JP2018531813A - スクリュー機及び被処理材料の処理方法 - Google Patents

スクリュー機及び被処理材料の処理方法 Download PDF

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Abstract

【課題】本発明は処理材料の処理/温度上昇を簡単、効率的な態様で行なうこと。
【解決手段】スクリュー機(1)は被処理材料(2)を処理する誘導加熱装置(39)を備えている。誘導加熱装置(39)は加熱ゾーン(25)において材料(2)を加熱するために使用される。加熱ゾーン(25)において、少なくとも1つのハウジング部分(6)は少なくとも部分的に電磁気的に透明な材料で作成され、この材料は非磁性、非導電性であり、少なくとも1つの処理エレメントシャフト(14)は少なくとも部分的に導電性材料で作成されている。材料(2)の処理中、誘導加熱装置(39)は交番磁場を生成し少なくとも1つの処理エレメントシャフト(14)に渦電流損失を生じさせ、渦電流損失は少なくとも1つの処理エレメントシャフト(14)の温度上昇を引き起こす。材料(2)は少なくとも1つの加熱された処理エレメントシャフト(14)上で、特に溶融するまで加熱される。スクリュー機(1)は材料(2)の簡単で効率的な溶融を可能にし、その結果スクリュー機(1)の機械的エネルギー入力及び結果としての摩耗を大幅に低減することができる。
【選択図】図1

Description

本発明は、スクリュー機及び被処理材料の処理方法に関する。
プラスチック材料の処理のために、知られているスクリュー機は入口ゾーンと、その下流に配置される溶融又は可塑化ゾーンとを有する。入口ゾーンにおいて、ポリマー粉末又はポリマーペレットのようなプラスチック材料はスクリュー機に供給し、可塑化ゾーンの方向に搬送され、そこでプラスチック材料は混練エレメントによって提供される機械的エネルギー入力の結果として溶融される。この溶融工程において、通常、全体の機械的エネルギー入力の60%以上が第1の混練ブロックを介して導入される。したがって、非常に高い機械力がスクリュー機の可塑化ゾーンに生起し、このため処理エレメントシャフトが振動し、それで処理エレメント及びハウジングの機械的摩耗を引き起こす。
必要な機械的エネルギー入力を低減するために、加熱装置が使用される。特許文献1(DE 44 04 031 C1)から、電気的に加熱可能なハウジング部分を有するスクリュー機が知られている。ハウジング部分は複数の電気抵抗加熱エレメントを備える熱伝導性鋳造インサートを有する。抵抗加熱エレメントは熱伝導性鋳造インサートにその異なるレベルで鋳込まれる。
特許文献2〔DE 35 23 929 A1(=GB 2 163 630 A)〕から、押出機のハウジング部分を誘導加熱装置によって加熱することが知られている。この目的のために、コイルはそれぞれの鉄心によって加熱可能なハウジング部分の外側に配置される。加熱すべきプラスチック材料はハウジング部分を通って搬送され、それによって加熱される。
特許文献3(DE 1 105 143 A)はシリンダ内で逆方向に走る2本のスクリューが配置されたスクリュー押出機を開示している。シリンダはスクリュー押出機の誘導加熱のために使用される耐熱コイルによって取り囲まれている。シリンダは非磁性鉄などの非磁性材料で作成され、一方スクリューは磁性材料から成る。これにより、スクリューを誘導によって直接加熱することができる。
特許文献4(WO 2005/053 826 A2)からプラスチック材料を溶融させる装置が知られており、この装置はスクリュー無しでデザインされて互いに摩擦接触する部品の数を減らし、したがってそれらの摩耗を減少している。この装置はプラスチック材料を溶融させるためにオーミック加熱又は誘導加熱によって加熱されるスタティックミキサーを備える。
DE 44 04 031 C1 DE 35 23 929 A1(=GB 2 163 630 A) DE 1 105 143 A WO 2005/053 826 A2
本発明は、被処理材料を簡単、効率的に加熱する態様を提供するスクリュー機を提供することを目的とする(第1の目的)。特に、スクリュー機は溶融するまで材料の加熱を可能にすることを意図している。
さらに、本発明は処理材料の温度上昇を簡単、効率的な態様で行なうことができる方法を提供することを目的とする。特に、本発明は溶融するまで被処理材料の加熱を可能にすることを意図している(第2の目的)。
この第1の目的は、請求項1に記載の特長を有するスクリュー機によって本発明にしたがって達成される。誘導加熱装置が加熱ゾーンにおいて少なくとも1つの処理エレメントシャフトと相互作用し、少なくとも1つのハウジング部分又は複数のハウジング部分と相互作用することがない場合、少なくとも1つの処理エレメントシャフトは被処理材料と密接に接触しており、被処理材料によってその大きな表面領域にわたって取り囲まれているので、被処理材料は遙かに容易、効果的に加熱することができる。被処理材料への効率的なエネルギー入力を確実にするために、加熱ゾーン内の少なくとも1つのハウジング部分は少なくとも部分的に電磁的に透明な材料で作成され、上記材料は非磁性、非導電性である。明瞭化のために、加熱ゾーン内の少なくとも1つのハウジング部分は、以下、加熱ゾーンハウジング部分とも称される。電磁的に透明な材料は、誘導加熱装置と相互作用しない。特に、電磁的に透明な材料は非強磁性である。好ましくは、複数の加熱ゾーンハウジング部分、特に全ての加熱ゾーンハウジング部分は加熱ゾーン内において少なくとも部分的に電磁気的に透明な材料で作成される。これとは対照的に、少なくとも1つの処理エレメントシャフトは加熱ゾーン内で少なくとも部分的に導電性材料で作成され、その結果誘導加熱装置は少なくとも1つの処理エレメントシャフトに渦電流を誘導し、このためオーミック渦電流損失を惹起させて少なくとも1つの処理エレメントシャフトの温度上昇をもたらす。少なくとも1つの加熱された処理エレメントシャフトを介して、誘導加熱装置によって供給されるエネルギーは容易、効率的に最小限の損失で被処理材料中に導入される。導電性材料は、特に鉄及び強磁性である。これにより、少なくとも1つの処理エレメントシャフトをオーミック渦電流損失及びヒステリシス損失によって効率的に加熱することが可能になる。被処理材料は、特にプラスチック材料又は金属材料、例えば金属バルク材料である。
