JP2018506717A - Mems圧力センサとmems慣性センサの集積構造 - Google Patents
Mems圧力センサとmems慣性センサの集積構造 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018506717A JP2018506717A JP2017539547A JP2017539547A JP2018506717A JP 2018506717 A JP2018506717 A JP 2018506717A JP 2017539547 A JP2017539547 A JP 2017539547A JP 2017539547 A JP2017539547 A JP 2017539547A JP 2018506717 A JP2018506717 A JP 2018506717A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- upper electrode
- electrode
- inertial
- integrated structure
- lower electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 69
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 29
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 19
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- 230000009471 action Effects 0.000 claims description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 230000004044 response Effects 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 2
- 230000003203 everyday effect Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000012858 packaging process Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B7/00—Microstructural systems; Auxiliary parts of microstructural devices or systems
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B7/00—Microstructural systems; Auxiliary parts of microstructural devices or systems
- B81B7/02—Microstructural systems; Auxiliary parts of microstructural devices or systems containing distinct electrical or optical devices of particular relevance for their function, e.g. microelectro-mechanical systems [MEMS]
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B3/00—Devices comprising flexible or deformable elements, e.g. comprising elastic tongues or membranes
- B81B3/0018—Structures acting upon the moving or flexible element for transforming energy into mechanical movement or vice versa, i.e. actuators, sensors, generators
- B81B3/0021—Transducers for transforming electrical into mechanical energy or vice versa
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B7/00—Microstructural systems; Auxiliary parts of microstructural devices or systems
- B81B7/0032—Packages or encapsulation
- B81B7/0061—Packages or encapsulation suitable for fluid transfer from the MEMS out of the package or vice versa, e.g. transfer of liquid, gas, sound
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C1/00—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C1/00—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
- B81C1/00015—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate for manufacturing microsystems
- B81C1/00134—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate for manufacturing microsystems comprising flexible or deformable structures
- B81C1/00166—Electrodes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C1/00—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
- B81C1/00015—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate for manufacturing microsystems
- B81C1/00261—Processes for packaging MEMS devices
