JP2019009217A5 - - Google Patents
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Description
Claims (4)
- 下記一般式（１）で表される化合物及び（２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含有してなる薄膜形成用原料：
- 請求項１に記載の薄膜形成用原料を用いてホウ素原子を含有する薄膜を形成する薄膜の製造方法。
- 薄膜形成用原料を気化させることにより、ホウ素原子を含有する蒸気を得る工程と、該蒸気を基体と接触させることにより、前記薄膜形成用原料を分解及び／又は化学反応させて該基体上に薄膜を形成する工程とを含む、請求項２に記載の薄膜の製造方法。
- 薄膜形成用原料を基体上に塗布する塗布工程と、その後に、該基体を１００〜８００℃に加熱することによって薄膜を形成する工程とを含む、請求項２または３に記載の薄膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2017122197A JP6933509B2 (ja) | 2017-06-22 | 2017-06-22 | 薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP2017122197A JP6933509B2 (ja) | 2017-06-22 | 2017-06-22 | 薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法 |
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| JP6933509B2 JP6933509B2 (ja) | 2021-09-08 |
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| JP2017122197A Active JP6933509B2 (ja) | 2017-06-22 | 2017-06-22 | 薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法 |
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2017
- 2017-06-22 JP JP2017122197A patent/JP6933509B2/ja active Active
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