JP2018510345A - 自動移動可能な清掃装置 - Google Patents

Abstract

本発明は、物体から清掃装置までの距離を測定するための距離測定デバイス２を有する自動移動可能な清掃装置に関する。距離測定デバイス２は、光源、光学フィルタ５および検出器６を有する光学三角測量システムを備え、光学三角測量システムは光源によって放たれた光が伝播方向において物体によって散乱されるように配置されており、続いて少なくとも散乱された光の一部が光学フィルタ５によってスペクトルでフィルタリングされ、最後にフィルタリングされた光が検出器６によって検出される。光学フィルタ５は散乱された光の少なくとも１つの波長に関して少なくとも９０％の反射率を持つ帯域阻止フィルタである。または、光学フィルタ５は、帯域通過フィルタであり、透過方向においてその後に反射器が配置されている。または、光学フィルタ５は、散乱された光の少なくとも１つの波長に関して少なくとも９０％の反射率を持つエッジフィルタである。

Description

本発明は、物体から清掃装置までの距離を測定するための距離測定デバイスを有する自動移動可能な清掃装置、特に電気モータ駆動真空吸引および／または拭きロボットであって、前記距離測定デバイスが光源、光学フィルタおよび検出器を有する光学三角測量システムを備え、当該光学三角測量システムは前記光源によって放たれた光が伝播方向において最初に物体によって散乱されるように配置されており、続いて少なくとも散乱された光の一部が前記光学フィルタによってスペクトルでフィルタリングされ、最後にフィルタリングされた光が前記検出器によって検出される清掃装置に関する。

そのような距離測定デバイスを持った自動移動可能な清掃装置は、先行技術で知られている。その清掃装置は、例えば家の中で自動的に移動し、処理中に周囲に対する距離データを記録する。この目的のために、全方位にわたる距離測定（３６０°）のための手段を持った距離測定デバイスを与えることが知られている。その手段は、例えば、鉛直な軸等の周りに回転可能であるプラットフォームの上に配置された光学三角測量システムの形式である。

例えば、特許文献１は、物体、例えば壁または家具の一部のような障害物から清掃装置までの距離を測定するための距離測定デバイスを有する自動移動可能な清掃装置を開示する。その距離測定デバイスは、光源が測定対象の物体に光を放つ三角測量システムを有する。測定は清掃装置の２つの異なる位置で行われる。清掃ロボットから物体までの距離は、物体によって散乱（反射）された光の角度に基づいて導き出されることができる。結果として、清掃装置は障害物からの距離についての情報を受け取る。それで、清掃装置はそこへの移動戦略を調節し、前もって障害物との接触を避けることができる。

公知の三角測量システムは、光源、光学フィルタおよび検出器を有する。例えば、光源は発光レーザーダイオードである。光学フィルタは通常帯域通過フィルタであり、それは光源によって放たれた光を透過させる、すなわち、通り抜けさせるとともに、周辺光をブロックする、すなわち反射する、または吸収するために設計される。帯域通過フィルタの中心周波数、すなわち、フィルタリング周波数帯域の下限周波数と上限周波数の間の幾何平均（または算術平均）は、レーザーの波長におおよそ対応する。

独国特許公開第１０ ２００８ ０１４ ９１２ Ａ１号公報

使用される光学フィルタのデメリットは、それがしばしば非常に小さい透過率のみ持つということである。７８５ｎｍの波長に対応する中心周波数を持ち、干渉フィルタとして設計される帯域通過フィルタは、通常たかだか９０％の透過率を持つ。従って、光のより大きな割合、すなわち少なくとも１０％は、反射および／または吸収され、検出結果に寄与しない。結果として、検出器によって受け取られた信号の強度は、削減され、測定精度に影響が及ぶ。

