JP2018517649A - 温室のためのテクスチャ加工されたガラス - Google Patents

Abstract

本発明は、その第一の主面上にレリーフ状のテクスチャを含み、以下であるような、透明な板に関する：ｎが、テクスチャを含んでいる材料の屈折率であり、Ｐｍが、テクスチャ加工された面の、度で表された平均傾きであり、かつ、Ｙ（ｑ）が、度で表されたｑ／（ｎ−１）よりも大きい傾きを有するテクスチャ加工された表面の割合であるときに、以下の二つの累積的な条件が存在する：Ｙ（ｑ）＞３％＋ｆ（ｑ）％・Ｐｍ・（ｎ−１）、及びＹ（ｑ）＞１０％、ここで、ｆ（ｑ）＝２４−（３・ｑ）、及びｑ＝２又は３である。【選択図】図８

Description

本発明は、特には園芸用の温室のための、極めて透明であり、かつ、散乱性であるグレージングの分野に関する。

現在、園芸用途の温室のためには、表面がテクスチャ加工されていない平坦なグレージングが主に使用されている。ここ数年の間に、ローリング加工によってそのテクスチャが施されているテクスチャ加工されたグレージングが、この用途のために登場してきた。これらのテクスチャ加工されたガラスは、光を散乱させるが、このことは、園芸における生産に良い影響を及ぼす。これは、なぜかといえば、散乱効果によって、植物上におけるホットスポットが防止され、かつ、温室の領域全体にわたって光をより良好に浸透させることが可能となり、かつ、より均一な採光を得ることが可能となるからである。他方で、これらのガラスは、テクスチャ加工されていない同一のガラスと比較して、より低い透過率を有しており、このことは、園芸における生産に悪影響を及ぼす。これらのグレージングに対して望まれている高透過率は、半球透過率（ＴＬＨ，Ｔ_ＨＥＭと表示されることもある）として知られているものであり、すなわち、複数の入射角にわたって平均した透過率である。射出角がどのようなものであっても、各入射角について、グレージングを通過するすべての光強度が計測される。温室用のグレージングは、好ましくは、高ＴＬＨ、及び高ヘイズ（ヘイズ値によって定められ、Ｈとして言及される）を有する。ヘイズは、グレージングの、全透過率に対する拡散した透過率の比である。半球透過率は、このタイプのグレージングの不可欠な特性であり、グレージングが、散乱性のテクスチャを有していることが原因で、同一の性質及び同一の単位面積当たりの重量を有する平坦なテクスチャ加工されていないガラスに対して、５％よりも大きくＴＬＨを損失することは、一般には望まれず、好ましくは、ＴＬＨの損失は３％以下である。ＴＨＬが１％増減するだけでも、すでに、非常に大きな意味を持つ。ヘイズに関しては、そうではなくて、影響を有する変化量は、１０％のオーダーである。

例えば、サンゴバンによってＡｌｂａｒｉｎｏ−Ｓ（商標）及びＡｌｂａｒｉｎｏ−Ｔ（商標）の商標で販売されるものなどの光起電性グレージングによって、実質的に、このタイプの性質を得ることが可能である。しかしながら、Ａｌｂａｒｉｎｏ−Ｓに関しては、Ｈは高いが、ＴＬＨは、同質の平坦なガラスと比較して質が劣っており、また、Ａｌｂａｒｉｎｏ−Ｔに関しては、ＴＬＨは、同質の平らなガラスのそれに近い、高レベルを維持しているが、Ｈが低すぎる。テクスチャ加工されていないグレージングに対して、ある程度の改善を示すとしても、これらのグレージングは、従って、理想的ではない。国際公開第０３／０４６６１７号は、角錐によってテクスチャ加工された、太陽光発電用途のためのプレートを教示する。サンゴバンによって販売されるＡｌｂａｒｉｎｏ−Ｐ（商標）は、このタイプの構造を有する。その角錐の面は、４５°に近い勾配を有するが、実際問題上、意図せずに生じる丸みを帯びた断面に起因して、実際には、このグレージングのテクスチャは、グレージングの全体的な平面に対して、約３０°の平均の勾配を有する。そのようなテクスチャは、高Ｈにつながるが、他方で、ＴＬＨは不十分である。本発明は、周知のテクスチャ加工されたグレージングと比較して、これら二つの特性、ＴＬＨとＨのより良い折衷を提供する。

国際公開第２０１５／０３２６１８号は、第一のテクスチャ加工を備える第一の面、及び第二のテクスチャ加工を備える第二の面を含む、テクスチャ加工されたガラス板を教示し、また、そのようなガラス板、及びこのガラス板の下に配置されており、太陽光放射を利用することを意図した少なくとも一つの要素を含むアセンブリも教示する。