- B81C1/00269—Bonding of solid lids or wafers to the substrate
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L19/00—Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
- G01L19/04—Means for compensating for effects of changes of temperature, i.e. other than electric compensation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L9/00—Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
- G01L9/12—Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means by making use of variations in capacitance, i.e. electric circuits therefor
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01P—MEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION, OR SHOCK; INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT
- G01P15/00—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration
- G01P15/02—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses
- G01P15/08—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values
- G01P15/125—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values by capacitive pick-up
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B2201/00—Specific applications of microelectromechanical systems
- B81B2201/02—Sensors
- B81B2201/0228—Inertial sensors
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B2201/00—Specific applications of microelectromechanical systems
- B81B2201/02—Sensors
- B81B2201/0228—Inertial sensors
- B81B2201/0235—Accelerometers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B2201/00—Specific applications of microelectromechanical systems
- B81B2201/02—Sensors
- B81B2201/0264—Pressure sensors
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B2203/00—Basic microelectromechanical structures
- B81B2203/04—Electrodes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C2203/00—Forming microstructural systems
- B81C2203/01—Packaging MEMS
- B81C2203/0109—Bonding an individual cap on the substrate
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
- Pressure Sensors (AREA)
- Micromachines (AREA)
Abstract
本発明はMEMS圧力センサとMEMS慣性センサの集積構造を開示する。基板に形成される絶縁層、いずれも絶縁層に形成される第1下部電極及び第2下部電極を含み、さらに、第1下部電極とともに気圧感知型コンデンサを構成する第1上部電極、及び第2下部電極とともに標準コンデンサを構成する第2上部電極を含み、さらに、第3支持部を介して基板の上方に支持される慣性感知構造、及び慣性感知構造とともに慣性センサの慣性検出コンデンサ構成する固定極板を含み、また、さらに、慣性感知構造と固定極板により構成される慣性検出コンデンサを基板にパッケージするカバーを含む。本発明の集積構造は、MEMS慣性センサとMEMS圧力センサを同一基板に集積することで、チップの面積を効果的に減少させ、チップのコストを削減することができ、一回のパッケージによって、チップ全体のパッケージを遂行することができ、チップパッケージのコストを低下させる。
Description
本発明はセンサ分野に関し、より具体的には、MEMS圧力センサとMEMS慣性センサを同一チップ上に集積した集積構造に関する。
近年、科学技術の発展に伴い、携帯電話、ノートパソコンなどの電子製品の体積は日々縮小され、人々のこれら携帯用電子機器の性能に対する要求もますます高くなっており、付属する電子部品の体積もそれに伴って縮小しなければならないことが求められている。
センサは測定素子として、一般的に携帯電話、ノートパソコンなどの電子機器に応用されている。従来の工程構造において、検出原理が異なるため、MEMS慣性センサとMEMS圧力センサのチップは一般的に別々であり、MEMS慣性センサは密閉した空間によりその微細構造を保護する必要があるのに対して、MEMS圧力センサの感知構造は外部と接触する必要があり、2つの素子はそれぞれ異なる技術プラットフォームに基づいて設計し加工され、異なるパッケージ形態により、独立したチップを形成するようになっている。組み立てる際、システムのメーカーは、MEMS慣性センサチップとMEMS圧力センサチップを、SMTの方式により、同一のマザーボードに実装することになっているので、チップのコストが増加するとともに、実装のコストも増加した。
本発明の1つの目的は、MEMS圧力センサとMEMS慣性センサの集積構造の新しい技術的解決手段を提供することである。