少なくとも1つの加熱ゾーン部分の電磁的に透明な材料は、例えばセラミック材料及び/又は繊維強化材料のような非金属材料である。対照的に、少なくとも1つの処理エレメントシャフトの導電性材料は、特にスチールのような金属材料である。
誘導加熱装置は交番磁場を生成する。交番磁場は少なくとも1つの処理エレメントシャフトと相互作用するが、少なくとも1つの加熱ゾーンハウジング部分とは相互作用しない。交番磁場は少なくとも1つの処理エレメントシャフトに渦電流を誘導し、渦電流は渦電流損失を惹起し、このため特にヒステリシス損失と共に、少なくとも1つの処理エレメントシャフトの温度上昇をもたらす。逆に、少なくとも1つの加熱ゾーンハウジング部分は誘導加熱装置と相互作用しないので、交番磁場は少なくとも1つの加熱ゾーンハウジング部分に実質的な温度上昇を生じさせない。誘導加熱装置によって供給されるエネルギーは少なくとも1つの処理エレメントシャフトを介して被処理材料に導入されるので、これは被処理材料の単純で極めて効率的な加熱を可能にする。少なくとも1つの処理エレメントシャフトは被処理材料と密接に接触し、被処理材料内に配置され、言い換えれば、被処理材料は少なくとも1つの処理エレメントシャフトを実質的にその全周囲にわたって取り囲んでいるので、エネルギーの入力が実質的に損失なく行われ、それにより被処理材料を少なくとも部分的に溶融するまで誘導加熱装置によって加熱することが可能になる。これにより、スクリュー機に作用する機械的力及びその結果生じる磨耗を大幅に低減することができる。
交番磁場を発生するために、誘導加熱装置は特に周波数fで動作可能であり、周波数fは1kHz≦f≦50kHz、特に5kHz≦f≦45kHz、特に10kHz≦f≦40kHzというものである。誘導加熱装置がこの第1の周波数範囲における周波数fで動作する場合、少なくとも1つの処理エレメントシャフトへの高エネルギーの入力が効率的な態様で達成される。少なくとも1つの加熱ゾーンハウジング部分が非磁性、非導電性材料で作成されているので、少なくとも1つの加熱ゾーンハウジング部分へのエネルギー入力が効果的に防止される。これに代えて又はこれに加えて、誘導加熱装置は第2の周波数範囲における周波数fで動作可能であり、周波数fは140kHz≦f≦360kHz、特に150kHz≦f≦350kHz、特に160kHz≦f≦340kHzというものである。誘導加熱装置を2つの周波数範囲で動作させることにより、様々な浸透深さでの励磁又は加熱が可能になる。誘導加熱装置は、特に第1の周波数範囲及び第2の周波数範囲で交互に動作する。これは、高エネルギー入力を保証する効率的な態様を提供する。
好ましくは、スクリュー機は多軸スクリュー機、特に二軸スクリュー機として構成されている。多軸スクリュー機はハウジング内に形成された複数のハウジングボアを有し、組み合わされる処理エレメントシャフトは組み合わされる回転軸線の周りを回転駆動可能にそれぞれ組み合わされるハウジングボアに配置される。処理エレメントシャフトは、特に同じ方向に回転するように駆動可能である。処理エレメントシャフトは、好ましくは密接に噛合する対として構成されている。
請求項2に記載のスクリュー機は少なくとも1つの処理エレメントシャフトへのエネルギーの効率的入力を確実にする。少なくとも1つのコイルのコイル軸線又は長手方向中心軸線は、実質的に少なくとも1つの処理エレメントシャフトの1本の回転軸線又は複数本の回転軸線に向かって配置される。好ましくは、少なくとも1つのコイルの長手方向中心軸線は少なくとも1つの処理エレメントシャフトの回転軸線に平行である。少なくとも1つの処理エレメントシャフトは少なくとも1つのコイルの内部空間に配置される。したがって、少なくとも1つのコイルはヘルムホルツコイルの態様で配置され、処理エレメントシャフトはコアを形成する。したがって、交番磁場の磁力線は内部空間及び少なくとも1つの処理エレメントシャフトに集中しているので、処理エレメントシャフトへの高エネルギー入力が簡単な態様で可能である。搬送方向における加熱ゾーンの長さは少なくとも1つのコイルの長さ及び/又はコイルの数によって調整可能である。少なくとも1つのコイルの長さは、特にその巻線の数を介して調節可能である。
請求項3に記載のスクリュー機は少なくとも1つの処理エレメントシャフトへの高効率のエネルギー入力を簡単な態様で確実にする。少なくとも1つのコイルの内部空間における少なくとも1つの加熱ゾーンハウジング部分が非磁性、非導電性の材料のみで作成されているので、誘導加熱装置によって供給されるエネルギーは少なくとも1つの処理エレメントシャフトに最小の損失でもって導入される。