本発明は、第一に、その第一の主面上にレリーフ（ｒｅｌｉｅｆ）状のテクスチャを、以下のような態様で含んでいる透明な板に関し、ｎが、テクスチャを含んでいる材料の屈折率であり、Ｐ_ｍが、テクスチャ加工された面の、度で表された平均勾配であり、かつ、Ｙ（ｑ）が、度で表されたｑ／（ｎ−１）よりも大きい勾配を有する、テクスチャ加工された表面の割合であるときに、Ｙ（ｑ）に関して、二つの累積的な条件が存在する：
Ｙ（ｑ）＞３％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）
及びＹ（ｑ）＞１０％
ここで、ｆ（ｑ）＝２４−（３・ｑ）、及びｑ＝２又は３である。

好ましくは、Ｙ（ｑ）＞５％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）である。より好ましくは、Ｙ（ｑ）＞１０％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）である。好ましくは、ｆ（ｑ）＝２７−（３・ｑ）、さらには、ｆ（ｑ）＝３０−（３・ｑ）である。

特には、以下の８つの組合せのうちの一つが、特に適している：
− Ｙ（ｑ）＞５％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）、ここで、ｆ（ｑ）＝２７−（３・ｑ）及びｑ＝２；又は
− Ｙ（ｑ）＞５％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）、ここで、ｆ（ｑ）＝２７−（３・ｑ）及びｑ＝３；又は
− Ｙ（ｑ）＞５％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）、ここで、ｆ（ｑ）＝３０−（３・ｑ）及びｑ＝２；又は
− Ｙ（ｑ）＞５％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）、ここで、ｆ（ｑ）＝３０−（３・ｑ）及びｑ＝３；又は
− Ｙ（ｑ）＞１０％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）、ここで、ｆ（ｑ）＝２７−（３・ｑ）及びｑ＝２；又は
− Ｙ（ｑ）＞１０％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）、ここで、ｆ（ｑ）＝２７−（３・ｑ）及びｑ＝３；又は
− Ｙ（ｑ）＞１０％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）、ここで、ｆ（ｑ）＝３０−（３・ｑ）及びｑ＝２；又は
− Ｙ（ｑ）＞１０％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）、ここで、ｆ（ｑ）＝３０−（３・ｑ）及びｑ＝３。

ローリング加工によって得られ、かつ例１に係る、本発明に係るガラス板のテクスチャ加工された面を示す。 ローリング加工によって得られ、かつ例２に係る、本発明に係るガラス板のテクスチャ加工された面を示す。 ローリング加工によって得られ、かつ例３に係る、本発明に係るガラス板のテクスチャ加工された面を示す。 Ａｌｂａｒｉｎｏ−Ｓ板の、最も強くテクスチャ加工された面を、ａ）では上面図で、及びｂ）では側面図で、示す。 角錐のパターンのサイズの変化が及ぼす影響を図解する。 ｑ＝２である場合に、本発明が従来技術と、どのように異なるのかを示す。 ｑ＝３である場合に、本発明が従来技術と、どのように異なるのかを示す。 本発明に係る板７０を、断面図で示す。 本発明に係る板８０を、断面図で示す。 本発明に係る板９０を、断面図で示す。

本特許出願との関係において、かつ特には実施例において、ＴＬＨ及びヘイズは、”Ｐｒｏｃ．７^ｔｈ ＩＳ ｏｎ Ｌｉｇｈｔ ｉｎ Ｈｏｒｔｉｃｕｌｔｕｒａｌ Ｓｙｓｔｅｍｓ、 Ｅｄｓ：Ｓ． Ｈｅｍｍｉｎｇ ａｎｄ Ｅ． Ｈｅｕｖｅｌｉｎｋ， Ａｃｔａ Ｈｏｒｔ．， ９５６，ＩＳＨＳ，２０１２年”において詳細に記載されている方法に従って、計測される。この文献においては、１．５°で計測されたヘイズについて言及がなされる。実際には、透明材料の分野においては、ヘイズは、２．５°で計測されることが多い。１．５°でのヘイズは、今日において、最も広く使用されるものであるが、園芸用途の温室の分野においては、基準はいまだ完全には確立されていない。本発明によると、ヘイズ計測のこれら二つの方法を考慮に入れるために、ｆ（ｑ）が導入される。ＴＬＨとの非常に良好な折衷を保ちつつ、１．５°でのヘイズを最大化するためには、ｑ＝２が用いられる。一方で、ＴＬＨとの非常に良好な折衷を保ちつつ、２．５°でのヘイズを最大化するためには、ｑ＝３が用いられる。

本発明によると、非常に低い勾配を有する領域を比較的少なくしか含まず、かつ、大きな勾配を有する領域をほとんど含まない勾配の分布であって、ｑ＝２又は３のときに度（°）で表されたｑ／（ｎ−１）の近傍である勾配の分布、すなわち、１．５のインデックスを有するガラスに関して、ｑ＝２に対しては約４°、またｑ＝３に対しては約６°を有するグレージングが使用される。この形状のおかげで、ＴＬＨ及びＨ値のよりさらに良好な組合せが得られる。

