JP2018530667A5 - - Google Patents

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本出願人は、本発明での使用に適した複合材料を製造するための方法を特定した。該複合材料は、少なくとも1つの金属化合物から形成されてもよく、反応は、処理中、反応器内の過剰な酸化剤の下で実施される。該複合材料は通常微細形態であるだろうし、かつ、該方法は、通常複合材料における副産物の排除に重きを置かない。これらの複合材料の製造のための方法は、本願と同日付で出願された、「過剰な酸化剤を用いた複合材料の製造のための方法」と題する、ともに係属しているオーストラリア国仮特許出願において詳細に説明される。ともに係属している出願の内容は、その全体が本明細書に組み込まれる。
上記仮特許出願の複合材料からの生成物の回収は、本願と同日付で出願された、「複合材料からの金属含有材料の回収のための方法」と題する、ともに係属している国際特許出願において詳細に説明される。ともに係属している出願の内容は、その全体が本明細書に組み込まれる。
本発明の一態様によれば、微細反応性粒子(RParticulate)を処理して、生成物形成する方法が提供され、当該方法は:
保護マトリックス中に分散した微細反応性粒子(RParticulate)を有する複合材料を提供すること;
微細反応性粒子(RParticulate)を少なくとも部分的に露出させること;および
生成物形成することを有する。
便宜上、用語「複合材料」は、金属−塩複合材、合金−塩複合材または金属間化合物−塩複合材である、複合材料を説明するために用いられるであろう。すなわち、本明細書において用いられる用語「複合材料」は、塩のような保護マトリックスと、(i)金属元素のような、1種類の微細反応性粒子(RParticulate)、(ii)2種類以上の微細反応性粒子(RParticulate)、例えば2つ以上の金属元素、または(iii)1つ以上の非金属元素のような1つ以上の他の元素と一緒になった、1つ以上の金属元素のような1種類以上の微細反応性粒子(RParticulate)とを少なくとも有する複合材をその範囲に含むことが意図される。
微細反応性粒子(RParticulate)は、好ましくはチタン、アルミニウム、バナジウム、クロム、ニオブ、モリブデン、ジルコニウム、ケイ素、ホウ素、錫、ハフニウム、イットリウム、鉄、銅、ニッケル、ビスマス、マンガン、パラジウム、タングステン、カドミウム、亜鉛、銀、コバルト、タンタル、スカンジウム、ルテニウムおよび希土類からなる群より選択されるか、またはそれらの任意の2以上の組み合わせである。特定の実施形態では、金属は、非アルカリ/アルカリ土類金属を有する。金属は、チタン、アルミニウムおよびバナジウムのうちの少なくとも1つを有していてもよい。
複合材料は、粒子の形態であってもよい。粒子は、球形であっても任意の形状であってもよい。それらは、形状において規則的であっても不規則であってもよい。粒子は、本工程またはそれに続く処理における粒子径の有用性によって予測される所定の粒子径を有していてもよい。好ましい粒子径は、したがって特に限定されない。粒子の形態およびサイズは通常、出発材料の粉末粒子の形態およびサイズと一致する。したがって、5μmの前駆体粒子径は通常、約5μmのオーダーの生成物粒子径を製造するが、例えば50%までの粒子径の減少が予想される場合もあり得る。一緒に反応する成分に粒子を曝す技術は、好ましい粒子径に影響を与えるであろうと考えられる。
微細反応性粒子(RParticulate)は、通常、約1ミクロンまでの粒子径を有する。保護マトリックス内の微細反応性粒子(RParticulate)の容積に対する表面積の比は、好ましくは6m/mLより大きい。
