WO2016163588A1 - 사각 게이트 진공밸브, 그 작동방법 및 이를 구비한 반도체 제조장치 - Google Patents

사각 게이트 진공밸브, 그 작동방법 및 이를 구비한 반도체 제조장치 Download PDF

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WO2016163588A1
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안희준
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Definitions

  • the present invention relates to a square gate vacuum valve, a method of operating the same, and a semiconductor manufacturing apparatus having the same. More specifically, the present invention relates to a rectangular gate vacuum valve, and more particularly, to sealing both gates in the same space. The present invention relates to a square gate vacuum valve, a method of operating the same, and a semiconductor manufacturing apparatus having the same, which can effectively cope with a semiconductor process requiring gate sealing.
  • the semiconductor Since the sealing technology between the vacuum working area and the atmospheric area during semiconductor manufacturing also affects the quality of the semiconductor, the semiconductor is generally manufactured in a vacuum state that can completely block the contact of foreign matter contained in the air.
  • a gate valve is widely used as a means for selectively forming a vacuum environment of a chamber in a semiconductor manufacturing facility.
  • gate valves are known, but generally, a square gate vacuum valve is known to be mainly used.
  • vacuum valves may also be used for deposition chambers for LCD deposition, such as process chambers and transfer chambers, or between transfer chambers and load lock chambers.
  • vacuum valves There are two types of vacuum valves, one-way valves and two-way valves, which are selected according to the characteristics of the process.
  • the square gate vacuum valve has a manner in which a disk opens and closes the opened square gate.
  • the disk in open mode enters the gate frame with the rise of the main shaft connected to it (close mode), which causes some angular displacement after the entry is complete. While closing the gate opened in the gate frame (push mode).
  • the gate is opened while the disk is lowered with the lowering of the shaft again, and this operation is repeated according to the situation of the process to form a vacuum or release the vacuum.
  • the square gate vacuum valve is a valve in which the linear motion mechanism and the rotary motion mechanism at the top dead center are applied together, and this method is widely used at present.
  • the square gate vacuum valve currently in use has a structure for opening and closing only the gate of one side, there is a problem that the utilization of the gate can be somewhat lowered.
  • An object of the present invention is to enable a sealing operation for both gates in the same space, so that it can effectively cope with a semiconductor process requiring both gate sealing in a limited space, a square gate vacuum valve, a method of operating the same, and the like. It is to provide a semiconductor manufacturing apparatus provided.
  • the object may include a gate frame having first and second gates formed on opposite sides of the gate frame; A first valve unit disposed to be linearly movable or rotatable into the gate frame through a lower opening of the gate frame, and selectively opening and closing the first gate; And a second valve unit disposed to be linearly movable or rotatable into the gate frame through an upper opening of the gate frame, the second valve unit selectively opening and closing the second gate. .
  • the first valve unit, the first opening and closing disk for selectively opening and closing the first gate;
  • a first unit shaft connected to the first opening / closing disk and linearly moving the first opening / closing disk;
  • a first rotating part coupled to the first unit shaft to rotate the first unit shaft.
  • the second valve unit may include a second opening and closing disk for selectively opening and closing the second gate; A second unit shaft connected to the second opening / closing disk and linearly moving the second opening / closing disk; And a second rotating part coupled to the second unit shaft to rotate the second unit shaft.
  • the first and second opening and closing disks may be provided with a sealing compression ring.
  • the size of the first gate and the second gate may be the same or different.
  • a signal generator configured to generate an open / close signal between the first gate and the second gate
  • the controller may further include a controller configured to control operations of the first valve unit and the second valve unit based on the input information from the signal generator.
  • the object of the first valve unit entry step of entering the first opening and closing disk of the first valve unit is inclined linearly moved into the gate frame through the lower opening of the gate frame by the operation of the first unit shaft;
  • a first valve unit rotating step of rotating the first valve unit by causing a displacement of the first valve unit by a predetermined angle by a first rotating part;
  • a first closing and sealing of the first gate while pressing the first opening / closing disk to the first gate so that the first sealing pressing ring of the first opening / closing disk is pressed against the circumferential surface of the first gate.
  • the method may further include a gate sealing step, wherein the first gate sealing step and the second gate sealing step may be repeatedly performed.
  • the object of the first valve unit entry step of entering the first opening and closing disk of the first valve unit is moved vertically into the gate frame through the lower opening of the gate frame by the operation of the first unit shaft; And the first opening / closing disk is pressed into the first gate while the first valve unit is moved horizontally, and the first sealing pressing ring of the first opening / closing disk is pressed against the circumferential surface of the first gate. It is also achieved by a method of operating a square gate vacuum valve comprising a first gate closing step of closing and closing the first gate to ensure.
  • the object is, spaced apart from each other, the first and second vacuum chamber for forming a process for manufacturing a semiconductor; And a square gate vacuum valve connected between the first and second vacuum chambers and selectively opening and closing the first and second gates toward the first and second vacuum chambers, wherein the square gate vacuum valve includes: A gate frame in which the first gate and the second gate are formed to correspond to the first and second vacuum chambers; A first valve unit disposed to be linearly movable or rotatable into the gate frame through a lower opening of the gate frame, and selectively opening and closing the first gate; And a second valve unit disposed to be linearly moved or rotatable into the gate frame through an upper opening of the gate frame, the second valve unit selectively opening or closing the second gate. It is also achieved by the manufacturing apparatus.
  • the first valve unit the first opening and closing disk for selectively opening and closing the first gate; A first unit shaft connected to the first opening / closing disk and linearly moving the first opening / closing disk; And a first rotating part coupled to the first unit shaft to rotate the first unit shaft, wherein the second valve unit comprises: a second opening / closing disk for selectively opening and closing the second gate; A second unit shaft connected to the second opening / closing disk and linearly moving the second opening / closing disk; And a second rotating part coupled to the second unit shaft to rotate the second unit shaft, wherein the first and second opening and closing disks may be provided with a sealing pressing ring.
  • the sealing operation for both gates can be performed in the same space, there is an effect that it can effectively cope with a semiconductor process requiring both gate sealing in a limited space.
  • FIG. 1 is a schematic structural diagram of a semiconductor manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention, in which the first gate is closed.
  • FIG. 2 is a schematic structural diagram of a semiconductor manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention, in which the second gate is closed.
  • FIG. 3 is a schematic structural diagram of a square gate vacuum valve according to an embodiment of the present invention.
  • 4 to 7 are diagrams showing the operation of the square gate vacuum valve step by step.
  • FIG. 8 is a control block diagram of a square gate vacuum valve.
  • FIG. 9 is a flowchart illustrating a method of operating a square gate vacuum valve according to an exemplary embodiment of the present invention.
