JP2018510130A - 窒化塩化リン三量体及び誘導体のフッ化処理方法 - Google Patents

窒化塩化リン三量体及び誘導体のフッ化処理方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2018510130A
JP2018510130A JP2017538935A JP2017538935A JP2018510130A JP 2018510130 A JP2018510130 A JP 2018510130A JP 2017538935 A JP2017538935 A JP 2017538935A JP 2017538935 A JP2017538935 A JP 2017538935A JP 2018510130 A JP2018510130 A JP 2018510130A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
derivative
trimer
nitride
phosphorus nitride
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017538935A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6654638B2 (ja
Inventor
周▲暁▼
路▲慶▼昌
Original Assignee
▲ず▼博▲藍▼印化工有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ▲ず▼博▲藍▼印化工有限公司 filed Critical ▲ず▼博▲藍▼印化工有限公司
Publication of JP2018510130A publication Critical patent/JP2018510130A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6654638B2 publication Critical patent/JP6654638B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/547Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/6564Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms
    • C07F9/6581Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus and nitrogen atoms with or without oxygen or sulfur atoms, as ring hetero atoms
    • C07F9/659Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus and nitrogen atoms with or without oxygen or sulfur atoms, as ring hetero atoms having three phosphorus atoms as ring hetero atoms in the same ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/547Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/6564Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms
    • C07F9/6581Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus and nitrogen atoms with or without oxygen or sulfur atoms, as ring hetero atoms
    • C07F9/65812Cyclic phosphazenes [P=N-]n, n>=3
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/547Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/6564Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms
    • C07F9/6581Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus and nitrogen atoms with or without oxygen or sulfur atoms, as ring hetero atoms
    • C07F9/65812Cyclic phosphazenes [P=N-]n, n>=3
    • C07F9/65815Cyclic phosphazenes [P=N-]n, n>=3 n = 3
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/54Improvements relating to the production of bulk chemicals using solvents, e.g. supercritical solvents or ionic liquids

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)

Abstract

本発明は、窒化塩化リン三量体及びその誘導体のフッ化処理方法に関する。本発明は、窒化塩化リン三量体又は部分的に置換された窒化塩化リン三量体を原料として、窒化塩化リン三量体分子中の塩素原子を置換するために、該原料をイオン溶液中でフッ化剤によりフッ化することを特徴とする。本発明は、発揮しにくく、汚染の無いイオン溶液を溶剤として使用し、且つ本発明は、単に蒸留温度を制御することによるのみで、高純度のヘキサフルオロシクロトリホスファゼン又はその誘導体を精製することができ、これにより、一般溶剤系の溶剤と反応産物との間で容易に起こる共沸の欠点を克服し、後処理が簡略であり、反応産物の純度及び収率を向上させ、イオン溶液の再利用を可能とする。

