JP2018516341A - 四角ゲート真空バルブ、その作動方法及びこれを備えた半導体製造装置 - Google Patents

四角ゲート真空バルブ、その作動方法及びこれを備えた半導体製造装置 Download PDF

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Abstract

【課題】同一の空間内で両側のゲートに対するシーリング動作が可能であるので、限定された空間内で両側のゲートシーリングが必要な半導体工程に効果的に対応することができる四角ゲート真空バルブ、その作動方法及びこれを備えた半導体製造装置を提供する
【解決手段】本発明は、四角ゲート真空バルブ及びその作動方法、そしてそれを備える半導体製造装置に関し、四角ゲート真空バルブは、相互に対向される両側面に、第１ゲートと第２ゲートが形成されるゲートフレームと、前記ゲートフレームの下部開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動可能または回転可能に配置され、前記第１ゲートを選択的に開閉する第１バルブユニットと、及び前記ゲートフレームの上部開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動可能または回転可能に配置され、前記第２ゲートを選択的に開閉する第２バルブユニットを含む。
【選択図】図３

Description

本発明は、四角ゲート真空バルブ、その作動方法及びこれを備えた半導体製造装置に関し、更に詳しくには、同一の空間内で両側のゲートに対するシーリング（ｓｅａｌｉｎｇ）動作が可能であることにより、限定された空間内で、両側のゲートシーリングが必要な半導体工程に効果的に対応することができる四角ゲート真空バルブ及びその作動方法、そしてそれを備える半導体製造装置に関する。
半導体は、固定密度を要求するので、高い清潔度を有するクリーンルーム（ｃｌｅａｎ rｏｏｍ）で特殊な製造技術を通じて製造される。
半導体製造時の真空作業領域と大気領域との密閉技術も、半導体の品質に大きく影響を与えるので、半導体は空気の中に含まれた異物の接触を、最も完璧に遮断することができる真空状態で製造されることが一般的である。
従って、半導体製造設備には、チャンバの真空環境を選択的に造成する手段として、ゲートバルブ（ｇａｔｅ ｖａｌｖｅ）が広く使われる。
多くの種類のゲートバルブが公知されているが、普通は四角ゲート真空バルブが主に活用されていることで知られている。
もちろん、半導体を製造するためのチャンバ以外にも、 ＬＣＤ 蒸着のための蒸着チャンバ、例えば、プロセスチャンバとトランスファーチャンバ、またはトランスファーチャンバとロードロックチャンバの間にも、真空バルブが使われることができる。
真空バルブは、単一方向バルブと双方向バルブの二種類に分類されることができ、これらは、該当工程の特性に合わせて選択し、適用されている。
このような四角ゲート真空バルブは、開口された四角ゲートをディスク（ｄｉｓｋ）が開閉する方式を有する。
動作を簡単に見ると、開放状態（ｏｐｅｎ ｍｏｄｅ）であったディスクが、それに連結されたシャフト（ｍａｉｎ ｓｈａｆｔ）の上昇とともに、ゲートフレーム内に進入するようになり（ｃｌｏｓｅ ｍｏｄｅ）、進入が終了した後には、少しの角度変位を生じながら、ゲートフレームに開口されたゲートを閉めて密閉させる（ｐｕｓｈ ｍｏｄｅ）。
以後、再びシャフトの下降とともに、ディスクが下降されながらゲートが開かれ、このような動作は、工程の状況に合わせて繰り返されながら、真空を形成する、あるいは、真空を解除するようになる。
その結果、四角ゲート真空バルブは、直線運動メカニズムと、相似点での回転運動メカニズムが一緒に適用されるバルブであると言え、現在、このような方式が広く使われている。
しかし、現在、使用されている四角ゲート真空バルブの場合、一側のゲイトのみを開閉するための構造を備えているので、ゲートの活用度が多少低くなることができる問題点がある。
例えば、同一の空間内で両側のゲートに対するシーリング（ｓｅａｌｉｎｇ）動作が不可能であるので、限定された空間内で両側のゲートシーリングが必要な半導体工程に対応することができないという点を考慮する場合、これに対する技術開発が必要な実情である。
韓国特許出願第１０−１９８７−００１１７１２号公報 韓国特許出願第１０−１９９８−００４０９７４号公報 韓国特許出願第１０−２００７−０１１４８２９号公報 韓国特許出願第１０−２０１２−７０２８９６３号公報