  • the present invention provides a gate frame including a first gate and a second gate formed on opposite sides of the gate frame; A first valve unit disposed to be linearly movable or rotatable into the gate frame through a lower opening of the gate frame, and selectively opening and closing the first gate; And a second valve unit disposed to be linearly movable or rotatable into the gate frame through an upper opening of the gate frame, and selectively opening and closing the second gate.
  • FIG. 1 is a schematic structural diagram of a semiconductor manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention, a first gate is closed, and FIG. 2 is a schematic structural diagram of a semiconductor manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • the second gate is closed.
  • the semiconductor manufacturing apparatus is spaced apart from each other, the first and second vacuum chambers 101 and 102 and the first and second vacuum chambers forming a process for manufacturing a semiconductor Connected between (101, 102), and may include a square gate vacuum valve 100 for selectively opening and closing the first and second gate (121, 122) toward the first and second vacuum chamber (101, 102).
  • first and second vacuum chambers 101 and 102 may be the same or different.
  • first and second vacuum chambers 101 and 102 may be deposition chambers, process chambers, transfer chambers, or load lock chambers.
  • the chambers of the display equipment will also be within the scope of the present invention because they are in the same category.
  • the square gate vacuum valve 100 selectively opens and closes the first and second gates 121 and 122 toward the first and second vacuum chambers 101 and 102.
  • the rectangular gate vacuum valve 100 can perform sealing operations for both the first and second gates 121 and 122 in the same space, that is, the limited space, the first and second gates in the limited space. (121,122) It is possible to effectively cope with semiconductor processes that require sealing.
  • a square gate vacuum valve 100 performing this role will be described in detail with reference to FIGS. 3 to 9.
  • Figure 3 is a schematic structural diagram of a square gate vacuum valve according to an embodiment of the present invention
  • Figures 4 to 7 are each a step-by-step view showing the operation of the square gate vacuum valve
  • Figure 8 of the square gate vacuum valve 9 is a flowchart of a method of operating a square gate vacuum valve according to an exemplary embodiment of the present invention.
  • the rectangular gate vacuum valve 100 may seal the first and second gates 121 and 122 to both the first and second gates 121 and 122 in the same space, so that the first and second gate valves may be sealed in a limited space.
  • a gate frame 120, a first valve unit 130, a second valve unit 140, a signal generator 150, and a controller to effectively respond to a semiconductor process requiring sealing of the second gates 121 and 122. 160 may be included.
  • the gate frame 120 forms the outer frame of the square gate vacuum valve 100 according to the present embodiment.
  • the first gate 121 and the second gate 122 are formed on both side surfaces of the gate frame 120.
  • the first gate 121 and the second gate 122 may have a quadrangular shape in plan view.
  • the sizes of the first gate 121 and the second gate 122 are the same.
  • sizes of the first gate 121 and the second gate 122 may be different from each other.
  • the first valve unit 130 is disposed to be linearly movable or rotatable into the gate frame 120 through the lower opening 120a of the gate frame 120. It serves to selectively open and close the first gate 121.
  • the first valve unit 130 is connected to the first opening and closing disk 131 for selectively opening and closing the first gate 121 and the first opening and closing disk 131, the first opening and closing disk 131 It includes a first unit shaft 132 for linearly moving and a first rotating unit 133 coupled to the first unit shaft 132 to rotate the first unit shaft 132.
  • the first opening / closing disk 131 also has a quadrangular shape larger in size than the first gate 121.
  • a first sealing pressing ring 134 is provided on the circumferential surface of the first opening / closing disk 131, and as shown in FIG. 5, the first sealing disk 131 is pressed to prevent the vacuum from leaking.
  • the first unit shaft 132 serves to linearly move the first opening and closing disk 131, and the first rotating part 133 serves to rotate the first opening and closing disk 131.
  • a driving unit for linearly moving or rotating the first opening / closing disk 131 is provided in the lower region of the first unit shaft 132, but the description thereof is omitted.
  • the second valve unit 140 may linearly move or rotate into the gate frame 120 through the upper opening 120b of the gate frame 120. It is disposed, and serves to selectively open and close the second gate (122).
  • the second valve unit 140 may have the same structure as the first valve unit 130.
  • the second valve unit 140 is connected to the second opening and closing disk 141 for selectively opening and closing the second gate 122, the second opening and closing disk 141, and the second opening and closing disk 141.
  • the second unit shaft 142 to linearly move the second unit shaft 142 is coupled to the second rotation unit 143 for rotating the second unit shaft 142.
  • the second opening / closing disk 141 also has a quadrangular shape larger in size than the second gate 122.
  • a second sealing crimp ring 144 is provided on the circumferential surface of the second opening / closing disk 141 and is compressed to the circumferential surface of the second gate 122 to prevent the vacuum from leaking as shown in FIG. 7.
  • the second unit shaft 142 serves to linearly move the second opening and closing disk 141, and the second rotating part 143 serves to rotate the second opening and closing disk 141.
  • a driving unit for linearly moving or rotating the second opening / closing disk 141 is installed in the upper region of the second unit shaft 142, but the description thereof is omitted.
  • the signal generator 150 generates an opening / closing signal between the first gate 121 and the second gate 122. That is, a signal is generated such that the first gate 121 is closed as shown in FIG. 5 or the second gate 122 is closed as shown in FIG. The generated signal is transmitted to the controller 160.
  • the controller 160 controls the operation of the first valve unit 130 and the second valve unit 140 based on the input information from the signal generator 150. That is, based on the input information from the signal generator 150, the first valve unit 130 and the second valve unit to close the first gate 121 as shown in FIG. 5 or to close the second gate 122 as shown in FIG. 7. Control the operation of 140.
  • the controller 160 may include a central processing unit 161 (CPU), a memory 162 (MEMORY), and a support circuit 163 (SUPPORT CIRCUIT).
  • CPU central processing unit
  • MEMORY memory
  • SUPPORT CIRCUIT SUPPORT CIRCUIT
  • the central processing unit 161 is a variety of computers that can be applied industrially to control the operation of the first valve unit 130 and the second valve unit 140 based on the input information from the signal generator 150 in this embodiment. It may be one of the processors.
  • the memory 162 is connected to the central processing unit 161.
  • the memory 162 may be installed locally or remotely as a computer-readable recording medium, and may be readily available, such as, for example, random access memory (RAM), ROM, floppy disk, hard disk, or any digital storage form. At least one or more memories.
  • the support circuit 163, SUPPORT CIRCUIT, is coupled with the central processing unit 161 to support typical operation of the processor.
  • Such support circuit 163 may include a cache, a power supply, a clock circuit, an input / output circuit, a subsystem, and the like.
  • the controller 160 controls the operation of the first valve unit 130 and the second valve unit 140 based on the input information from the signal generator 150.
  • a series of processes by which the controller 160 controls bubbles or the amount of bubbles generated through the hull resistance reduction module 140 may be stored in the memory 162 based on the information from the detector 180.