本発明の第1態様によれば、基板と、前記基板に形成される絶縁層と、いずれも前記絶縁層に形成される第1下部電極及び第2下部電極と、を含み、第1支持部を介して前記第1下部電極の上方に支持される第1上部電極と、第2支持部を介して前記第2下部電極の上方に支持される第2上部電極と、をさらに含み、第3支持部を介して基板の上方に支持される慣性感知構造と、慣性感知構造とともに慣性センサの慣性検出コンデンサを構成する固定極板と、をさらに含み、慣性感知構造、固定極板により構成される慣性検出コンデンサを基板にパッケージするカバーを、さらに含み、前記第1上部電極と前記第1下部電極によって圧力センサの気圧感知型コンデンサが構成されるように、前記第1上部電極は感圧膜とされ、前記第1上部電極と前記第1下部電極との間のキャビティは密閉キャビティとされており、前記第2上部電極と前記第2下部電極は静電容量が外部気圧によって変化しない標準コンデンサを構成する、MEMS圧力センサとMEMS慣性センサの集積構造を提供する。
好ましくは、前記第2上部電極も感圧膜とされ、前記標準コンデンサは前記第2上部電極が外部気圧の作用によって変形することを制限するためのストッパ構造をさらに含む。
好ましくは、前記ストッパ構造を形成するために、前記標準コンデンサには前記第2上部電極を支持するための支持柱が設けられている。
好ましくは、前記ストッパ構造を形成するために、前記標準コンデンサには圧力平衡孔が設けられ、前記標準コンデンサにおける第2上部電極と第2下部電極との間に位置するキャビティは前記圧力平衡孔を介して外部に連通される。
好ましくは、前記カバーはさらに第2上部電極と第2下部電極とにより構成される標準コンデンサを基板にパッケージする。
好ましくは、前記第1上部電極と前記第2上部電極とは一体構造である。
好ましくは、前記第1支持部、第2支持部と第3支持部は同じ材質、同じ高さを有し、前記第1上部電極、第2上部電極と慣性感知構造は同じ材質、同じ高さを有し、前記第1下部電極と第2下部電極は同じ材質、同じ高さを有する。
好ましくは、前記第1上部電極、第2上部電極の下端面は慣性感知構造の下端面よりも高くなる。
好ましくは、前記第1支持部、第2支持部、第3支持部にはそれぞれ貫通孔が設けられ、前記貫通孔内にはそれぞれ第1上部電極、第2上部電極、慣性感知構造に電気的に接続される導電性材料が設けられ、第1支持部、第2支持部、第3支持部の下端には複数の対応する接続リード線が形成され、該複数の対応する接続リード線は絶縁層を介して配線され、それぞれ基板におけるボンディングパッドの集中エリアに接続される。
好ましくは、前記固定極板は絶縁層に設けられ、慣性検出コンデンサの第3下部電極とされる。
本発明の集積構造は、MEMS慣性センサとMEMS圧力センサを同一基板に集積することで、チップの面積を効果的に減少させ、チップのコストを削減することができる。一回のパッケージで、チップ全体のパッケージを完了させることができ、チップパッケージのコストを削減している。また、気圧感知型コンデンサと標準コンデンサが所在する適用環境が同じであるため、外部のコモンモード干渉に対してほぼ一致する応答を生成することができる。このように、標準コンデンサの出力信号を利用すれば、少なくとも部分的に気圧感知型コンデンサの出力信号におけるコモンモード干渉信号をフィルタリングすることができ、そして、気圧感知型コンデンサの出力信号の安定性を向上させた。
本発明者らは、従来技術において、システムのメーカーはMEMS慣性センサチップとMEMS圧力センサチップをSMTの方式により、同一のマザーボードに実装しているため、チップのコストが高くなり、パッケージのコストも高くなることを見出した。従って、本発明が実現しようとする技術的任務または解決しようとする技術的問題は、当業者が想到したこともなくまたは期待したこともないものであり、それ故、本発明は新しい技術的解決手段である。
以下、図面を参照して本発明の例示的な実施例を詳細に説明することにより、本発明のその他の特徴と利点は明らかになる。
明細書に編入され明細書の一部を構成する図面は、本発明の実施例を示し、その説明と共に本発明の原理を解釈するのに用いられる。
本発明の集積構造を模式的に示す構造図である。
本発明の集積構造の第2実施形態を模式的に示す構造図である。
本発明の集積構造の第3実施形態を模式的に示す構造図である。
本発明の集積構造の第4実施形態を模式的に示す構造図である。
以下、図面を参照しながら本発明の様々な例示的な実施例を詳細に説明する。別途に具体的な説明がない限り、これらの実施例に記載された部品とステップにおける対応配置、数式と数値は本発明の範囲を限定するものではないことに注意されたい。
以下、少なくとも1つの例示的な実施例に対する説明は、実はあくまでも説明的なものに過ぎず、決して本発明及びその適用または使用を限定するものではない。
当業者に既知の技術、方法及び設備に対しては詳細に検討していないかもしれないが、適当な場合、前記技術、方法及び設備は明細書の一部と見なされるべきである。
ここで示され検討される全ての例において、如何なる具体的な値は限定するためのものではなく、例示的なものに過ぎないと解釈されるべきである。従って、例示的な実施例のその他の例は異なる値を有することができる。
類似する符号及びアルファベットは以下の図面において類似する要素を示しているため、ある要素が一旦1つの図面に定義された場合、以降の図面においてさらに検討する必要がないことに注意されたい。
図1、図2に示すように、本発明は、基板1と、前記基板1に形成される絶縁層2と、いずれも絶縁層2に形成される第1下部電極3a及び第2下部電極3bと、を含み、さらに、第1支持部7aを介して第1下部電極3aの上方に支持される第1上部電極4aと、第2支持部7bを介して第2下部電極3bの上方に支持される第2上部電極4bと、を含み、第1上部電極4aと第1下部電極3aによって圧力センサの気圧感知型コンデンサが構成されるように、該第1上部電極4aは感圧膜とされ、第1上部電極4aと第1下部電極3aとの間のキャビティは密閉キャビティ9aとされている、MEMS圧力センサとMEMS慣性センサの集積構造を提供する。ここで、温度変化による気圧感知型コンデンサの検出精度に対する影響を除去し、絶対気圧を簡単に得るために、該密閉キャビティ9aは真空キャビティであることが好ましい。第2上部電極4bと第2下部電極3bによって静電容量が外部気圧に伴って変化しない標準コンデンサが構成されている。
本発明の集積構造は、さらに、第3支持部7cを介して基板1の上方に支持される慣性感知構造4c、及び慣性感知構造4cとともに慣性検出コンデンサを構成する固定極板を含む。ここで、MEMS慣性センサの慣性感知構造4cは、当業者にとって従来技術に属し、対称となる可動極板を有し、弾性梁構造を介して第3支持部7cに接続されてもよい。ここで、本発明の一具体的な実施形態において、前記固定極板は絶縁層2に設けられ、慣性感知構造4cの下方に位置し、慣性検出コンデンサの第3下部電極3cとされることによって、該MEMS慣性センサはZ軸方向の検出を行うことができるようになる。当然ながら、当業者にとって、慣性感知構造4cの側面に対向する固定極板を設け、慣性感知構造4cとともにX軸、Y軸方向の検出を行う慣性検出コンデンサを構成することもできる。本発明のMEMS慣性センサは、MEMS加速度計、MEMSジャイロ及びMEMS共振器などの慣性センサであってもよい。