本発明の目的は、同一の空間内で両側のゲートに対するシーリング（ｓｅａｌｉｎｇ）動作が可能であるので、限定された空間内で両側のゲートシーリングが必要な半導体工程に効果的に対応することができる四角ゲート真空バルブ、その作動方法及びこれを備えた半導体製造装置を提供することである。
前記目的は、相互に対向される両側面に、第１ゲートと第２ゲートが形成されるゲートフレームと、前記ゲートフレームの下部開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動可能に、または、回転可能に配置され、前記第１ゲートを選択的に開閉する第１バルブユニットと、及び前記ゲートフレームの上部開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動可能に、または、回転可能に配置され、前記第２ゲートを選択的に開閉する第２バルブユニットとを、含むことを特徴とする四角ゲート真空バルブによって達成される。
前記第１バルブユニットは、前記第１ゲートを選択的に開閉する第１開閉用ディスクと、前記第１開閉用ディスクと連結され、前記第１開閉用ディスクを直線移動させる第１ユニットシャフトと、及び前記第１ユニットシャフトに結合されて、前記第１ユニットシャフトを回転させる第１回転部とを、含むことができる。
前記第２バルブユニットは、前記第２ゲートを選択的に開閉する第２開閉用ディスクと、前記第２開閉用ディスクと連結されて、前記第２開閉用ディスクを直線移動させる第２ユニットシャフトと、及び前記第２ユニットシャフトに結合されて、前記第２ユニットシャフトを回転させる第２回転部とを、含むことができる。
前記第１開閉用ディスク及び第２開閉用ディスクには、密封用圧着リングが備えられることができる。
前記第１ゲートと前記第２ゲートのサイズは、互いに同一または異なることができる。
前記第１ゲートと前記第２ゲートの開閉信号を発生させる信号発生器と、及び、前記信号発生器からの入力情報に基づいて、前記第１バルブユニットと前記第２バルブユニットの動作をコントロールするコントローラーとを、更に含むことができる。
一方、前記目的は、第１バルブユニットの第１開閉用ディスクが、第１ユニットシャフトの動作によってゲートフレームの下部開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ斜めに直線移動されて進入される第１バルブユニットの進入段階と、第１回転部によって前記第１バルブユニットが、予め決められた角度程度の変位を生じながら回転される第１バルブユニットの回転段階と、前記第１開閉用ディスクが、前記第１ゲートに加圧されて、前記第１開閉用ディスクの第１密封用圧着リングが、前記第１ゲートの周縁面に圧着されるようにしながら、前記第１ゲートを閉めて密閉させる第１ゲートの密閉段階とを、含むことを特徴とする四角ゲート真空バルブ作動方法によっても達成される。
前記第１バルブユニットが原位置に復帰される第１バルブユニットの原位置復帰段階と、第２バルブユニットの第２開閉用ディスクが、第２ユニットシャフトの動作によって、ゲートフレームの上部開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ斜めに直線移動されて進入される第２バルブユニットの進入段階と、第２回転部によって前記第２バルブユニットが、予め決められた角度程度の変位を生じながら回転される第２バルブユニットの回転段階と、前記第２開閉用ディスクが、前記第２ゲートに加圧されて、前記第２開閉用ディスクの第２密封用圧着リングが前記第２ゲートの周縁面に圧着されるようにしながら、前記第２ゲートを閉めて密閉させる第２ゲートの密閉段階とを、更に含み、前記第１ゲートの密閉段階と前記第２ゲートの密閉段階は、反復的に進行されることができる。
第１バルブユニットの第１開閉用ディスクが、第１ユニットシャフトの動作によって、ゲートフレームの下部開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ垂直移動されて進入される第１バルブユニットの進入段階と、及び進入された前記第１バルブユニットが水平移動されながら、前記第１開閉用ディスクが前記第１ゲートに加圧され、引き続き、前記第１開閉用ディスクの第１密封用圧着リングが、前記第１ゲートの周縁面に圧着されるようにしながら前記第１ゲートを閉めて密閉させる第１ゲートの密閉段階とを、含むことを特徴とする四角ゲート真空バルブ作動方法によっても達成される。