  • software routines may be stored in memory 162.
  • Software routines may also be stored or executed by other central processing units (not shown).
  • the first opening and closing disk 131 of the first valve unit 130 is obliquely into the gate frame 120 through the lower opening 120a of the gate frame 120 by the operation of the first unit shaft 132. Entered by moving straight (S11).
  • the first valve unit 130 that is obliquely linearly moved into the gate frame 120 is rotated by causing the displacement by a predetermined angle by the first rotating unit 133 (S12).
  • the first opening and closing disk 131 is pressed to the first gate 121 so that the first sealing crimp ring 134 of the first opening and closing disk 131 is on the circumferential surface of the first gate 121. While being pressed, the first gate 121 is closed to seal it (S13, see FIG. 5).
  • the first valve unit 130 is returned to its original position (S14), after which the second valve unit 140 is operated.
  • the second opening and closing disk 141 of the second valve unit 140 is obliquely straight into the gate frame 120 through the upper opening 120b of the gate frame 120 by the operation of the second unit shaft 142. It is moved and entered (S15).
  • the second valve unit 140 which is inclined and linearly moved into the gate frame 120, is rotated by causing the displacement by a predetermined angle by the second rotating unit 143 (S16).
  • the second opening and closing disk 141 is pressed into the second gate 122 so that the second sealing pressing ring 144 of the second opening and closing disk 141 is formed on the circumferential surface of the second gate 122.
  • the second gate 122 is closed and sealed while being compressed (S17, see FIG. 7).
  • This process that is, the sealing of the first gate 121 of FIG. 5 and the sealing of the second gate 122 of FIG. 7 may be repeatedly performed. Of course, it may be selectively carried out by the signal generator 150.
  • the sealing operation for both the first and second gates 121 and 122 can be performed in the same space, the first and second gates in the limited space are possible. (121,122) It is possible to effectively cope with semiconductor processes that require sealing.
  • a plurality of pairs may be provided on the first and second opening and closing disks 231 and 241 provided in the first and second valve units 230 and 240, respectively. Sealing pressing rings 234 and 244 are provided.
  • the first and second opening and closing disks 331a and 331b for selectively opening and closing the first and second gates 121 and 122.
  • a unit common shaft 332 which is commonly connected to the first and second opening and closing disks 331a and 331b to linearly move the first and second opening and closing disks 331a and 331b, and a unit common shaft ( And a common rotary part 333 coupled to 332 to rotate the unit shared shaft 332.
  • the first and second opening and closing disks 331a and 331b are provided at both sides of one unit common shaft 332, so that the unit common shaft 332 and the common rotating part 333 act as shown in FIGS.
  • the first and second gates 121 and 122 are selectively opened and closed.
  • first valve unit and the second valve unit described in the above embodiments may move at the same time, in consideration of the risk of collision, it may be desirable to move the first valve unit and the second valve unit alternately one by one.
  • the present invention can be applied to a gate valve which is a means for selectively creating a vacuum environment of a chamber in a semiconductor manufacturing facility.

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Abstract

사각 게이트 진공밸브 및 그 작동방법, 그리고 그를 구비하는 반도체 제조장치에 관한 발명이다. 본 발명의 사각 게이트 진공밸브는, 상호 대향되는 양측면에 제1 게이트와 제2 게이트가 형성되는 게이트 프레임; 상기 게이트 프레임의 하부 개구를 통해 상기 게이트 프레임 내로 직선이동 또는 회전 가능하게 배치되며, 상기 제1 게이트를 선택적으로 개폐하는 제1 밸브 유닛; 및 상기 게이트 프레임의 상부 개구를 통해 상기 게이트 프레임 내로 직선이동 또는 회전 가능하게 배치되며, 상기 제2 게이트를 선택적으로 개폐하는 제2 밸브 유닛을 포함한다.

Description

사각 게이트 진공밸브, 그 작동방법 및 이를 구비한 반도체 제조장치
본 발명은, 사각 게이트 진공밸브, 그 작동방법 및 이를 구비한 반도체 제조장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는, 동일한 공간 내에서 양쪽 게이트에 대한 실링(sealing) 동작을 가능하기 때문에 한정된 공간 내에서 양쪽 게이트 실링이 필요한 반도체 공정에 효과적으로 대응할 수 있는, 사각 게이트 진공밸브 및 그 작동방법, 그리고 그를 구비하는 반도체 제조장치에 관한 것이다.
반도체는 고정밀도를 요구하기 때문에 높은 청결도를 갖는 클린 룸(clean room)에서 특수한 제조기술을 통해 제조된다.
반도체 제조 시 진공 작업 영역과 대기 영역과의 밀폐기술 역시, 반도체의 품질에 많은 영향을 주기 때문에, 반도체는 공기 중에 포함된 이물질의 접촉을 가장 완벽하게 차단할 수 있는 진공상태에서 제조되는 것이 일반적이다.
따라서 반도체 제조설비에는 챔버의 진공 환경을 선택적으로 조성하기 위한 수단으로서, 게이트 밸브(gate valve)가 널리 사용된다.
여러 종류의 게이트 밸브가 공지되어 있으나 보통은 사각 게이트 진공밸브가 주로 활용되고 있는 것으로 알려지고 있다.
물론, 반도체를 제조하기 위한 챔버들 외에도 LCD 증착을 위한 증착 챔버들, 예컨대 프로세스 챔버와 트랜스퍼 챔버, 혹은 트랜스퍼 챔버와 로드락 챔버들 사이사이에도 진공밸브가 사용될 수 있다.
진공밸브는 단일방향 밸브와 양방향 밸브의 두 가지 종류로 분류될 수 있으며, 이들은 해당 공정의 특성에 맞게 선택 적용되고 있다.
이러한 사각 게이트 진공밸브는 개구된 사각 게이트를 디스크(disk)가 개폐하는 방식을 갖는다.
동작을 간략하게 살펴보면, 개방 상태(open mode)에 있던 디스크가 그와 연결된 샤프트(main shaft)의 상승과 함께 게이트 프레임 내로 진입하게 되고(close mode), 진입이 완료된 후에는 약간의 각도 변위를 일으키면서 게이트 프레임에 개구된 게이트를 닫아 밀폐시킨다(push mode).
이후, 다시 샤프트의 하강과 함께 디스크가 하강되면서 게이트가 열리며, 이러한 동작은 공정의 상황에 맞게 반복되면서 진공을 형성하거나 진공을 해제하게 된다.
결과적으로, 사각 게이트 진공밸브는 직선운동 메커니즘과 상사점에서의 회전운동 메커니즘이 함께 적용되는 밸브라 할 수 있으며, 현재 이러한 방식이 널리 사용되고 있는 것이다.