本発明において、絶縁層2の作用は各部品と基板1との間の絶縁を保証することであり、当業者にとって、基板1自身が絶縁材料を用いて製造可能である場合、絶縁層2を設ける必要がない。
図2、図3に示すように、本発明の集積構造は、慣性感知構造4c、固定極板により構成される慣性検出コンデンサを基板1にパッケージするカバー8をさらに含む。ここで、該カバー8は基板1の上方に位置する絶縁層2に直接設けることができ、当然ながら、工程の一致性を保証するために、絶縁層2に第4支持部7dを設け、前記カバー8と第4支持部7dとを接続させ、共同で慣性検出コンデンサをパッケージするキャビティとして取り囲むことができる。図1、図4に示すように、本発明の集積構造において、気圧感知型コンデンサにおける第1上部電極4aは外部環境と接触した場合になってはじめて作用を発揮するようになるのに対して、標準コンデンサの第2上部電極4bは外部環境との接触が必要とされないため、本発明のカバー8は第2上部電極4bと第2下部電極3bにより構成される標準コンデンサを基板1にパッケージすることもできる。
本発明の集積構造は、MEMS慣性センサとMEMS圧力センサとを同一基板に集積することで、チップの面積を効果的に減少させることができ、それによりチップのコストを低減した。一回のパッケージ工程により、チップ全体のパッケージを完了させることができ、それによりチップパッケージのコストを低減した。そして、気圧感知型コンデンサと標準コンデンサが所在する適用環境が同じであるため、外部のコモンモード干渉信号に対しほぼ一致する応答を生成することができる。このように、標準コンデンサの出力信号を利用すれば、少なくとも部分的に気圧感知型コンデンサの出力信号におけるコモンモード干渉信号をフィルタリングすることができ、そして、気圧感知型コンデンサの出力信号の安定性を向上させた。
本発明において、基本的に同じ工程段階を通じて上記気圧感知型コンデンサと標準コンデンサを製造形成し、気圧感知型コンデンサと標準コンデンサとの外部コモンモード干渉に対する応答の一致性を向上させるために、該第2上部電極4bも感圧膜を採用することができる。ここで、図3に示すように、第1上部電極4aと第2上部電極4bは互いに独立してもよく、一体化構造であってもよい(即ち、第1上部電極4aと第2上部電極4bとは1枚の感圧膜となる)。この場合、第2上部電極4bが外部気圧の変化に伴って対応して変化することを回避するために、該標準コンデンサはさらに第2上部電極4bが外部気圧の作用によって変形することを規制するストッパ構造を含むべきである。また、該第2上部電極4bは本発明の圧力センサの検出範囲内で変形しない材料を採用して製造してもよく、該材料は第2上部電極4bと第1上部電極4aとの温度などの非気圧要素の変化に対する応答の差異が圧力センサの誤差許容範囲内にあるようなものであることが好ましい。
本発明の一具体的な実施形態において、図1、図3、図4に示すように、上記ストッパ構造は以下のとおりである。標準コンデンサのために圧力平衡孔12を設け、標準コンデンサにおける第2上部電極4bと第2下部電極3bとの間に位置するキャビティ9bは圧力平衡孔12を介して外部に連通されるようにして、このように、キャビティ9b内の気圧は外部気圧によって同じく変化し、第2上部電極4bが外部気圧の作用によって変形することを圧力平衡孔12を介して規制する目的を達成し、第2上部電極4bの各点の位置を一定にする効果が得られる。ここで、圧力センサの製造工程を簡素化するために、該圧力平衡孔12を第2上部電極4bに設けることができる。当然ながら、可能であれば、該圧力平衡孔12を第2支持部7bに設けてもよく、同様に気圧平衡の目的を達成することができる。
本発明のもう1つの具体的な実施形態において、図2に示すように、上記ストッパ構造は以下のものであってもよい。支持柱13を設置することにより、第2上部電極4bを支持することとなる。該支持柱13は第2下部電極3bに設置してもよいが、該支持柱13に絶縁材料を採用しなければならないため、支持柱13の接続強度を向上させるために、該支持柱13を絶縁層2に設置してもよい。その場合、第2下部電極3bに、支持柱13が貫通する貫通孔を設置し、支持柱13が対応する貫通孔を貫通して上方へ向けて第2上部電極4bの位置まで延伸するようにする必要がある。
本発明の集積構造は、簡単に製造できるように、前記第1支持部7a、第2支持部7b、第3支持部7c、第4支持部7dは同じ材質、同じ高さを有し、例えば二酸化ケイ素材料を採用することができる。前記第1上部電極4a、第2上部電極4b、慣性感知構造4cは同じ材質、同じ高さを有し、例えば、単結晶シリコン材料を採用することができる。前記第1下部電極3a、第2下部電極3b、第3下部電極3cは同じ材質、同じ高さを有し、例えば、金属材料を採用する。これによって、上記各層を一層ずつ堆積又は結合させる方式により設置し、パターン化工程を通じてそれぞれの構造を形成することが許容されていることによって、MEMS慣性センサの製造工程とMEMS圧力センサの工程を完全に互換させることができる。さらに重要なのは、気圧感知型コンデンサの出力信号におけるコモンモード干渉信号を最大限にフィルタリングし、標準コンデンサの出力信号による気圧感知型コンデンサの出力信号における有効信号に対する影響を除去するために、同じ材料、工程、寸法によって、気圧感知型コンデンサと標準コンデンサとがほぼ同じ初期静電容量を有するようにすることによって、気圧感知型コンデンサと標準コンデンサとの外部のコモンモード干渉に対する応答をほぼ一致するようにすることができる。
上記製造工程の一致性に基づき、本発明の好ましい一実施形態において、気圧感知型コンデンサの感度を向上させると同時に、気圧感知型コンデンサと標準コンデンサとの一致性を保証するために、前記第1上部電極4a、第2上部電極4bの下端面を慣性感知構造4cの下端面より高くする。具体的には、第1上部電極4a、第2上部電極4bの下端面をエッチングして薄くすることで実現することができる。それによって、密閉キャビティ9a、キャビティ9bの容積が増大し、気圧感知型コンデンサと標準コンデンサとの一致性を保証するとともに、気圧感知型コンデンサの感度を向上させた。それと同時に、第1上部電極4aの下端面を薄くすることで、第1上部電極4aから第1下部電極3aまでの距離が増大していることから、高い圧力入力の場合、第1上部電極4aと第1下部電極3aとが接着され、気圧感知型コンデンサが失効することを防止することができる。
