JP2019002832A - ガス濃度計測装置および方法 - Google Patents
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また、レーザーラマン法による測定においては、配管、配管継手や配管バルブ等の周辺では、レーザー誘起蛍光の影響により、水素ガス濃度の測定ができない場合があるため、レーザー誘起蛍光の影響の少ない測定方法が求められていた。
また、特許文献2では、アンチストークス光を高い強度で検出できない場合があり、また、水素ガス濃度が低い場合には水素ガスを検出できない場合もあった。
上記ガス濃度計測装置において、前記検出対象ガスが、水素ガスであることを特徴としてもよい。
上記ガス濃度計測装置において、前記第2レーザー光の強度S1と前記ストークス光の強度S2との比率R(S1/S2)が0.140〜0.175の範囲にあることを特徴としてもよい。
上記ガス濃度計測装置において、前記波長板が、λ/2波長板であり、前記波長板回転機構が、前記波長板の光学軸の回転角を入射光の偏光方向に対し22〜30°の範囲で調節可能とすることを特徴としてもよい。
上記ガス濃度計測方法において、前記検出対象ガスが、水素ガスであることを特徴としてもよい。
以下では、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、以下では、水素ガス濃度計測装置1を例示して説明するが、本発明は水素ガス濃度計測装置に限定されず、他のガスを計測する装置にも適用することができる。
偏光ビームスプリッタ20は、レーザー光源10から出射された第1レーザー光L1を、S偏光の反射光(第2レーザー光L2)と、P偏光の透過光(第3レーザー光L3)とに分割する。
これにより、レーザー光源10から出射された第1レーザー光L1は、λ/2波長板301により偏光方向が変換された後、平凸レンズ401を通過して偏光ビームスプリッタ20へと入射され、偏光ビームスプリッタ20により第2レーザー光と第3レーザー光とに分割される。具体的には、第1レーザー光のS偏光が偏光ビームスプリッタ20により反射されて第2レーザー光L2として出射される。また、第1レーザー光のP偏光は、偏光ビームスプリッタ20を透過して第3レーザー光L3として出射される。
なお、λ/2波長板301は、平凸レンズ401とハーモニックセパレータ501との間またはハーモニックセパレータ501と偏光ビームスプリッタ20との間に配置してもよい。
ダイクロイックミラー801は、特定の波長の光を反射し、その他の波長の光を透過する。本実施形態に係るダイクロイックミラー801は、400nm以上の波長の光を反射し、それ以外の光を透過するように設計されている。これにより、第2レーザー光L2は、ラマンセル60は通過せずに、図1に示すように、λ/2波長板302により第3レーザー光L3と同じ偏光方向へと変換された後、レーザーミラー70により反射され、ダイクロイックミラー801を透過して、第3レーザー光L3から発生したストークス光LS1と合波される。
なお、波長355nmの第3レーザー光L3および波長309nmのアンチストークス光LA1は、ダイクロイックミラー801を透過して、系の外部へと出力される。また、波長503nmのストークス光LS2も後述する誘多膜ミラー90を透過して系の外部へと出力される。
なお、以下においては、ラマンセル60で発生し、系の外部へと出力されるアンチストークス光をLA1として示し、計測箇所Aで発生する計測対象のアンチストークス光であるLA2とは区別する。
なお、計測箇所Aで発生したアンチストークス光LA2がレーザー光源10方向に進んでも、波長309nmのアンチストークス光LA2はロングパスフィルタ100で遮断される。また、ダイクロイックミラー801は309nmの透過率が100%ではないため、ラマンセル60において発生したアンチストークス光LA1が数%ではあるが、誘多膜ミラー90へ入射される。LA1は、計測箇所Aにおいて発生するアンチストークス光LA2と同一波長であるため、計測時の外乱光となる。このため、ロングパスフィルタ100によりLA1を遮断する。また、ラマンセル60において発生したストークス光(2次)LS2は、誘多膜ミラー90を透過し、系の外部へと出力される。
本実施形態において、ダイクロイックミラー802は、309nmの波長の光を反射し、それ以外の光を透過するように設計されている。また、バンドパスフィルタ110は、309nm周辺の波長の光を透過し、それ以外の光を遮断するように設計されている。これにより、計測箇所Aを通過したレーザー光のうち、波長309nmのアンチストークス光LA2が、ダイクロイックミラー802で反射され、バンドパスフィルタ110を通過して、光ファイバ120へと到達する。
光ファイバ120は、CCD検出器を備える分光器130に接続されており、バンドパスフィルタ110を通過したアンチストークス光LA2を分光器130へと導く。そして、分光器130は、図示しない制御部と接続されており、制御部でアンチストークス光LA2の強度を計測することで計測箇所Aの水素ガス濃度が算出される。
1.アンチストークス光の計測試験
上述した水素ガス濃度計測装置1を用いて水素ガス濃度を計測する場合の、第2レーザー光L2およびストークス光LS1の強度比の最適条件を見出すために、(1)ラマンセル60に充填する水素ガス充填圧力、および、(2)第1レーザー光L1の強度を変更して、同濃度の水素ガスを計測した。