그런데, 현재 사용 중에 있는 사각 게이트 진공밸브의 경우, 일측의 게이트만을 개폐하기 위한 구조를 가지고 있기 때문에 게이트의 활용도가 다소 낮아질 수 있는 문제점이 있다.
예컨대, 동일한 공간 내에서 양쪽 게이트에 대한 실링(sealing) 동작을 불가능하기 때문에 한정된 공간 내에서 양쪽 게이트 실링이 필요한 반도체 공정에 대응할 수 없다는 점을 고려해볼 때, 이에 대한 기술 개발이 필요한 실정이다.
[선행기술문헌]
[특허문헌]
대한민국특허청 출원번호 제10-1987-0011712호
대한민국특허청 출원번호 제10-1998-0040974호
대한민국특허청 출원번호 제10-2007-0114829호
대한민국특허청 출원번호 제10-2012-7028963호
본 발명의 목적은, 동일한 공간 내에서 양쪽 게이트에 대한 실링(sealing) 동작을 가능하기 때문에 한정된 공간 내에서 양쪽 게이트 실링이 필요한 반도체 공정에 효과적으로 대응할 수 있는, 사각 게이트 진공밸브, 그 작동방법 및 이를 구비한 반도체 제조장치를 제공하는 것이다.
상기 목적은, 상호 대향되는 양측면에 제1 게이트와 제2 게이트가 형성되는 게이트 프레임; 상기 게이트 프레임의 하부 개구를 통해 상기 게이트 프레임 내로 직선이동 또는 회전 가능하게 배치되며, 상기 제1 게이트를 선택적으로 개폐하는 제1 밸브 유닛; 및 상기 게이트 프레임의 상부 개구를 통해 상기 게이트 프레임 내로 직선이동 또는 회전 가능하게 배치되며, 상기 제2 게이트를 선택적으로 개폐하는 제2 밸브 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 사각 게이트 진공밸브에 의해 달성된다.
상기 제1 밸브 유닛은, 상기 제1 게이트를 선택적으로 개폐하는 제1 개폐용 디스크; 상기 제1 개폐용 디스크와 연결되며, 상기 제1 개폐용 디스크를 직선이동시키는 제1 유닛 샤프트; 및 상기 제1 유닛 샤프트에 결합되어 상기 제1 유닛 샤프트를 회전시키는 제1 회전부를 포함할 수 있다.
상기 제2 밸브 유닛은, 상기 제2 게이트를 선택적으로 개폐하는 제2 개폐용 디스크; 상기 제2 개폐용 디스크와 연결되며, 상기 제2 개폐용 디스크를 직선이동시키는 제2 유닛 샤프트; 및 상기 제2 유닛 샤프트에 결합되어 상기 제2 유닛 샤프트를 회전시키는 제2 회전부를 포함할 수 있다.
상기 제1 및 제2 개폐용 디스크에는 밀봉용 압착 링이 마련될 수 있다.
상기 제1 게이트와 상기 제2 게이트의 사이즈는 서로 동일하거나 상이할 수 있다.
상기 제1 게이트와 상기 제2 게이트의 개폐신호를 발생시키는 신호발생기; 및
상기 신호발생기로부터의 입력정보에 기초하여 상기 제1 밸브 유닛과 상기 제2 밸브 유닛의 동작을 컨트롤하는 컨트롤러를 더 포함할 수 있다.
한편, 상기 목적은, 제1 밸브 유닛의 제1 개폐용 디스크가 제1 유닛 샤프트의 동작에 의해 게이트 프레임의 하부 개구를 통해 상기 게이트 프레임 내로 비스듬히 직선이동되어 진입되는 제1 밸브 유닛 진입단계; 제1 회전부에 의해 상기 제1 밸브 유닛이 미리 결정된 각도만큼의 변위를 일으키면서 회전되는 제1 밸브 유닛 회전단계; 및 상기 제1 개폐용 디스크가 상기 제1 게이트로 가압되어 상기 제1 개폐용 디스크의 제1 밀봉용 압착 링이 상기 제1 게이트의 둘레면에 압착되도록 하면서 상기 제1 게이트를 닫아 밀폐시키는 제1 게이트 밀폐단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 사각 게이트 진공밸브 작동방법에 의해서도 달성된다.
상기 제1 밸브 유닛이 원위치로 복귀되는 제1 밸브 유닛 원위치 복귀단계; 제2 밸브 유닛의 제2 개폐용 디스크가 제2 유닛 샤프트의 동작에 의해 게이트 프레임의 상부 개구를 통해 상기 게이트 프레임 내로 비스듬히 직선이동되어 진입되는 제2 밸브 유닛 진입단계; 제2 회전부에 의해 상기 제2 밸브 유닛이 미리 결정된 각도만큼의 변위를 일으키면서 회전되는 제2 밸브 유닛 회전단계; 및 상기 제2 개폐용 디스크가 상기 제2 게이트로 가압되어 상기 제2 개폐용 디스크의 제2 밀봉용 압착 링이 상기 제2 게이트의 둘레면에 압착되도록 하면서 상기 제2 게이트를 닫아 밀폐시키는 제2 게이트 밀폐단계를 더 포함하며, 상기 제1 게이트 밀폐단계와 상기 제2 게이트 밀폐단계는 반복적으로 진행될 수 있다.
한편, 상기 목적은, 제1 밸브 유닛의 제1 개폐용 디스크가 제1 유닛 샤프트의 동작에 의해 게이트 프레임의 하부 개구를 통해 상기 게이트 프레임 내로 수직 이동되어 진입되는 제1 밸브 유닛 진입단계; 및 진입된 상기 제1 밸브 유닛이 수평 이동되면서 상기 제1 개폐용 디스크가 상기 제1 게이트로 가압되고 이어 상기 제1 개폐용 디스크의 제1 밀봉용 압착 링이 상기 제1 게이트의 둘레면에 압착되도록 하면서 상기 제1 게이트를 닫아 밀폐시키는 제1 게이트 밀폐단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 사각 게이트 진공밸브 작동방법에 의해서도 달성된다.
한편, 상기 목적은, 상호간 이격 배치되며, 반도체 제조를 위한 공정을 형성하는 제1 및 제2 진공챔버; 및 상기 제1 및 제2 진공챔버 사이에 연결되며, 상기 제1 및 제2 진공챔버 쪽으로의 제1 및 제2 게이트를 선택적으로 개폐하는 사각 게이트 진공밸브를 포함하며, 상기 사각 게이트 진공밸브는, 상기 제1 및 제2 진공챔버와 대응되게 상기 제1 게이트와 제2 게이트가 형성되는 게이트 프레임; 상기 게이트 프레임의 하부 개구를 통해 상기 게이트 프레임 내로 직선이동 또는 회전 가능하게 배치되며, 상기 제1 게이트를 선택적으로 개폐하는 제1 밸브 유닛; 및 상기 게이트 프레임의 상부 개구를 통해 상기 게이트 프레임 내로 직선이동 또는 회전 가능하게 배치되며, 상기 제2 게이트를 선택적으로 개폐하는 제2 밸브 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 사각 게이트 진공밸브를 구비하는 반도체 제조장치에 의해서도 달성된다.
