JP2018527594A - シードナノ粒子、それらの製造および使用 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、一般に新規なクラスのシード(seeded)ナノ粒子およびその使用に関する。
半導体量子ロッドは、色調整可能であり、偏光した発光を提供する。そのため、それらは、様々なアプローチにおいてフラットパネルディスプレイにおける適用のための高度に関連するビルディングブロックである。量子ロッドのこれらの、および他の特性、例えばそれらの湿式化学的加工および電荷分離能力はまた、それらの関連を蛍光および量子ロッドの他の有益な特性を開発する追加的な適用に供給する。興味のある特別のアーキテクチャーは、シードロッドであり、ここでシード、例えばCdSeまたはZnSeの量子ドットを、ロッドの成長をシードするために使用する[1〜3]。得られたロッドの中のドットの構造は、しばしば1つのナノ構造体中の0D−1D特性を組み合わせることとして言及される。
したがって、制御された組成を有するシードナノロッド、特に制御された組成および増強された特性を有するZn−カルコゲニドの顕著な含量を有するナノロッドを開発する必要性が残る。
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ここで、本発明者らは、シードロッドを成長させるための新規な合成方法論、単純、再現可能である方法論、および高度に調整可能なZn−カルコゲニドシードロッドナノ粒子およびそれを含む組成物を提供する。したがって、本発明は、ロッドアーキテクチャー中の顕著に制御されたZn−カルコゲニド含量を有する新規なクラスのシードナノロッド(SR)を提供する。さらに提供するのは、この新たな新規なクラスのナノロッドの形成のための新たなワンポット合成アプローチである。
同様に、電場の下で、発光変調が観察された。電場の下での応答によって、本発明のSRが、コア/シェルナノ結晶において観察されない切換効果を示すことがもたらされる。
1つの観点において、種々の材料のシードナノ構造体を包埋する亜鉛−カルコゲニドロッドナノ構造体を含む亜鉛−カルコゲニドシードナノロッドを、提供する。
いくつかの態様において、亜鉛−カルコゲニドシードナノロッドは、各々オレイン酸亜鉛をナノロッド表面上に有する種々の材料のシードナノ構造体を包埋する亜鉛−カルコゲニドロッドナノ構造体を含む。
いくつかの態様において、ロッドは、Zn−カルコゲニド材料からなる。
いくつかの態様において、シード構造およびSR系は、非球形である。いくつかの態様において、シードは、球形である。
上で述べたように、ロッド構造は、いくつかの態様において亜鉛−カルコゲニド材料からなってもよく;他の態様において、それは、少なくとも1種の他の材料との合金の形態にあってもよい。
いくつかの態様において、当該少なくとも1種の他の材料は、元素の周期表のブロックdのIIIB、IVB、VB、VIB、VIIB、VIIIB、IB、IIB、IIIA、IVAおよびVA族の元素であるかまたはそれを含む。
他の態様において、半導体材料は、I〜VII族半導体である、CuCl、CuBr、CuI、AgCl、AgBr、AgIなどである。
いくつかの態様において、本発明のSRは、ZnS、ZnTeおよびZnTe/ZnSから選択されたZn−カルコゲニドロッド材料中に包埋されたZnTe、ZnSe、ZnTe、ZnSeTe、InAs、InP、CdSe、CdSおよびCdSSeから選択された材料のシードからなる。
本発明はさらに、カドミウム非含有Zn−カルコゲニドSRを提供する。
ロッド材料は、典型的に亜鉛−カルコゲニド基づいた材料であり、すなわちそれは、亜鉛−カルコゲニド材料および少なくとも1種の他の材料を含み、それは、いくつかの態様において半導体材料である。いくつかの態様において、合金ロッド材料は、亜鉛−カルコゲニドおよびカドミウムカルコゲニド製である。かかる態様において、ロッド中の亜鉛−カルコゲニドの量は、0.01%から99.99%まで変化し得、別の材料、例えばカドミウムカルコゲニド量は、それぞれ99.99%から0.01%まで変化する。
いくつかの態様において、亜鉛−カルコゲニド材料は、例えばカドミウムカルコゲニドロッド内で、亜鉛−カルコゲニド材料の量(濃度)がシード構造から遠方に増大し(またはシード構造の位置の方向に減少し);またはその逆、亜鉛−カルコゲニドの量がシード構造から離れて減少する(またはシード構造の位置の方向に増大する)ように類別される。