レリーフ状のテクスチャは、有機又は無機ガラスタイプの材料に作成することができる。特には、少なくとも４０重量％のＳｉＯ_２を含む無機ガラスであってよい。

テクスチャを含んでいる材料の屈折率は、一般に、５８７ｎｍにおいて、１．４〜１．６５に広がる範囲内である。

板は、光合成のスペクトル領域（４００〜７００ｎｍ）において、それほど吸収性ではなく、かつ、これは、板に含まれる材料すべてについて同様である。このスペクトル領域における本発明に係る板の吸収率は、２％よりも低く、好ましくは１％よりも低く、さらには０．５％よりも低い。吸収率は、垂直入射における透過率及び反射率の計測、及び、吸収率（％）＝１００％−透過率（％）−反射率（％）の関係によって得られる。透過率及び反射率の計測（総合的なものであり、積分球を用いて計測される）は、分光光度計を用いて行われ、かつ、４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の波長についての透過率及び反射率の値の平均に対応する。

板の表面の、ある点における勾配は、この点の接平面と、板の全体的な平面との間で形成される角度に対応する。ある点における勾配の計測は、この点の近傍における高さの変化を計測することによって行われ、かつ、板の全体的な平面に対して行われる。当業者であれば、これらの高さの計測を行うことのできる装置を知っている。表面の平均勾配Ｐ_ｍの計測値は、２０μｍ間隔の方形格子上に分布した点群における勾配の計測から決定される。そして、これらすべての点における勾配の平均が、算出される。

好ましくは、テクスチャは、比較的大きいパターンを含む。これによって、ローリング加工によって実際に作り出される勾配を、より良くコントロールすることができるようになるからである。これはなぜかと言えば、特には無機ガラスにおいて、パターンの間隔が１ｍｍ以下である場合に、コントロールされた勾配を有するテクスチャを、ローリング加工によって得ることは、実際上非常に困難だからである。ローリング加工プロセスは、必然的に、所望でない丸みを帯びた断面を生じ、かつ、コントロールされていない勾配を有するこれらの丸みを帯びた断面は、ベースパターンのサイズが小さくなるにつれて、ますます、より広範囲の表面積を占めることとなる。パターンを大きくすることによって、丸みを帯びた同一の断面は、パターンの全部の周期のうちの、より小さな一部を占めることになるので、その結果、影響はより弱くなる。

ローリング加工によって、所望のものに近いテクスチャを得るために、１ｍｍ以上、好ましくは１．５ｍｍ以上、さらに好ましくは２ｍｍ以上、さらに好ましくは２．５ｍｍ以上のサイズを有するパターンが、好ましくは製造される（用語「サイズ」は、パターンを内包する最小の円の直径を意味するものと理解される）。好ましくは、パターンは、最大で８ｍｍのサイズを有する。好ましくは、パターンは、隣接している。

表面の断面の（すなわち、直線状の部分に従った）Ｒ_Ｓｍ（平均周期、又は平均間隔）は、以下の関係によって定義されることを忘れてはならない：

上記式において、Ｓｉは、二つの上昇するゼロ交差の間の距離（正中線）であり、ｎ＋１は、対象としている断面における、上昇するゼロ交差の数である。このパラメータＲ_Ｓｍは、頂点間の距離、すなわち、板の全体的な平面と平行に考えたときのテクスチャの間隔を表すものである。Ｒ_Ｓｍ値は、２５μｍ及び８ｍｍでのカットオフ（又はベース長）（２５μｍ未満の周期及び８ｍｍよりも大きい周期の抑制）を有するガウスフィルターを使用した後に、得られる。Ｒ_Ｓｍ計測は、少なくとも４０ｍｍの距離にわたって行われる。テクスチャ加工された表面の任意の点において、当該点の周囲のＲ_Ｓｍは、対象としている点から始めて、星形を形成する１０個の断面についてのＲ_Ｓｍ値の、算術平均に対応する。ある点の周囲のＲ_Ｓｍの算出においては、４０ｍｍ以上の値は、破棄される。これによって、特殊なテクスチャの特定の辺、例えば、パラレルプリズムの辺、又は整然と並んだ角錐の間で作られる直線などにおける断面（無限又は算出不能なＲ_Ｓｍ）が算入されてしまうことを防止する。テクスチャ加工された表面の平均Ｒ_Ｓｍもまた、点の周囲のＲ_Ｓｍ値の算術平均を算出することによって決定され、点は、５ｃｍ間隔の方形グリッド上において選ばれる。

好ましくは、テクスチャ加工された表面の平均Ｒ_Ｓｍは、１ｍｍ〜８ｍｍにわたる範囲内であり、好ましくは、１．５ｍｍ〜８ｍｍにわたる範囲内であり、さらには、２ｍｍ〜８ｍｍにわたる範囲であり、さらには、２．５ｍｍ〜８ｍｍにわたる範囲である。より好ましくは、テクスチャ加工された表面の任意の点の周囲のＲ_Ｓｍが、１ｍｍ〜８ｍｍにわたる範囲内であり、好ましくは、１．５ｍｍ〜８ｍｍにわたる範囲内であり、さらには、２ｍｍ〜８ｍｍにわたる範囲であり、さらには、２．５ｍｍ〜８ｍｍにわたる範囲である。