상기 제1 밸브 유닛은, 상기 제1 게이트를 선택적으로 개폐하는 제1 개폐용 디스크; 상기 제1 개폐용 디스크와 연결되며, 상기 제1 개폐용 디스크를 직선이동시키는 제1 유닛 샤프트; 및 상기 제1 유닛 샤프트에 결합되어 상기 제1 유닛 샤프트를 회전시키는 제1 회전부를 포함하며, 상기 제2 밸브 유닛은, 상기 제2 게이트를 선택적으로 개폐하는 제2 개폐용 디스크; 상기 제2 개폐용 디스크와 연결되며, 상기 제2 개폐용 디스크를 직선이동시키는 제2 유닛 샤프트; 및 상기 제2 유닛 샤프트에 결합되어 상기 제2 유닛 샤프트를 회전시키는 제2 회전부를 포함하며, 상기 제1 및 제2 개폐용 디스크에는 밀봉용 압착 링이 마련될 수 있다.
본 발명에 따르면, 동일한 공간 내에서 양쪽 게이트에 대한 실링(sealing) 동작을 가능하기 때문에 한정된 공간 내에서 양쪽 게이트 실링이 필요한 반도체 공정에 효과적으로 대응할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 제조장치의 개략적인 구조도이로서, 제1 게이트가 닫힌 상태의 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 제조장치의 개략적인 구조도이로서, 제2 게이트가 닫힌 상태의 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 사각 게이트 진공밸브의 개략적인 구조도이다.
도 4 내지 도 7은 각각 사각 게이트 진공밸브의 동작을 단계적으로 도시한 도면들이다.
도 8은 사각 게이트 진공밸브의 제어블록도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 사각 게이트 진공밸브 작동방법의 순서도이다.
도 10 내지 도 13은 각각 사각 게이트 진공밸브의 변형예이다.
본 발명은 상호 대향되는 양측면에 제1 게이트와 제2 게이트가 형성되는 게이트 프레임; 상기 게이트 프레임의 하부 개구를 통해 상기 게이트 프레임 내로 직선이동 또는 회전 가능하게 배치되며, 상기 제1 게이트를 선택적으로 개폐하는 제1 밸브 유닛; 및 상기 게이트 프레임의 상부 개구를 통해 상기 게이트 프레임 내로 직선이동 또는 회전 가능하게 배치되며, 상기 제2 게이트를 선택적으로 개폐하는 제2 밸브 유닛을 포함한다.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다.
그러나 본 발명에 관한 설명은 구조적 내지 기능적 설명을 위한 실시예에 불과하므로 본 발명의 권리범위는 본문에 설명된 실시예에 의하여 제한되는 것으로 해석되어서는 아니 된다.
예컨대, 실시예들은 다양한 변경이 가능하고 여러 가지 형태를 가질 수 있기 때문에 본 발명의 권리범위는 기술적 사상을 실현할 수 있는 균등물들을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
또한 본 발명에서 제시된 목적 또는 효과는 특정 실시예가 이를 전부 포함하여야 한다거나 그러한 효과만을 포함하여야 한다는 의미는 아니기 때문에 본 발명의 권리범위는 이에 의하여 제한되는 것으로 이해되어서는 아니 될 것이다.
본 명세서에서, 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 그리고 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
따라서 몇몇 실시예에서, 잘 알려진 구성 요소, 잘 알려진 동작 및 잘 알려진 기술들은 본 발명이 모호하게 해석되는 것을 피하기 위하여 구체적으로 설명되지 않는다.
한편, 본 발명에서 서술되는 용어의 의미는 사전적 의미에 제한되지 않으며, 다음과 같이 이해되어야 할 것이다.
어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결될 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다고 언급된 때에는 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 한편, 구성요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함하는 것으로 이해되어야 하고, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 설시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이며, 하나 또는 그 이상의 다른 특징이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
여기서 사용되는 모든 용어들은 다르게 정의되지 않는 한, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다.
일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 것으로 해석되어야 하며, 본 발명에서 명백하게 정의하지 않는 한 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미를 지니는 것으로 해석될 수 없다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 실시예의 설명 중 동일한 구성에 대해서는 동일한 참조부호를 부여하도록 하며, 경우에 따라 동일한 참조부호에 대한 설명은 생략하도록 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 제조장치의 개략적인 구조도이로서, 제1 게이트가 닫힌 상태의 도면이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 제조장치의 개략적인 구조도이로서, 제2 게이트가 닫힌 상태의 도면이다.
이들 도면을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 제조장치는 상호간 이격 배치되며, 반도체 제조를 위한 공정을 형성하는 제1 및 제2 진공챔버(101,102)와, 제1 및 제2 진공챔버(101,102) 사이에 연결되며, 제1 및 제2 진공챔버(101,102) 쪽으로의 제1 및 제2 게이트(121,122)를 선택적으로 개폐하는 사각 게이트 진공밸브(100)를 포함할 수 있다.
이때, 제1 및 제2 진공챔버(101,102)는 그 역할이 동일할 수도 있고, 아니면 상이할 수도 있다.
예컨대, 제1 및 제2 진공챔버(101,102)는 증착 챔버, 프로세스 챔버, 트랜스퍼 챔버, 혹은 로드락 챔버일 수 있다. 물론, 디스플레이 장비의 챔버들 역시, 동일한 범주에 있으므로 본 발명의 권리범위에 속한다 하여야 할 것이다.
사각 게이트 진공밸브(100)는 제1 및 제2 진공챔버(101,102) 쪽으로의 제1 및 제2 게이트(121,122)를 선택적으로 개폐한다.
이때, 사각 게이트 진공밸브(100)가 동일한 공간, 즉 한정된 공간 내에서 양쪽의 제1 및 제2 게이트(121,122)에 대한 실링(sealing) 동작을 가능하기 때문에 한정된 공간 내에서 제1 및 제2 게이트(121,122) 실링이 필요한 반도체 공정에 효과적으로 대응할 수 있게 된다.
이러한 역할을 수행하는 사각 게이트 진공밸브(100)에 대해 도 3 내지 도 9를 참조하여 자세히 설명한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 사각 게이트 진공밸브의 개략적인 구조도, 도 4 내지 도 7은 각각 사각 게이트 진공밸브의 동작을 단계적으로 도시한 도면들, 도 8은 사각 게이트 진공밸브의 제어블록도, 그리고 도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 사각 게이트 진공밸브 작동방법의 순서도이다.
