JP2018527274A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2018527274A5
JP2018527274A5 JP2017564609A JP2017564609A JP2018527274A5 JP 2018527274 A5 JP2018527274 A5 JP 2018527274A5 JP 2017564609 A JP2017564609 A JP 2017564609A JP 2017564609 A JP2017564609 A JP 2017564609A JP 2018527274 A5 JP2018527274 A5 JP 2018527274A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
material according
thermal expansion
glass
crystalline phase
ceramics
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017564609A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6978324B2 (ja
JP2018527274A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE102015110831.3A external-priority patent/DE102015110831A1/de
Application filed filed Critical
Publication of JP2018527274A publication Critical patent/JP2018527274A/ja
Publication of JP2018527274A5 publication Critical patent/JP2018527274A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6978324B2 publication Critical patent/JP6978324B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

実施例9
組成8BaO 8SrO 30ZnO 5MgO 45SiO2 3B23を有するガラスを、白金るつぼ中で1350℃にて溶融させる。原料BaCO3、SrCO3、ZnO、MgO、SiO2及びH3BO3がこの目的に関して用いられる。ガラスを、700℃に予熱されたスチール型に注ぎ、その後同様に700℃に予熱された冷却炉に輸送し、その後2K/分にて冷却する。700〜780℃の温度範囲におけるガラスブロックの結晶化は、室温〜650℃の温度範囲において測定される、ゼロに近い熱膨張を有するガラスセラミックスを製造する。これを、したがって光学要素用の支持材料として用いることができる。
本開示は以下も包含する。
[1]
Ba 1-x Sr x 2 Si 2-y Ge y 7 (式中、0<x<1及び0≦y≦2、Mは少なくとも構成成分としてZnを有し、Zn、Mg、Mn、Co、Ni、Fe及びCuからなる群から選択される。)に基づく材料であって、負の熱膨張係数又は<1・10 -6 -1 の線形の熱膨張係数を有する材料。
[2]
結晶相が、MがZn、Mg、Mn、Co、Ni、Fe及びCuからなる群から少なくとも1種のさらなる構成成分を含有し、これらのさらなる構成成分の濃度の合計が、Znの濃度を超えない組成を有することを特徴とする、上記態様1に記載の材料。
[3]
結晶相が主相であり、これが>50%の体積濃度で存在し、存在する他の相が、他の結晶相か、さもなければ異なる化学組成の1つ若しくはそれより多くのガラス相であることを特徴とする、上記態様1又は2に記載の材料。
[4]
結晶相がガラスから結晶化されたことを特徴とする、上記態様1〜3のいずれかに記載の材料。
[5]
ガラスセラミックス又はセラミックスを製造するための上記態様1に記載の材料の使用。
[6]
結晶相が結晶化されるガラスが、以下の構成成分:
2〜30モル%のSrO、
1〜25モル%のBaO、ただし、SrO+BaOは6〜30モル%であり、
30〜60モル%のSiO 2
30〜60モル%のGeO 2 、ただし、SiO 2 +GeO 2 は30〜60モル%であり、
0〜30モル%のB 2 3
15〜44モル%のMO(式中、M=Zn、Mg、Mn、Fe、Co、Ni、Cu又はこれらの混合物)、
0〜12モル%のM’ 2 O(式中、M’=Li、Na、K又はこれらの混合物)、
0〜4モル%のM’’ 2 3 (式中、M’’=Bi、Sc、Y、La又は希土類元素の酸化物)、
0〜10モル%のM’’’O 2 (式中、M’’’=Ti、Zr)、
0〜7モル%のM’’’’ 2 5 (式中、M’’’’=Sb、Nb又はTa又はこれらの混合物)
を含有することを特徴とする、上記態様4に記載のガラスセラミックス。
[7]
前記材料が、結晶相の結晶化が焼結プロセスの終わりに起こる前に、粘性流開始による高密度化で、焼結プロセスによりアモルファス粉末から製造されることを特徴とする、上記態様1〜4のいずれかに記載の材料の製造。
[8]
前記材料が、セラミックス技術における慣用のプロセスにしたがう焼結プロセスによる結晶相を含有する結晶性粉末から製造されることを特徴とする、上記態様1〜3のいずれかに記載の材料の製造。
[9]
オーブン窓又はガラスセラミックス若しくはセラミックス調理場を製造するための低い熱膨張を有する材料としての上記態様1に記載の材料の使用。
[10]
調理器具を製造するための低い熱膨張を有する材料としての上記態様1に記載の材料の使用。
[11]
マイクロ工学における用途に関する低い熱膨張を有する材料としての上記態様1に記載の材料の使用。
[12]
望遠鏡ミラー又は光学技術に関する他の受動素子を製造するための低い熱膨張を有する材料としての上記態様1に記載の材料の使用。
[13]
低い熱膨張係数を有する材料、例えば98%>のSiO 2 濃度を有するガラス、ホウケイ酸塩ガラス、又は実質的にゼロの熱膨張を有するリチウムアルミノシリケートに基づくガラスセラミックスを接合するための材料としての上記態様1に記載の材料の使用。
[14]
低い熱膨張係数を有する材料、例えば>98%のSiO 2 濃度を有するガラス、ホウケイ酸塩ガラス、又は実質的にゼロの熱膨張を有するリチウムアルミノシリケートに基づくガラスセラミックスをグレージングするための上記態様1に記載の材料の使用。