ホットローリング加工によって、一般には８００〜１３００℃にわたる温度の範囲内で無機ガラス上に作成される勾配は、形成時にわずかに減少する。したがって、値Ｐ_ｍを有する平均勾配を、ガラス板に作成することを目標とするときには、Ｐ_ｍ＋０．５°以上、実際さらにはＰ_ｍ＋１°以上の勾配を有するパターンを有する、彫刻されたローラを好ましくは使用する。テクスチャのパターンが大きければ大きいほど（より高い平均Ｒ_Ｓｍ）、実際にプリントされるテクスチャは、よりロールのテクスチャに近くなり、かつ、ロールのパターンに補正を導入する必要性は、より少なくなる。

従って、１と１．５ｍｍの間の平均Ｒ_Ｓｍについては、ロールのテクスチャの平均勾配を、所望のテクスチャの平均勾配に対して、０．５°〜１０°だけ増加させることができる。１．５と２ｍｍの間の平均Ｒ_Ｓｍについては、ロールのテクスチャの平均勾配を、所望のテクスチャの平均勾配に対して、０．５°〜８°だけ増加させることができる。２と２．５ｍｍの間の平均Ｒ_Ｓｍについては、ロールのテクスチャの平均勾配を、所望のテクスチャの平均勾配に対して、０．５°〜６°だけ増加させることができる。２．５ｍｍよりも大きい平均Ｒ_Ｓｍについては、ロールのテクスチャの平均勾配を、所望のテクスチャの平均勾配に対して、０．５°〜５°だけ増加させることができる。テクスチャのパターンは、例えばパラレルプリズムなどのような、平行な直線状のパターンであることができ、又は、円錐若しくは角錐などのような、円に内接可能なパターンであることができる。

本発明は、園芸用の温室において、光の通過を可能にするグレージングとして機能させる上で有用であり、並びに、例えばベランダ、レセプションホール又は公共スペースなどのような、高ＴＬＨ及び高Ｈを必要とする他の用途のためにも、利用することができる。

本発明によると、板の両主面がテクスチャを有していることができる。この場合、二つの面のうちの一方のテクスチャが、本発明に係るものではないときには、そのときには、好ましくは、二つの面のテクスチャのうち、より大きい平均勾配を有するテクスチャが、本発明に係るテクスチャである。より小さい平均勾配を有する面は、好ましくは、Ｐ_ｍ’・２・（ｎ’−１）が３°よりも小さく、さらには２°よりも小さい。ここで、Ｐ_ｍ’及びｎ’は、それぞれ、より小さい平均勾配を有するこの面のテクスチャを含んでいる材料の、平均勾配及び屈折率である。

本発明は、また、Ｐ_ｍ・（ｎ−１）がＰ_ｍ’・（ｎ−１）よりも大きい板、にも関する。Ｐ_ｍ及びＰ_ｍ’は、それぞれ、第一の主面及び第二の主面の平均勾配を表し、ｎ及びｎ’は、それぞれ、第一の主面及び第二の主面の、テクスチャを含んでいる材料の屈折率を表す。好ましくは、第二の主面のテクスチャは、Ｐ_ｍ’・２・（ｎ’−１）が３°よりも小さく、さらには２°よりも小さいような平均勾配を有する。好ましくは、Ｙ’（ｑ）が、第二の主面の、度で表されたｑ／（ｎ’−１）よりも大きい勾配を有するテクスチャ加工された表面の割合であるときに：
Ｙ’（ｑ）＞３％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ’・（ｎ’−１）
ここで、ｆ（ｑ）＝２４−（３・ｑ）
の関係が存在し、
かつ、ｑは、Ｙ（ｑ）及びＹ’（ｑ）の両方について、値２を有するか、又は、ｑは、Ｙ（ｑ）及びＹ’（ｑ）の両方について、値３を有する。

特には、板の両面が、本発明に係るものであることができる。

板の一方又は両方の面上、特にはテクスチャ加工された面上において、反射防止効果を得ることができる。この反射防止効果は、一層若しくは積層体を形成する複数層を堆積することによって、化学攻撃によって、又はその他の任意の適当な技術によって、得ることができる。反射防止効果は、４００〜７００ｎｍの波長において効果的であるように、選ばれる。反射防止被覆（反射防止層、又は反射防止効果を有する層の積層体）は、一般に、１０〜５００ｎｍにわたる範囲内の厚みを有する。