本発明において、各電極の信号を導出する必要があるが、それは従来のリード線を介して実現することができる。本発明により提供される好ましい実施形態において、図1に示すように、前記第1支持部7a、第2支持部7b、第3支持部7cにはそれぞれ貫通孔が設けられ、前記貫通孔内にはそれぞれ第1上部電極4a、第2上部電極4b、慣性感知構造4cに電気的に接続される導電性材料6が設けられることによって、上方に位置する電極の信号を下端に導くことができ、第1支持部7a、第2支持部7b、第3支持部7cの下端に複数の対応する接続リード線5を形成し、該複数の対応する接続リード線5は各下部電極のリード線とともに絶縁層2を介して配線することができ、それぞれ基板1におけるボンディングパッドの集中エリア10に接続される。例えば、複数の接続リード線5を互いにずらすために、絶縁層2が複数層の構造を有するように設置してもよく、このような配線方式が当業者の周知技術に属し、ここで具体的な説明を省略する。
本発明はさらに上記集積構造の製造方法を提供するものである。まず、基板1に絶縁層2を堆積する。ここで、基板1は単結晶シリコン材料を採用することができ、絶縁層2は二酸化ケイ素材料を採用することができる。次に、絶縁層2の上表面に金属層を堆積し、該金属層をエッチングし、ボンディングパッドの集中エリア10、第1下部電極3a、第2下部電極3b、第3下部電極3cを形成する。その後、もう1つの絶縁層を堆積し、エッチングして第1支持部7a、第2支持部7b、第3支持部7c、第4支持部7dを形成する。感応膜層を結合の方式によって各支持部に結合させ、該感応膜層をエッチングし、第1上部電極4a、第2上部電極4b及び慣性感知構造4cを形成する。当然ながら、必要に応じて、感応膜層をエッチングする前に、まず第1支持部7a、第2支持部7b、第3支持部7cに貫通孔をエッチングし、感応膜層を結合させた後、貫通孔の位置に所在する感応膜層をエッチングし、導電性材料6を充填することによって、第1上部電極4a、第2上部電極4b及び慣性感知構造4cの電気信号を下端に導き、絶縁層を介して配線することができる。後続の工程において、感応膜層の上表面にもう1つの金属層を堆積し、エッチングして導電性材料6の上方に位置する導電ボンディングパッド及び第4支持部7dの上方に位置する金属結合層11を形成することができる。最後に、該金属結合層11を介してカバー8を第4支持部7dに結合することができる。ここで、構造寸法の一致性を保証するために、感応膜層をエッチングする時、第4支持部7dの上方の感応膜層を残し、後続の金属結合層11を介してカバー8と結合させることができる。
説明しておきたいのは、上記絶縁層2は一体的なものであってもよく、それぞれ気圧感知型コンデンサ、標準コンデンサ、慣性検出コンデンサに対応する複数の互いに独立するサブ絶縁層を含んでもよい。上記第1支持部7a、第2支持部7b、第3支持部7c、第4支持部7dは絶縁材料を採用し、それらは互いに独立してもよく、一体化構造であってもよい。
例を挙げて本発明の幾つかの特定の実施例を詳細に説明したが、当業者であれば、以上の例は説明するためのものに過ぎず、本発明の範囲を限定するためのものではないことを理解すべきである。当業者であれば、本発明の趣旨と範囲を逸脱しない限り、上記実施例を変更することができることを理解すべきである。本発明の範囲は添付の請求項により限定されたものである。
Claims (10)
- MEMS圧力センサとMEMS慣性センサの集積構造であって、
基板(1)と、
前記基板(1)に形成される絶縁層(2)と、
いずれも前記絶縁層(2)に形成される第1下部電極(3a)及び第2下部電極(3b)と、
を含み、
第1支持部(7a)を介して前記第1下部電極(3a)の上方に支持される第1上部電極(4a)と、
第2支持部(7b)を介して前記第2下部電極(3b)の上方に支持される第2上部電極(4b)と、
をさらに含み、
第3支持部(7c)を介して基板(1)の上方に支持される慣性感知構造(4c)と、
慣性感知構造(4c)とともに慣性センサの慣性検出コンデンサを構成する固定極板と、
をさらに含み、
慣性感知構造(4c)、固定極板により構成される慣性検出コンデンサを基板(1)にパッケージするカバー(8)、をさらに含み、
前記第1上部電極(4a)と前記第1下部電極(3a)によって圧力センサの気圧感知型コンデンサが構成されるように、前記第1上部電極(4a)は感圧膜とされ、前記第1上部電極(4a)と前記第1下部電極(3a)との間のキャビティは密閉キャビティ(9a)とされており、
前記第2上部電極(4b)と前記第2下部電極(3b)は静電容量が外部気圧に伴って変化しない標準コンデンサを構成する、
ことを特徴とする集積構造。 - 前記第2上部電極(4b)も感圧膜とされ、前記標準コンデンサは前記第2上部電極(4b)が外部気圧の作用によって変形することを制限するためのストッパ構造をさらに含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の集積構造。 - 前記ストッパ構造を形成するために、前記標準コンデンサには前記第2上部電極(4b)を支持するための支持柱(13)が設けられている、
ことを特徴とする請求項2に記載の集積構造。 - 前記ストッパ構造を形成するために、前記標準コンデンサには圧力平衡孔(12)が設けられ、前記標準コンデンサにおける第2上部電極(4b)と第2下部電極(3b)との間に位置するキャビティ(9b)は前記圧力平衡孔(12)を介して外部に連通される、
ことを特徴とする請求項2に記載の集積構造。 - 前記カバー(8)はさらに第2上部電極(4b)と第2下部電極(3b)とにより構成される標準コンデンサを基板(1)にパッケージする、
ことを特徴とする請求項1に記載の集積構造。 - 前記第1上部電極(4a)と第2上部電極(4b)とは一体化構造である、
ことを特徴とする請求項1に記載の集積構造。 - 前記第1支持部(7a)、第2支持部(7b)と第3支持部(7c)は同じ材質、同じ高さを有し、
前記第1上部電極(4a)、第2上部電極(4b)と慣性感知構造(4c)は同じ材質、同じ高さを有し、
前記第1下部電極(3a)と第2下部電極(3b)は同じ材質、同じ高さを有する、
ことを特徴とする請求項1に記載の集積構造。 - 前記第1上部電極(4a)、第2上部電極(4b)の下端面は慣性感知構造(4c)の下端面よりも高くなる、
ことを特徴とする請求項7に記載の集積構造。 - 前記第1支持部(7a)、第2支持部(7b)、第3支持部(7c)にはそれぞれ貫通孔が設けられ、前記貫通孔内にはそれぞれ第1上部電極(4a)、第2上部電極(4b)、慣性感知構造(4c)に電気的に接続される導電性材料(6)が設けられ、第1支持部(7a)、第2支持部(7b)、第3支持部(7c)の下端には複数の対応する接続リード線(5)が形成され、該複数の対応する接続リード線(5)は絶縁層(2)を介して配線され、それぞれ基板(1)におけるボンディングパッドの集中エリア(10)に接続される、