Claims (12)

  1. Ba1-xSrx2Si2-yGey7(式中、0.1<x<1及び0≦y≦2、Mは少なくとも構成成分としてZnを有し、Zn、Mg、Mn、Co、Ni、Fe及びCuからなる群から選択され、M中のZnの割合は、>50%である。)に基づく材料であって、負の熱膨張係数又は<1・10-6-1の線形の熱膨張係数を有する材料。
  2. 結晶相が、MがZn、Mg、Mn、Co、Ni、Fe及びCuからなる群から少なくとも1種のさらなる構成成分を含有し、これらのさらなる構成成分の濃度の合計が、Znの濃度を超えない組成を有することを特徴とする、請求項1に記載の材料。
  3. 結晶相が主相であり、これが>50%の体積濃度で存在し、存在する他の相が、他の結晶相か、さもなければ異なる化学組成の1つ若しくはそれより多くのガラス相であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の材料。
  4. 結晶相ガラスから結晶化することを含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の材料の製造方法
  5. ガラスセラミックス又はセラミックスを製造するための請求項1に記載の材料の使用。
  6. 前記材料が、結晶相の結晶化が焼結プロセスの終わりに起こる前に、粘性流開始による高密度化で、焼結プロセスによりアモルファス粉末から製造されることを特徴とする、請求項1〜のいずれか1項に記載の材料の製造。
  7. 前記材料が、セラミックス技術における慣用のプロセスにしたがう焼結プロセスによる結晶相を含有する結晶性粉末から製造されることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の材料の製造。
  8. オーブン窓又はガラスセラミックス調理場若しくはセラミックス調理場を製造するための低い熱膨張を有する材料としての請求項1に記載の材料の使用。
  9. 調理器具を製造するための低い熱膨張を有する材料としての請求項1に記載の材料の使用。
  10. マイクロ工学における用途に関する低い熱膨張を有する材料としての請求項1に記載の材料の使用。
  11. 望遠鏡ミラーを製造するための低い熱膨張を有する材料としての請求項1に記載の材料の使用。
  12. −1・10 -6 -1 〜1・10 -6 -1 の範囲の熱膨張係数を有する材料、例えば>98%のSiO2濃度を有するガラス、ホウケイ酸塩ガラス、又はゼロの熱膨張を有するリチウムアルミノシリケートに基づくガラスセラミックスをグレージングするための請求項1に記載の材料の使用。
JP2017564609A 2015-07-06 2016-07-05 低い又は負の熱膨張を示すセラミックス及びガラスセラミックス Active JP6978324B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102015110831.3A DE102015110831A1 (de) 2015-07-06 2015-07-06 Keramiken und Glaskeramiken mit niedriger oder negativer thermischer Dehnung
DE102015110831.3 2015-07-06
PCT/EP2016/065876 WO2017005752A1 (de) 2015-07-06 2016-07-05 Keramiken und glaskeramiken mit niedriger oder negativer thermischer dehnung

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2018527274A JP2018527274A (ja) 2018-09-20
JP2018527274A5 true JP2018527274A5 (ja) 2020-07-30
JP6978324B2 JP6978324B2 (ja) 2021-12-08

Family

ID=56345150

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017564609A Active JP6978324B2 (ja) 2015-07-06 2016-07-05 低い又は負の熱膨張を示すセラミックス及びガラスセラミックス

Country Status (7)