一方、前記目的は、相互に離隔配置され、半導体製造のための工程を形成する第１真空チャンバ及び第２真空チャンバと、及び前記第１真空チャンバ及び第２真空チャンバの間に連結され、前記第１真空チャンバ及び第２真空チャンバの方への第１ゲート及び第２ゲートを、選択的に開閉する四角ゲート真空バルブとを、含み、前記四角ゲート真空バルブは、前記第１真空チャンバ及び第２真空チャンバと対応されるように、前記第１ゲートと第２ゲートが形成されるゲートフレームと、前記ゲートフレームの下部開口を通じて前記ゲートフレーム内へ直線移動可能または回転可能に配置されて、前記第１ゲートを選択的に開閉する第１バルブユニットと、前記ゲートフレームの上部開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動可能または回転可能に配置され、前記第２ゲートを選択的に開閉する第２バルブユニットとを、含むことを特徴とする四角ゲート真空バルブを備える半導体製造装置によっても達成される。
前記第１バルブユニットは、前記第１ゲートを選択的に開閉する第１開閉用ディスクと、前記第１開閉用ディスクと連結され、前記第１開閉用ディスクを直線移動させる第１ユニットシャフトと、前記第１ユニットシャフトに結合されて、前記第１ユニットシャフトを回転させる第１回転部とを含み、前記第２バルブユニットは、前記第２ゲートを選択的に開閉する第２開閉用ディスクと、前記第２開閉用ディスクと連結され、前記第２開閉用ディスクを直線移動させる第２ユニットシャフトと、及び前記第２ユニットシャフトに結合されて、前記第２ユニットシャフトを回転させる第２回転部とを含み、前記第１開閉用ディスク及び第２開閉用ディスクには、密封用圧着リングが備えられることができる。
本発明によれば、同一の空間内で両側のゲートに対するシーリング（ｓｅａｌｉｎｇ）動作が可能であるので、限定された空間内で両側のゲートシーリングが必要な半導体工程に効果的に対応することができる効果がある。
本発明の一実施例に係る半導体製造装置の概略的な構造図として、第１ゲートが閉まった状態の図面である。 本発明の一実施例に係る半導体製造装置の概略的な構造図として、第２ゲートが閉まった状態の図面である。 本発明の一実施例に係る四角ゲート真空バルブの概略的な構造図である。 四角ゲート真空バルブの動作を段階的に図示した図面である。 四角ゲート真空バルブの動作を段階的に図示した図面である。 四角ゲート真空バルブの動作を段階的に図示した図面である。 四角ゲート真空バルブの動作を段階的に図示した図面である。 四角ゲート真空バルブの制御ブロック図である。 本発明の一実施例に係る四角ゲート真空バルブの作動方法の流れ図である。 四角ゲート真空バルブの変形例である。 四角ゲート真空バルブの変形例である。 四角ゲート真空バルブの変形例である。 四角ゲート真空バルブの変形例である。
本発明は、相互に対向される両側面に、第１ゲートと第２ゲートが形成されるゲートフレームと、前記ゲートフレームの下部開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動可能または回転可能に配置され、前記第１ゲートを選択的に開閉する第１バルブユニットと、前記ゲートフレームの上部開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動可能または回転可能に配置され、前記第２ゲートを選択的に開閉する第２バルブユニットとを含む。
以下は、添付した図面を参照して、本発明の実施例に対して、本発明の当業者が容易に実施することができるように詳細に説明する。
しかし、発明に関する説明は構造的乃至機能的な説明のための実施例にすぎないので、本発明の権利範囲は、本文に説明された実施例によって制限されると解釈されてはならない。
例えば、実施例は多様な変更が可能で、さまざまな形態を有することができるので、本発明の権利範囲は、技術的思想を実現することができる均等物を含むと理解されなければならない。
また、本発明で提示された目的または効果は、特定の実施例が、これを全部含まなければならないとか、そういう効果のみを含まなければならないという意味ではないので、本発明の権利範囲は、これによって制限されると理解されてはならない。
本発明の明細書で、本実施例は本発明の開示が完全になるようにし、本発明の当業者に発明の範囲を完全に知らせるために提供されるものである。そして、本発明は請求項の範囲によって定義されるのみである。
従って、いくつかの実施例において、よく知られた構成要素、よく知られた動作及びよく知られた技術は、本発明が曖昧に解釈されることを避けるために、具体的に説明していない。