所望の生成物を達成した後に、反応を、反応フラスコを冷却することにより反応停止する。
発光ダイオードは、本発明によるSRを含む。
本明細書中に開示する主題をより良好に理解し、いかにしてそれを実際上実施し得るかを例示するために、態様をここで、非限定的例のみによって添付の図面を参照して記載し、ここで:
この作業は、Zn−カルコゲニドをロッド中に含む調整可能な組成を有する新たなシード半導体ナノロッドを、重要であり良好に制御された方式で提供する。例えば硫黄の適切な含量と共に適切なシードをロッド成長のために使用して、追加的なZn含有前駆体を、それをナノロッド中に包含させるために加える。したがって、1つの態様において、Zn−カルコゲニド含量をロッド中に有する生成物をシードしたロッドは、蛍光量子収量、安定性および色チューニング制御の観点において著しく改善された特性を有する新規な構造である。
例1−CdSe/CdxZn1−xSナノロッド
CdSeシードおよびS前駆体(S−TOP)を、Cd前駆体、ホスホン酸およびTOP/TOPOを含むフラスコ中に注入した。反応性Zn前駆体を、成長の初期段階において、合成にゆっくり加える。図1に描写するCdSe、ZnSおよびCdS半導体の相対的なバンド整列、CdSe/ZnS中のより明白なタイプI配置の例証、CdSe/CdSナノロッドと比較した。これらの材料間の格子不整合を考慮して、CdSe/CdxZn1−xSナノロッド構造中の増大した量子収量が予期される。この構造は、シードのCdS好適な前駆体との初期の反応、続いて(およびある場合においてはそれと共に)亜鉛前駆体の遅い速度の添加によって得られて、合成の適切な添加および温度調節を伴って合金シェルが形成する。
CdOに対する2.5:1比率における6.1×10−4モルのCdO、ヘキシルホスホン酸(HPA)およびオクタデシルホスホン(ODPA)を、トリオクチルホスフィンオキシド(TOPO)を含む3つ首フラスコに加え、150℃で排気した。フラスコを、アルゴンの下で300℃に加熱した。次に、トリオクチルホスフィン(TOP)を、フラスコに加えた。その後、フラスコ中の温度を380℃に上昇させ、ここで小さなCdSeシード(約2nm)を硫黄−TOPに溶解した溶液を、フラスコ中に速やかに注入した。6mlのオレイン酸Znを、合成の最初の10minの間フラスコに加えた。反応を1時間後に終了させ、室温に冷却し、その内容物をアルゴンの下で保存した。
CdOに対する4:1比率における1.9×10−3モルのCdO、ヘキシルホスホン酸(HPA)およびオクタデシルホスホン(ODPA)を、トリオクチルホスフィンオキシド(TOPO)を含み、150℃で1.5時間排気した3つ首フラスコに加えた。フラスコをアルゴンの下で300℃に加熱し、溶液が透明であるまでこの温度において保持した。次に、トリオクチルホスフィン(TOP)を、フラスコに滴加した。その後、フラスコ中の温度を360℃に上昇させ、ここでCdSeコアを硫黄−TOPに溶解した溶液を、フラスコ中に速やかに注入した。合成の最初の10minの間、20mlのオレイン酸Znを、フラスコに加えた。反応を1時間後に終了させ、室温に冷却し、その内容物をアルゴン下で保存した。
この場合において、合金ナノロッドの形成は、CdSe/CdSナノロッドの合成の後に生じ、それを洗浄して、過剰の配位子および前駆体を除去する。その後、ナノロッドをTOP/TOPO混合物に溶解し、過剰の反応性Zn前駆体(ZnSの10の単層と等価な量)を、フラスコに高い温度(200℃)において加え、この温度において2時間保持する。
この例において、Cdのないロッド中にZnのみがある。Cdを、合成の最初にフラスコに加えない。この場合においてナノロッド成長を促進し、シードの分解を防止するために、少量のZn前駆体を、CdSeシードおよび硫黄前駆体と一緒に注入する。合成の生成物は、TEM画像を示す図12において明らかなようにロッド様構造である。さらに、その結晶構造は、図3、上方の曲線に提示するように、最上部のパネルと比較して、ウルツ鉱ZnSのパターンに対する強度の類似性を保有する。
この例において、CdSeドット以外のシードを、溶液中に注入し、シードロッドの組成に対する制御を例証する。