その点、複合材料が、流動床反応器内でMgをTiClと接触させることにより形成され、MgClマトリックス中に分散したTi金属を形成する例を採用すると、粒子のサイズの下限において、TiClの1つの分子がMgの1つの原子と反応し、MgClとTiClを製造してもよいと考えられる。その後、Mgのもう1つの原子がTiClと反応し、第2のMgClと単一のTi原子とを形成する。したがって、その限界において、微細反応性粒子(RParticulate)は、原子スケールで保護マトリックス中に存在してもよいことが理解される。そのような例は、微細反応性粒子(RParticulate)の本当の「1次粒子」を示すであろう。実際、微細反応性粒子(RParticulate)の一部について、特に発生期の場所において、かつ、いくぶんの局所加熱、混合、部分的に溶融した塩を通した考え得る電子移動などの存在下、核になる、または塊になる(かつ、場合によっては焼結する)という固有の要求がある。そのようであるので、一緒に癒合して、分析下で観察されるより現実的に実行可能な「1次粒子」を形成する多くの原子があってもよいと考えられる。これらの粒子は極めて小さく、例えばナノスケールであってもよい。いくつかの点においては、しかしながら、少なくともこの実施形態によれば、MgClと均一に分散したチタン粒子との氷海をもたらす、Tiをその現在の凝集状態においてカプセルに包むためのMgClの「凍結」により、さらなる凝集は不可能である。したがって、この特定の実施形態では、酸素バリア層のない超高表面積金属は、MgClが除去されなければ、より大きな粒子を形成すること、または、そうでなければ反応することから完全に保護される。しかしながら、保護マトリックス、この場合MgClが(例えば溶融により)除去される時、チタン粒子は、自由に動き回り、かつ、さらに凝集し、かつ、Tiの殻のようなより大きい構造を形成する。これらは、「2次粒子」と考えられてもよい。これらのコメントは、保護マトリックス中の微細反応性粒子(RParticulate)の容積に対する表面積の比の上限に同等に関連することが理解されるであろう。
本発明のこれらの好ましい実施形態の反応性粒子の別の有利な特徴は、保護酸素層の欠如である。これらの実施形態の反応性粒子は、最大でも、反応性粒子のより低い活性エネルギー(反応性の増大)と相関する最小限の活性化バリアを有するに過ぎない。上記のメリットに加え、通常小さい粒子は、高度に自然発火性である。本発明の好ましい実施形態の複合材料は、比較的、そうではない。ほぼ<10umである従来の金属粉体について、自然発火性は大きな問題であったが、いくつかの条件下では、かなり大きいサイズ(>100um)においてさえ重大になり得る。さらに、従来の金属粉体上の酸素バリア層の存在は、例えば特にTiについて、最終生成物中の酸素含有量により、純度およびグレードを減少させるかも知れない。本発明の複合材料の保護マトリックスは、これらの問題を有利に解消してもよく、または、少なくとも改善してもよい。
微細反応性粒子を少なくとも部分的に露出させる工程は、特に限定されない。反応性粒子(RParticulate)は、複合材料の表面において、またはその近傍で露出 させてもよい。いくつかの実施形態では、露出させることは、保護マトリックスが大部分は除去されることを確実にするものと定義される。他の実施形態では、露出させることは、保護マトリックスが少なくとも部分的に保持されることを確実にするものと定義される。他の実施形態では、露出させることは、保護マトリックスが少なくとも一時的に浸透性になることを確実にするものと定義される。
1つの実施形態では、露出させる工程は、複合材料をマトリックスの揮発をもたらす条件に曝すことを有する。例えば、該条件は、マトリックスの昇華をもたらしてもよい。
1つの実施形態によれば、保護マトリックスは、真空蒸留により複合材料から除去される。例えば、真空蒸留は、アルゴンガス下のような不活性条件下で実行されてもよい。その場合、不活性(例えばアルゴン)ガスは、バリアガスとして、適用される業と真 規模依拠する割合で加えられる。例えば、これは、5mg/minの割合であってもよい。本実施形態によれば、真空蒸留は、0.01から0.015kPaの圧力で実施されてもよい。真空蒸留は、好ましくは、保護マトリクスの昇華温度を上回るで実施される。
1つの特定の実施形態では、微細反応性粒子(RParticulate)は、チタンを少なくとも有し、かつ、保護マトリックスは塩化マグネシウムを有し、かつ、真空蒸留は700℃から950℃の温度で実行される。