板は、完全に一体構造である材料で作られていることができる。板は、また、反射防止層、又は反射防止効果を有する層の積層体が、その面のうちの一面又はその両面上に場合により付けられた、一体構造の材料から製造することができる。しかしながら、第一の比較的薄い材料にテクスチャを作成して、テクスチャを含んでいる材料とし、これを、結合後の板に強度を付与する第二の材料と、板状に、結合させることができる。この第一の材料は、レリーフ状のパターンを作ることができる最小の厚みを有する状態で、存在することが望ましい。好ましくは、これら二つの材料の屈折率の違いは、０．２を超えず、好ましくは０．１を超えない。複数の材料を組合わせるこの事例としては、特にはガラス製である透明な板の上に堆積されたゾルーゲル層を、エンボス加工することによってテクスチャを作り出す場合がある。このように、第二の材料の板に付加される第一の材料に、テクスチャを作成することが可能である。板は、また、二つ以上の材料を含むこともできる。

好ましくは、板内において隣接する二つの材料は、その屈折率の差が、０．２を超えず、好ましくは０．１を超えない。この選好は、両材料が板の表面から５００ｎｍよりも内部に存在し、板の表面が周囲空気と接触しているときの、材料の板の中での両材料の近接に関する。板の表面から５００ｎｍよりも内部に存在する材料は、また、板の表面に存在することもでき、そのときには、その厚さは、５００ｎｍよりも大きい。表面から５００ｎｍよりも内部における材料の存在は、板の全体的な平面に対してではなく、テクスチャに沿う、真の表面に対して直交する方向において決定される。従って、屈折率の違いに関するこの選好は、反射防止被覆（反射防止層又は反射防止積層体）とは関係がない。反射防止被覆は、周囲空気と接触し、かつ、一般に、反射防止被覆が堆積される材料とは、相当に異なる屈折率を有する材料から製造され、かつ、５００ｎｍよりも小さい厚みを有する。反射防止層又は反射防止積層体は、薄い被覆であり、それらの適用を受けるレリーフ状のテクスチャを、変更しない。それらは、表面のレリーフに従って存在する。これはなぜならば、周囲空気と接触している反射防止表面被覆（層、又は層の積層体）は、本発明に係るテクスチャを含んでいる材料ではない、と言いうるからである。

本発明に係るテクスチャを含んでいる材料の厚さは、それのみで、表面上にテクスチャが付与されるのに十分な厚みである。この材料を、反射防止被覆（反射防止層、又は反射防止効果を有している積層体）で被覆することが可能であるが、この被覆は、テクスチャを含んでいる材料によって付与される表面レリーフに沿って存在する。従って、本発明に係るテクスチャを含んでいる材料の厚さは、板の全体的な平面と平行な二つの平面、一方は、周囲空気と接触するテクスチャの最外点を通過する平面、及び他方は、周囲空気と接触するテクスチャの最内点を通過する平面、の間に含まれる材料の体積の、９０％よりも多く、好ましくは９５％よりも多くを構成するのに、十分な厚みである。実際には、この材料に、同一の逆向きのレリーフを含むデバイスによって、又は化学攻撃によって、テクスチャがプリントされる。テクスチャを含んでいる材料は、真の表面（表面テクスチャに沿う表面）と直交する方向に沿って、５μｍよりも大きい厚みであり、かつ、板の全体的な平面と直交する方向に沿って、５μｍよりも大きい厚みである。

本発明に係るテクスチャが、その表面において、反射防止層又は積層体を含まない場合には、そのときには、本発明に係るテクスチャを含んでいる材料は、周囲空気と接触する。本発明に係るテクスチャが、その表面において、反射防止層又は積層体を含む場合には、そのときには、周囲空気と接触するのは、この層又はこの積層体である。

一体構造の材料、特にはガラス製の材料におけるテクスチャは、一般に、少なくとも一つのテクスチャ加工されたロールを用いたエンボス加工、若しくはローリング加工によって、又は酸攻撃によって、作り出すことができる。得られたテクスチャ加工されたガラス板を、反射防止被覆によって覆うことができる。

本発明に係る板がガラス板を含む場合には、ガラス板は、好ましくは、熱処理によって強化される。これを実行するために、かつ、反射防止被覆をガラス板上に適用しなければならない場合のために、特には、以下のように処理を進めることが可能である：
‐軟化温度にあるガラスを、少なくとも一つのテクスチャ加工されたロールを用いてローリング加工し、テクスチャ加工されたガラス板を作成し、その後、
‐冷却し、その後、
‐テクスチャ加工された板の片面又は両面に、一つ以上の、反射防止被覆剤のゾルーゲル層（群）前駆体を適用し、その後、
‐被覆されテクスチャ加工された板を加熱し、続けて、熱焼き戻し冷却（ｔｈｅｒｍａｌ ｔｅｍｐｅｒｉｎｇ ｃｏｏｌｉｎｇ）を行う；この加熱は、ガラスを、焼き戻し冷却を可能にする温度にまで上昇させる点だけではなく、ゾルーゲル被覆剤を硬化させる点でも、有用である。