例2A−ZnSe/CdxZn1−xSナノロッド
この例において、小さなZnSeナノ結晶シードを、CdO、ホスホン酸およびTOP/TOPO混合物を含むフラスコに注入する。ZnSeとCdSとの間の小さな格子不整合および(2〜5%)によって、以前に示したようにCdSロッドの成長が可能になる。Zn前駆体の合成への添加によって、例1Aに記載したように、制御された組成を有するZnSe/CdxZn1−xSナノロッドが得られる。
ナノロッド組成およびしたがって特性に対するさらなる制御を、US 7,964,278およびUS 8,343,576に従って合成したInP/ZnSeコア/シェルシードまたはIn/ZnSeSシードまたはInP/ZnSe/ZnSシードをCdO、ホスホン酸およびTOP/TOPO混合物を含むフラスコに注入する際に得ることができる。ZnSeとCdSとの間の小さな格子不整合および(2〜5%)によって、CdSロッドの成長が可能になる。Zn前駆体の合成への添加によって、例1Aに詳細に記載したように、InP@ZnSeシードのサイズによって左右される制御された組成および制御された光学的性質を有するInP@ZnSe/CdxZn1−xSナノロッドが得られる。
この場合において、4成分系の合金シードロッドを、2種のアニオンを2種のカチオンに加えて前の例において提示した反応に導入することにより得る。当該合成は、記載した合成と同様であり、またSe前駆体のS前駆体と一緒のフラスコへの添加がある点で異なる。合成におけるSe、S、ZnおよびCdの相対量を変化させることによって、シードロッドの組成を制御することが可能になり得る。
Claims (56)
- 種々の材料のシードナノ構造体を包埋する亜鉛−カルコゲニドロッドナノ構造体を含むシードナノロッドであって、前記シードナノロッドがコア−シェル構造でない、前記シードナノロッド。
- 亜鉛−カルコゲニドロッド構造が亜鉛−カルコゲニド合金である、請求項1に記載のシードナノロッド。
- Zn−カルコゲニド材料をCd−カルコゲニドと共に含む、請求項1に記載のシードナノロッド。
- ロッドがZn−カルコゲニド材料からなる、請求項1に記載のシードナノロッド。
- Zn−カルコゲニドロッドがZn−カルコゲニド材料および少なくとも1種の他の材料を含む、請求項1に記載のシードナノロッド。
- Zn−カルコゲニド材料および少なくとも1種の他の材料の組み合わせを含むロッドがロッド内に均質に分布する、請求項5に記載のシードナノロッド。
- Zn−カルコゲニド材料の濃度がシード構造からの増大する距離に伴って増大する、請求項6に記載のシードナノロッド。
- シード構造、および一般式CdxZn1−xSeyS1−yを有する材料のZn−カルコゲニドロッドを含み、ここでxが0(ゼロ)〜1の範囲内であり、かつここでyが0(ゼロ)〜1の範囲内である、請求項1に記載のシードナノロッド。
- x=0である、請求項8に記載のシードナノロッド。
- xが0.5〜0.9である、請求項8に記載のシードナノロッド。
- シード構造、および一般式CdxZn1−xTeyS1−yを有する材料のZn−カルコゲニドロッドを含み、ここでxが0(ゼロ)〜1の範囲内であり、かつここでyが0(ゼロ)〜1の範囲内である、請求項1に記載のシードナノロッド。
- x=0である、請求項11に記載のシードナノロッド。
- xが0.5〜0.9である、請求項11に記載のシードナノロッド。
- シード構造、および一般式CdxZn1−xTezSeyS1−y−zを有する材料のZn−カルコゲニドロッドを含み、ここでxが0(ゼロ)〜1の範囲内であり、ここでyが0(ゼロ)〜1の範囲内であり、かつここでzが0(ゼロ)〜1の範囲内である、請求項1に記載のシードナノロッド。
- x=0である、請求項14に記載のシードナノロッド。
- xが0.5〜0.9である、請求項14に記載のシードナノロッド。
- 長さが約5nm〜150nmおよび幅(厚さ)が約2〜15nmである、請求項1に記載のシードナノロッド。
- 1.8〜20のアスペクト比(長さ/厚さ)を有する、請求項1に記載のシードナノロッド。
- 半導体材料である、請求項1に記載のシードナノロッド。
- 当該少なくとも1種の他の材料が金属、金属合金、金属酸化物、絶縁体および半導体材料の中から選択される、請求項5に記載のシードナノロッド。