Description

本発明は、窒化塩化リン三量体(ヘキサクロロシクロトリホスファゼン)及びその誘導体のフッ化処理方法に関連する。
ホスファゼン化合物は、リン系難燃剤が備える良好な難燃性及び窒素化合物が備える難燃相乗効果の両方を有する。難燃効果に優れ、他の補助的な難燃剤の添加を一切必要としない。それと同時に、良好な熱的安定性、無毒、低発煙性、自己消火性等の優性を備えていため,これからの難燃剤の発展方向の一つであると公認されている。多種のホスファゼン難燃剤が合成され、難燃研究に必要とする多様の材料としてに用いられている。それと同時に、ホスファゼン類化合物は軍事、航空、及び宇宙飛行工業に必要とされる高温、低温、酸化に耐えられる、特殊ゴム及び弾性材料の製造に用いることができる。クロロシクロトリホスファゼンは確かに良好な難燃効果を備えているが、この難燃剤は容易に加水分解されると同時に、塩素が電池システムに過大な腐食作用を与える。最近の研究により、フッ素を用いて塩素を置換すれば、加水分解され難く、粘着性が比較的に低い、適合性により優れた機能性ホスファゼン誘導体を作成できる。フッ素化ホスファゼンはまた、リチウムイオン電池の高効率な難燃剤としても使用できる。現在、ホスファゼンのフッ化は一般に有機小分子の溶剤の溶液中で行われ、生成したフッ化物に対して蒸留と分別を行う。しかし、有機小分子は容易に揮発し、且つフッ素化ホスファゼンと共沸混合物を形成するため、純化が難しい。それと同時に、溶剤を浪費するため、精製コストを高めてしまう。
以上の問題を解決するため、本発明は高効率、無揮発性のフッ化反応系を提供し、反応系の溶剤としてイオン溶液を採用し、シクロトリホスファゼン及びその誘導体のフッ素化の反応効率の向上を可能とさせ、精製コストを下げる。
本発明に採用される技術方案は以下の通りである。
本発明の窒化塩化リン三量体及び誘導体のフッ化処理方法は、以下の、窒化塩化リン三量体又はその誘導体をイオン溶液に溶解させ、フッ化剤を加え、反応温度を制御してフッ化反応を行い、次いで常圧蒸留を行うことにより、高純度のヘキサフルオロシクロトリホスファゼン又はその誘導体を精製する工程を含むことを特徴とする。
前記窒化塩化リン三量体及びその誘導体の化学式は、以下の通りである。
Figure 2018510130
式中、S−Sの少なくとも1つが塩素であり、S−Sは独立して、C20アルキル基、アルコキシル基、フッ素化アルコキシル基、アリール基、カルボキシル基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、エーテル酸素基、ハロゲン原子から選択される。
前記イオン溶液の化学式は以下の通りである。
Figure 2018510130
上記化学式における置換反応は、一元、二元、又は三元で行われ、且つ、R、R、及びRはそれぞれ独立に、炭素数が0〜20である(炭素原子が0の場合、R、R、あるいはRは水素である)アルキル基、アルコキシ基、アリール基、カルボキシル基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、エーテル酸素基、ハロゲン原子から選択される。
最適な置換基R、R、及びRはそれぞれ独立に、以下の基:メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ビニリデン基、フェニル基、又はベンジル基から選択される。
式中、前記アニオンXは、以下のF、PF 、BF 、TFSI、FSI、BOB、及びClO から選択される少なくとも1種である。
前記フッ化剤は、アンモニウム、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、カルシウム、マグネシウム、アルミニウム、クロム、鉄、コバルト、アンチモン、ニッケル、銅、亜鉛、チタン、又は希土類元素のフッ化物の1つ又は複数の組み合わせであり、最適なフッ化物はフッ化ナトリウム及びフッ化カリウムである。
前記フッ化反応の温度は10〜300℃であり、その最適温度は100〜130℃である。前記反応の時間は2〜98時間であり、その最適時間は12〜15時間である。前記蒸留の温度は40〜300℃であり、その最適温度は生成物の沸点より10℃高い温度である。
現在の技術と比べて、本発明は揮発しにくく、汚染の無いイオン溶液を溶剤として使用している。蒸留温度だけをコントロールすれば、高純度のヘキサフルオロシクロトリホスファゼン又はその誘導体を精製できる。これにより、一般溶剤系の溶剤と生成物との間で容易に起こる共沸の欠点を克服し、後処理が簡略であり、生成物の純度及び収率を両方とも向上させて、イオン溶液の再利用を可能とする。
実施例1
窒化塩化リン三量体0.1モルを取り、これを1−ベンジル−3−メチルピリジンヘキサフルオロリン酸イオン溶液100mlを含むフラスコに加えた。次いで、フッ化ナトリウム1モルを加え、130℃、10時間の条件でフッ化処理を行った。その後、60℃の条件で蒸留し、高純度のヘキサフルオロシクロトリホスファゼンを精製した。
実施例2
エトキシペンタクロロシクロトリホスファゼン0.1モルを取り、これを1−アリル−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボラートイオン溶液100mlを含むフラスコに加えた。次いで、フッ化ナトリウム1モルを加え、130℃、12時間の条件でフッ化処理を行った。その後、160℃の条件で蒸留し、高純度のエトキシペンタフルオロシクロトリホスファゼンを精製した。
実施例3
エトキシペンタクロロトリフルオロシクロトリホスファゼンを取り、これを1−フェニル−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボラートイオン溶液100mlを含む還流装置付きのフラスコに加えた。次いで、フッ化カリウム1モル及びフッ化ナトリウム0.5モルを加え、200℃、20時間の条件でフッ化処理を行った。その後、180℃の条件で蒸留し、高純度のエトキシペンタフルオロシクロトリフォスファゼンを精製した。
実施例4
ジクロロテトラブトキシシクロトリホスファゼンを取り、これを1−メチル−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボラートイオン溶液100mlを含む還流装置付きのフラスコに加えた。次いで、フッ化カリウム0.5モル及びフッ化カルシウム0.5モルを加え、280℃、16時間の条件でフッ化処理を行った。その後、220℃の条件で蒸留して、高純度のジフルオロテトラブトキシシクロトリホスファゼンを精製した。
実施例5
ペンタクロロフェノキシシクロトリホスファゼンを取り、これを1−エチレン−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボラートイオン溶液100mlを含む還流装置付きのフラスコに加えた。次いで、フッ化カリウム0.8モルを加え、50℃、16時間の条件でフッ化処理を行った。その後、240℃の条件で蒸留して、高純度のベンタフルオロフェノキシシクロトリホスファゼンを精製した。
実施例6
ペンタクロロフェノキシシクロトリホスファゼンを取り、これを1−フェノキシ−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボラートイオン溶液50ml及び1−アリル−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロホスフェートイオン溶液50mlを含むフラスコに加えた。次いで、フッ化カリウム0.8モル及びフッ化亜鉛0.2モルを加え、50℃、16時間の条件でフッ化処理を行った。その後、240℃の条件で蒸留して、高純度のベンタフルオロフェノキシシクロトリホスファゼンを精製した。