請求項4に記載のスクリュー機は少なくとも1つの処理エレメントシャフトへの高エネルギー、高効率エネルギー入力を簡単な態様で確実にする。従前、スクリュー機の磁性及び/又は導電性材料は少なくとも1つのコイル及び少なくとも1つの処置エレメントシャフトの間に配置されて誘導加熱装置によって提供される電磁エネルギーを吸収し、このため誘導加熱装置によって提供されるエネルギーは著しい量の損失をともなって少なくとも1つの処理エレメントシャフトに導入することしかできなかった。これは、本発明にしたがうスクリュー機によって効果的に防止される。好ましくは、内部空間内に配置される少なくとも1つの加熱ゾーンハウジング部分の材料はセラミック及び/又は繊維強化材料、例えば酸化物セラミック繊維強化複合材料である。酸化物セラミック繊維強化複合材料は、電磁気透過性、電気絶縁性・断熱能力、延性・非脆性破壊挙動、高張力・曲げ剛性、酸化・耐食性、1300℃を超える温度までの高温安定性及び耐熱衝撃性などの金属及びセラミックの優れた特性を兼ね備えている。少なくとも1つのコイルの交番磁場は内部空間の外側の導電性及び/又は磁性エレメントへの低エネルギー入力のみを生成するので、内部空間の外側に配置される少なくとも1つの加熱ゾーンハウジング部分の領域は導電性及び/又は磁性材料で作成される。別法として、内部空間の外側に配置された少なくとも1つの加熱ゾーンハウジング部分の領域は非磁性、非導電性の材料で作成することもできる。
請求項5に記載のスクリュー機は少なくとも1つの処理エレメントシャフトへの高エネルギー、高効率エネルギー入力を簡単な態様で確実にする。内側スリーブが電磁的に透明な材料のみから作成されるので、内側スリーブは交番磁場によって加熱されない。結果として、誘導加熱装置によって供給されるエネルギーは実質的に損失なく少なくとも1つの処理エレメントシャフトに導入され、そこでは熱に変換される。好ましくは、内側スリーブの材料はセラミック及び/又は繊維強化材料であり、例えば酸化物セラミック繊維強化複合材料である。酸化物セラミックス繊維強化複合材料は、電磁的透明性、電気絶縁性・断熱性、延性・非脆性破壊挙動、高張力・曲げ剛性、耐酸化性・耐食性、1300℃以上の温度までの高温安定性、耐熱衝撃性など金属及びセラミックの優れた特性を兼ね備えている。少なくとも1つのコイルの交番磁場は導電性及び/又は磁気的エレメントへの低エネルギー入力のみを生成するので、少なくとも1つの加熱ゾーンハウジング部分の少なくとも外側部分は導電性及び/又は磁性材料で作成することができる。別法として、外側部分は電磁的に透明な材料で作成することもできる。特に、少なくとも1つの外側部分はセラミック及び/又は繊維強化材料から作成することもできる。内側スリーブは、特に少なくとも1つのハウジングボアに向かって少なくとも収容空間を形成する。少なくとも1つのコイルを収容空間に配置することにより、コイルは少なくとも1つのハウジング部分によって保護され、少なくとも1つの処理エレメントシャフトの近くに配置されることが保証される。
請求項6に記載のスクリュー機は少なくとも1つの処理エレメントシャフトへの高エネルギー、高効率エネルギー入力を簡単な態様で確実にする。内側空間の内側に配置される内側スリーブは、内側スリーブの機械的安定性が保証される態様で、少なくとも1つの外側部分に対して支持される。内側スリーブは、好ましくは少なくとも1つの外側部分に対して両端で支持されている。機械的安定性を高めるために、内側スリーブは少なくとも1つの外側部分に対してその端部の間でさらに支持することができる。少なくとも1つの外側部分は、例えば外側ジャケットとして構成される。
請求項7に記載のスクリュー機は少なくとも1つの処理エレメントシャフトへの高エネルギー、高効率エネルギー入力を簡単かつ確実な態様で確実にする。内側スリーブは外側部分に対して少なくとも2つの支持位置において少なくとも1つの回転軸線に沿って支持されるので、内側スリーブは高い機械的安定性を有する。したがって、内側スリーブは処理中に特に半径方向に少なくとも1つの外側部分に生起する力を消滅することができる。これにより、内側スリーブが破損するのを効果的に防止する。内側スリーブは、好ましくはセラミック及び/又は繊維強化材料で作成される。少なくとも1つの外側部分は、好ましくは金属材料で作成され、少なくとも1つの外側部分は力を吸収するのに十分な安定性を有する。好ましくは、2つの支持位置は少なくとも1つの回転軸線に沿って配置される内側スリーブの両端部の領域に位置する。
請求項8に記載のスクリュー機は少なくとも1つの処理エレメントシャフトへの高エネルギー、高効率エネルギー入力を簡単かつ確実な態様で確実にする。その外側が少なくとも1つのコイルから効果を受けないように形成されているので、少なくとも1つのコイルは一方では少なくとも1つの処理エレメントシャフトの近くに配置され、その結果、高エネルギー、高効率エネルギー入力が保証される。他方では、内側スリーブは外側に螺旋形状で配置される支持位置又は別法として螺旋状の支持領域又は支持ウェブを形成し、このため内側スリーブは少なくとも1つの外側部分に対してその大きな表面領域にわたって支持され、それでこの領域に作用する力は簡単、確実な態様で少なくとも1つの外側部分に消滅させることができる。
請求項9に記載のスクリュー機は少なくとも1つの処理エレメントシャフトへの高エネルギー、高効率エネルギー入力を簡単かつ確実な態様で確実にする。内側スリーブの厚さDが薄いほど、少なくとも1つの処理エレメントシャフトへのエネルギー入力がますます大きくなり、より効率的となり、その理由は少なくとも1つのコイルの導体が少なくとも1つの処理エレメントシャフトの近くに配置することができるからである。しかしながら、これに反して、厚さDが厚いほど、内側スリーブの機械的安定性はますます大きくなる。導体の巻線の間、言い換えると導体の領域の外側では、厚さDは内側スリーブが少なくとも1つの外側部分に対して支持されるようにすることができる。したがって、導体の巻線の間で、厚さDは導体の領域における厚さDの上限を超えることがある。