- 当該少なくとも1種の他の材料が元素の周期表のブロックdのIIIB、IVB、VB、VIB、VIIB、VIIIB、IB、IIB、IIIA、IVAおよびVA族の元素であるかまたはそれを含む、請求項20に記載のシードナノロッド。
- 当該少なくとも1種の他の材料が周期表のブロックdのIIIB、IVB、VB、VIB、VIIB、VIIIB、IBおよびIIB族から選択された遷移金属であるかまたはそれを含む、請求項20に記載のシードナノロッド。
- 当該少なくとも1種の他の材料がSc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Ni、Cu、Y、Zr、Nb、Tc、Ru、Mo、Rh、W、Au、Pt、Pd、Ag、Mn、Co、Cd、Hf、Ta、Re、Os、IrおよびHgから選択された金属であるかまたはそれを含む、請求項20に記載のシードナノロッド。
- シード材料および少なくとも1種の他の材料が互いに独立してI〜VII族、II〜VI族、III〜V族、IV〜VI族、III〜VI族およびIV族半導体およびその組み合わせの元素から選択された半導体材料である、請求項20に記載のシードナノロッド。
- 半導体材料がI〜VII族半導体である、請求項24に記載のシードナノロッド。
- 半導体材料がII〜VI族材料である、請求項24に記載のシードナノロッド。
- 材料がCdSe、CdS、CdTe、HgS、HgSe、HgTe、CdSeTeおよびその任意の組み合わせから選択される、請求項26に記載のシードナノロッド。
- 材料がZnSe、ZnTe、ZnS、ZnCdSe、ZnCdTe、ZnCdSおよびその任意の組み合わせから選択される、請求項26に記載のシードナノロッド。
- III〜V族材料がInAs、InP、InN、GaN、InSb、InAsP、InGaAs、GaAs、GaP、GaSb、AlP、AlN、AlAs、AlSbおよびその任意の組み合わせから選択される、請求項24に記載のシードナノロッド。
- IV〜VI族材料がPbSe、PbTe、PbS、PbSnTe、Tl2SnTe5およびその任意の組み合わせから選択される、請求項24に記載のシードナノロッド。
- シードがZnS、ZnTeおよびZnTe/ZnSから選択されたZn−カルコゲニドロッド材料中に包埋されたZnTe、ZnSe、ZnTe、ZnSeTe、InAs、InP、CdSe、CdSおよびCdSSeから選択された材料製である、請求項1に記載のシードナノロッド。
- シードがZnO、ZnS、ZnTeおよびZnTe/ZnSから選択された材料製のZn−カルコゲニドロッド中に包埋されたZnTe、ZnSe、ZnTe、ZnSeTe、InAs、InP、CdSe、CdSおよびCdSSeから選択された材料製であり、かつここで当該少なくとも1種の他の材料がCdSeおよびCdSから選択される、請求項5に記載のシードナノロッド。
- カドミウム非含有Zn−カルコゲニドシードナノロッドである、請求項1または5に記載のシードナノロッド。
- 以下のものから選択される、シードナノロッド:
a.CdSe/CdxZn1−xS、式中xは0〜1である;
b.CdSe/ZnS;
c.CdSe/CdZnS;
d.ZnSe/CdxZn1−xS、式中xは0〜1である;
e.InP@ZnSe/CdxZn1−xS、式中xは0〜1である;
f.CdSe/CdxZn1−xSeyS1−y、式中xは0〜1であり、式中yは0〜1である;
g.CdS/CdxZn1−xS、式中xは0〜1である;CdS/CdxZn1−xSe、式中xは0〜1である;
h.ZnS/CdxZn1−xS、式中xは0〜1である;
i.ZnS/CdxZn1−xSe、式中xは0〜1である;
j.InP@ZnS/CdxZn1−xS、式中xは0〜1である;
k.InP@ZnS/CdxZn1−xSe、式中xは0〜1である;
l.InP@ZnSe/CdxZn1−xSe、式中xは0〜1である;
m.CdS/CdxZn1−xSeyS1−y、式中xは0〜1であり、式中yは0〜1である;
n.InP@ZnSe/CdxTe1−xS、式中xは0〜1である;
o.CdSe/CdxTe1−xSeyS1−y、式中xは0〜1であり、式中yは0〜1である;
p.CdS/CdxTe1−xS、式中xは0〜1である;CdS/CdxTe1−xSe、式中xは0〜1である;
q.ZnS/CdxTe1−xS、式中xは0〜1である;