Claims (8)

  1. 窒化塩化リン三量体又はその誘導体をイオン溶液に溶解させ、フッ化剤を加え、反応温度を制御してフッ化反応を行い、次いで常圧蒸留を行うことにより、高純度のヘキサフルオロシクロトリホスファゼン又はその誘導体を精製し、
    前記窒化塩化リン三量体及びその誘導体の分子式は以下の式である、窒化塩化リン三量体及びその誘導体のフッ化処理方法。
    Figure 2018510130

    (式中、S−Sの少なくとも1つが塩素であり、S−Sは独立して、C20アルキル基、アルコキシル基、フッ素化アルコキシル基、アリール基、カルボキシル基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、エーテル酸素基、ハロゲン原子から選択される。)
  2. 前記イオン溶液は以下の化学式で表され、該化学式における置換反応は、一元、二元、又は三元の置換である、請求項1に記載の窒化塩化リン三量体及びその誘導体のフッ化処理方法。
    Figure 2018510130

    (式中、R、R、及びRはそれぞれ独立に、炭素数が0〜20である、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、カルボキシル基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、エーテル酸素基、ハロゲン原子から選択される。)
  3. 置換基R、R、及びRはそれぞれ独立に、以下の基:メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ビニリデン基、フェニル基、又はベンジル基から選択される、請求項2に記載の窒化塩化リン三量体及びその誘導体のフッ化処理方法。
  4. 前記アニオンXは、以下のF、PF 、BF 、TFSI、FSI、BOB、及びClO から選択される少なくとも1種である、請求項2に記載の窒化塩化リン三量体及びその誘導体のフッ化処理方法。
  5. 前記フッ化剤は、アンモニウム、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、カルシウム、マグネシウム、アルミニウム、クロム、鉄、コバルト、アンチモン、ニッケル、銅、亜鉛、チタン、又は希土類元素のフッ化物の1つ又は複数の組み合わせである、請求項1に記載の窒化塩化リン三量体及びその誘導体のフッ化処理方法。
  6. 前記フッ化剤がフッ化ナトリウム及び/又はフッ化カリウムである、請求項5に記載の窒化塩化リン三量体及びその誘導体のフッ化処理方法。
  7. 前記フッ化反応の温度が10〜300℃、前記反応の時間が2〜98時間、前記蒸留の温度が40〜300℃である、請求項1に記載の窒化塩化リン三量体及びその誘導体のフッ化処理方法。
  8. 前記フッ化反応の温度が100〜130℃、前記反応の時間が12〜15時間、前記蒸留の温度が生成物の沸点より10℃高い、請求項1に記載の窒化塩化リン三量体及びその誘導体のフッ化処理方法。
JP2017538935A 2015-04-14 2015-10-29 窒化塩化リン三量体及び誘導体のフッ化処理方法 Active JP6654638B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510175894.2A CN104788495A (zh) 2015-04-14 2015-04-14 一种六氯环三磷腈及其衍生物的氟化方法
CN201510175894.2 2015-04-14
PCT/CN2015/093219 WO2016165310A1 (zh) 2015-04-14 2015-10-29 一种六氯环三磷腈及其衍生物的氟化方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018510130A true JP2018510130A (ja) 2018-04-12
JP6654638B2 JP6654638B2 (ja) 2020-02-26