請求項10に記載のスクリュー機は少なくとも1つの処理エレメントシャフトへの高エネルギー、高効率エネルギー入力を簡単かつ確実な態様で確実にする。導体が非円形の断面形状を有するので、断面形状は実質的に平坦であり、このため導体又は少なくとも1つのコイルを少なくとも1つの処理エレメントシャフトに近接して配置することができ、それで高エネルギー、高効率エネルギー入力を保証する。例えば、導体は矩形の断面形状を有しており、必要に応じてコーナー部を円形にすることができる。導体は少なくとも部分的に直線状の断面形状を有するので、導体は内側スリーブにその大きな表面領域にわたって当接するように配置され、したがって少なくとも1つの処理エレメントシャフトに近接して配置することができる。より大きな寸法を有する断面形状の側部は内側スリーブに対面するように配置される。
請求項11に記載のスクリュー機は被処理材料の単純、効率的な加熱を保証する。絶縁層が設けられている少なくとも1つの処理エレメントは少なくとも1つの加熱された処理エレメントのシャフト方向における熱損失を防止し、このためこれは被処理材料を加熱するために利用できない。絶縁層は、例えばセラミック材料で作成される。導電性材料は少なくとも1つの処理エレメントの少なくとも加熱層を形成し、この加熱層は被処理材料と接触する表面を形成する。好ましくは、複数の処理エレメント、特に加熱ゾーン内の全ての処理エレメントは導電性材料で作成される。少なくとも1つの処理エレメントはスクリューエレメント及び/又は混練エレメントとして構成される。混練エレメントは単一混練ディスク又は複数の相互に連結された混練ディスクから作成される単一パート混練ブロックとすることができる。
少なくとも1つの処理エレメントは、例えば複合材料で作成される。複合材料から作成されている少なくとも1つの処理エレメントは多数の異なる特性を有する。外部加熱層の金属材料は交番磁場によって生じる加熱層の温度上昇を確実にし、このため被処理材料を加熱層を介して直接加熱することを可能にする。外側の加熱層と内側のトルク伝達層との間に配置される絶縁層は熱損失を最小にする。その理由は内側のトルク伝達層及び少なくとも1つの処理エレメントが配置されるシャフトの方向において加熱層の熱が損失しないからである。内側のトルク伝達層は高い機械的安定性を有するので、シャフトのトルクを少なくとも1つの処理エレメントに安全に伝達することができる。特に、絶縁層は内側のトルク伝達層が熱損失によって弱体化されないことを保証する。絶縁層の材料は、特にセラミック材料である。少なくとも1つの処理エレメントは、例えばセラミック及び金属粉末から作成され、これは対応する型内で約1400℃で焼結されて複合材料又は複合体を形成する。金属セラミック複合体の製造は知られている。横断面で見て、換言すればそれぞれの回転軸線に垂直に見て、これらの層は閉じられ、特に環状の形状を有し、少なくとも1つの処理エレメントシャフトの回転軸線を取り囲んでおり、その結果、絶縁層は加熱層をシャフトからシャフトの全面にわたって絶縁する。さらに、加熱層は最大表面領域を有し、したがって加熱層から被処理材料への良好な熱伝達を保証する。
請求項12に記載のスクリュー機は高エネルギー入力を保証する。少なくとも1つのコイルはオーミック損失によって加熱される。冷却装置は少なくとも1つのコイルで発生した熱損失を消滅させる。したがって、少なくとも1つのコイルは高出力で動作させることができる。好ましくは、少なくとも1つのコイルは冷却剤を流すことができる冷却ダクト自体を形成する。冷却剤は、特に水である。さらに、収容空間は、例えば加熱ゾーンハウジング部分によって全体的に取り囲むことができるので、収容空間を冷却ダクトとして使用することができる。オーム損失を避けるために、コイルは、特にアルミニウム又は銅で作成されている。
請求項13に記載のスクリュー機は誘導加熱装置によって交番磁場を提供する簡単な態様を保証する。エネルギー供給装置は、特に周波数f及び/又は交流電圧及び/又は交流電流の振幅を調整可能にする周波数変換器を備えている。例えば、周波数fは少なくとも1つの処理エレメントシャフトへの交番電磁場の浸透深さを調整することを可能にする。好ましくは、交番電磁場は実質的に単独に又は大部分が加熱層に浸透する。誘導加熱装置及びエネルギー供給装置は、特に周波数fで動作し、周波数fは1kHz≦f≦50kHz、特に5kHz≦f≦45kHz、特に10kHz≦f≦40kHz及び/又は140kHz≦f≦360kHz、特に150kHz≦f≦350kHz、特に160kHz≦f≦340kHzのようなものである。
請求項14に記載のスクリュー機は、被処理材料の制御される温度上昇を簡単な態様で保証する。温度測定センサによって測定される被処理材料の温度によって、誘導加熱装置の電力を上記測定温度に応じて調整することができる。例えば、制御装置は測定された温度を被処理材料を溶融するのに必要な所望の公称温度と比較し、必要ならば誘導加熱装置の電力を変更する。制御装置は、特に誘導加熱装置を動作させるために使用される周波数f及び/又は交流電圧及び/又は交流電流の振幅を調整する。例えば、誘導加熱装置は周波数変換器を有するエネルギー供給装置を備えている。
さらに、本発明は処理材料の温度上昇を簡単、効率的な態様で行なうことができる方法を提供することを目的とする(上述の第2の目的)。特に、本発明は溶融するまで被処理材料の加熱を可能にすることを意図している。
この目的は、請求項15の特長によって本発明にしたがって達成される。本発明にしたがう方法の利点は、既に上述した本発明にしたがうスクリュー機の利点と同じである。特に、本発明にしたがう方法は請求項1〜14の特長をもたせてさらに発展させることができる。
本発明の他の特徴、利点及び詳細は、幾つかの実施例について以下の説明から図面を参照することで明らかになる。