一方、本発明で記載される用語の意味は、辞書の意味に制限されなく、次のように理解されなければならない。
ある構成要素が、他の構成要素に「連結されて」いると言及された時には、そのほかの構成要素に直接的に連結されることもできるが、中間に他の構成要素が存在することもできると理解されなければならない。一方、ある構成要素が、他の構成要素に「直接連結されて」いると言及された時には、中間に他の構成要素が存在していないと理解されなければならない。一方、構成要素との関係を説明するほかの表現、即ち、「〜間に」と「すぐ〜間に」または「〜に隣接する」と「〜に直接隣接する」なども同様に解釈されなければならない。
単数の表現は、文脈上に明らかに別に意味していない限り、複数の表現を含むことと理解されなければならないし、「含む」または「有する」などの用語は、実施された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部分品またはこれらを組み合わせたものが存在することを指定しようとするのであり、一つまたはその以上の他の特徴や数字、段階、動作、構成要素、部分品またはこれらを組み合わせたものなどの存在または付加可能性を予め排除しないと理解されなければならない。
ここで、使われるすべての用語は、別に定義されていない限り、本発明の当業者によって一般的に理解されることと同様の意味を有するのである。
一般的に使われる辞書に定義されている用語は、関連技術の文脈上に持つ意味と一致すると解釈されなければならなく、本発明で明らかに定義しない限り、理想的または過度に形式的な意味を有すると解釈されることができない。
以下、図面を参照しながら本発明の実施例を詳しく説明する。実施例の説明において、同一の構成に対しては同一の参照符号を付与するようにし、場合によって同一の参照符号に対する説明は省略することにする。
図１は、本発明の一実施例による半導体製造装置の概略的な構造図として、第１ゲートが閉まった状態の図面であり、図２は、本発明の一実施例による半導体製造装置の概略的な構造図として、第２ゲートが閉まった状態の図面である。
これらの図面を参照すれば、本発明の一実施例による半導体製造装置は、互いに離隔配置されて、半導体製造のための工程を形成する第１真空チャンバ１０１及び第２真空チャンバ１０２と、第１真空チャンバ１０１及び第２真空チャンバ１０２の間に連結され、第１真空チャンバ１０１及び第２真空チャンバ１０２の方への第１ゲート１２１及び第２ゲート１２２を選択的に開閉する四角ゲート真空バルブ１００とを、含むことができる。
この場合、第１真空チャンバ１０１及び第２真空チャンバ１０２は、その役目が同一とすることもでき、それとも相異なることもできる。
例えば、第１真空チャンバ１０１及び第２真空チャンバ１０２は、蒸着チャンバ、プロセスチャンバ、トランスファーチャンバ、またはロードロックチャンバとすることができる。もちろん、ディスプレー装置のチャンバも、同一の範囲にあるので本発明の権利範囲に属すると言わなければならない。
四角ゲート真空バルブ１００は、第１真空チャンバ１０１及び第２真空チャンバ１０２ の方への第１ゲート１２１及び２ゲート１２２を選択的に開閉する。
この場合、四角ゲート真空バルブ１００が同一の空間、即ち、限定された空間内で両側の第１ゲート１２１及び第２ゲート１２２に対するシーリング（ｓｅａｌｉｎｇ）動作が可能であるので、限定された空間内で第１ゲート１２１及び第２ゲート１２２ シーリングが必要な半導体工程に効果的に対応することができるようになる。
このような役目を遂行する四角ゲート真空バルブ１００に対して、図３乃至図９を参照して詳しく説明する。
図３は、本発明の一実施例による四角ゲート真空バルブの概略的な構造図であり、図４乃至図７は、それぞれ四角ゲート真空バルブの動作を段階的に図示した図面であり、図８は、四角ゲート真空バルブの制御ブロック図であり、そして、図９は、本発明の一実施例による四角ゲート真空バルブ作動方法の流れ図である。
これら図面を参照すれば、本発明の実施例による四角ゲート真空バルブ１００は、同一の空間内で両側の第１ゲート１２１及び第２ゲート１２２に対するシーリング（ｓｅａｌｉｎｇ）動作が可能であるので、限定された空間内で第１ゲート１２１及び第２ゲート１２２のシーリングが必要な半導体工程に効果的に対応するようにして、ゲートフレーム１２０と、第１バルブユニット１３０と、第２バルブユニット１４０、信号発生器１５０及びコントローラー１６０を含むことができる。