Family

ID=53553725

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017538935A Active JP6654638B2 (ja) 2015-04-14 2015-10-29 窒化塩化リン三量体及び誘導体のフッ化処理方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10017530B2 (ja)
JP (1) JP6654638B2 (ja)
CN (2) CN104788495A (ja)
WO (1) WO2016165310A1 (ja)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104788495A (zh) 2015-04-14 2015-07-22 淄博蓝印化工有限公司 一种六氯环三磷腈及其衍生物的氟化方法
CN105153205B (zh) * 2015-09-10 2017-06-13 华中科技大学 铜‑环三磷腈六羧酸衍生物配位框架材料及其制备与应用
CN106083933B (zh) * 2016-06-13 2019-03-19 武汉海斯普林科技发展有限公司 六氟环三磷腈及1-乙氧基-1,3,3,5,5-五氟环三磷腈的制备方法
US10707531B1 (en) 2016-09-27 2020-07-07 New Dominion Enterprises Inc. All-inorganic solvents for electrolytes
CN109422774B (zh) * 2017-08-30 2021-03-30 张家港市国泰华荣化工新材料有限公司 五氟乙氧基环三磷腈的制备方法
CN107759637A (zh) * 2017-11-16 2018-03-06 山东大学 一种磷腈及磷腈衍生物的氟化反应催化剂及其氟化物的合成方法
CN108314694A (zh) * 2018-02-02 2018-07-24 苏州贺康新材料科技有限公司 一种锂电池电解液阻燃剂的制备方法
CN110066295B (zh) * 2019-04-28 2021-10-26 衢州康鹏化学有限公司 一种五氟乙氧基环三磷腈的制备方法
CN110204731B (zh) * 2019-05-27 2021-06-29 台州学院 一种含离子液体的纳米磷腈微球及其制备方法和应用
CN112175010B (zh) * 2020-10-16 2023-07-21 南京师范大学 一种六氟环三磷腈的合成方法
CN114213387B (zh) * 2021-12-31 2024-01-09 云南森美达生物科技股份有限公司 黄樟素的富集提取方法
CN115141231A (zh) * 2022-06-17 2022-10-04 浙江蓝天环保高科技股份有限公司 一种六氟环三磷腈的连续制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102702268A (zh) * 2012-05-24 2012-10-03 福建创鑫科技开发有限公司 五氟烷氧基或苯氧基环三磷腈的制备方法
CN102757026A (zh) * 2012-07-18 2012-10-31 中国科学院福建物质结构研究所 一种氟代磷腈化合物的制备方法
US20140178752A1 (en) * 2012-12-24 2014-06-26 Samsung Sdi Co., Ltd. Cyclotriphosphazene compound, method of preparing the same, electrolyte for lithium secondary battery including the cyclotriphosphazene compound, and lithium secondary battery including the electrolyte