図1は、被処理材料の処理のための第1の実施例にしたがう多軸スクリュー機の部分断面図を示す。 図2は、図1における多軸スクリュー機の誘導加熱装置の領域における拡大図を示す。 図3は、図1における多軸スクリュー機の部分断面平面図を示す。 図4は、図1における断面線IV−IVに沿った多軸スクリュー機の断面図を示す。 図5は、第2の実施例にしたがう多軸スクリュー機の誘導加熱装置の領域における拡大図を示す。 図6は、第3の実施例にしたがう多軸スクリュー機の誘導加熱装置の領域における拡大図を示す。
以下、本発明の第1の実施例について図1〜図4を参照して説明する。多軸スクリュー機が被処理材料2の処理に用いられる。被処理材料2は、例えばプラスチック材料である。
スクリュー機1は、プラスチック材料2の搬送方向4に連続して配置されハウジングユニットとも称される複数のハウジング部分5〜9から作成されるハウジング3を有する。ハウジング部分5〜9はその端部に配置されたフランジ10を介して互いに連結されてハウジング3を形成する態様とされている。
ハウジング3において、2つのハウジングボア11、12が形成されており、これらのボアは互いに平行であり、断面で見たときに水平の8の字状を有する態様で相互に貫通している。ハウジングボア11、12において、組み合わされる回転軸線16、17の周りを駆動モータ15によって回転可能に駆動される2つの処理エレメントシャフト13、14がハウジングボアと同心円状に配置されている。処理エレメントシャフト13、14は同じ方向、即ち同じ回転方向18、19に回転軸線16、17の周りに駆動される。カップリング20と分岐ギアユニット21は駆動モータ15と処理エレメントシャフト13、14との間に配置されている。
分岐ギアユニット21に隣接する第1のハウジング部分5において、プラスチック材料がハウジングボア11、12に供給可能である供給開口22が形成されている。供給口22からの供給のために、ホッパとして構成される材料供給装置23が第1のハウジング部分5上に配置される。
スクリュー機1は、搬送方向4に連続して配置される入口ゾーン24、加熱ゾーン25、均質化ゾーン26及び圧力増強ゾーン27を有する。最後のハウジング部分9において、ハウジング3は排出開口口29を備えるノズルプレート28によって閉鎖されている。
処理エレメントシャフト13、14は、シャフト30、31及びその上に配置される処理エレメント32〜37又は32’〜37’によってそれぞれ形成されている。第1のシャフト30上に配置される処理エレメント32〜37と、第2のシャフト31上に配置される処理エレメント32’〜37’とは互いに対応しており、第2のシャフト31上に配置される処理エレメント32’〜37’の参照番号は「’」を付加し、第1のシャフト30上に配置される処理エレメント32〜37から区別可能にしている。
処置エレメント32〜37及び32’〜37’は密接に噛合する対として構成され、言い換えれば互いに係合する。処理エレメントは、入口ゾーン24及び加熱ゾーン25においてスクリューエレメント32、32’及び33、33’として構成されている。その下流に配置された均質化ゾーン26において、処理エレメントはスクリューエレメント34、34’及び混練エレメント35、36、35’、36’として構成されている。各々の混練エレメント35、36、35’、36’は混練ブロックとして構成され、言い換えればそれらは一体に構成されている。混練エレメント35、36、35’、36’は互いに角度をなして配置され、互いに連結される複数の混練ディスク38、38’を各々有する。圧力増強ゾーン27において、処理エレメントは同様にスクリューエレメント37、37’として構成されている。
処置エレメント32〜37、32’〜37’は、組み合わされるシャフト31、31上で回転不可能に配置される。この目的のために、シャフト30、31は外側輪郭Aを有し、これは処置エレメント32〜37及び32’〜37’の対応する内側輪郭Iと係合する。
加熱ゾーン25においてプラスチック材料2を溶融するために、スクリュー機1は誘導加熱装置39を有する。誘導加熱装置39はコイル40、組み合わされるエネルギー供給装置41及び冷却装置42を備えている。
コイル40はハウジング部分6に形成される収容空間43に配置されている。以下、加熱ゾーン25に位置するハウジング部分6を加熱ゾーンハウジング部分とも称する。ハウジング部分6は内側スリーブ45が配置される外側部分44を有する。外側部分44は外側ジャケットとして構成されている。外側ジャケット44及び内側スリーブ45は収容空間43を形成する。フランジ10は外側ジャケット44でハウジング部分6の端部に形成され、一方、ハウジングボア11、12は搬送方向4に延在する第1の内側スリーブ部分46内に形成されている。第1の内側スリーブ部分46の両端部において、2つの内側スリーブ部分47、48が形成され、これらは回転軸線16、17を横切る方向に延在し、その端部で収容空間43を封止する。好ましくは、内側スリーブ45は第2の内側スリーブ部分47、48によって、例えば締まり嵌めによって外側ジャケット44に固定される。
コイル40は長手方向の中心軸線49を有し、内部空間50を形成する。長手方向の中心軸線49は回転軸線16、17と本質的に平行に延在し、それで処理エレメントシャフト13、14はコイル40の内部空間50を貫通して転動する。したがって、コイル40は加熱ゾーン25内の処理エレメントシャフト13、14を取り囲んでいる。
コイル40は通常の態様で導体51を含み、この導体51は巻回されコイル40を形成して複数の巻線を有する。導体51はアルミニウムや銅のような良導電性の材料から成る。導体51において、冷却装置42の一部である冷却剤ダクト52が形成されている。導体51はコイルの両端部で外側ジャケット44に形成された貫通開口53、54を介してコイル40から導出される。ハウジング部分6の外側で、冷却剤ダクト52は冷却剤を冷却剤ダクト52を通して送給するために設けられた冷却剤ポンプ56に接続されている。冷却剤ポンプ56は冷却装置42の一部である。好ましくは、水は冷却剤として使用される。