代替的な実施形態では、露出させる工程は、マトリックスを溶融すること、したがって、微細反応性粒子(RParticulate)を少なくとも部分的に露出させることを有する。例えば、複合材料の成分に基づいて、溶融は、共晶の形成により、保護マトリックスの各成分の個別の溶融温度を下回る温度で実施されてもよい。
別の実施形態では、露出させる工程は、マトリックスの摩耗、したがって、微細反応性粒子(RParticulate)を少なくとも部分的に露出させることを有する。例えば、摩耗は、摩砕機、研削機または摩耗が起こる任意の作動可能な装置において起こってもよい。
代替的な実施形態では、露出させる工程は、固体−固体、固体−液体または固体−気体接触装置における処理、したがって、複合材料の表面において微細反応性粒子(RPa rticulate)を少なくとも部分的に露出させることを有する。例えば、接触は、流動床または撹拌反応器において起こってもよい。
露出させた粒子材料は、生成物形成に有利な条件に曝されてもよい。これは、適切な温度および圧力の選択を含む。これは、保護マトリックスと、微細反応性粒子(RPa rticulate)を形成するのに必要な条件下では利用可能でない、以下でより詳細に説明される追加材料の両方の相に関してある程度の柔軟性を提供することが理解され得る。また、反応性粒子の微細性質を考慮すれば、反応は、反応性粒子と、存在する任意の他の材料との相の任意の組み合わせを介して進行してもよいことも理解されるべきである。
生成物形成することは、露出させた微細反応性粒子(RParticulate)を別の材料に曝すことを有していてもよい。他の材料の選択は、特に限定されない。しかしながら、他の材料は、チタン、アルミニウム、バナジウム、クロム、ニオブ、モリブデン、ジルコニウム、ケイ素、ホウ素、タンタル、炭素、錫、ハフニウム、イットリウム、鉄、銅、ニッケル、ビスマス、マンガン、パラジウム、タングステン、カドミウム、亜鉛、銀、コバルト、マグネシウム、ベリリウム、スカンジウム、ルテニウムおよび希土類からなる群またはそれらの任意の2つ以上の組み合わせ、特にクロム、銀、銅、マンガン、コバルト、スカンジウム、ニオブ、カドミウムおよびニッケルより有利に選択されてもよいと考えられる。しかしながら、他の材料が存在しなければ、露出させた反応性粒子(RParticulate)自体が生成物形成することは、注目されるべきである。
微細反応性粒子(RParticulate)の表面を少なくとも部分的に露出させ 工程は、酸化還元反応、非酸化還元反応、凝集、合金化および冷間圧接のうちの少なくとも1つをもたらしてもよい。例えば、微細反応性粒子(RParticulate)は、高度に反応性であってもよく、かつ、存在すれば、他の材料に曝す際に、他の材料を還元された形態に還元してもよい。例えば、チタン(すなわち、微細反応性粒子(R articulate)として)と炭素とからの炭化チタンのような化合物の形成において、炭素の還元は、TiがTiからTi4+まで、かつ、CがCからC4−まで行くにつれて観察される。他の例では、微細反応性粒子(RParticulate)の表面を露出させることは、微細反応性粒子(RParticulate)が他の材料と凝集するか、または合金化する原因となる。その点、特定の実施形態では、微細反応性粒子(RParticulate)は互いに凝集または合金化してもよい。別の特定の例として、微細反応性粒子(RParticulate)を露出させることは、他の材料との冷間圧接のための位置を提供する。この点における本発明の特定の実施形態のメリットは、そのような反応が、微細反応性粒子(RParticulate)上にいかなる酸素バリア層もないことにより、実質的に低下した温度で実施されてもよいことである(すなわち、そのようなバリア層を取り除くための高温処理の必要性がない)。
本発明はさらに、上記の方法に用いるための複合材料に関し、該複合材料は、保護マトリックス中に分散した微細反応性粒子(RParticulate)を有する。