更に、清掃装置の内側で慣例的に組み立てられた距離測定デバイスは、互いに直角に配置された２つの別々の回路基板の上に光学フィルタ、すなわち帯域通過フィルタおよび検出器を配置することを必要とする。ここで、帯域通過フィルタは第１の回路基板上に位置しており、一方、検出器はそれと垂直に配置された第２の回路基板上に位置している。この配置は帯域通過フィルタの透過特性から必然的に帰着する。透過された光は帯域通過フィルタを通って第１の回路基板に平行に伝播し、それからビームの方向に垂直に、従ってまた第１の回路基板に垂直に配置された検出器にぶつかる。結果として、先行技術に対するデメリットは、電気部品が２つの別々の回路基板の間に分割されることである。そこに関連する２つの回路基板の間における複数のコアの電気接続は、人手ではんだづけされ、または人手で組み立てられる。従って、それはエラーが発生しやすい。

従って、本発明の目的は、上記デメリットが避けられる距離測定デバイスを有する清掃装置を作ることである。

解決策として、本発明は、最初に距離測定デバイスを有する自動移動可能な清掃装置であって、その距離測定デバイスにおける光学フィルタが散乱された光の少なくとも１つの波長に関して少なくとも９０％の反射率を持つ帯域阻止フィルタである清掃装置を提案する。

本発明によれば、三角測量システムを作ることにおいて先行技術で使用される帯域通過フィルタは、今では帯域阻止フィルタによって置き換えられる。結果として、光学フィルタにぶつかる光は、もはや光学フィルタを透過するのではなくて、光学フィルタによって反射される。これは、物体によって散乱された光の伝播方向を変化させる。物体によって散乱された光が光学フィルタにぶつかる前に回路基板に平行に伝播するように光学三角測量システムが回路基板に対して配置されるならば、その光は今では反射する光学フィルタ、すなわち帯域阻止フィルタによってそらされ、回路基板に垂直な方向に伝播する。それで、検出器は今では同じ回路基板に直接に配置されることができ、センサを配置するために第２の回路基板は必要とされない。上記説明は、光学フィルタにおける光の入射角が４５°となるように光学フィルタが入射光ビームに対して配置される場合に適用される。ここで、入射光と反射光との間に９０°の角度が生じる。同時に第２の回路基板を使用することはもはや必要ではないので、先行技術において第１の回路基板と第２の回路基板との間に必要であった、人手で組み立てられなければならず、従ってエラーが発生しやすい電気接続は除去されることができる。全ての部品が今では共通の回路基板に配置されるので、組立費用が同様に削減される。特に、信号伝送の品質が改善される。最終的に、本発明に係る構成は、また、距離測定デバイスのためにもっと小型の構造の設計を生じる。それは、清掃装置のハウジングの中への収容のために有利である。

望ましくは干渉フィルタとして、三角測量システムの光学フィルタとして設計された帯域阻止フィルタの本発明に関する使用に対する他のメリットは、光学フィルタのより高い反射率を含む。通常中心周波数に関してたかだか９０％の透過率を有する帯域通過フィルタと比べて、帯域阻止フィルタは一般的に中心周波数に関して９０％より大きな反射率を有する。本発明の意味の範囲内で、少なくとも９０％の反射率を持つ帯域阻止フィルタを使用することが推奨されるが、より高い反射率、例えば（中心周波数に関して）光強度の９９％または９９．５％を持つ帯域阻止フィルタが好ましい。帯域通過フィルタの透過率に関してより高い反射率は、（光源によって放たれた一定の強度の光で）検出器にぶつかる光の一部のより高い強度に帰着する。それで、弱く散乱する物体または遠い物体でさえ検出されることができ、その距離が測定されることができる。