コイル40はエネルギー供給装置41に接続され、これでコイル40に交流電圧U及び/又は交流電流Iを調整可能な周波数f及び/又は調整可能な振幅Aで供給する。エネルギー供給装置41は、特に周波数変換器である。エネルギー供給装置41は、端子55を介して、主電圧Uを供給する主電源に接続されている。
プラスチック材料2を加熱することは処理エレメント33、33’によって行われる。単純、効率的な加熱のために、処理エレメント33、33’は3層構造を有する。内側のトルク伝達層57は絶縁層58によって取り囲まれ、そしてこれは外側の加熱層59によって取り囲まれている。それぞれの処理エレメント33、33’の絶縁層58は組み合わされる加熱層59を組み合わされるトルク伝達層57及び組み合わされるシャフト30又は31をそれぞれ熱絶縁する。この目的のために、それぞれの絶縁層58はトルク伝達層57の全周及び全長にわたって設けられている。したがって、それぞれの絶縁層58は組み合わされる回転軸線16又は17をそれぞれ取り囲んでいる。それぞれの加熱層59は処理エレメント33又は33’の表面を形成する。
層57〜59を形成するために、処理エレメント33、33’は金属セラミック複合材料で作成される。それぞれのトルク伝達層57は第1の金属Mから作成され、加熱層59は第2の金属材料Mから作成され、その間に配置されたそれぞれの絶縁層58はセラミック材料Mから作成される。材料Mは例えばスチールであり、その理由はスチールが適切な機械的強度を有するからである。これに対して、材料Mは、熱的、電気的に非伝導性、非導電性で非磁性であり、換言すれば電磁気的に透明である。材料Mは鉄、例えばスチールであり、それで誘導加熱装置39によって誘導された渦電流が渦電流損を発生させ、これにより加熱層59を所望の加熱温度Tに加熱することができる。さらに、誘導加熱装置39の交番磁場は鉄材料M内にヒステリシス損失を生じさせ、加熱層59のさらなる温度上昇をもたらす。
内側スリーブ45は電磁気的に透明な材料Mから作成される。電磁気的に透明な材料Mは非磁性で非導電性である。これは誘導加熱装置39の交番磁場によって引き起こされる内側スリーブ45の温度上昇を防止する。材料Mは、好ましくはセラミック材料である。材料Mは、例えば酸化物セラミック繊維強化複合材料である。酸化物セラミックス繊維強化複合材料は電磁的透明性、電気絶縁性・断熱性、延性・非脆性破壊挙動、高張力・曲げ剛性、耐熱衝撃性、1300℃を超える温度までの温度安定性などの金属とセラミックスの性質を併せ持っている。
内部空間50において、加熱ゾーンハウジング部分6は非磁性、非導電性材料Mのみで作成されている。内側空間50に位置する内側スリーブ54の部分は非磁性、非導電性の材料Mのみで作成されている。
外側ジャケット44がコイル40の外側に配置されるので、低い渦電流のみが外側ジャケット44に交番磁場によって誘起される。したがって、外側ジャケット44は金属材料Mで作成されている。好ましくは、他のハウジング部分5、7〜9も同様に金属材料Mで形成される。金属材料Mは、特にスチールである。別法として、外側ジャケット44は同様に材料Mから作成することができる。これにより、外側ジャケット44の温度上昇が実質的に完全に防止される。
プラスチック材料2の温度Tを測定するために、スクリュー機1は温度測定センサ60を有する。温度測定センサ60は、例えばハウジング部7上で、均質化ゾーン26の開始部に配置される。温度測定センサ60は制御装置61と信号通信して、制御装置61はスクリュー機1及び特に誘導加熱装置39を制御するために使用される。この目的のために、制御装置61は、特にエネルギー供給装置41及び冷却装置42と信号通信する。制御装置61は、特に測定された温度Tに応じて誘導加熱装置39を制御するために使用される。
さらに、スクリュー機1は冷却装置を有し、これはハウジング部分7及び8に形成される冷却ダクト62を備えている。冷却ダクト62は冷却剤を冷却ポンプ56によって通常の態様で送給することを可能にする。冷却剤は、特に水である。必要であれば、冷却ダクト62をハウジング部分6の外側ジャケット44に形成することもできる。
内側スリーブ45は、導体51に隣接して回転軸線16、17に対して直交する領域Bにおいて厚さDを有し、5mm≦D≦50mm、特に10mm≦D≦40mm、特に15mm≦D≦30mmである。回転軸線16、17に沿って、内側スリーブ45は外側ジャケット44に対して2つの支持位置S及びSで支持されている。支持位置S及びSは第2の内側スリーブ部分47、48によって形成される。
好ましくは、導体51は非円形の断面形状を有する。断面形状は少なくとも部分的に直線状である。例えば、導体51は矩形の断面形状を有する。好ましくは、導体51は内側スリーブ45に対して断面形状の線状の長辺が当接する。
スクリュー機1の機能は以下の通りである。
供給開口22を介して、粉末又はペレット状プラスチック材料2がスクリュー機1の入口ゾーン24に供給される。入口ゾーン24において、プラスチック材料2は搬送方向4に加熱ゾーン25まで搬送される。
