JP2018504374A5

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Publication number: JP2018504374A5
Application number: JP2017530653A
Authority: JP
Filing date: 2015-12-28
Publication date: 2020-02-06
Anticipated expiration: 2035-12-28

Description

本開示は、４−アジドスルホニルフタル酸無水物の生産の方法を提供する。一実施形態では、方法が提供され、４−スルホフタル酸三ナトリウム塩（１）を、溶媒反応条件下で塩素化して、溶解４−クロロスルホニルフタル酸無水物（２）及び不溶性塩化ナトリウムを形成することを含む。本方法は、第１に、溶解４−クロロスルホニルフタル酸無水物から不溶性塩化ナトリウムを除去して、単離された４−クロロスルホニルフタル酸無水物を形成することを含む。本方法は、溶媒反応条件下で、単離された４−クロロスルホニルフタル酸無水物とアジ化ナトリウムとを反応させて、溶解４−アジドスルホニルフタル酸無水物及び不溶性塩化ナトリウムを形成することを含む。本方法は、第２に、溶解４−アジドスルホニルフタル酸無水物から不溶性塩化ナトリウムを除去して、単離された４−アジドスルホニルフタル酸無水物を形成することを含む。本方法は、単離された４−アジドスルホニルフタル酸無水物から固体４−アジドスルホニルフタル酸無水物（３）を回収することを含む。

本開示は方法を提供する。一実施形態では、方法が提供され、４−スルホフタル酸三ナトリウム塩（１）を、溶媒反応条件下で塩素化して、溶解４−クロロスルホニルフタル酸無水物（２）及び不溶性塩化ナトリウムを形成することを含む。本明細書で使用される場合、「溶媒反応条件」は、温度、圧力、反応物質濃度、溶媒選択、反応物質混合／添加パラメータ、及び／または試薬間の反応及び結果として生じる産物の形成を促進する、反応槽内の他の条件である。反応は液相内である。不溶性塩化ナトリウムは、溶解４−クロロスルホニルフタル酸無水物から除去されて、単離された４−クロロスルホニルフタル酸無水物を形成する。本方法は、溶媒反応条件下で、溶解４−クロロスルホニルフタル酸無水物（２）とアジ化ナトリウムとを反応させて、溶解４−アジドスルホニルフタル酸無水物（３）及び不溶性塩化ナトリウムである反応産物を形成することを含む。本方法は、（第２に）溶解４−アジドスルホニルフタル酸無水物から不溶性塩化ナトリウムを除去して、単離された４−アジドスルホニルフタル酸無水物（３）を形成することを含む。本方法は、溶解４−アジドスルホニルフタル酸無水物から固体４−アジドスルホニルフタル酸無水物（３）を回収することを含む。本方法の模式図は、図１及び２に示される。

本方法は、溶解４−クロロスルホニルフタル酸無水物から不溶性塩化ナトリウム（沈殿物）を除去して（または「第１の除去」）、単離された４−クロロスルホニルフタル酸無水物を形成することを含む。単離された４−クロロスルホニルフタル酸無水物は、溶媒であるトルエン中で溶解したままである。

一実施形態では、第１の除去工程は、溶解４−クロロスルホニルフタル酸無水物から塩化ナトリウムを濾過することを含む。濾過手順は、単離された４−クロロスルホニルフタル酸無水物から余分な塩素化剤を除去するために、少量のトルエン溶媒の後続の蒸発を含み得る。

一実施形態では、第１の除去工程は、溶解４−クロロスルホニルフタル酸無水物から不溶性塩化ナトリウムを濾過することと、その後、単離された４−クロロスルホニルフタル酸無水物を少量の水で洗浄して残留ＤＭＦを除去することを含む。洗浄手順は、単離された４−クロロスルホニルフタル酸無水物から残留水を除去するために、少量のトルエン溶媒の後続の蒸発を含み得る。

本方法は、液体非水相から液体水相を分離して、溶解４−クロロスルホニルフタル酸無水物から不溶性塩化物を除去することを含む。換言すると、液体水相中の溶解塩化ナトリウムは、液体（水性）−液体（非水性）相分離によって、液体非水相中の単離された４−クロロスルホニルフタル酸無水物から除去される。一実施形態では、分離工程は、少量のトルエン溶媒の後続の蒸発が、単離された４−クロロスルホニルフタル酸無水物から残留水を除去する、洗浄手順を含む。

本方法は、溶媒反応条件下で、単離された４−クロロスルホニルフタル酸無水物（２）とアジ化ナトリウム（ＮａＮ_３）とを反応させて、４−アジドスルホニルフタル酸無水物（ＡＳＰＡ）（３）を形成することを含む。ＡＳＰＡ（３）の構造は、図１に示される。溶媒はトルエンであり、４−アジドスルホニルフタル酸無水物反応産物はトルエン中に溶解している（またはそうでなければ可溶性である）。沈殿物としての不溶性塩化ナトリウムもまた副産物として形成される。

一実施形態では、アジ化ナトリウムは、トルエン中に溶解した単離された４−クロロスルホニルフタル酸無水物を含有する、反応槽に、直接添加される。換言すると、反応槽からの不溶性塩化ナトリウムの除去と、アジ化ナトリウムの反応槽への添加との間には介在する処理工程は生じない（例えば、無純化、無単離、無洗浄）。塩素化工程に使用されるトルエン溶媒は、アジ化ナトリウム反応のための溶媒としても使用され、さらなる純化を伴わずに、単離された４−クロロスルホニルフタル酸無水物の使用を可能にする。このようにして、本方法は、有利なことに、ＡＳＰＡ最終産物を生産するために必要な、処理工程を低減し、生産設備の量を低減する。