一般に、帯域阻止フィルタ（また帯域除去フィルタといわれる）は、単一の波長で高い反射率を示すのみではない反射スペクトルを有する。むしろ、通常、反射スぺクトルはより広い周波数範囲に渡って高い反射率を示す。帯域阻止フィルタの高い反射周波数範囲に含まれないこれらのスペクトルの光成分は、透過されるか、または吸収される。従って、それらは反射される光成分に寄与しない。結果として、最大の反射の外側における波長または周波数に関して帯域阻止フィルタの反射スペクトル（Ｘ軸：波長または周波数、Ｙ軸：反射率）において０に近い反射率が生じる。反射スペクトルに関して遮断周波数、すなわち高域遮断周波数と低域遮断周波数が定義される。高域遮断周波数と低域遮断周波数では、入射光成分に対する反射光成分の比が７０．７％であり、それは最大値に対する低減が３ｄＢであることを意味する。フィルタの変数としてこれらから、高域遮断周波数と低域遮断周波数の幾何平均である、いわゆる中心周波数が得られる。帯域阻止フィルタは、基本的に通常その遮断周波数が使用される光の波長に対応するように選択される。例えば、光構造の設計が７８５ｎｍの波長を持つレーザーダイオードを含むならば、基本的に、この波長、すなわちおおよそ３８０ＴＨｚの中心周波数に対応する中心周波数を持つ帯域阻止フィルタが有利に使用される。

三角測量システムが２つの検出器を備え、第１の検出器が光学フィルタによって反射された第１の光成分を検出するために光学フィルタに対して反射方向に配置されており、第２の検出器が光学フィルタによって透過された第２の光成分を検出するために光学フィルタに対して透過方向に配置されることが提案される。この実施形態では、第２の検出器が光学フィルタに対して第１の検出器がある側と反対側に配置される。帯域阻止フィルタによって透過された第２の光成分は第２の検出器に中継される。第２の検出器にぶつかる透過光は、帯域阻止フィルタの最大の反射の外側にある波長を有する。この点において、第２の波長を有する三角測量システムの第２のシステムを評価することができる。例えば、少なくとも２つの発光波長を持つ光源が使用されることができ、または異なる発光波長を持つ２つ以上の光源が使用されることができる。ここで、第１の波長の信号は第１の検出器によって評価され、第２の波長の信号は第２の検出器によって評価される。結果として、２つ以上の三角測量システムを共通の光学システムを使って実現することができ、各三角測量システムを特別の距離測定範囲に最適化することができる。光学フィルタによって透過された光は、（４５°の入射角度で）光学フィルタによって反射された光に垂直であるので、また、第２の検出器が第１の検出器に垂直に配置されることが必要である。これは、第１の回路基板と垂直であり、それと従来通りに接続されなければならない第２の回路基板の上に第２の検出器が配置されることを必要とする。

この実施形態は、光学フィルタと第２の検出器との間に光の伝播方向に反射器を置くことと有利に結び付けられ、反射器は第２の検出器に光学フィルタによって透過された第２の光成分を反射する。従って、光学フィルタによって透過された光成分は、反射器にぶつかり、入射光に対して４５°の入射角の反射器によって９０°までそらされる。結果として、また、反射器によって反射された光は第１の回路基板にそらされ、第１の回路基板に第２の検出器が配置される。第２の検出器を収容するために第２の回路基板は必要とされない。従って、第１と第２の検出器は第１の回路基板の上にお互いに隣接して配置されることができ、光学フィルタまたは反射器によって反射された光成分はお互いに平行になる。

また、反射器は帯域阻止フィルタであることができる。結果として、また、その反射器は、入射光の特に高い割合、すなわち望ましくは少なくとも９０％の割合、望ましくは少なくとも９９％の割合、または特に望ましくは９９．５％の割合を反射する周波数範囲を持つ。ここで、反射器の中心周波数は少なくとも光学フィルタによって透過される光成分の波長に有利に対応する。それで、反射器の反射スペクトルは反射器にぶつかる光に最適に調節される。

反射器は、光学フィルタの反射スペクトルから外れた中心周波数を有する反射スぺクトルを有利に持つ。例えば、光学フィルタの反射スペクトルは７８５ｎｍの波長に対応する中心周波数を持つことができる。一方、反射器の反射スペクトルは可視の周辺光の範囲内の波長、例えば５３２ｎｍに対応する中心周波数を持つ。この関連で、距離測定デバイスは、可視の範囲および異なる範囲、例えばこの場合には近赤外線の範囲の両方で評価のために使用されることができる。