加熱ゾーン25において、プラスチック材料2は誘導加熱装置39によって加熱される。この目的のために、誘導加熱装置39はエネルギー供給装置41及びコイル40によって交番磁場を生成する。加熱装置39は特に周波数fで動作し、第1の周波数範囲の周波数fは1kHz<f≦50kHz、特に5kHz≦f≦45kHz、特に10kHz≦f≦40kHzのようなものである。さらに、第2の周波数範囲の周波数fは140kHz≦f≦360kHz、特に150kHz≦f≦350kHz、特に160kHz≦f≦340kHzのようなものである。好ましくは、誘導加熱装置39は両方の周波数範囲で交互に動作し、その結果、交番磁場の様々な浸透深さが達成される。交番磁場の磁線Fが図2に図示されている。磁力線Fの濃度(集中)はコイル40の内部空間50において高く、よってここでは磁場強度は高い。処置エレメントシャフト13、14の加熱層59はコア(磁芯)の態様でさらに作用する。交番磁場は加熱層59に渦電流を誘起させ、この渦電流はオーミック渦電流損失を生じる。また、交番磁場はヒステリシス損失を加熱層59に発生させる。オーミック渦電流損失及びヒステリシス損失により、加熱層59が加熱温度Tまで昇温する。加熱温度Tは周波数f及び/又は振幅Aによって変化させることができる。プラスチック材料2の処理エレメントシャフト13、14との密着により、プラスチック材料2は加熱層59によって加熱される。したがって、加熱層59で発生した熱がプラスチック材料2に伝導し、その温度を加熱ゾーン25において温度Tまで上昇させる。温度Tは、特にプラスチック材料2の溶融温度を上回り、これで固体プラスチック材料2を少なくとも部分的に加熱ゾーン25において溶融させる。
内側スリーブ45は非磁性、非導電性の電磁気的に透明な材料Mのみで作成されているので、交番磁場は内側スリーブ45の温度上昇をもたらさない。誘導加熱装置39によって供給されるエネルギーは処理エレメント33、33’の加熱層59を介して簡単、効率的態様でプラスチック材料2に導入される。さらに、絶縁層58は加熱層59で発生した熱がシャフト30、31の方向に伝導するのを防止する。
プラスチック材料2の温度Tは温度測定センサ60によって測定され、制御装置61に送信される。制御装置61は温度Tを好ましくは溶融温度よりも高い所定の公称温度Tと比較する。温度Tが公称温度Tよりも低い場合、制御装置61はエネルギー供給装置41を作動させて振幅A及び/又は周波数fを増加させる。逆に、温度Tが高すぎると、振幅A及び/又は周波数fが減少する。高電流Iがコイル40の導体51を流れるので、必要に応じて導体51を冷却する必要がある。この目的のために、冷却装置42は冷却剤ポンプ56によって冷却ダクト52に冷却剤、特に水を供給する。
均質化ゾーン26において、固体のプラスチック材料2が未だ残っている場合には、プラスチック材料2は完全に均質化されて溶融される。必要であれば、プラスチック材料2は冷却剤ダクト26を通じて送給される冷却剤、特に水によって冷却される。
圧力増強ゾーン27において、完全に溶融し均質化されたプラスチック材料2の圧力が上昇する。次いで、プラスチック材料2は排出開口29を介して排出される。
以下、本発明の第2の実施例について図5を参照して説明する。第1の実施例とは対照的に、加熱ゾーンハウジング部分6は内側スリーブ45を有し、内側スリーブ45の両端部は2つの外側部分44に収容されている。外側部分44は内側空間50の外側に配置されている。さらに、外側部分44はフランジ10を形成するような板状のデザインを有している。外側部分44は、それらの間に距離が設けられる態様でねじ付きロッド63によって互いに接続されている。さらに、ねじ付きロッド63は外側部分44と隣接するハウジング部分5〜7との間にスクリュー結合を提供する。したがって、収容空間43は部分的に外側に開いている。ねじ付きロッド63の間には、導体51の貫通開口53、54が形成されている。回転軸線16、17に沿って、内側スリーブ45は外側部分44に対して支持位置S及びSにおいて支持される。デザイン及び機能に関し更に詳細な事項は第1の実施例の説明において見出すことができる。
以下、本発明の第3の実施例について図6を参照して説明する。上述した複数の実施例とは異なり、コイル40に対面する内側スリーブ45の外側がコイル40に対してその作用が及ばないように形成されている。したがって、コイル40は内側スリーブ45内に埋め込まれ、その結果螺旋状の支持領域又は支持ウェブ64が第2の内側スリーブ部分47、48の間に形成される。支持ウェブ64はコイル40の巻線の間に配置される。支持ウェブ64に因り、内側スリーブ45は、内側スリーブ45が外側部分44に対して支持される支持位置S及びSに加えて、回転軸線16及び17に沿って複数の追加の支持位置を形成する。図6は支持位置S〜Sの例示的な図を示し、内側スリーブ45が外側部分44に対してその大きな表面積領域にわたって支持されることを可能にする。一般に、加熱ゾーンハウジング部分6は内側スリーブ45が支持される複数の外側部分44を備えることもできる。これにより、加熱ゾーンハウジング部分6の取り付けが容易になる。デザイン及び機能に関し更に詳細な事項は上述した複数の実施例の説明において見出すことができる。
実施例の特長は任意の組み合わせで使用することができる。
本発明にしたがうスクリュー機1は誘導又は熱によって簡単、効率的態様で処理材料2にエネルギーを導入することができるので、機械的エネルギー入力を大幅に減少させることができ、その結果スクリュー機1の機械的負荷及び磨耗が大幅に低減される。さらに、効率的なエネルギー入力はスクリュー機1の省エネ動作を可能にする。スクリュー機1の総電力に関して、誘導加熱装置39は特に、10%〜90%、特に20%〜80%、特に30%〜70%の加熱電力を有する。必要であれば、同時に誘導加熱装置39を複数の異なる周波数fで動作させることもできる。これにより、周辺加熱層59のように、様々な距離に配置された領域を加熱することができる。
処理エレメント33、33’の複合材料は、例えば焼結又はフレーム溶射によって製造される。この種の複合材料又は複合体の製造方法は知られている。

Claims (15)

  1. スクリュー機(1)を備え、前記スクリュー機は、