ことを特徴とする請求項1に記載の集積構造。 - 前記固定極板は絶縁層(2)に設けられ、慣性検出コンデンサの第3下部電極(3c)とされる、
ことを特徴とする請求項1に記載の集積構造。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510288750.8A CN104891418B (zh) | 2015-05-29 | 2015-05-29 | Mems压力传感器、mems惯性传感器集成结构 |
CN201510288750.8 | 2015-05-29 | ||
PCT/CN2015/097314 WO2016192372A1 (zh) | 2015-05-29 | 2015-12-14 | Mems压力传感器、mems惯性传感器集成结构 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019038245A Division JP6580804B2 (ja) | 2015-05-29 | 2019-03-04 | Mems圧力センサとmems慣性センサの集積構造 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018506717A true JP2018506717A (ja) | 2018-03-08 |
Family
ID=54024463
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017539547A Pending JP2018506717A (ja) | 2015-05-29 | 2015-12-14 | Mems圧力センサとmems慣性センサの集積構造 |
JP2019038245A Active JP6580804B2 (ja) | 2015-05-29 | 2019-03-04 | Mems圧力センサとmems慣性センサの集積構造 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019038245A Active JP6580804B2 (ja) | 2015-05-29 | 2019-03-04 | Mems圧力センサとmems慣性センサの集積構造 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10407300B2 (ja) |
EP (1) | EP3248936B1 (ja) |
JP (2) | JP2018506717A (ja) |
KR (1) | KR101975131B1 (ja) |
CN (1) | CN104891418B (ja) |
WO (1) | WO2016192372A1 (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104848982B (zh) * | 2015-05-29 | 2018-01-19 | 歌尔股份有限公司 | 准差分电容式mems压力传感器及其制造方法 |
CN104891418B (zh) | 2015-05-29 | 2016-09-21 | 歌尔股份有限公司 | Mems压力传感器、mems惯性传感器集成结构 |
CN106698328A (zh) * | 2015-11-12 | 2017-05-24 | 上海丽恒光微电子科技有限公司 | 压力传感器及其制备方法 |
US9926190B2 (en) * | 2016-01-21 | 2018-03-27 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | MEMS devices and methods of forming the same |
CN106018879B (zh) * | 2016-05-12 | 2019-03-22 | 广东合微集成电路技术有限公司 | 一种mems加速度传感器及制造方法 |
CN106092153B (zh) * | 2016-07-28 | 2018-05-01 | 歌尔股份有限公司 | 一种环境传感器及其制造方法 |
EP3279630B1 (en) * | 2016-08-03 | 2019-06-26 | ams AG | Pressure sensor module |
CN107089640B (zh) * | 2017-05-02 | 2023-11-10 | 潍坊歌尔微电子有限公司 | 一种mems芯片及制备方法 |
CN107830966B (zh) * | 2017-12-05 | 2023-08-29 | 苏州科技大学 | Mems气体压力敏感元件及其制造工艺 |
CN108178121B (zh) * | 2018-02-07 | 2024-05-03 | 北京先通康桥医药科技有限公司 | 触诊探头及其制造方法 |
CN108190828B (zh) * | 2018-02-07 | 2024-08-13 | 北京先通康桥医药科技有限公司 | Mems传感器线阵、触诊探头及其制造方法 |
CN108362408B (zh) * | 2018-03-08 | 2021-07-02 | 苏州敏芯微电子技术股份有限公司 | 压力传感器及其制造方法 |
CN108551646B (zh) * | 2018-06-25 | 2020-01-17 | 歌尔股份有限公司 | Mems麦克风 |
DE102018222770A1 (de) * | 2018-12-21 | 2020-06-25 | Robert Bosch Gmbh | Mikromechanische Sensoreinrichtung und Verfahren zum Herstellen einer mikromechanischen Sensoreinrichtung |
CN109859986A (zh) * | 2019-01-31 | 2019-06-07 | 王伟 | 一种基于mems技术的单刀双掷敏感组件及含有该敏感组件的压力开关 |
CN112666236A (zh) * | 2020-04-17 | 2021-04-16 | 华中科技大学 | 一种传感器集成芯片及其制备 |
CN113257808B (zh) * | 2021-05-17 | 2023-04-07 | 成都挚信电子技术有限责任公司 | 一种芯片衬底外延片 |
CN114858165B (zh) * | 2022-07-06 | 2022-11-29 | 河北美泰电子科技有限公司 | 惯性导航总成 |
CN115452901A (zh) * | 2022-09-15 | 2022-12-09 | 武汉高芯科技有限公司 | 一种具有检测功能的传感器及检测方法 |