更に、反射器は、エッジフィルタの場合のように、基本的に２つの離れたスペクトル範囲を有する反射スペクトルを持つことができる。例えば、反射器は、７８０ｎｍよりも大きな波長を持つ光（ロングパスフィルタ）とより短い波長、特に可視光を持つ光とを透過するエッジフィルタであることができる。

光学フィルタの中心周波数が光源によって放たれた光の波長に対応し、反射器の中心周波数が可視の周辺光の波長に対応し、望ましくは、光学フィルタの中心周波数が可視の周辺光のいずれの波長にも対応しないことが推奨される。この構成は、例えば、異なる波長に基づいた２つの信号がお互いから分離できること、および特定の波長の光のかなりの割合が光学フィルタと反射器によって反射されないことを確かにする。その代わりに、意図されるゴールは、できるだけ精密に、および各波長とは完全に独立に信号を分離することである。ここで、特に、光学フィルタと反射器の中心周波数はできるだけお互いから離れたスペクトル距離、望ましくは少なくとも５０ｎｍを有すること、およびフィルタスペクトルのエッジはできるだけ険しいことが推奨される。

本発明の意味の範囲内で、帯域阻止フィルタは、干渉ミラー、半透明ミラーまたは反射回折格子であることができる。選択的に反射するフィルタ（帯域阻止フィルタ）を使うとき、特に帯域阻止フィルタとして干渉ミラーまた反射回折格子の場合には、それらが、選択的に透過するフィルタ（帯域通過フィルタ）に比べて帯域通過フィルタによって達せられる透過率よりも高い反射率を達成することが有利である。

光学フィルタとして帯域阻止フィルタを持つ距離測定デバイスの上記構成に対する代案として、本発明は、光学フィルタが帯域通過フィルタであり、透過方向にその光学フィルタの下流に配置された反射器を有することを提案する。また、本実施形態は光源によって放たれた光を回路基板の方向にそらすために使われることができる。それで、検出器をこの回路基板の上に配置することができ、第２の回路基板を使用するための必要性を無くすことができる。帯域通過フィルタをその後ろに位置する反射器と結びつけることは、帯域阻止フィルタのビーム誘導をシミュレーションするが、その組み合わせの反射率は帯域阻止フィルタの反射率よりも小さい。特に、その組み合わせの結果として起こる反射率は、帯域通過フィルタの透過率と反射器の反射率とに依存する。有利には帯域通過フィルタの透過率はできるだけ高く、すなわちその反射率はできるだけ低く、反射器の反射率はできるだけ高い。上述したように、従来の帯域通過フィルタは中心周波数に関しておおよそ９０％の透過率を有する。それで、その組合せの全体の反射率は必然的に高々９０％になる。この点において、もっとも高い可能な反射率を持つ反射器を使用し、それで更に検出器にぶつかる光の損失をできるだけ低く保つことが推奨される。

帯域通過フィルタと反射器の組合せに関連して、帯域通過フィルタが干渉フィルタであることが推奨される。ここで、帯域通過フィルタが、中心周波数に関して最も高い可能な透過率、すなわち最も低い可能な反射率を持つことが必須である。

光学フィルタとして帯域阻止フィルタまたは帯域通過フィルタを持つ距離測定デバイスの上記構成に対する代案として、光学フィルタが散乱された光の少なくとも１つの波長に関して少なくとも９０％の反射率を持つエッジフィルタであることが提案される。また、本実施形態は光源によって放たれた光を回路基板の方向にそらすために使われることができる。それで、検出器をこの回路基板の上に配置することができ、第２の回路基板を使用するための必要性を無くすことができる。特に望ましくは、エッジフィルタは少なくとも９５％の反射率、または特に望ましくは９８％の反射率を有しており、その反射率は９８％の量または特に望ましくは９９．５％より高い量で始まる帯域阻止フィルタの反射率に対応する。そして、従って検出器にぶつかる光は最も高い可能な強度を有する。