    搬送方向(4)に連続して配置され複数の相互接続されるハウジング部分(5〜9)から構成されるハウジング(3)と、
    ハウジング(3)に形成される少なくとも1つのハウジングボア(11、12)と、
    ハウジングボア(11、12)に通じる供給開口(22)と、
    少なくとも1つのハウジングボア(11、12)内で回転軸線(16、17)の周りを回転するように駆動可能な態様で配置される少なくとも1つの処理エレメントシャフト(13、14)と、
    加熱ゾーン(25)を形成するように構成される誘導加熱装置(39)とを有し、
    加熱ゾーン(25)内の少なくとも1つのハウジング部分(6)は少なくとも部分的に非磁性、非導電性の材料(M)で作成され、
    少なくとも1つの処理エレメントシャフト(13、14)は少なくとも加熱ゾーン(25)内で導電性材料(M)から成ることを特徴とするスクリュー機。
  2. 誘導加熱装置(39)は少なくとも1つの処理エレメントシャフト(13、14)を取り囲んで内部空間(50)を形成する少なくとも1つのコイル(40)を備えることを特徴とする請求項1記載のスクリュー機。
  3. 内部空間(50)内の少なくとも1つのハウジング部分(6)は非磁性、非導電性材料(M)のみで作成されることを特徴とする請求項2記載のスクリュー機。
  4. 少なくとも1つの処理エレメントシャフト(13、14)と少なくとも1つのコイル(40)との間に、非磁性、非導電性材料(M)のみが配置されることを特徴とする請求項2又は請求項3記載のスクリュー機。
  5. 少なくとも1つのハウジング部分(6)は少なくとも部分的に加熱ゾーン(25)内の少なくとも1つのハウジングボア(11、12)を形成する内側スリーブ(45)を備え、
    内側スリーブ(45)は非磁性、非導電性材料(M)のみで作成されることを特徴とする請求項2乃至請求項4何れか1項記載のスクリュー機。
  6. 少なくとも1つのハウジング部分(6)は少なくとも1つの外側部分(44)及び内側スリーブ(45)を備え、
    内側スリーブ(45)は少なくとも1つの外側部分(44)に対して支持されることを特徴とする請求項1乃至請求項5何れか1項記載のスクリュー機。
  7. 内側スリーブ(45)は、少なくとも1つの1つの回転軸線(16、17)に沿って少なくとも1つの外側部分(44)に対して少なくとも2つの支持位置、特に少なくとも3つの支持位置、特に少なくとも4つの支持位置で支持されることを特徴とする請求項6記載のスクリュー機。
  8. 少なくとも1つのコイル(40)に対面する外側で、内側スリーブ(45)は少なくとも1つのコイル(40)に対してその作用が及ばないように形成されていることを特徴とする請求項6又は請求項7記載のスクリュー機。
  9. 少なくとも1つのコイル(40)は組み合わされる導体(51)を備え、
    少なくとも1つの回転軸線(16、17)に直交する導体(51)の領域において内側スリーブ(45)は厚さDを有し、5mm≦D≦50mm、特に10mm≦D≦40mm、特に15mm≦D≦30mmであることを特徴とする請求項5乃至請求項8何れか1項記載のスクリュー機。
  10. 少なくとも1つのコイル(40)は、組み合わされる導体(51)を備え、
    導体(51)は少なくとも部分的に内側スリーブ(45)に関して直線状に形成される非円形の断面を有することを特徴とする請求項5乃至請求項9何れか1項記載のスクリュー機。
  11. 少なくとも1つの処理エレメントシャフト(13、14)は、少なくとも1つの組み合わされるシャフト(30、31)上で回転不可能に搬送方向(4)に連続して配置される複数の処理エレメント(32〜37、32’〜37’)を備え、
    少なくとも1つの処理エレメント(33、33’)はその少なくとも1つの処理エレメント(33、33’)の表面を形成する金属加熱層(59)を備え、
    少なくとも1つの処理エレメント(33、33’)は加熱層(59)をシャフト(30、31)から熱絶縁する絶縁層(58)を備えることを特徴とする請求項1乃至請求項10何れか1項記載のスクリュー機。
  12. 誘導加熱装置(39)は冷却装置(42)、特に水冷装置によって冷却可能である少なくとも1つのコイル(40)を備えることを特徴とする請求項1乃至請求項11何れか1項記載のスクリュー機。
  13. 誘導加熱装置(39)は少なくとも1つのコイル(40)及び組み合わされるエネルギー供給装置(41)を備え、
    エネルギー供給装置(41)は交番電圧(U)及び/又は交流電流(I)を、特に調整可能な周波数(f)及び/又は調整可能な振幅(A)で提供することを特徴とする請求項1乃至請求項12何れか1項記載のスクリュー機。
  14. 被処理材料2の温度(T)を測定するように構成される温度測定センサ(60)と、
    被処理材料(2)の測定温度(T)に応じて誘導加熱装置(39)を制御するように構成される制御装置(61)とを備えることを特徴とする請求項1乃至請求項13何れか1項記載のスクリュー機。
  15. 請求項1乃至請求項14何れか1項記載のスクリュー機(1)を提供する工程と、
    少なくとも1つのハウジングボア(11、12)内に被処理材料(2)を供給する工程と、
    誘導加熱装置(39)によって少なくとも1つの処理エレメントシャフト(13、14)を加熱する工程と、
    被処理材料(2)を少なくとも1つの熱処理された処理シャフト(13、14)上で特に被処理材料(2)が少なくとも部分的に加熱ゾーン(25)内で溶融するまで加熱する工程とから成ることを特徴とする被処理材料の処理方法。
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