上記の好ましい特徴はまた、本発明のこの態様においても当てはまる。例えば、微細反応性粒子(RParticulate)は、チタン、アルミニウム、バナジウム、クロム、ニオブ、モリブデン、ジルコニウム、ケイ素、ホウ素、錫、ハフニウム、イットリウム、鉄、銅、ニッケル、ビスマス、マンガン、パラジウム、タングステン、カドミウム、亜鉛、銀、コバルト、タンタル、スカンジウム、ルテニウムおよび希土類またはそれらの任意の2つ以上の組み合わせからなる群、特にチタン、アルミニウムおよびバナジウムより選択される金属を有していてもよい。保護マトリックスは、例えばMgCl、NaCl、KCl、LiCl、BaCl、CaCl、BeCl、AlClおよびそれらの任意の組み合わせからなる群より選択される金属ハライド(MX)を有していてもよい。
また、複合材料は、粒子の形態であってもよく、該粒子は、球形であってもよく、形状において規則的であっても不規則であってもよい。粒子は、本工程またはそれに続く処理における粒子径の有用性によって予測される所定の粒子径を有していてもよい。同様に、微細反応性粒子(RParticulate)は、約1ミクロンまでの粒子径を有していてもよい。保護マトリックス内の微細反応性粒子(RParticulate)の容積に対する表面積の比は、6m/mLより大きくてもよい。
本発明はさらに、生成物形成における、保護マトリックス中に分散した微細反応性粒子(RParticulate)を有する複合材料の使用に関し、ここで、微細反応性粒子(RParticulate生成物形成において少なくとも部分的に露出 させる。
生成物形成は、酸化還元反応、非酸化還元反応、合金化および冷間圧接のうちの少なくとも1つを有していてもよい。また、生成物形成は、露出させた微細反応性粒子(RParticulate)を、概して先に言及したものから選択される別の材料に曝すことを有していてもよい。
図1を参照すると、保護マトリックス中に分散した微細反応性粒子(RPartic ulate)を露出させることを通して生成物形成するための方法100が示されている。当該方法は、保護マトリックス中に分散した微細反応性粒子(RParticul ate)を有する複合材料の原料110を提供することを伴う。複合材料は、特定の状況に基づいて、所望されれば、前処理120されてもよい。例えば、前処理は、これが微細 反応性粒子(RParticulate)を実質的に露出させないという条件で、複合材料の混合、締結、摩砕または研削を有していてもよい。
複合材料の微細反応性粒子(RParticulate、少なくとも部分的に 出させる130。これは、保護マトリックスを部分的、大部分、もしくは完全に除去すること、または、マトリックスを一時的に浸透性にすることを含んでいてもよい。粒子は、高度に反応性であり、かつ、容積に対する表面積が大きい。そうであるので、複合材料の保護マトリックスの揮発(例えば、真空蒸留による)、マトリックスの溶融、複合材料の摩砕、研削および/または摩耗、固体−固体、固体−液体または固体−気体接触装置(例えば、流動床)における処理を通してもよい、粒子を露出させることは通常、生成物 を始動させる。
その最も広い形態において、本発明は、複合材料の微細反応性粒子(RPartic ulate)から形成される生成物を提供してもよい。すなわち、微細反応性粒子(RParticulate)の凝集または合金化を通して。本発明はまた、露出させる工程130前または露出させる工程130中の、他の材料の組み合わせであってもよい別の材料の追加140も考慮する。他の材料は、微細反応性粒子(RParticulate)との酸化還元反応または非酸化還元反応に関与する材料であってもよい。それは、微細 反応性粒子(RParticulate)と冷間圧接してもよい。
所望の生成物形成に続いて、生成物が回収されてもよい150。
容器が空気でパージされ、かつ、残留材料が、チタン70%−クロム30%の組成を有する、ほぼ5gの金属を有して容器から回収された。金属は、ゆるく焼結した粒子の形態であった。観察された金属の割合は、複合材料中の微細チタン金属による、CrClの金属への広範囲の還元を示している。
四塩化バナジウムが、1時間に50グラムの割合で供給された。反応器への還元される成分の追加が、露出させた還元剤位置で起こる反応の発熱性質と一致して、短い期間で反応器内の温度を上昇させた。
四塩化チタンが、1時間にほぼ150グラムの割合で供給された。反応器への還元される成分の追加が、露出させた還元剤位置で起こる反応の発熱性質と一致して、短い期間で反応器内の温度を上昇させた。