まず、ゲートフレーム１２０は、本発明の実施例による四角ゲート真空バルブ１００の外郭のフレームを形成する。
このようなゲートフレーム１２０の両側面には、第１ゲート１２１と第２ゲート１２２が形成される。第１ゲート１２１と第２ゲート１２２は、平面で見ると、四角の形状を有することができる。
この場合、本発明の実施例の場合、第１ゲート１２１と前記第２ゲート１２２のサイズは互いに同一に形成される。
しかし、第１ゲート１２１と前記第２ゲート１２２のサイズは、互いに異なることも可能である。
次に、第１バルブユニット１３０は、図３乃至図５に図示されたように、ゲートフレーム１２０の下部開口１２０ａを通じて、ゲートフレーム１２０ 内で直線移動可能または回転可能に配置され、第１ゲート１２１を選択的に開閉する役目をする。
このような第１バルブユニット１３０は、第１ゲート１２１を選択的に開閉する第１開閉用ディスク１３１と、第１開閉用ディスク１３１に連結され、第１開閉用ディスク１３１を直線移動させる第１ユニットシャフト１３２と、第１ユニットシャフト１３２とに結合されて、第１ユニットシャフト１３２を回転させる第１回転部１３３を含む。
第１ゲート１２１が四角形である関係で、第１開閉用ディスク１３１も、第１ゲート１２１より大きいサイズの四角形状を有する。
このような第１開閉用ディスク１３１の周縁面には、第１密封用圧着リング１３４が備えられ、図５のように、第１ゲート１２１の周縁面に圧着されることで真空が漏れないようにする。
第１ユニットシャフト１３２は、第１開閉用ディスク１３１を直線移動させる役目をし、第１回転部１３３は、第１開閉用ディスク１３１を回転させる役目をする。もちろん、第１ユニットシャフト１３２の下部領域に第１開閉用ディスク１３１を直線移動または回転させるための駆動部が設置されるが、これに対しては省略した。
次に、第２バルブユニット１４０は、図３、図６及び図７に図示されたように、ゲートフレーム１２０の上部開口１２０ｂを通じて、ゲートフレーム１２０ 内で直線移動可能または回転可能に配置され、第２ゲート１２２を選択的に開閉する役目をする。第２バルブユニット１４０は、第１バルブユニット１３０と同一の構造を有することができる。
このような第２バルブユニット１４０は、第２ゲート１２２を選択的に開閉する第２開閉用ディスク１４１と、第２開閉用ディスク１４１に連結され、第２開閉用ディスク１４１を直線移動させる第２ユニットシャフト１４２と、第２ユニットシャフト１４２に結合されて、第２ユニットシャフト１４２を回転させる第２回転部１４３を含む。
第２ゲート１２２が四角形である関係で、第２開閉用ディスク１４１も、第２ゲート１２２より大きいサイズの四角形状を有する。
このような第２開閉用ディスク１４１の周縁面には、第２密封用圧着リング１４４が備えられ、図７のように、第２ゲート１２２の周縁面に圧着されることにより真空が漏れないようにする。
第２ユニットシャフト１４２は、第２開閉用ディスク１４１を直線移動させる役目をし、第２回転部１４３は、第２開閉用ディスク１４１を回転させる役目をする。もちろん、第２ユニットシャフト１４２の上部領域に第２開閉用ディスク１４１を直線移動または回転させるための駆動部が設置されるが、これについては省略した。
次に、信号発生器１５０は、第１ゲート１２１と第２ゲート１２２の開閉信号を発生させる。即ち、図５のように、第１ゲート１２１が閉まるようにしたり、図７のように、第２ゲート１２２が閉まるようにする信号を発生させる。発生された信号は、コントローラー１６０へ伝送される。
最後に、コントローラー１６０は、信号発生器１５０からの入力情報に基づいて、第１バルブユニット１３０と第２バルブユニット１４０との動作をコントロールする。即ち、信号発生器１５０からの入力情報に基づいて、図５のように、第１ゲート１２１が閉まるように、または図７のように、第２ゲート１２２が閉まるように、第１バルブユニット１３０と第２バルブユニット１４０の動作をコントロールする。
このようなコントローラー１６０は、中央処理装置（ＣＰＵ）１６１と、メモリー（ＭＥＭＯＲＹ）１６２及びサポート回路（ＳＵＰＰＯＲＴ ＣＩＲＣＵＩＴ）１６３とを含むことができる。
中央処理装置１６１は、本発明の実施例で信号発生器１５０からの入力情報に基づいて、第１バルブユニット１３０と第２ バルブユニット１４０の動作をコントロールするために、産業的に適用されることができる多様なコンピュータープロセッサの中の一つであることができる。