最後に、全ての場合において距離測定デバイスが光源と光学フィルタと検出器または複数の検出器とを配置するためにただ１つの回路基板を有することが推奨される。

以下に、実施形態に基づいて本発明をより詳細に説明する。

本発明に係る清掃装置の透視図である。 清掃装置の底面図である。 第１の実施形態に係る距離測定デバイスである。 第２の実施形態に係る距離測定デバイスである。 第３の実施形態に係る距離測定デバイスである。 第４の実施形態に係る距離測定デバイスである。

図１と図２は自動移動可能な清掃装置１を示す。ここで、それは電気モーター駆動掃除用ロボットの形式である。清掃装置１は装置ハウジング１９を有し、装置ハウジング１９は他の物の間に少なくとも２つの車輪２０、清掃ローラー２１、ブラシ２２および距離測定デバイス２を含む。更に、装置ハウジング１９の上面には、光出口２３が配置されている。距離測定デバイス２の光源４によって放たれる光が光出口２３を通って外側に出ることができる。距離測定デバイス２は、装置ハウジング１９の内側に配置されており、３６０°回転することができる。光出口２３はそれに応じてそこに水平出口面内で３６０°開いている。それで、光は３６０°の角度範囲で出ることができる。清掃装置１の前面に物体３が位置しており、その方向に清掃装置１が動く。

図３から図６は、距離測定デバイス２の４つの異なる実施形態を示す。距離測定デバイス２は、それぞれ光源４、光学フィルタ５および検出器６を有している。それらは、光源４（図３から図６には描かれていない）によって放たれ、物体３で散乱した光が最初に光学系１３、例えば集束レンズにぶつかり、それから光フィルタ５によってスペクトルでフィルタリングされ、最後に少なくとも第１の光成分８に関連して検出器６によって検出されるように、光ビームのアレイ内に配置される。ここで、光学系１３、光学フィルタ５および第１の検出器６は、全て距離測定デバイス２の第１の回路基板１１の上に配置されている。

更に、第１の回路基板１１は、フォーク形の光バリアとして設計された光バリア１４を有する。光バリア１４は装置ハウジング１９の中に回転自在に配置された距離測定デバイス２の角度方向に固定される。また、第１の回路基板１１の上に電圧レギュレーター１６、プロセサ１７（マイクロコントローラ）およびレーザー駆動電子システム１８が位置している。また、第１の回路基板１１は測定デバイスハウジング１５を支え、測定デバイスハウジング１５は距離測定デバイス２の個々の部品を保持する。

上述した部品に加えて、図４に示される距離測定デバイス２は、また、第２の検出器７を有する。第２の検出器７は光学フィルタ５の後ろ、光の透過方向に配置されている。第２の検出器７は第２の回路基板１２に位置しており、第２の回路基板１２は更に第１の回路基板１１によって支えられている。

図５に示す距離測定デバイス２は、第２の検出器７と共に、光学フィルタ５の透過方向に反射器１０を有する。反射器１０と第２の検出器７は、第１の回路基板１１の上に位置している。

図６に示す距離測定デバイス２は、第１の検出器６と共に、光学フィルタ５の後ろの透過方向に反射器１０を有する。反射器１０と第１の検出器６の両方が、第１の回路基板１１の上に位置している。