容器が空気でパージされ、かつ、残留材料が、銀60%−チタン40%の組成を有する、ほぼ8.35gの金属を有して容器から回収された。金属は、ゆるく焼結した粒子の形態であった。観察された金属の割合は、複合材料中の微細チタン金属による、AgClの金属への広範囲の還元を示している。
容器が空気でパージされ、かつ、残留材料が、バナジウム70%−クロム30%の組成を有する、ほぼ12mgの金属を有して容器から回収された。金属は、ゆるく焼結した粒子の形態であった。観察された金属の割合は、複合材料中の微細チタン金属による、CrClの金属への広範囲の還元を示している。
容器が空気でパージされ、かつ、残留材料が、ジルコニウム80%−クロム20%の組成を有する、ほぼ12mgの金属を有して容器から回収された。金属は、ゆるく焼結した粒子の形態であった。観察された金属の割合は、複合材料中の微細チタン金属による、CrClの金属への広範囲の還元を示している。

Claims (56)

  1. 微細反応性粒子(RParticulate)を処理して生成物形成する方法であって、当該方法は:
    保護マトリックス中に分散した微細反応性粒子(RParticulate)を有する複合材料を提供すること;
    前記微細反応性粒子(RParticulate)を少なくとも部分的に露出させること;および
    前記生成物形成することを有する、
    前記方法。
  2. 前記微細反応性粒子(RParticulate)が、チタン、アルミニウム、バナジウム、クロム、ニオブ、モリブデン、ジルコニウム、ケイ素、ホウ素、錫、ハフニウム、イットリウム、鉄、銅、ニッケル、ビスマス、マンガン、パラジウム、タングステン、カドミウム、亜鉛、銀、コバルト、タンタル、スカンジウム、ルテニウムおよび希土類からなる群より選択される金属またはそれらの任意の2つ以上の組み合わせを有する、請求項1に記載の方法。
  3. 前記金属が、チタン、アルミニウムおよびバナジウムのうちの少なくとも1つを有する、請求項2に記載の方法。
  4. 前記保護マトリックスが、金属ハライド(MX)を有する、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
  5. 前記金属ハライド(MX)が、MgCl、NaCl、KCl、LiCl、BaCl、CaCl、BeCl、AlClおよびそれらの任意の組み合わせからなる群より選択される、請求項4に記載の方法。
  6. 前記複合材料が、(i)1以上の酸化状態にある1つ以上の金属化合物(M)および(ii)還元剤(R)のうちの少なくとも1つをさらに有する、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
  7. 前記複合材料が、前記還元剤(R)を20重量%まで有する、請求項6に記載の方法。
  8. 前記還元剤(R)が、Mg、Na、K、Li、Ba、Ca、Be、Alおよびそれらの任意の組み合わせからなる群より選択される、請求項6または7に記載の方法。
  9. 1以上の酸化状態にある前記の1つ以上の金属化合物(M)が、1つ以上の金属ハライド(MX)を有する、請求項6から8のいずれか一項に記載の方法。
  10. 前記複合材料が粒子形態である、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
  11. 前記粒子が球形である、請求項10に記載の方法。
  12. 前記粒子が、形状において規則的または不規則である、請求項10に記載の方法。
  13. 前記粒子が、反応またはそれに続く処理における前記粒子径の有用性によって予測され る所定の粒子径を有する、請求項10から12のいずれか一項に記載の方法。
  14. 前記微細反応性粒子(RParticulate)が、約1ミクロンまでの粒子径を有する、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
  15. 前記保護マトリックス中の前記微細反応性粒子(RParticulate)の容積に対する表面積の比が、6m/mLより大きい、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