メモリー（ＭＥＭＯＲＹ）１６２は、中央処理装置１６１に連結される。メモリー１６２は、コンピューターで読み取ることができる記録媒体として、ローカルまたは遠隔地に設置されることができ、例えば、ランダムアクセスメモリー（ＲＡＭ）、ＲＯＭ、フロッピーディスク、ハードディスクまたは任意のデジタル保存形態のように易しく利用可能な少なくとも一つ以上のメモリーである。
サポート回路（ＳＵＰＰＯＲＴ ＣＩＲＣＵＩＴ）１６３は、中央処理装置１６１に結合されて、プロセッサの典型的な動作を支援する。このようなサポート回路１６３は、キャッシュ、パワーサプライ、クロック回路、入力回路/出力回路及びザブシステムなどを含むことができる。
本発明の実施例おいて、コントローラー１６０は、信号発生器１５０からの入力情報に基づいて、第１バルブユニット１３０と第２ バルブユニット１４０の動作をコントロールする。この場合、コントローラー１６０が、感知部１８０からの情報に基づいて、船体抵抗低減モジュール１４０を通じる気泡発生可否または気泡発生量などをコントロールする一連のプロセスなどは、メモリー１６２に保存されることができる。典型的には、ソフトウェアルーチンが、メモリ１６２に保存されることができる。ソフトウェアルーチンは、またほかの中央処理装置（図示せず）によって保存されるとか実行されることができる。
本発明によるプロセスは、ソフトウェアルーチンによって実行されることを説明したが、本発明のプロセスの中で、少なくとも一部はハードウェアによって行われることも可能である。このように、本発明のプロセスは、コンピューターシステムにおいて行われるソフトウェアに実現される、または集積回路のようなハードウェアで実現される、またはソフトウェアとハードウェアの組合によって実現されることができる。
以下、本発明の実施例による四角ゲート真空バルブ１１０の作動方法について、図９を参照して説明する。
まず、第１バルブユニット１３０の第１開閉用ディスク１３１が、第１ユニットシャフト１３２の動作によってゲートフレーム１２０の下部開口１２０ａを通じて、ゲートフレーム１２０内に斜めに直線移動されて進入される(ステップＳ１１)。
継いで、ゲートフレーム１２０ 内に斜めに直線移動されて進入された第１バルブユニット１３０は、第１回転部１３３によって予め決められた角度程度の変位を生じながら回転される(ステップＳ１２)。
その後、第１開閉用ディスク１３１が、第１ゲート１２１に加圧されて、第１開閉用ディスク１３１の第１密封用圧着リング１３４が第１ゲート１２１の回り面に圧着されるようにしながら第１ゲート１２１を閉めて密閉させる(ステップＳ１３、図５を参照)。
次に、第１バルブユニット１３０が原位置に復帰されて(ステップＳ１４)、その後に第２バルブユニット１４０が動作される。
即、第２バルブユニット１４０の第２開閉用ディスク１４１が、第２ユニットシャフト１４２の動作によってゲートフレーム１２０の上部開口１２０ｂを通じて、ゲートフレーム１２０内に斜めに直線移動されて進入される(ステップＳ１５)。
続いて、ゲートフレーム１２０内に斜めに直線移動されて進入された第２バルブユニット１４０は、第２回転部１４３によって予め決められた角度程度の変位を生じながら回転される（ステップＳ１６）。
その後、第２開閉用ディスク１４１が、第２ゲート１２２に加圧されて、第２開閉用ディスク１４１の第２密封用圧着リング１４４が、第２ゲート１２２の周縁面に圧着されるようにしながら第２ゲート１２２を閉めて密閉させる(ステップＳ１７、図７を参照)。
このような過程、即ち、図５の第１ゲート１２１の密閉段階と図７の第２ゲート１２２の密閉段階は、反復的に進行されることができる。もちろん、信号発生器１５０によって選択的に進行されることもできる。
以上、説明したような構造と作用を有する本発明の実施例によれば、同一の空間内で両側のの第１ゲート１２１及び第２ゲート１２２に対するシーリング（ｓｅａｌｉｎｇ）動作が可能であるので、限定された空間内で第１ゲート１２１及び第２ゲート１２２シーリングが必要な半導体工程に効果的に対応することができるようになる。
図１０乃至図１３は、それぞれ四角ゲート真空バルブの変形例である。
図１０を参照すれば、図１０に図示された四角ゲート真空バルブ２１０の場合、第１バルブユニット２３０及び第２バルブユニット２４０に備えられる第１開閉用ディスク２３１及び第２開閉用ディスク２４１において、それぞれ多数のペアの密封用圧着リング２３４、２４４が備えられる。
このように、第１開閉用ディスク２３１及び第２開閉用ディスク２４１において、それぞれ多数のペアの密封用圧着リング２３４、２４４が備えられる場合、第１ゲート１２１及び第２ゲート１２２に対する密封の効率が高められ、任意に真空が漏れる現象を防止することができる。