図１は、ローリング加工によって得られ、かつ例１に係る、本発明に係るガラス板のテクスチャ加工された面を示す。主面のテクスチャは、中空で、かつ隣接している、不規則な底面を有する角錐を含む。灰色の程度は、表面における各点の深さを反映しており、最も暗い領域が、最も深い。図１〜３の各図にわたって、最も明るい点は、同じ高さにあり、また、最も暗い点は、同じ高さにある。パターンの深さは、プレートの全体的な平面と直交する方向における、最も明るい点と最も暗い点の間の、高さの差異である。

図２は、ローリング加工によって得られ、かつ例２に係る、本発明に係るガラス板のテクスチャ加工された面を示す。主面のテクスチャは、中空で、かつ隣接している、不規則な底面を有する角錐を含む。角錐は、図１の場合よりも小さく、そのため、意図しない丸みを帯びた領域がより多い。これら丸みを帯びた領域は、必ずしも所望の勾配を有してはいない。

図３は、ローリング加工によって得られ、かつ例３に係る、本発明に係るガラス板のテクスチャ加工された面を示す。主面のテクスチャは、中空で、かつ隣接している、不規則な底面を有する角錐を含む。角錐は、図１、２の場合よりも小さく、そのため、意図しない丸みを帯びた領域がより多い。これらの丸みを帯びた領域は、必ずしも所望の勾配を有してはいない。

図４は、Ａｌｂａｒｉｎｏ−Ｓ板の、最も強くテクスチャ加工された面を、ａ）では上面図で、及びｂ）では側面図で、示す。無論、ｂ）のパターンは、縮尺通りではない。パターンは、表面上に規則的に並んだ突起であることが、この図において示される。

図５は、角錐パターンのサイズの変化（従って、Ｒ_Ｓｍの変化）が及ぼす影響を図解する。ａ）及びｂ）の二つのテクスチャは、パターンの頂点部及びくぼみ部において、同一の曲率半径を有する同一の丸みを帯びた断面を有している。パターンの頂点部及びくぼみ部において丸みを帯びた断面を有していない角錐を表面上に有する、テクスチャ加工されたロールを用いて、ガラスをローリング加工することによって、実際に得られるのが、これである。ａ）の、より大きなサイズを有するテクスチャは、適切な勾配の領域をより多く含むため、より理想的なテクスチャに近接したテクスチャを有する。「ｚ」でマークされた領域が、適切な勾配の領域である。

図６は、ｑ＝２である場合に、本発明が、従来技術とどのように異なるのかを、直線Ｙ＝Ｘによって示す。ここで、ｑ＝２ではｆ（ｑ）＝１８％であるため、Ｘ＝３％＋１８％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）である。本図の各点は、表１の例に対応する。本発明の範囲は、この直線よりも上に存在し、かつ、Ｙ＝１０％の水平直線よりも上に存在する。

図７は、ｑ＝３である場合に、本発明が、従来技術とどのように異なるのかを、直線Ｙ＝Ｘによって示す。ここで、ｑ＝３ではｆ（ｑ）＝１５％であるため、Ｘ＝３％＋１５％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）である。本図の各点は、表２の例に対応する。本発明の範囲は、この直線よりも上に存在し、かつ、Ｙ＝１０％の水平直線よりも上に存在する。

図８は、本発明に係る板７０を、断面図で示す。テクスチャ及び厚みは、縮尺通りではない。この板７０は、一方がテクスチャ加工された二つのロールの間でローリング加工することによって得られる、ソーダ石灰シリカ無機ガラスで作られている。板の上面７１は、隣接した角錐パターンを有する本発明に係るテクスチャを有している。一体構造の基材のテクスチャ加工された表面上に、反射防止層７２が堆積された。板の第二の面７３は、平坦であり、特別なテクスチャを有しない。テクスチャを含んでいる材料は、材料７０であって、層７２の材料ではない。

図９は、本発明に係る板８０を、断面図で示す。テクスチャ及び厚みは、縮尺通りではない。この板８０は、両方がテクスチャ加工された二つのロールの間でローリング加工することによって得られる、ソーダ石灰シリカ無機ガラスで作られている。板の上面８１は、隣接した角錐のパターンを有する本発明に係るテクスチャを有している。板の第二の面８２は、隣接した角錐のパターンを有する（本発明に係る、又は本発明に係るものではない）テクスチャを有し、この第二の面８２にわたる平均勾配は、第一の面８１にわたる平均勾配よりも小さい。この板は、完全な一体構造である。板の材料は、各面にテクスチャを含んでいる。