  16. 前記微細反応性粒子(RParticulate)を少なくとも部分的に露出させる前記工程が、前記複合材料を、前記マトリックスの揮発をもたらす条件に曝すことを有する、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
  17. 前記条件が、前記マトリックスの昇華をもたらす、請求項16に記載の方法。
  18. 前記保護マトリックスが、真空蒸留により前記複合材料から除去される、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
  19. 前記真空蒸留が、アルゴンガス下のような不活性条件下で実行される、請求項18に記載の方法。
  20. 前記アルゴンガスが、バリアガスとして、適用される業と真の規模依拠する割合で加えられる、請求項19に記載の方法。
  21. 前記真空蒸留が、0.01から0.015kPaの圧力で実施される、請求項18から20のいずれか一項に記載の方法。
  22. 前記真空蒸留が、前記保護マトリックスの昇華温度を上回る温度で実施される、請求項18から21のいずれか一項に記載の方法。
  23. 前記微細反応性粒子(RParticulate)が少なくともチタンを有し、かつ、前記保護マトリックスが塩化マグネシウムを有し、かつ、前記真空蒸留が700℃から950℃の温度で実施される、請求項18から22のいずれか一項に記載の方法。
  24. 前記微細反応性粒子(RParticulate)を少なくとも部分的に露出させる前記工程が、前記マトリックスを溶融することを有する、請求項1から15のいずれか一項に記載の方法。
  25. 前記溶融が、共晶の形成により、前記保護マトリックスの各成分の個別の溶融温度を下回る温度で実施される、請求項24に記載の方法。
  26. 前記微細反応性粒子(RParticulate)を少なくとも部分的に露出させる前記工程が、前記複合材料の摩砕、研削および/または摩耗を有する、請求項1から15のいずれか一項に記載の方法。
  27. 前記微細反応性粒子(RParticulate)を少なくとも部分的に露出させる前記工程が、固体−固体、固体−液体または固体−気体接触装置内における処理を有する、請求項1から15のいずれか一項に記載の方法。
  28. 前記接触装置が流動床である、請求項27に記載の方法。
  29. 前記生成物形成することが、前記の露出させた微細反応性粒子(RParticu late)を別の材料に曝すことを有する、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
  30. 前記の別の材料が、チタン、アルミニウム、バナジウム、クロム、ニオブ、モリブデン、ジルコニウム、ケイ素、ホウ素、タンタル、炭素、錫、ハフニウム、イットリウム、鉄、銅、ニッケル、ビスマス、マンガン、パラジウム、タングステン、カドミウム、亜鉛、銀、コバルト、マグネシウム、ベリリウム、スカンジウム、ルテニウムおよび希土類からなる群より選択されるか、またはそれらの任意の2つ以上の組み合わせである、請求項29に記載の方法。
  31. 前記生成物形成する前記工程が、酸化還元反応、非酸化還元反応、凝集、合金化および冷間圧接のうちの少なくとも1つを有する、先行する請求項のいずれか一項に記載の方法。
  32. 先行する請求項のいずれか一項の方法に使用するための複合材料であって、前記複合材料が、保護マトリックス中に分散した微細反応性粒子(RParticulate)を有する、前記複合材料。
  33. 前記微細反応性粒子(RParticulate)が、チタン、アルミニウム、バナジウム、クロム、ニオブ、モリブデン、ジルコニウム、ケイ素、ホウ素、錫、ハフニウム、イットリウム、鉄、銅、ニッケル、ビスマス、マンガン、パラジウム、タングステン、カドミウム、亜鉛、銀、コバルト、タンタル、スカンジウム、ルテニウムおよび希土類からなる群より選択される金属またはそれらの任意の2つ以上の組み合わせを有する、請求項32に記載の複合材料。
  34. 前記金属が、チタン、アルミニウムおよびバナジウムのうちの少なくとも1つを有する、請求項33に記載の複合材料。
  35. 前記保護マトリックスが、金属ハライド(MX)を有する、請求項32から34のいずれか一項に記載の複合材料。