CN118500483A (zh) * | 2024-07-17 | 2024-08-16 | 苏州敏芯微电子技术股份有限公司 | 传感器集成结构、芯片和制作方法 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH077162A (ja) * | 1993-04-05 | 1995-01-10 | Ford Motor Co | 微細加工されたsoi容量表面を有する絶対圧容量センサ |
JP2001235381A (ja) * | 2000-02-22 | 2001-08-31 | Hitachi Ltd | 半導体圧力センサ |
JP2007064920A (ja) * | 2005-09-02 | 2007-03-15 | Alps Electric Co Ltd | 静電容量型力学量センサ |
JP2008140867A (ja) * | 2006-11-30 | 2008-06-19 | Hitachi Ltd | Memsセンサが混載された半導体装置 |
US20120043627A1 (en) * | 2010-08-23 | 2012-02-23 | Freescale Semiconductor, Inc. | MEMS Sensor Device With Multi-Stimulus Sensing and Method of Fabricating Same |
JP2013011587A (ja) * | 2011-05-27 | 2013-01-17 | Denso Corp | 力学量センサ装置およびその製造方法 |
US20130340525A1 (en) * | 2011-03-15 | 2013-12-26 | Memsen Electronics Inc | Integrated inertial sensor and pressure sensor, and forming method therefor |
CN103708409A (zh) * | 2013-10-25 | 2014-04-09 | 张家港丽恒光微电子科技有限公司 | 压力传感器和惯性传感器及其形成方法 |
JP2014521071A (ja) * | 2011-06-29 | 2014-08-25 | インベンセンス,インク. | 一部が縦型集積電子回路とともに環境に曝露された密閉封止型memsデバイス |
JP2015077677A (ja) * | 2013-10-14 | 2015-04-23 | フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド | 多刺激感知を用いたmemsセンサデバイスおよび作製方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8220330B2 (en) * | 2009-03-24 | 2012-07-17 | Freescale Semiconductor, Inc. | Vertically integrated MEMS sensor device with multi-stimulus sensing |
CN102183335B (zh) * | 2011-03-15 | 2015-10-21 | 迈尔森电子(天津)有限公司 | Mems压力传感器及其制作方法 |
CN102180435B (zh) * | 2011-03-15 | 2012-10-10 | 迈尔森电子(天津)有限公司 | 集成mems器件及其形成方法 |
DE102011085723A1 (de) * | 2011-11-03 | 2013-05-08 | Continental Teves Ag & Co. Ohg | Bauelement und Verfahren zur Herstellung eines Bauelements |
CN103517169B (zh) * | 2012-06-22 | 2017-06-09 | 英飞凌科技股份有限公司 | 具有可调节通风开口的mems结构及mems装置 |
CN102798403B (zh) * | 2012-08-21 | 2014-10-22 | 江苏物联网研究发展中心 | Mems薄膜电容式多参数传感器的集成制造方法 |
US9199840B2 (en) * | 2013-11-01 | 2015-12-01 | Freescale Semiconductor, Inc. | Sensor protective coating |
CN103712720B (zh) * | 2014-01-02 | 2015-08-19 | 杭州士兰集成电路有限公司 | 电容式压力传感器和惯性传感器集成器件及其形成方法 |
US20160264403A1 (en) * | 2015-03-12 | 2016-09-15 | Freescale Semiconducto, Inc. | Sensor device with multi-stimulus sensing and method of fabrication |
US9586812B2 (en) * | 2015-04-09 | 2017-03-07 | Nxp Usa, Inc. | Device with vertically integrated sensors and method of fabrication |
CN104891418B (zh) | 2015-05-29 | 2016-09-21 | 歌尔股份有限公司 | Mems压力传感器、mems惯性传感器集成结构 |
CN204675826U (zh) * | 2015-05-29 | 2015-09-30 | 歌尔声学股份有限公司 | Mems压力传感器、mems惯性传感器集成结构 |
US10364140B2 (en) * | 2015-09-22 | 2019-07-30 | Nxp Usa, Inc. | Integrating diverse sensors in a single semiconductor device |
-
2015
- 2015-05-29 CN CN201510288750.8A patent/CN104891418B/zh active Active
- 2015-12-14 US US15/554,652 patent/US10407300B2/en active Active
- 2015-12-14 EP EP15894015.5A patent/EP3248936B1/en active Active
- 2015-12-14 KR KR1020177019439A patent/KR101975131B1/ko active IP Right Grant
- 2015-12-14 JP JP2017539547A patent/JP2018506717A/ja active Pending
- 2015-12-14 WO PCT/CN2015/097314 patent/WO2016192372A1/zh active Application Filing
-
2019
