(20)を備え、
前記演算部(32)は、前記電流検出部により検出された前記第1噴射時の電流値に応じて、前記記憶部から読み出した前記B−H曲線モデルを補正する請求項2または3に記載の電磁弁の駆動制御装置。 - 前記演算部は、前記第1噴射時の電流値として、前記第1噴射の通電開始から終了以前の期間中の所定時期に前記電流検出部により検出された電流値に応じて、前記補正を行う請求項7に記載の電磁弁の駆動制御装置。
- 前記演算部は、前記第1噴射時の電流値として、前記第1噴射の通電開始から終了以前の期間中の所定期間に前記電流検出部により検出された電流値を積分した値に応じて、前記補正を行う請求項7に記載の電磁弁の駆動制御装置。
- 前記電磁弁の開弁を検出する開弁検出部(34)を備え、
前記演算部は、前記第1噴射時の電流値として、前記開弁検出部により検出された開弁時の電流値を用いて前記補正を行う請求項8に記載の電磁弁の駆動制御装置。 - 前記電磁弁の開弁を検出する開弁検出部(34)を備え、
前記演算部は、前記第1噴射時の電流値として、前記開弁検出部により検出された前記第1噴射の通電開始から開弁時までの駆動電流の積分値を用いて前記補正を行う請求項9に記載の電磁弁の駆動制御装置。
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