  36. 前記金属ハライド(MX)が、MgCl、NaCl、KCl、LiCl、BaCl、CaCl、BeCl、AlClおよびそれらの任意の組み合わせからなる群より選択される、請求項35に記載の複合材料。
  37. 前記複合材料が粒子形態である、請求項32から36のいずれか一項に記載の複合材料。
  38. 前記粒子が球形である、請求項37に記載の複合材料。
  39. 前記粒子が、形状において規則的または不規則である、請求項38に記載の複合材料。
  40. 前記粒子が、反応またはそれに続く処理における前記粒子径の有用性によって予測され る所定の粒子径を有する、請求項37から39のいずれか一項に記載の複合材料。
  41. 前記微細反応性粒子(RParticulate)が、約1ミクロンまでの粒子径を有する、請求項32から40のいずれか一項に記載の複合材料。
  42. 前記保護マトリックス中の前記微細反応性粒子(RParticulate)の容積に対する表面積の比が、6m/mLより大きい、請求項32から41のいずれか一項に記載の複合材料。
  43. 生成物形成における、保護マトリックス中に分散した微細反応性粒子(RPart iculate)を有する複合材料の使用であって、前記微細反応性粒子(RPart iculate、前記生成物の前記形成において少なくとも部分的に露出させる、前記使用。
  44. 前記微細反応性粒子(RParticulate)が、チタン、アルミニウム、バナジウム、クロム、ニオブ、モリブデン、ジルコニウム、ケイ素、ホウ素、錫、ハフニウム、イットリウム、鉄、銅、ニッケル、ビスマス、マンガン、パラジウム、タングステン、カドミウム、亜鉛、銀、コバルト、タンタル、スカンジウム、ルテニウムおよび希土類からなる群より選択される金属またはそれらの任意の2つ以上の組み合わせを有する、請求項43に記載の使用。
  45. 前記金属が、チタン、アルミニウムおよびバナジウムのうちの少なくとも1つを有する、請求項44に記載の使用。
  46. 前記保護マトリックスが、金属ハライド(MX)を有する、請求項43から45のいずれか一項に記載の使用。
  47. 前記金属ハライド(MX)が、MgCl、NaCl、KCl、LiCl、BaCl、CaCl、BeCl、AlClおよびそれらの任意の組み合わせからなる群より選択される、請求項46に記載の使用。
  48. 前記複合材料が粒子形態である、請求項43から47のいずれか一項に記載の使用。
  49. 前記粒子が球形である、請求項48に記載の使用。
  50. 前記粒子が、形状において規則的または不規則である、請求項49に記載の使用。
  51. 前記粒子が、反応またはそれに続く処理における前記粒子径の有用性によって予測され る所定の粒子径を有する、請求項48から50のいずれか一項に記載の使用。
  52. 前記微細反応性粒子(RParticulate)が、約1ミクロンまでの粒子径を有する、請求項43から51のいずれか一項に記載の使用。
  53. 前記保護マトリックス中の前記微細反応性粒子(RParticulate)の容積に対する表面積の比が、6m/mLより大きい、請求項43から52のいずれか一項に記載の使用。
  54. 前記生成物が、酸化還元反応、非酸化還元反応、凝集、合金化および冷間圧接のうちの少なくとも1つにより形成される、請求項43から53のいずれか一項に記載の使用。
  55. 前記生成物が、前記の露出させた微細反応性粒子(RParticulate)を別の材料に曝すことにより形成される、請求項43から54のいずれか一項に記載の使用。
  56. 前記の別の材料が、チタン、アルミニウム、バナジウム、クロム、ニオブ、モリブデン、ジルコニウム、ケイ素、ホウ素、タンタル、炭素、錫、ハフニウム、イットリウム、鉄、銅、ニッケル、ビスマス、マンガン、パラジウム、タングステン、カドミウム、亜鉛、銀、コバルト、マグネシウム、ベリリウム、スカンジウム、ルテニウムおよび希土類からなる群より選択されるか、またはそれらの任意の2つ以上の組み合わせである、請求項55に記載の使用。
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