이들 도면을 참조하면, 본 실시예에 따른 사각 게이트 진공밸브(100)는 동일한 공간 내에서 양쪽 제1 및 제2 게이트(121,122)에 대한 실링(sealing) 동작을 가능하기 때문에 한정된 공간 내에서 제1 및 제2 게이트(121,122) 실링이 필요한 반도체 공정에 효과적으로 대응할 수 있도록 한 것으로서, 게이트 프레임(120), 제1 밸브 유닛(130), 제2 밸브 유닛(140), 신호발생기(150), 그리고 컨트롤러(160)를 포함할 수 있다.
우선, 게이트 프레임(120)은 본 실시예에 따른 사각 게이트 진공밸브(100)의 외곽 틀을 형성한다.
이러한 게이트 프레임(120)의 양측면에는 제1 게이트(121)와 제2 게이트(122)가 형성된다. 제1 게이트(121)와 제2 게이트(122)는 평면에서 볼 때, 사각의 형상을 가질 수 있다.
이때, 본 실시예의 경우, 제1 게이트(121)와 상기 제2 게이트(122)의 사이즈는 서로 동일하게 형성된다.
하지만, 제1 게이트(121)와 상기 제2 게이트(122)의 사이즈는 서로 상이할 수도 있다.
다음으로, 제1 밸브 유닛(130)은 도 3 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 게이트 프레임(120)의 하부 개구(120a)를 통해 게이트 프레임(120) 내로 직선이동 또는 회전 가능하게 배치되며, 제1 게이트(121)를 선택적으로 개폐하는 역할을 한다.
이러한 제1 밸브 유닛(130)은 제1 게이트(121)를 선택적으로 개폐하는 제1 개폐용 디스크(131)와, 제1 개폐용 디스크(131)와 연결되며, 제1 개폐용 디스크(131)를 직선이동시키는 제1 유닛 샤프트(132)와, 제1 유닛 샤프트(132)에 결합되어 제1 유닛 샤프트(132)를 회전시키는 제1 회전부(133)를 포함한다.
제1 게이트(121)가 사각형인 관계로 제1 개폐용 디스크(131) 역시, 제1 게이트(121)보다 큰 사이즈의 사각형상을 갖는다.
이러한 제1 개폐용 디스크(131)의 둘레면에는 제1 밀봉용 압착 링(134)이 마련되며, 도 5처럼 제1 게이트(121)의 둘레면에 압착됨으로써 진공이 새지 않도록 한다.
제1 유닛 샤프트(132)는 제1 개폐용 디스크(131)를 직선이동시키는 역할을 하고, 제1 회전부(133)는 제1 개폐용 디스크(131)를 회전시키는 역할을 한다. 물론, 제1 유닛 샤프트(132)의 하부 영역에 제1 개폐용 디스크(131)를 직선이동 혹은 회전시키기 위한 구동부가 설치되나 이에 대해서는 생략했다.
다음으로, 제2 밸브 유닛(140)은 도 3, 도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 게이트 프레임(120)의 상부 개구(120b)를 통해 게이트 프레임(120) 내로 직선이동 또는 회전 가능하게 배치되며, 제2 게이트(122)를 선택적으로 개폐하는 역할을 한다. 제2 밸브 유닛(140)은 제1 밸브 유닛(130)과 동일한 구조를 가질 수 있다.
이러한 제2 밸브 유닛(140)은 제2 게이트(122)를 선택적으로 개폐하는 제2 개폐용 디스크(141)와, 제2 개폐용 디스크(141)와 연결되며, 제2 개폐용 디스크(141)를 직선이동시키는 제2 유닛 샤프트(142)와, 제2 유닛 샤프트(142)에 결합되어 제2 유닛 샤프트(142)를 회전시키는 제2 회전부(143)를 포함한다.
제2 게이트(122)가 사각형인 관계로 제2 개폐용 디스크(141) 역시, 제2 게이트(122)보다 큰 사이즈의 사각형상을 갖는다.
이러한 제2 개폐용 디스크(141)의 둘레면에는 제2 밀봉용 압착 링(144)이 마련되며, 도 7처럼 제2 게이트(122)의 둘레면에 압착됨으로써 진공이 새지 않도록 한다.
제2 유닛 샤프트(142)는 제2 개폐용 디스크(141)를 직선이동시키는 역할을 하고, 제2 회전부(143)는 제2 개폐용 디스크(141)를 회전시키는 역할을 한다. 물론, 제2 유닛 샤프트(142)의 상부 영역에 제2 개폐용 디스크(141)를 직선이동 혹은 회전시키기 위한 구동부가 설치되나 이에 대해서는 생략했다.
다음으로, 신호발생기(150)는 제1 게이트(121)와 제2 게이트(122)의 개폐신호를 발생시킨다. 즉 도 5처럼 제1 게이트(121)가 닫히도록 하거나 도 7처럼 제2 게이트(122)가 닫히도록 하는 신호를 발생시킨다. 발생된 신호는 컨트롤러(160)로 전송된다.
마지막으로, 컨트롤러(160)는 신호발생기(150)로부터의 입력정보에 기초하여 제1 밸브 유닛(130)과 제2 밸브 유닛(140)의 동작을 컨트롤한다. 즉 신호발생기(150)로부터의 입력정보에 기초하여 도 5처럼 제1 게이트(121)가 닫히도록 혹은 도 7처럼 제2 게이트(122)가 닫히도록 제1 밸브 유닛(130)과 제2 밸브 유닛(140)의 동작을 컨트롤한다.
이러한 컨트롤러(160)는 중앙처리장치(161, CPU), 메모리(162, MEMORY), 서포트 회로(163, SUPPORT CIRCUIT)를 포함할 수 있다.
중앙처리장치(161)는 본 실시예서 신호발생기(150)로부터의 입력정보에 기초하여 제1 밸브 유닛(130)과 제2 밸브 유닛(140)의 동작을 컨트롤하기 위해서 산업적으로 적용될 수 있는 다양한 컴퓨터 프로세서들 중 하나일 수 있다.
메모리(162, MEMORY)는 중앙처리장치(161)와 연결된다. 메모리(162)는 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체로서 로컬 또는 원격지에 설치될 수 있으며, 예를 들면 랜덤 액세스 메모리(RAM), ROM, 플로피 디스크, 하드 디스크 또는 임의의 디지털 저장 형태와 같이 쉽게 이용가능한 적어도 하나 이상의 메모리이다.
서포트 회로(163, SUPPORT CIRCUIT)는 중앙처리장치(161)와 결합되어 프로세서의 전형적인 동작을 지원한다. 이러한 서포트 회로(163)는 캐시, 파워 서플라이, 클록 회로, 입/출력 회로, 서브시스템 등을 포함할 수 있다.