個々の距離測定デバイス２の機能を以下に説明する。

図３に示す距離測定デバイス２において、光学フィルタ５は帯域阻止フィルタとして設計されている。例えば、これはその中心周波数に関して９９％の反射率を示す。ここで、例えば中心周波数は７８５ｎｍの光学レーザーダイオード（光源４）の波長に対応する。ここで、光学フィルタ５は、例えば単色フィルタとして設計されている。それで、これは７８５ｎｍで鋭い最大の反射を示す。他の波長に関して反射率は０に近い。結果として、物体３によって反射された光は光学フィルタ５に到り、９９％の成分、第１の光成分８で反射される。残りの１％の光成分は光学フィルタ５によって吸収されるか、または透過され（図３に描かれていない）、検出器６に到達しない。第１の光成分８は検出器６にぶつかり、光学三角測量の枠組みの中で評価される。この目的を達成するために、距離想定デバイス２はプロセサを持つ。

例えば、帯域阻止フィルタは、干渉ミラー、例えば多層の誘電性コーティングを持ったガラス基板として設計される。望ましい反射率と帯域阻止フィルタの望ましい中心周波数に依存して、様々なコーティング材料およびもしかすると基板材料も使用される。また、帯域阻止フィルタのような光学フィルタを構成するための選択肢として、他の実施形態、例えばエッジフィルタ（ロングパス、ショートパス）またはグラディエントフィルタが可能である。そのとき、例えば、これらは典型的な反射率を有する。エッジフィルタに関して、反射率は少なくとも９０％であることができる。そうでなければ、描かれた光ビームの経路は完全なまま残る。

光学フィルタ５の波長選択反射は、距離測定デバイス２の周辺光から光源４によって放たれる光を分離することができる。その光は同様に測定対象の物体３によって散乱され、従ってまた光学系１３と光学フィルタ５にぶつかる。結果として、波長依存反射率は周辺光から光源４の光を分離するために使用される。それで、光源４の光は、測定結果に排他的に、または周辺光に関して支配的な程度に寄与する。

図４は、本発明の他の実施形態を示す。図４では、第２の検出器７は、光学フィルタ５の透過方向において光学フィルタ５の後ろに位置し、光学フィルタ５によって透過された光を検出するために設計されている。本実施形態では、光源によって放たれ、従ってまた物体３によって反射された光は、少なくとも２つの異なる波長を持つ。ここで、第１の波長は光学フィルタ５の中心周波数に対応する。それで、対応する第１の光成分８が光学フィルタ５によって反射され、第１の検出器６にぶつかる。第２の光成分９に関して光学フィルタ５は非常に小さな反射率のみを有しており、第２の光成分９は光学フィルタ５によって透過され、第２の検出器７に到達する。また、第２の検出器７は、プロセサ１７と接続されており、検出器６に従って評価されることができる。更にまた、第２の検出器７は周辺光を検出するために、および／または光学フィルタ５によって透過された光成分を検出するために使用されることができる。その光成分は中心周波数に対応する波長を有する。例えば、９８％の反射率で、この透過した割合は２％になる。

第１の検出器６と第２の検出器７の両方とも、フォトダイオード、フォトダイオードアレイおよび／またはＣＣＤチップ、ＣＭＯＳチップとして設計されることができる。ここでまた、検出器６，７は個別の波長または特定の波長範囲に関してのみ検出することができ、それで波長の選択がさらに起こることができる。

従って、描かれた実施形態によれば、検出器６は第１の波長、例えば７８５ｎｍの光を測定することができる。一方、第２の検出器７は逸脱した波長、例えば５３２ｎｍの光を測定する。結果として、物体３によって反射された光は２つの異なる波長に関して測定されることができ、物体３について付加的な情報、特にその表面の色についての情報を得ることができる。これは、表面特性のために特定の波長または波長範囲に関して非常に小さい反射率のみを持つ物体３に対して特に有利であることができる。それで、検出器６，７の一つが、例えば低い光の強度のみを検出することができる。