r.ZnS/CdxTe1−xSe、式中xは0〜1である;
s.InP@ZnS/CdxTe1−xS、式中xは0〜1である;
t.InP@ZnS/CdxTe1−xSe、式中xは0〜1である;
u.InP@ZnSe/CdxTe1−xSe、式中xは0〜1である;および
v.CdS/CdxTe1−xSeyS1−y、式中xは0〜1であり、式中yは0〜1である。 - 表1のいずれか1種のシードナノロッドから選択される、シードナノロッド:
- ロッドが亜鉛−カルコゲニドおよびカドミウムカルコゲニドの合金製である、請求項1に記載のシードナノロッド。
- 亜鉛−カルコゲニドのロッド中の量が0.01%〜99.99%である、請求項36に記載のシードナノロッド。
- 亜鉛−カルコゲニドがカドミウムカルコゲニドと共に均質に分布している、請求項36に記載のシードナノロッド。
- 亜鉛−カルコゲニド材料がカドミウムカルコゲニドロッド内で、亜鉛−カルコゲニド材料の量(濃度)がシード構造から遠方に増大するように類別される、請求項36に記載のシードナノロッド。
- シードナノロッドの製造方法であって、当該方法がシードナノ結晶を含む媒体を、(1)金属カルコゲニドナノロッドのシードナノ結晶の周囲での形成を開始する条件下でのカルコゲニド前駆体および金属原子含有前駆体;ならびに(2)それによってシードナノロッドを提供するために少なくとも1種の亜鉛原子含有前駆体で処理することを含む、前記方法。
- シードナノロッドが式シード/金属xZn1−xカルコゲニドyで表され、式中金属がCdであり、カルコゲニドがTe、SおよびSeから選択され、各々のxおよびyが独立して0〜1である、請求項40に記載の方法。
- シードナノ結晶を含む媒体に、カルコゲニド前駆体および金属前駆体を、金属カルコゲニドナノロッドのシードナノ結晶の周囲での形成を開始する条件下で加え;その後少なくとも1種の亜鉛前駆体を加えることを含む、請求項40に記載の方法。
- 金属前駆体および亜鉛前駆体を同時に、または段階的に加える、請求項40に記載の方法。
- 金属前駆体を加え、金属カルコゲニドロッドがシード構造の周囲で形成した後に亜鉛前駆体を加える、請求項43に記載の方法。
- 亜鉛前駆体を1、2、3、4、5、6、7、8、9または10または15または20または25または30または35または40または45または50または55または60または65または70または75または80または85または90%の金属前駆体が反応して金属カルコゲニドロッドがシード構造の周囲に形成した後に加える、請求項40に記載の方法。
- 亜鉛前駆体を、金属前駆体の添加の後10、20、30、40、50もしくは60秒後に、またはその1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14もしくは15分後に加える、請求項40に記載の方法。
- 金属カルコゲニドロッド形成を100〜380℃の温度で行う、請求項40に記載の方法。
- 金属カルコゲニドロッド形成を320〜380℃の温度で行う、請求項40に記載の方法。
- 金属カルコゲニドロッドが形成する温度とは独立して、亜鉛前駆体を媒体に、200〜380℃の媒体温度で加える、請求項40〜48のいずれか一項に記載の方法。
- 亜鉛前駆体を320〜380℃の温度で加える、請求項49に記載の方法。
- シードナノ結晶がCdSeシードまたはCdSeSシードである、請求項40に記載の方法。
- 請求項1に記載のシードナノロッドを製造するための、請求項40〜51のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項40に記載の方法によって製造した、請求項1に記載のシードナノロッド。
- 請求項1に記載の少なくとも1種のシードナノロッドを包含する、デバイス。
- 光変換層、フラットパネルディスプレイのバックライトユニット、レーザー、光学的スイッチ、光ファイバー、ゲインデバイス、増幅器、ディスプレイデバイス、検出器、通信システム、発光ダイオード、太陽電池、蛍光マーカー、蛍光バイオマーカーおよびセンサーから選択される、請求項54に記載のデバイス。
- 請求項1に記載のシードナノロッドを含む、発光ダイオード。
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