본 실시예에서 컨트롤러(160)는 신호발생기(150)로부터의 입력정보에 기초하여 제1 밸브 유닛(130)과 제2 밸브 유닛(140)의 동작을 컨트롤한다. 이때, 컨트롤러(160)가 감지부(180)로부터의 정보에 기초하여 선체저항 저감모듈(140)을 통한 기포 발생 여부 혹은 기포 발생량 등을 컨트롤하는 일련의 프로세스 등은 메모리(162)에 저장될 수 있다. 전형적으로는 소프트웨어 루틴이 메모리(162)에 저장될 수 있다. 소프트웨어 루틴은 또한 다른 중앙처리장치(미도시)에 의해서 저장되거나 실행될 수 있다.
본 발명에 따른 프로세스는 소프트웨어 루틴에 의해 실행되는 것으로 설명하였지만, 본 발명의 프로세스들 중 적어도 일부는 하드웨어에 의해 수행되는 것도 가능하다. 이처럼, 본 발명의 프로세스들은 컴퓨터 시스템 상에서 수행되는 소프트웨어로 구현되거나 또는 집적 회로와 같은 하드웨어로 구현되거나 또는 소프트웨어와 하드웨어의 조합에 의해서 구현될 수 있다.
이하, 본 실시예에 따른 사각 게이트 진공밸브(110)의 작동방법에 대해 도 9를 참조하여 설명한다.
우선, 제1 밸브 유닛(130)의 제1 개폐용 디스크(131)가 제1 유닛 샤프트(132)의 동작에 의해 게이트 프레임(120)의 하부 개구(120a)를 통해 게이트 프레임(120) 내로 비스듬히 직선이동되어 진입된다(S11).
이어, 게이트 프레임(120) 내로 비스듬히 직선이동되어 진입된 제1 밸브 유닛(130)은 제1 회전부(133)에 의해 미리 결정된 각도만큼의 변위를 일으키면서 회전된다(S12).
그런 다음, 제1 개폐용 디스크(131)가 제1 게이트(121)로 가압되어 제1 개폐용 디스크(131)의 제1 밀봉용 압착 링(134)이 제1 게이트(121)의 둘레면에 압착되도록 하면서 제1 게이트(121)를 닫아 밀폐시킨다(S13, 도 5 참조).
다음, 제1 밸브 유닛(130)이 원위치로 복귀되며(S14), 이후에 제2 밸브 유닛(140)이 동작된다.
즉 제2 밸브 유닛(140)의 제2 개폐용 디스크(141)가 제2 유닛 샤프트(142)의 동작에 의해 게이트 프레임(120)의 상부 개구(120b)를 통해 게이트 프레임(120) 내로 비스듬히 직선이동되어 진입된다(S15).
이어, 게이트 프레임(120) 내로 비스듬히 직선이동되어 진입된 제2 밸브 유닛(140)은 제2 회전부(143)에 의해 미리 결정된 각도만큼의 변위를 일으키면서 회전된다(S16).
그런 다음, 제2 개폐용 디스크(141)가 제2 게이트(122)로 가압되어 제2 개폐용 디스크(141)의 제2 밀봉용 압착 링(144)이 제2 게이트(122)의 둘레면에 압착되도록 하면서 제2 게이트(122)를 닫아 밀폐시킨다(S17, 도 7 참조).
이러한 과정, 즉 도 5의 제1 게이트(121) 밀폐단계와 도 7의 제2 게이트(122) 밀폐단계는 반복적으로 진행될 수 있다. 물론, 신호발생기(150)에 의해 선택적으로 진행될 수도 있다.
이상 설명한 바와 같은 구조와 작용을 갖는 본 실시예에 따르면, 동일한 공간 내에서 양쪽 제1 및 제2 게이트(121,122)에 대한 실링(sealing) 동작을 가능하기 때문에 한정된 공간 내에서 제1 및 제2 게이트(121,122) 실링이 필요한 반도체 공정에 효과적으로 대응할 수 있게 된다.
도 10 내지 도 13은 각각 사각 게이트 진공밸브의 변형예이다.
도 10을 참조하면, 도 10에 도시된 사각 게이트 진공밸브(210)의 경우, 제1 및 제2 밸브 유닛(230,240)에 마련되는 제1 및 제2 개폐용 디스크(231,241) 상에 각각 다수 쌍의 밀봉용 압착 링(234,244)이 마련된다.
이처럼 제1 및 제2 개폐용 디스크(231,241) 상에 각각 다수 쌍의 밀봉용 압착 링(234,244)이 마련될 경우, 제1 및 제2 게이트(121,122)에 대한 밀봉의 효율이 높아져서 임의로 진공이 누설되는 현상을 방지할 수 있다.
도 11 내지 도 13을 참조하면, 이들 도면에 도시된 사각 게이트 진공밸브(310)의 경우, 제1 및 제2 게이트(121,122)를 선택적으로 개폐하는 제1 및 제2 개폐용 디스크(331a,331b)와, 제1 및 제2 개폐용 디스크(331a,331b)에 공용으로 연결되어 제1 및 제2 개폐용 디스크(331a,331b)를 직선이동시키는 유닛 공용 샤프트(332)와, 유닛 공용 샤프트(332)에 결합되어 유닛 공용 샤프트(332)를 회전시키는 공용 회전부(333)를 포함한다.
본 실시예의 경우에는 하나의 유닛 공용 샤프트(332)의 양측에 제1 및 제2 개폐용 디스크(331a,331b)가 마련되어 유닛 공용 샤프트(332) 및 공용 회전부(333)의 작용에 의해 도 12 및 도 13처럼 제1 및 제2 게이트(121,122)가 선택적으로 개폐되도록 하고 있다. 이러한 구조를 가질 경우, 구조의 단순화를 꾀할 수 있는 이점이 있다.
도 10 내지 도 13의 실시예가 적용되더라도 동일한 공간 내에서 양쪽 제1 및 제2 게이트(121,122)에 대한 실링(sealing) 동작을 가능하기 때문에 한정된 공간 내에서 제1 및 제2 게이트(121,122) 실링이 필요한 반도체 공정에 효과적으로 대응할 수 있다.
이상 도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세히 설명하였으나 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다.
전술한 실시예들에서 설명한 제1 밸브 유닛과 제2 밸브 유닛은 동시에 움직일 수도 있으나 충돌 위험을 고려해볼 때, 제1 밸브 유닛과 제2 밸브 유닛은 하나씩 번갈아가면서 움직이는 것이 바람직할 수 있다.
이와 같이 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.
본 발명은 반도체 제조설비에는 챔버의 진공 환경을 선택적으로 조성하기 위한 수단인 게이트 밸브(gate valve)에 적용할 수 있다.