なお、本実施例においては、第2レーザー光L2の強度は、図1のP2に示す位置にパワーメーターを配置して計測し、ストークス光LS1の強度は、図1のP3に示す位置にパワーメーターを配置して計測した。また、波長416nmのストークス光LS1の強度を計測する際には、位置P3に配置したパワーメーターの前に、波長355nmを超えるレーザー光のみを透過させるロングパスフィルタと透過中心波長が415nmのバンドパスフィルタ(半値全幅10nm)とを配置して計測した。
計測箇所Aにおいてアンチストークス光LA2を高い強度で得るために適したラマンセル60の水素ガス充填圧力を導き出すために、ラマンセル60に充填される水素ガスの濃度を、0.7MPa、0.6MPa、0.5MPaにそれぞれ設定して、計測箇所Aで発生されたアンチストークス光LA2を計測した。図2(A)は、ラマンセル内の水素濃度を0.7MPaとした場合のアンチストークス光LA2の強度を示す図であり、図2(B)は、ラマンセル60内の水素ガス濃度を0.6MPaとした場合のアンチストークス光LA2の強度を示す図であり、図2(C)は、ラマンセル60内の水素ガス濃度を0.5MPaとした場合のアンチストークス光LA2の強度を示す図である 。また図2(A)〜(C)では、計測箇所Aに照射された第2レーザー光L2およびストークス光LS1の強度も併せて示している。さらに、図2では、λ/2波長板301の角度をそれぞれ変えた場合の、アンチストークス光LA2、第2レーザー光L2、ストークス光LS1の強度を表示している。
レーザー光源10から射出される第1レーザー光L1の強度を変えて、計測箇所Aにおいて発生したアンチストークス光LA2の強度を計測した。具体的には、第1レーザー光L1の強度を5.5mJ,4.4mJ,3.6mJとして、計測箇所Aで発生したアンチストークス光LA2の強度、並びに、計測箇所Aに照射された第2レーザー光L2およびストークス光LS1の強度をそれぞれ計測した。
図1に示すλ/2波長板301と偏光ビームスプリッタ20として、下記表4に示す製品を用いて、水素ガス濃度計測装置1を作製した。
本出願人が行った、特許文献2(特開2016−80349号公報)に記載の水素ガス濃度計測装置と、本実施形態に係る水素ガス濃度計測装置1との、アンチストークス光LA2の強度(理論値)の比較を下記表5に示す。なお、下記表5においては、特許文献2に記載の水素ガス濃度計測装置のアンチストークス光LA2の強度を(旧)と示し、本実施形態に係る水素ガス濃度計測装置1のアンチストークス光LA2の強度を(新)とも示す。また、特許文献2に記載の水素ガス濃度計測装置と本実施形態に係る水素ガス濃度計測装置1とのアンチストークス光LA2の強度の比率(理論値、新/旧ともいう。)も表示する。
10…レーザー光源
20…偏光ビームスプリッタ
301,302…λ/2波長板
401〜405…平凸レンズ
501,502…ハーモニックセパレータ
60…ラマンセル
70…レーザーミラー
801,802…ダイクロイックミラー
90…誘多膜ミラー
100…ロングパスフィルタ
110…バンドパスフィルタ
120…光ファイバ
130…分光器
200…受光装置
A…計測箇所
Claims (7)
- 特定波長のレーザー光を発振するレーザー光源と、
検出対象ガスが高圧充填され、前記特定波長のレーザー光を入射するとストークス光を発生させるラマンセルと、
前記特定波長のレーザー光と前記ストークス光とを集光して計測箇所へと照射する合波照射部と、
前記計測箇所において発生したアンチストークス光を検出する受光装置と、
前記受光装置で検出された前記アンチストークス光に基づいて、前記計測箇所における検出対象ガスの濃度を算出する制御部と、を備え、
前記特定波長のレーザー光を、前記合波照射部に入射する第2レーザー光と、前記ラマンセルに入射する第3レーザー光とに分岐する偏光ビームスプリッタと、
前記第2レーザー光と前記第3レーザー光の強度比を制御する波長板とを備えることを特徴とするガス濃度計測装置。 - 前記波長板の回転角を調節可能とする波長板回転機構を備えることを特徴とする請求項1に記載のガス濃度計測装置。
- 前記第2レーザー光の強度S1と前記ストークス光の強度S2との比率R(S1/S2)が0.140〜0.175の範囲にあることを特徴とする請求項2に記載のガス濃度計測装置。
- 前記波長板が、λ/2波長板であり、
前記波長板回転機構が、前記波長板の光学軸の回転角を入射光の偏光方向に対し22〜30°の範囲で調節可能とすることを特徴とする請求項2または3に記載のガス濃度計測装置。 - 前記検出対象ガスが、水素ガスであることを特徴とする請求項1〜4のいずれに記載のガス濃度計測装置。
- レーザー光源から発振された第1レーザー光を、偏光ビームスプリッタにより、第2レーザー光と第3レーザー光とに分岐し、
前記第2レーザー光を検出対象ガスを高圧充填したラマンセル内に照射することで、ストークス光を発生させ、
前記第3レーザー光と、前記ストークス光とを合波して計測箇所へと照射し、
前記計測箇所において発生したアンチストークス光に基づいて、検出対象ガスの濃度を計測するガス濃度計測方法。 - 前記検出対象ガスが、水素ガスであることを特徴とする請求項6に記載のガス濃度計測方法。
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