図１１乃至図１３を参照すれば、これらの図面に図示された四角ゲート真空バルブ３１０の場合、第１ゲート１２１及び第２ゲート１２２を選択的に開閉する第１開閉用ディスク３３１ａ及び第２開閉用ディスク３３１ｂと、第１開閉用ディスク３３１ａ及び第２開閉用ディスク３３１ｂに共用に連結されて、第一開閉用ディスク３３１ａ及び第２開閉用ディスク３３１ｂを、直線移動させるユニット共用シャフト３３２と、ユニット共用シャフト３３２に結合されてユニット共用シャフト３３２を回転させる共用回転部３３３を含む。
本発明の実施例の場合には一つのユニット共用シャフト３３２の両側に、第１開閉用ディスク及び第２開閉用ディスク３３１ａ、３３１ｂが備えられ、ユニット共用シャフト３３２及び共用回転部３３３の役目によって、図１２及び図１３のように第１ゲート１２１及び第２ゲート１２２が選択的に開閉されるようにしている。このような構造を有する場合、構造の単純化を図ることができるという利点がある。
図１０乃至図１３の実施例が適用されても、同一の空間内で両側の第１ゲート１２１及び第２ゲート１２２に対するシーリング（ｓｅａｌｉｎｇ）動作が可能であるので、限定された空間内で第１ゲート１２１及び第２ゲート１２２のシーリングが必要な半導体工程に効果的に対応することができる。
以上、図面を参照しながら、本発明について詳しく説明したが、本発明がこれに限定されるのではない。
前述した実施例で説明した第１バルブユニットと第２バルブユニットは、同時に動くこともできるが、衝突危険を考慮して見れば、第１バルブユニットと第２バルブユニットはひとつずつ交替しながら動くのが好ましいことである。
このように、本発明は、記載した実施例に限定されるのではなく、本発明の思想及び範囲を脱逸しないで多様に修正及び変形をすることができるということは、当業者にとっては自明なことである。従って、そういう修正例または変形例は、本発明の請求範囲に属すると言わなければならない。
本発明は、半導体製造設備において、チャンバの真空環境を選択的に造成する手段であるゲートバルブ（ｇａｔｅ ｖａｌｖｅ）に適用することができる。

Claims (11)

  1. 相互に対向される両側面に、第１ゲートと第２ゲートが形成されたゲートフレームと、
    前記ゲートフレームの下部開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動可能または回転可能に配置され、前記第１ゲートを選択的に開閉する第１バルブユニットと、及び、
    前記ゲートフレームの上部開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動可能または回転可能に配置され、前記第２ゲートを選択的に開閉する第２バルブユニットとを、含むことを特徴とする四角ゲート真空バルブ。
  2. 前記第１バルブユニットは、
    前記第１ゲートを選択的に開閉する第１開閉用ディスクと、
    前記第１開閉用ディスクと連結され、前記第１開閉用ディスクを直線移動させる第１ユニットシャフトと、及び、
    前記第１ユニットシャフトに結合されて、前記第１ユニットシャフトを回転させる第１回転部とを、含むことを特徴とする請求項１に記載の四角ゲート真空バルブ。
  3. 前記第２バルブユニットは、
    前記第２ゲートを選択的に開閉する第２開閉用ディスクと、
    前記第２開閉用ディスクと連結され、前記第２開閉用ディスクを直線移動させる第２ユニットシャフトと、
    前記第２ユニットシャフトに結合されて、前記第２ユニットシャフトを回転させる第２回転部とを、含むことを特徴とする請求項２に記載の四角ゲート真空バルブ。
  4. 前記第１開閉用ディスク及び第２開閉用ディスクには、密封用圧着リングが備えられたことを特徴とする請求項３に記載の四角ゲート真空バルブ。
  5. 前記第１ゲートと前記第２ゲートのサイズは、互いに同一または異なることを特徴とする請求項１に記載の四角ゲート真空バルブ。
  6. 前記第１ゲートと前記第２ゲートの開閉信号を発生させる信号発生器と、及び、
    前記信号発生器からの入力情報に基づいて、前記第１バルブユニットと前記第２バルブユニットの動作をコントロールするコントローラーとを、更に含むことを特徴とする請求項１に記載の四角ゲート真空バルブ。