図１０は、本発明に係る板９０を、断面図で示す。テクスチャ及び厚みは、縮尺通りではない。ソーダ石灰シリカ無機ガラス製の基材板９１は、結合体に、硬度を付与する。この基材板９１は、テクスチャ加工された二つのロールの間でホットローリング加工することによって得られる、無機板である。この基材板９１の二つの面９２及び９３は、結果として、テクスチャ加工される。基材板９１を、Ａｌｂａｒｉｎｏ−Ｔ（商標）であると考えることができる。本発明に係るテクスチャ９４は、ゾルーゲル層をエンボス加工することによって、基材板９１の面９２の上方に、作成される。ゾル―ゲル材料９５及び基材板９１の材料は、類似の屈折率を有し、それらの屈折率の差異は、０．１を超えない。この例では、本発明に係るテクスチャを含んでいる材料は、ゾルーゲル材料９５である。

以下に記述する実施例では、板は、４ｍｍの厚さを有していた。平均勾配、及び度で表されたｑ／（ｎ−１）よりも大きい勾配の割合（％）を変化させた。ここで、例１〜９については、ｑは２に等しく、例１０〜１７については、ｑは３に等しい。結果を、ぞれぞれ、表２及び表３に示す。ヘイズ値は、例１〜９については１．５°で計測し、例１０〜１８については２．５°で計測する。ＴＬＨ値は、同質かつ単位面積当たりの重量が同一の平坦なガラスとの対比で、与えられる。従って、それは、対象となる平坦なガラスに対する、％で表したＴＬＨの損失であり、ΔＴＬＨと表示される。これは、同一の材料であるときには、平坦なガラスは、必然的に、テクスチャ加工されたガラスよりも高いＴＬＨ値を有するからである。目的は、ΔＴＬＨを、できるだけ低くすることである。

［例１〜９］
例１〜４においては、Ｒ_Ｓｍ値によって反映されるような、異なるサイズの不規則な底面を有する中空の角錐パターンの繰り返しであるテクスチャにテクスチャ加工された主面を有するガラス板を、ローリング加工によって作成する。例５〜９のグレージングは、市販されており、かつ比較可能である。例１〜３について得られたテクスチャは、それぞれ、図１〜３で示されるものであり、深さは、これらの図における、最も明るい点と最も暗い点の間の高さの差異である。図１から図３においては、所望のものとは正確には対応しない丸みを帯びた領域の割合の増加が、観察される。例４のテクスチャは、図２のテクスチャと、上面図で見て、類似であり、深さにおいて異なる。例５〜９は、表の第１列に示される商標で販売される、テクスチャ加工されたガラスにおいて計測された特徴に対応する。すべての例において、使用される無機ガラスの屈折率は、１．５２である。表において、ｑ＝２についてはｆ（ｑ）＝１８％であるため、Ｘは、３％＋１８％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）を表す。

例５に関しては、ヘイズ値は良好であるが、ＴＬＨは大幅に低下していることが判る。例６に関しては、ヘイズ値が極端に低い。例７から９では、特性間での折衷が、あまり良好でない。例１から４では、ヘイズ及びＴＬＨ特性の、優れた折衷が提供される。このことは、これらの例に関して、Ｙ＞Ｘであるという事実に対応する。

［例１０〜１７］
例１０から１２においては、Ｒ_Ｓｍ値によって反映されるような、異なるサイズの不規則な底面を有する中空の角錐のパターンの繰り返しであるテクスチャにテクスチャ加工された主面を有するガラス板を、ローリング加工によって作成する。例１３〜１７のグレージングは、市販されており、かつ比較可能である。例１０〜１２のために得られたテクスチャは、それぞれ、図１〜３で示されたものであり、深さは、これらの図における、最も明るい点と最も暗い点の間の高さの差異である。これらのテクスチャは、深さの点で、例１から３のテクスチャとは相違し、この場合には、深さは、より深くなるように選択される。例１３〜１７は、表２の第１列に示される商標で販売されている、テクスチャ加工されたガラスにおいて計測された特徴に対応する。すべての例において、使用される無機ガラスの屈折率は、１．５２である。表２において、ｑ＝３についてはｆ（ｑ）＝１５％であるため、Ｘは、３％＋１５％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）を表す。

例１３に関しては、ヘイズ値は良好であるが、ＴＬＨは大幅に低下していることが判る。例１４に関しては、ヘイズ値が極端に低い。例１３から１７では、特性間での折衷が、あまり良好でない。例１０から１２では、ヘイズ及びＴＬＨ特性の、優れた折衷が提供される。このことは、これらの例に関して、Ｙ＞Ｘであるという事実に対応する。

Claims (21)