図５に従う実施形態は、また、光学フィルタ５と第１の検出器６を有する距離測定デバイス２を示す。また、既に先行する図に関して説明したように、光学フィルタ５は帯域阻止フィルタとして設計されており、それは物体３によって反射された光を中心周波数に関してとても高い反射率、例えば９９．５％で検出器６に反射する。光学フィルタ５によって透過された第２の光成分９は、光学フィルタ５の中心周波数から逸脱する波長を有し、反射器１０にぶつかる。反射器１０は少なくとも部分的に第２の光成分９を反射する。反射器１０は、また、帯域阻止フィルタであることができる。その帯域阻止フィルタは、光学フィルタの中心周波数から外れた中心周波数を有利に有する。代案として、反射器１０は、また、広帯域の反射器として設計されることができる。その広帯域の反射器は広い周波数範囲に渡って大体高い反射率を有する。反射器１０によって反射された光は、第２の検出器７にぶつかり、そこで評価されることができる。本実施形態によれば、第１の検出器６と第２の検出器７の両方とも第１の回路基板１１の上に配置される。それで、第２の回路基板１２は必要ない。反射器１０は、金属ミラー、誘電体層を含む干渉ミラーまたは反射プリズムであることができる。望ましくは、反射器１０と光学フィルタ５の表面は平面であるが、またフレネルレンズまたは小型レンズの場合のように微細構造であってもよい。また、光学フィルタ５は、例えば低い反射率（しかし、少なくとも９０％）を有するエッジフィルタを含むことができる。

図６は本発明の他の実施形態を示す。その実施形態において、距離測定デバイス２は物体３によって反射された光の伝播方向、光学系１３の後ろに帯域通過フィルタとして設計された工学フィルタ５および反射器１０を有する。帯域通過フィルタとして設計された光学フィルタ５は、光源４の波長に対応する光を透過するように構成される。帯域通過フィルタはこの波長に関して高い透過率を有し、それは例えば９０％である。帯域通過フィルタによって透過された第１の光成分８は、反射器１０にぶつかる。反射器１０は第１の光成分８の波長に関して高い反射率を持つ。反射器１０によって反射された光は、第１の検出器６にぶつかり、プロセサ１７によって評価される。帯域通過フィルタは透過プリズム、透過回折格子、ビームスプリッターまたは複数の個別のレンズで構成される小型レンズアレイであることができる。本実施形態によれば、距離測定デバイス２の部品は、また、共通の回路基板、すなわち第１の回路基板１１の上に配置される。従って、本実施形態は、第２の回路基板１２に対する必要性を除去する。光学フィルタ５の透過率は従来の帯域阻止フィルタの反射率より低いので、上述した実施形態とは対照的に、第１の反射器６にぶつかる第１の光成分８の光強度はより低い。

ここで、たとえ距離測定デバイス２が３６０°回転可能であるように記載されたとしても、またもちろん、これが装置ハウジング１９の内側に回転可能でないように配置されることが可能である。そのような実施形態において、距離の測定は、特定の方向（例えば、清掃装置１の現在の進行方向）でのみ実行されることができる。

１…清掃装置
２…距離測定デバイス
３…物体
４…光源
５…光学フィルタ
６…第１の検出器
７…第２の検出器
８…第１の光成分
９…第２の光成分
１０…反射器
１１…第１の回路基板
１２…第２の回路基板
１３…光学系
１４…光バリア
１５…測定デバイスハウジング
１６…電圧レギュレーター
１７…プロセサ
１８…レーザー駆動電子システム
１９…装置ハウジング
２０…車輪
２１…清掃ローラー
２２…ブラシ
２３…光出口

Claims (11)