- 2019-03-04 JP JP2019038245A patent/JP6580804B2/ja active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH077162A (ja) * | 1993-04-05 | 1995-01-10 | Ford Motor Co | 微細加工されたsoi容量表面を有する絶対圧容量センサ |
JP2001235381A (ja) * | 2000-02-22 | 2001-08-31 | Hitachi Ltd | 半導体圧力センサ |
JP2007064920A (ja) * | 2005-09-02 | 2007-03-15 | Alps Electric Co Ltd | 静電容量型力学量センサ |
JP2008140867A (ja) * | 2006-11-30 | 2008-06-19 | Hitachi Ltd | Memsセンサが混載された半導体装置 |
US20120043627A1 (en) * | 2010-08-23 | 2012-02-23 | Freescale Semiconductor, Inc. | MEMS Sensor Device With Multi-Stimulus Sensing and Method of Fabricating Same |
US20130340525A1 (en) * | 2011-03-15 | 2013-12-26 | Memsen Electronics Inc | Integrated inertial sensor and pressure sensor, and forming method therefor |
JP2013011587A (ja) * | 2011-05-27 | 2013-01-17 | Denso Corp | 力学量センサ装置およびその製造方法 |
JP2014521071A (ja) * | 2011-06-29 | 2014-08-25 | インベンセンス,インク. | 一部が縦型集積電子回路とともに環境に曝露された密閉封止型memsデバイス |
JP2015077677A (ja) * | 2013-10-14 | 2015-04-23 | フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド | 多刺激感知を用いたmemsセンサデバイスおよび作製方法 |
CN103708409A (zh) * | 2013-10-25 | 2014-04-09 | 张家港丽恒光微电子科技有限公司 | 压力传感器和惯性传感器及其形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20180044174A1 (en) | 2018-02-15 |
JP2019105647A (ja) | 2019-06-27 |
KR101975131B1 (ko) | 2019-05-03 |
CN104891418B (zh) | 2016-09-21 |
CN104891418A (zh) | 2015-09-09 |
EP3248936A4 (en) | 2018-04-25 |
US10407300B2 (en) | 2019-09-10 |
WO2016192372A1 (zh) | 2016-12-08 |
EP3248936A1 (en) | 2017-11-29 |
EP3248936B1 (en) | 2021-01-27 |
JP6580804B2 (ja) | 2019-09-25 |
KR20170094425A (ko) | 2017-08-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6580804B2 (ja) | Mems圧力センサとmems慣性センサの集積構造 | |
US10274512B2 (en) | Microelectromechanical sensor device with reduced stress sensitivity | |
US8866238B2 (en) | Hybrid integrated component and method for the manufacture thereof | |
US20120267730A1 (en) | Micro-electromechanical system (mems) device | |
US20140090485A1 (en) | MEMS Pressure Sensor Assembly | |
CN106535071B (zh) | Mems麦克风与环境传感器的集成装置及其制造方法 | |
TW202108997A (zh) | 電容式壓力感測器設備的微機械組件 | |
JP6209270B2 (ja) | 加速度センサ | |
US10408619B2 (en) | Composite sensor | |
WO2015166771A1 (ja) | 加速度検出装置 | |
US20170088417A1 (en) | Electronic device and manufacturing method thereof | |
CN105115540A (zh) | Mems惯性传感器、湿度传感器集成装置及其制造方法 | |
JP2006078249A (ja) | 容量型半導体センサ | |
CN204675826U (zh) | Mems压力传感器、mems惯性传感器集成结构 | |
KR20150049057A (ko) | Mems 센서 및 이를 포함하는 디바이스 | |
JP5843302B1 (ja) | 複合センサデバイスの製造方法 | |
JP2000227439A (ja) | 半導体力学量センサ及びその製造方法 | |
US20160091526A1 (en) | Sensor | |
CN204758028U (zh) | Mems惯性传感器、湿度传感器集成装置 | |
JP2016170100A (ja) | シリコン配線埋め込みガラス基板およびそれを用いたセンサ | |
JP2016200467A (ja) | 複合センサデバイス | |
WO2015163300A1 (ja) | 加速度センサ | |
JP2015021922A (ja) | 力学量センサ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180614 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180619 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180919 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20181106 |