1. その第一の主面上にレリーフ状のテクスチャを含み、それによって、ｎが、前記テクスチャを含んでいる材料の屈折率であり、Ｐ_ｍが、テクスチャ加工された面の度で表された平均勾配であり、かつ、Ｙ（ｑ）が、度で表されたｑ／（ｎ−１）よりも大きい勾配を有する、テクスチャ加工された表面の割合であるときに、以下の二つの累積的な条件が存在する、透明な板：
   Ｙ（ｑ）＞３％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）
   及び、Ｙ（ｑ）＞１０％
   ここで、ｆ（ｑ）＝２４−（３・ｑ）、及びｑ＝２又は３。
2. Ｙ（ｑ）＞５％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）であることを特徴とする、請求項１に記載の板。
3. Ｙ（ｑ）＞１０％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）であることを特徴とする、請求項２に記載の板。
4. ｆ（ｑ）＝２７−（３・ｑ）、実際にはさらには、ｆ（ｑ）＝３０−（３・ｑ）であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の板。
5. ｑ＝２であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の板。
6. ｑ＝３であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の板。
7. 以下の組合せのうちの一つが存在することを特徴とする、請求項１に記載の板：
   − Ｙ（ｑ）＞５％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）、ここで、ｆ（ｑ）＝２７−（３・ｑ）及びｑ＝２；又は
   − Ｙ（ｑ）＞５％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）、ここで、ｆ（ｑ）＝２７−（３・ｑ）及びｑ＝３；又は
   − Ｙ（ｑ）＞５％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）、ここで、ｆ（ｑ）＝３０−（３・ｑ）及びｑ＝２；又は
   − Ｙ（ｑ）＞５％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）、ここで、ｆ（ｑ）＝３０−（３・ｑ）及びｑ＝３；又は
   − Ｙ（ｑ）＞１０％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）、ここで、ｆ（ｑ）＝２７−（３・ｑ）及びｑ＝２；又は
   − Ｙ（ｑ）＞１０％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）、ここで、ｆ（ｑ）＝２７−（３・ｑ）及びｑ＝３；又は
   − Ｙ（ｑ）＞１０％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）、ここで、ｆ（ｑ）＝３０−（３・ｑ）及びｑ＝２；又は
   − Ｙ（ｑ）＞１０％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ・（ｎ−１）、ここで、ｆ（ｑ）＝３０−（３・ｑ）及びｑ＝３。
8. 前記テクスチャを含んでいる材料の屈折率が、５８７ｎｍにおいて、１．４〜１．６５にわたる範囲内であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の板。
9. ４００〜７００ｎｍにわたる範囲内のスペクトル領域における前記板の吸収率が、２％よりも小さく、好ましくは１％よりも小さく、さらには０．５％よりも小さいことを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の板。
10. 前記テクスチャを含んでいる材料が、無機ガラス製であることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の板。
11. テクスチャ加工された表面は、平均Ｒ_Ｓｍが、１ｍｍよりも大きく、好ましくは１．５ｍｍよりも大きく、さらには２ｍｍよりも大きく、かつ、８ｍｍよりは小さいような粗度を有することを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の板。
12. 前記テクスチャが、２〜８ｍｍにわたる範囲内の大きさを有する連続的なパターンを含むことを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の板。
13. 前記板の第二の主面もまた、Ｐ_ｍ・（ｎ−１）がＰ_ｍ’・（ｎ’−１）よりも大きいようなテクスチャを有し、Ｐ_ｍ’は、前記第二の主面の平均勾配を示し、かつ、ｎ’は、前記第二の主面の前記テクスチャを含んでいる材料の屈折率であることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の板。
14. 前記第二の主面の前記テクスチャが、Ｐ_ｍ’・２・（ｎ’−１）が３°よりも小さく、さらには２°よりも小さいような平均勾配を有することを特徴とする、請求項１３に記載の板。
15. Ｙ’（ｑ）が、前記第二の主面の、度で表されたｑ／（ｎ’−１）よりも大きい勾配を有するテクスチャ加工された表面の割合であるときに、以下の関係が存在することを特徴とする、請求項１３又は１４に記載の板：
    Ｙ’（ｑ）＞３％＋ｆ（ｑ）％・Ｐ_ｍ’・（ｎ’−１）
    ここで、ｆ（ｑ）＝２４−（３・ｑ）、及び
    Ｙ（ｑ）及びＹ’（ｑ）の両方に関して、ｑは値２を有するか、又は、Ｙ（ｑ）及びＹ’（ｑ）の両方に関して、ｑは値３を有する。
16. 反射防止被覆を、一つ又はその二つの面上に含むことを特徴とする、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の板。
17. 請求項１〜１６のいずれか一項に記載の板を備える、園芸用の温室。
18. テクスチャ加工され彫刻されたロールを用いたローリング加工によって、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の板を製造するための方法。
19. 前記テクスチャ加工され彫刻されたロールが、得られる前記板の前記第一の主面の平均勾配よりも大きい平均勾配を有するパターンを支持していることを特徴とする、請求項１８に記載の方法。
20. 前記テクスチャ加工され彫刻されたロールが、得られる前記板の前記第一の主面の平均勾配よりも、０．５°以上大きい平均勾配を有するパターンを支持していることを特徴とする、請求項１９に記載の方法。
21. 前記テクスチャ加工され彫刻されたロールが、得られる前記板の前記第一の主面の平均勾配よりも、１°以上大きい平均勾配を有するパターンを支持していることを特徴とする、請求項２０に記載の方法。

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