Country Link
US (1) US10501367B2 (ja)
EP (1) EP3319913B1 (ja)
JP (1) JP6978324B2 (ja)
CN (1) CN108064219A (ja)
DE (1) DE102015110831A1 (ja)
PL (1) PL3319913T3 (ja)
WO (1) WO2017005752A1 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6903859B2 (ja) * 2019-01-29 2021-07-14 Jx金属株式会社 負熱膨張材料及びその製造方法
CN110590133A (zh) * 2019-10-18 2019-12-20 维达力实业(赤壁)有限公司 玻璃外壳的制备方法、玻璃外壳以及电子设备
JP7327798B2 (ja) * 2019-12-24 2023-08-16 学校法人神奈川大学 金属空気電池用正極触媒、金属空気電池用正極及び金属空気電池
CN113087518B (zh) * 2021-03-03 2022-04-22 华中科技大学 一种负热膨胀系数微波陶瓷及其3d打印介质谐振器天线
CN114195516B (zh) * 2021-12-03 2022-11-11 郑州大学 一种具有超宽温度下近零膨胀系数的陶瓷材料及其制备方法
CN114315351B (zh) * 2022-01-24 2022-09-23 河南大学 一种高熵近零膨胀钒酸盐陶瓷材料及其烧结合成方法
CN115925401B (zh) * 2022-11-10 2023-07-25 华中科技大学 一种低介硅酸盐微波介质陶瓷材料及其制备方法
CN117510238B (zh) * 2023-11-10 2024-04-19 高安常莹新型材料有限公司 一种星耀闪光岩板及制备方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE142037C (ja)
NL154183B (nl) 1971-07-01 1977-08-15 Jenaer Glaswerk Schott & Gen Werkwijze voor de vervaardiging van doorzichtige glaskeramiek met kleine thermische uitzetting en gevormde doorzichtige glaskeramiek, verkregen volgens deze werkwijze.
USRE29437E (en) 1971-12-03 1977-10-11 Canron, Inc. Device for the vertical and lateral displacement of railway track
DD142037A1 (de) 1979-02-13 1980-06-04 Roland Ehrt Glaskeramik mit minimaler ausdehnung und verfahren zu ihrer herstellung
JP2621401B2 (ja) 1988-08-17 1997-06-18 日本板硝子株式会社 有色の低膨張透明結晶化ガラス
US4959330A (en) 1989-06-20 1990-09-25 E. I. Du Pont De Nemours And Company Crystallizable glass and thick film compositions thereof
CA2059874A1 (en) * 1991-02-08 1992-08-09 Michael J. Haun Partially crystallizable glass compositions
US5919720A (en) 1997-04-15 1999-07-06 State Of Oregon Acting By And Through The State Board Of Higher Education On Behalf Of Oregon State University Materials with low or negative thermal expansion
US6506699B1 (en) 1998-10-23 2003-01-14 Kabushiki Kaisha Ohara Negative thermal expansion glass ceramic and method for producing the same
WO2002022521A1 (en) 2000-09-15 2002-03-21 Lucent Technologies Inc. Isotropic negative thermal expansion ceramics and process for making
WO2005009916A1 (en) 2003-07-28 2005-02-03 Kabushiki Kaisha Ohara Negative thermal expansion glass ceramic
US7470640B2 (en) * 2006-04-11 2008-12-30 Corning Incorporated Glass-ceramic seals for use in solid oxide fuel cells
US20100009203A1 (en) 2008-07-09 2010-01-14 Yoshikazu Nageno Insulation layer and method for producing thereof
DE102008050263C5 (de) * 2008-10-07 2020-01-02 Schott Ag Transparente, eingefärbte Kochfläche mit verbesserter farbiger Anzeigefähigkeit und Verfahren zur Herstellung einer solchen Kochfläche
US9296644B2 (en) * 2010-02-15 2016-03-29 Schott Ag High-temperature glass solder and its uses
JP6032014B2 (ja) 2012-04-24 2016-11-24 日本電気硝子株式会社 結晶性ガラス組成物
JP6328566B2 (ja) * 2012-12-25 2018-05-23 日本山村硝子株式会社 封着用ガラス組成物
US9352998B2 (en) 2013-03-29 2016-05-31 Nihon Yamamura Glass Co., Ltd. Insulating layer forming material, insulating layer forming paste
DE102013009001A1 (de) * 2013-05-24 2014-11-27 Friedrich-Schiller-Universität Jena Kristallisierende, cristobalitfreie und elektrisch gut isolierende Glaslote mit hohen thermischen Ausdehnungskoeffizienten zum Fügen von Metallen und/oder Keramiken

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2018527274A5 (ja)
JP6978324B2 (ja) 低い又は負の熱膨張を示すセラミックス及びガラスセラミックス
US7378361B2 (en) High thermal expansion cyclosilicate glass-ceramics
CN102066273B (zh) 含稀土元素的玻璃材料和基板以及包括这种基板的器件
JP4016507B2 (ja) ビスマス系ガラス組成物
CN105948516B (zh) 抗辐射锂铝硅系低膨胀视窗玻璃及其加工工艺
EP2282978B1 (en) Lithium silicate glass ceramic and method for fabrication of dental appliances
JP6587903B2 (ja) 結晶度が高いリチウムアルミニウムケイ酸塩のガラスセラミック、及びその使用
JP5770050B2 (ja) 負の熱膨張係数を有する結晶化ガラス及びその製造方法
JP2009533311A (ja) 高熱膨張サイクロケイ酸塩ガラスセラミック
JP2009274902A (ja) ガラス
US20150018193A1 (en) Glass-ceramic as dielectric in the high-frequency range
TWI224082B (en) Glass ceramic mass and ceramic body with the same
JP2010116315A (ja) 結晶化ガラス
JP5656772B2 (ja) 透明なガラスセラミックス
JP2008254974A (ja) ビスマス系低融点ガラス組成物
JP6627760B2 (ja) 結晶化ガラス
JP2010228969A (ja) ガラス
JP2010030848A (ja) ガラス
JP2015166289A (ja) ガラス又は結晶化ガラス
JP4621995B2 (ja) ビスマス系ガラス組成物およびビスマス系材料
Kim et al. Thermal properties of Bi2O3-B2O3-ZnO glass system
TWI232852B (en) Composite solder glass with reduced melting temperature, filling material for same and methods of using same
JP2007161524A (ja) ビスマス系ガラス組成物
JPH0269335A (ja) アルカリ土類金属アルミノホウ酸塩ガラスセラミックおよびその製造方法