  7. 第１バルブユニットの第１開閉用ディスクが、第１ユニットシャフトの動作によってゲートフレームの下部開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ斜めに直線移動されて進入される第１バルブユニットの進入段階と、
    第１回転部によって、前記第１バルブユニットが、予め決められた角度程度の変位を生じながら回転される第１バルブユニットの回転段階と、
    前記第１開閉用ディスクが、前記第１ゲートに加圧されて、前記第１開閉用ディスクの第１密封用圧着リングが前記第１ゲートの周縁面に圧着されるようにしながら、前記第１ゲートを閉めて密閉させる第１ゲートの密閉段階とを、含むことを特徴とする四角ゲート真空バルブ作動方法。
  8. 前記第１バルブユニットが原位置に復帰される第１バルブユニットの原位置復帰段階と、
    第２バルブユニットの第２開閉用ディスクが、第２ユニットシャフトの動作によって、ゲートフレームの上部開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ斜めに直線移動されて進入される第２バルブユニットの進入段階と、
    第２回転部によって前記第２バルブユニットが、予め決められた角度程度の変位を生じながら回転される第２バルブユニットの回転段階と、
    前記第２開閉用ディスクが、前記第２ゲートに加圧されて、前記第２開閉用ディスクの第２密封用圧着リングが前記第２ゲートの周縁面に圧着されるようにしながら、前記第２ゲートを閉めて密閉させる第２ゲートの密閉段階とを、更に含み、
    前記第１ゲートの密閉段階と前記第２ゲートの密閉段階は、反復的に進行されることを特徴とする請求項７に記載の四角ゲート真空バルブ作動方法。
  9. 第１バルブユニットの第１開閉用ディスクが、第１ユニットシャフトの動作によって、ゲートフレームの下部開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ垂直移動されて進入される第１バルブユニットの進入段階と、及び、
    進入された前記第１バルブユニットが水平移動されながら、前記第１開閉用ディスクが前記第１ゲートに加圧され、引き続き、前記第１開閉用ディスクの第１密封用圧着リングが、前記第１ゲートの周縁面に圧着されるようにしながら前記第１ゲートを閉めて密閉させる第１ゲートの密閉段階とを、含むことを特徴とする四角ゲート真空バルブ作動方法。
  10. 相互に離隔配置され、半導体製造のための工程を形成する第１真空チャンバ及び第２真空チャンバと、及び、
    前記第１真空チャンバ及び第２真空チャンバの間に連結され、前記第１真空チャンバ及び第２真空チャンバの方への第１ゲート及び第２ゲートを、選択的に開閉する四角ゲート真空バルブとを、含み、
    前記四角ゲート真空バルブは、
    前記第１真空チャンバ及び第２真空チャンバと対応されるように、前記第１ゲートと第２ゲートが形成されたゲートフレームと、
    前記ゲートフレームの下部開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動可能または回転可能に配置され、前記第１ゲートを選択的に開閉する第１バルブユニットと、
    前記ゲートフレームの上部開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動可能または回転可能に配置されて、前記第２ゲートを選択的に開閉する第２バルブユニットとを、含むことを特徴とする四角ゲート真空バルブを備える半導体製造装置。
  11. 前記第１バルブユニットは、
    前記第１ゲートを選択的に開閉する第１開閉用ディスクと、
    前記第１開閉用ディスクと連結され、前記第１開閉用ディスクを直線移動させる第１ユニットシャフトと、
    前記第１ユニットシャフトに結合されて、前記第１ユニットシャフトを回転させる第１回転部とを、含み、
    前記第２バルブユニットは、
    前記第２ゲートを選択的に開閉する第２開閉用ディスクと、
    前記第２開閉用ディスクと連結され、前記第２開閉用ディスクを直線移動させる第２ユニットシャフトと、及び
    前記第２ユニットシャフトに結合されて、前記第２ユニットシャフトを回転させる第２回転部とを、含み、
    前記第１開閉用ディスク及び第２開閉用ディスクには、密封用圧着リングが備えられることを特徴とする請求項１０に記載の四角ゲート真空バルブを備える半導体製造装置。
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