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101407527B (zh) * 2008-04-17 2011-06-22 苏州大学 含氟烷氧基环三磷腈衍生物其制备方法及应用
CN101602780A (zh) * 2009-06-26 2009-12-16 四川东材科技集团股份有限公司 六氯环三磷腈的催化合成方法
CN104788495A (zh) 2015-04-14 2015-07-22 淄博蓝印化工有限公司 一种六氯环三磷腈及其衍生物的氟化方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102702268A (zh) * 2012-05-24 2012-10-03 福建创鑫科技开发有限公司 五氟烷氧基或苯氧基环三磷腈的制备方法
CN102757026A (zh) * 2012-07-18 2012-10-31 中国科学院福建物质结构研究所 一种氟代磷腈化合物的制备方法
US20140178752A1 (en) * 2012-12-24 2014-06-26 Samsung Sdi Co., Ltd. Cyclotriphosphazene compound, method of preparing the same, electrolyte for lithium secondary battery including the cyclotriphosphazene compound, and lithium secondary battery including the electrolyte

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
HAN, SHENG ET AL.: "Application of Ionic Liquids in Organic Fluorination Reaction", HUAXUE SHIJI, vol. (2012), 34(1), 35-40, JPN6018029750, 2012 *
KIM, DONG WOOK ET AL.: "New Method of Fluorination Using Potassium Fluoride in Ionic Liquid: Significantly Enhanced Reactivi", JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, vol. (2002), 124(35), 10278-10279, JPN6018029747, 2002 *
ZHONG, PING ET AL.: "Direct Formation of 2,3,5-Trichloropyridine and its Nucleophilic Displacement Reactions in Ionic Liq", SYNTHETIC COMMUNICATIONS, vol. (2004), 34(23), 4301-4311, JPN6018029749, 2004 *

Also Published As

Publication number Publication date
JP6654638B2 (ja) 2020-02-26
WO2016165310A1 (zh) 2016-10-20
CN104788495A (zh) 2015-07-22
CN107108673A (zh) 2017-08-29
US20180118768A1 (en) 2018-05-03
US10017530B2 (en) 2018-07-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6654638B2 (ja) 窒化塩化リン三量体及び誘導体のフッ化処理方法
JP6064724B2 (ja) シュウ酸を配位子とする金属錯体精製物及び該金属錯体の非水溶媒精製溶液の製造方法
JP2008222592A (ja) 新規ホスホニウム塩イオン液体、それを用いた反応溶媒
JP4921964B2 (ja) アルケノンの簡略化した製法
US20090163394A1 (en) Ionic liquid containing phosphonium cation having p-n bond and method for producing same
JP2012506440A5 (ja)
CN108314694A (zh) 一种锂电池电解液阻燃剂的制备方法
WO2016052092A1 (ja) ジフルオロイオン性錯体の製造方法
EP1958952B1 (en) Ionic compounds
JP2018177670A (ja) 非対称イミド三級アンモニウム塩の製造方法
US20120071678A1 (en) Trihydridosilyl-terminated polysilanes and methods of preparation
WO2014061482A1 (ja) イオン液体
CN107973693B (zh) 一种合成三氟芳基乙烯类化合物的方法
JP6863421B2 (ja) オレフィン化合物の製造方法
CN107759637A (zh) 一种磷腈及磷腈衍生物的氟化反应催化剂及其氟化物的合成方法
JPWO2013157311A1 (ja) トリアゾリルメチルシクロアルカノール誘導体の製造方法、およびトリアゾリルメチルシクロアルカノール誘導体含有組成物
JP4424660B2 (ja) イオン性液体からなる難燃性溶媒及びその製造方法
JP2016027030A (ja) 精製イオン性錯体の製造方法
JP2015078144A (ja) リチウム(オキサラト)ボレートの製造方法
JP4494940B2 (ja) 塩素原子を含むホスファゼン誘導体の製造方法
JPS60218384A (ja) ベンゼン融合、四塩化複素環化合物の製造法
JP5054932B2 (ja) イオン性化合物の製造方法
JP5727830B2 (ja) スルホニウム化合物
JP4822651B2 (ja) フェノール金属塩の製造方法
CN112811974B (zh) 一种新型芳基化试剂合成的芳基三氟乙烯及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20170719

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170719

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180726

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180807

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20181106

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190107

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190528

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20190827

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20191028

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200107

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200130

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6654638

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250