1. 物体（３）から清掃装置（１）までの距離を測定するための距離測定デバイス（２）を有する自動移動可能な清掃装置（１）、特に電気モータ駆動真空吸引および／または拭きロボットであって、
   前記距離測定デバイス（２）が光源（４）、光学フィルタ（５）および検出器（６）を有する光学三角測量システムを備え、当該光学三角測量システムは前記光源（４）によって放たれた光が伝播方向において最初に物体（３）によって散乱されるように配置されており、
   続いて少なくとも散乱された光の一部が前記光学フィルタ（５）によってスペクトルでフィルタリングされ、
   最後にフィルタリングされた光が前記検出器（６）によって検出され、
   前記光学フィルタ（５）が前記散乱された光の少なくとも１つの波長に関して少なくとも９０％の反射率を持つ帯域阻止フィルタである、
   ことを特徴とする清掃装置（１）。
2. 前記光学三角測量システムが２つの検出器（６，７）を備え、
   第１の検出器（６）が前記光学フィルタ（５）によって反射された第１の光成分（８）を検出するために前記光学フィルタ（５）に対して反射方向に配置されており、
   第２の検出器（７）が前記光学フィルタ（５）によって透過された第２の光成分（９）を検出するために前記光学フィルタ（５）に対して透過方向に配置される、
   ことを特徴とする請求項１に記載の清掃装置（１）。
3. 反射器（１０）が、前記光学フィルタ（５）と前記第２の検出器（７）との間に光の伝播方向に配置されており、前記第２の検出器（７）に前記光学フィルタ（５）によって透過された前記第２の光成分（９）を反射することを特徴とする請求項２に記載の清掃装置（１）。
4. 前記反射器（１０）が、帯域阻止フィルタであることを特徴とする請求項３に記載の清掃装置（１）。
5. 前記反射器（１０）が、前記光学フィルタ（５）の反射スペクトルから外れた中心周波数を有する反射スぺクトルを持つことを特徴とする請求項３に記載の清掃装置（１）。
6. 前記光学フィルタ（５）の中心周波数が前記光源（４）によって放たれた光の波長に対応し、前記反射器（１０）の中心周波数が可視の周辺光の波長に対応し、
   望ましくは、前記光学フィルタ（５）の中心周波数が前記可視の周辺光のいずれの波長にも対応しない、
   ことを特徴とする請求項４または５に記載の清掃装置（１）。
7. 前記帯域阻止フィルタが、干渉ミラーであることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の清掃装置（１）。
8. 物体（３）から清掃装置（１）までの距離を測定するための距離測定デバイス（２）を有する自動移動可能な清掃装置（１）、特に電気モータ駆動真空吸引および／または拭きロボットであって、
   前記距離測定デバイス（２）が光源（４）、光学フィルタ（５）および検出器（６）を有する光学三角測量システムを備え、当該光学三角測量システムは前記光源（４）によって放たれた光が伝播方向において最初に物体（３）によって散乱されるように配置されており、
   続いて少なくとも散乱された光の一部が前記光学フィルタ（５）によってスペクトルでフィルタリングされ、
   最後にフィルタリングされた光が前記検出器（６）によって検出され、
   前記光学フィルタ（５）が、帯域通過フィルタであって、透過方向に当該光学フィルタ（５）の下流に配置された反射器（１０）を有する、
   ことを特徴とする清掃装置（１）。
9. 前記帯域通過フィルタが、干渉フィルタであることを特徴とする請求項８に記載の清掃装置（１）。
10. 物体（３）から清掃装置（１）までの距離を測定するための距離測定デバイス（２）を有する自動移動可能な清掃装置（１）、特に電気モータ駆動真空吸引および／または拭きロボットであって、
    前記距離測定デバイス（２）が光源（４）、光学フィルタ（５）および検出器（６）を有する光学三角測量システムを備え、当該光学三角測量システムは前記光源（４）によって放たれた光が伝播方向において最初に物体（３）によって散乱されるように配置されており、
    続いて少なくとも散乱された光の一部が前記光学フィルタ（５）によってスペクトルでフィルタリングされ、
    最後にフィルタリングされた光が前記検出器（６）によって検出され、
    前記光学フィルタ（５）が前記散乱された光の少なくとも１つの波長に関して少なくとも９０％の反射率を持つエッジフィルタである、
    ことを特徴とする清掃装置（１）。
11. 前記距離測定デバイス（２）が、前記光源（４）と前記光学フィルタ（５）と前記検出器（６，７）との配置のために唯一の回路基板（１１）を有することを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の清掃装置（１）。

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