Claims (11)

  1. 상호 대향되는 양측면에 제1 게이트와 제2 게이트가 형성되는 게이트 프레임;
    상기 게이트 프레임의 하부 개구를 통해 상기 게이트 프레임 내로 직선이동 또는 회전 가능하게 배치되며, 상기 제1 게이트를 선택적으로 개폐하는 제1 밸브 유닛; 및
    상기 게이트 프레임의 상부 개구를 통해 상기 게이트 프레임 내로 직선이동 또는 회전 가능하게 배치되며, 상기 제2 게이트를 선택적으로 개폐하는 제2 밸브 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 사각 게이트 진공밸브.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 밸브 유닛은,
    상기 제1 게이트를 선택적으로 개폐하는 제1 개폐용 디스크;
    상기 제1 개폐용 디스크와 연결되며, 상기 제1 개폐용 디스크를 직선이동시키는 제1 유닛 샤프트; 및
    상기 제1 유닛 샤프트에 결합되어 상기 제1 유닛 샤프트를 회전시키는 제1 회전부를 포함하는 것을 특징으로 하는 사각 게이트 진공밸브.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제2 밸브 유닛은,
    상기 제2 게이트를 선택적으로 개폐하는 제2 개폐용 디스크;
    상기 제2 개폐용 디스크와 연결되며, 상기 제2 개폐용 디스크를 직선이동시키는 제2 유닛 샤프트; 및
    상기 제2 유닛 샤프트에 결합되어 상기 제2 유닛 샤프트를 회전시키는 제2 회전부를 포함하는 것을 특징으로 하는 사각 게이트 진공밸브.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 개폐용 디스크에는 밀봉용 압착 링이 마련되는 것을 특징으로 하는 특징으로 하는 사각 게이트 진공밸브.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제1 게이트와 상기 제2 게이트의 사이즈는 서로 동일하거나 상이한 것을 특징으로 하는 특징으로 하는 사각 게이트 진공밸브.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 제1 게이트와 상기 제2 게이트의 개폐신호를 발생시키는 신호발생기; 및
    상기 신호발생기로부터의 입력정보에 기초하여 상기 제1 밸브 유닛과 상기 제2 밸브 유닛의 동작을 컨트롤하는 컨트롤러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 사각 게이트 진공밸브.
  7. 제1 밸브 유닛의 제1 개폐용 디스크가 제1 유닛 샤프트의 동작에 의해 게이트 프레임의 하부 개구를 통해 상기 게이트 프레임 내로 비스듬히 직선이동되어 진입되는 제1 밸브 유닛 진입단계;
    제1 회전부에 의해 상기 제1 밸브 유닛이 미리 결정된 각도만큼의 변위를 일으키면서 회전되는 제1 밸브 유닛 회전단계; 및
    상기 제1 개폐용 디스크가 상기 제1 게이트로 가압되어 상기 제1 개폐용 디스크의 제1 밀봉용 압착 링이 상기 제1 게이트의 둘레면에 압착되도록 하면서 상기 제1 게이트를 닫아 밀폐시키는 제1 게이트 밀폐단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 사각 게이트 진공밸브 작동방법.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제1 밸브 유닛이 원위치로 복귀되는 제1 밸브 유닛 원위치 복귀단계;
    제2 밸브 유닛의 제2 개폐용 디스크가 제2 유닛 샤프트의 동작에 의해 게이트 프레임의 상부 개구를 통해 상기 게이트 프레임 내로 비스듬히 직선이동되어 진입되는 제2 밸브 유닛 진입단계;
    제2 회전부에 의해 상기 제2 밸브 유닛이 미리 결정된 각도만큼의 변위를 일으키면서 회전되는 제2 밸브 유닛 회전단계; 및
    상기 제2 개폐용 디스크가 상기 제2 게이트로 가압되어 상기 제2 개폐용 디스크의 제2 밀봉용 압착 링이 상기 제2 게이트의 둘레면에 압착되도록 하면서 상기 제2 게이트를 닫아 밀폐시키는 제2 게이트 밀폐단계를 더 포함하며,
    상기 제1 게이트 밀폐단계와 상기 제2 게이트 밀폐단계는 반복적으로 진행되는 것을 특징으로 하는 사각 게이트 진공밸브 작동방법.
  9. 제1 밸브 유닛의 제1 개폐용 디스크가 제1 유닛 샤프트의 동작에 의해 게이트 프레임의 하부 개구를 통해 상기 게이트 프레임 내로 수직 이동되어 진입되는 제1 밸브 유닛 진입단계; 및
    진입된 상기 제1 밸브 유닛이 수평 이동되면서 상기 제1 개폐용 디스크가 상기 제1 게이트로 가압되고 이어 상기 제1 개폐용 디스크의 제1 밀봉용 압착 링이 상기 제1 게이트의 둘레면에 압착되도록 하면서 상기 제1 게이트를 닫아 밀폐시키는 제1 게이트 밀폐단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 사각 게이트 진공밸브 작동방법.
  10. 상호간 이격 배치되며, 반도체 제조를 위한 공정을 형성하는 제1 및 제2 진공챔버; 및
    상기 제1 및 제2 진공챔버 사이에 연결되며, 상기 제1 및 제2 진공챔버 쪽으로의 제1 및 제2 게이트를 선택적으로 개폐하는 사각 게이트 진공밸브를 포함하며,
    상기 사각 게이트 진공밸브는,
    상기 제1 및 제2 진공챔버와 대응되게 상기 제1 게이트와 제2 게이트가 형성되는 게이트 프레임;
    상기 게이트 프레임의 하부 개구를 통해 상기 게이트 프레임 내로 직선이동 또는 회전 가능하게 배치되며, 상기 제1 게이트를 선택적으로 개폐하는 제1 밸브 유닛; 및
    상기 게이트 프레임의 상부 개구를 통해 상기 게이트 프레임 내로 직선이동 또는 회전 가능하게 배치되며, 상기 제2 게이트를 선택적으로 개폐하는 제2 밸브 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 사각 게이트 진공밸브를 구비하는 반도체 제조장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 제1 밸브 유닛은,
    상기 제1 게이트를 선택적으로 개폐하는 제1 개폐용 디스크;
    상기 제1 개폐용 디스크와 연결되며, 상기 제1 개폐용 디스크를 직선이동시키는 제1 유닛 샤프트; 및
    상기 제1 유닛 샤프트에 결합되어 상기 제1 유닛 샤프트를 회전시키는 제1 회전부를 포함하며,
    상기 제2 밸브 유닛은,
    상기 제2 게이트를 선택적으로 개폐하는 제2 개폐용 디스크;
    상기 제2 개폐용 디스크와 연결되며, 상기 제2 개폐용 디스크를 직선이동시키는 제2 유닛 샤프트; 및
    상기 제2 유닛 샤프트에 결합되어 상기 제2 유닛 샤프트를 회전시키는 제2 회전부를 포함하며,
    상기 제1 및 제2 개폐용 디스크에는 밀봉용 압착 링이 마련되는 것을 특징으로 하는 특징으로 하는 사각 게이트 진공밸브를 구비하는 반도체 제조장치.
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