一実施形態では、アジ化ナトリウムは水性アジ化ナトリウム溶液として添加される。水性アジ化ナトリウム溶液は、５重量％、または１０重量％、または２０重量％、または２５重量％〜３０重量％、または４０重量％、または５０重量％、または６０重量％のアジ化ナトリウムを含有する。重量パーセントは水性アジ化ナトリウム溶液の合計重量に基づく。出願人は、アジ化ナトリウム水溶液の、反応溶媒としてトルエンを有する単離された４−クロロスルホニルフタル酸無水物への添加は、有利なことに、相間移動触媒の必要性を回避することを発見した。

本方法は、溶解４−アジドスルホニルフタル酸無水物から不溶性塩化ナトリウム（沈殿物）を除去して（または「第２の除去」）、単離された４−アジドスルホニルフタル酸無水物を形成することを含む。単離された４−アジドスルホニルフタル酸無水物は、トルエン中で溶解したままである。

本方法は、単離された４−アジドスルホニルフタル酸無水物を固体として回収することを含む。典型的に、第２の除去工程の後に、小さい塩水層が存在する。小さい塩水層は、相分離によって除去される。一実施形態では、本方法は、粗固体（３）を再結晶化して、純化された固体４−アジドスルホニルフタル酸無水物（３）を形成することを含む。トルエン中に溶解した、単離された４−アジドスルホニルフタル酸無水物（３）は、真空下で粗固体に濃縮される。粗固体は、酢酸エチル／ヘプタンから再結晶化されて、純化された固体４−アジドスルホニルフタル酸無水物（３）を提供する。一実施形態では、純化された固体４−アジドスルホニルフタル酸無水物（３）は、９２重量％、または９３重量％、または９４重量％、または９５重量％、または９６重量％、または９７重量％〜９８重量％、または９９重量％、または９９．９重量％の純度を有する。

一実施形態では、本方法は、単一の反応槽内で行われる。塩素化、第１の除去、反応、第２の除去、及び単離工程は、全て単一の反応槽内で行われる。単一の反応槽内で本方法を行うことができる能力は、有利なことに、４−アジドスルホンリフタル酸無水物（３）を生産するために必要な設備の量を低減することによって、生産効率を向上させる。

単離された４−クロロスルホニルフタル酸無水物（３−クロロスルホニルフタル酸無水物を有する２，４：１混合物）の、１，４−ＢＴＭＳＢを内部標準とする、^１ＨＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，アセトン−ｄ_６）が、図３に示される。

本溶液の試料が除去され（１．０７１７ｇ）、乾燥状態まで蒸発させられ、１，４−ＢＴＭＳＢ（３３．３ｍｇ、０．１４９２ミリモル）と組み合わせられる。結果として生じる混合物は、アセトン−ｄ_６（〜４ｍＬ）中に溶解する。^１ＨＮＭＲによる本試料の分析は、（３）の濃度が４．５重量％であることを示し、これは３２％の鍋内収率に対応する。図４は、１，４−ＢＴＭＳＢを内部標準とする、粗４−アジドスルホニルフタル酸（３）の^１ＨＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，アセトン−ｄ_６）を示す。トルエン溶液は、回転蒸発によってさらに濃縮されて、黄色固体（１０８．７ｇ）を残す。粗固体は、Ｔｅｆｌｏｎ攪拌棒と窒素吸入口とが取り付けられた、１Ｌ丸底フラスコに充たされる。酢酸エチル（３４９ｇ）が添加され、結果として生じる混合物は一晩攪拌される。均質な黄色溶液は、ｎ−ヘプタン（３６２ｇ）で処理されるが、これは曇りの形成を誘発する。結果として生じる混合物（８３８ｇ）は、合計質量の〜２／３が頭上に取られる（２７９ｇのスラリーが残る）まで、回転蒸発（２５〜３０℃＠ｃａ．５０ｍｍＨｇ）によって濃縮される。形成する固体は、中間多孔性ガラスフリットを渡る真空濾過によって回収されて、１６０ｇの母液を産出する。ウェットケーキは、２：１（ｖ／ｖ）ｎ−ヘプタン／酢酸エチル（２×１５０ｍＬ）で洗浄されて、２３８．２ｇの組み合わされた洗浄液を産出する。ウェットケーキ（６６．３ｇ）は、４０〜５０℃の真空オーブン内で乾燥させて、淡黄色固体としての４−アジドスルホニルフタル酸無水物（３）を産出した（５１．２ｇ、２９％収率、０．２０２モル）。（３）の試料（１９２．１ｍｇ）は１，４−ＢＴＭＳＢ（５５．２ｍｇ、０．２４７４ミリモル）と組み合わせられ、結果として生じる混合物は、アセトン−ｄ_６（〜４ｍＬ）中に溶解する。^１ＨＮＭＲによる本試料の分析は、（３）が高純度状態（＞９９重量％）で単離されたことを示す。図５は、１，４−ＢＴＭＳＢを内部標準とする、４−アジドスルホニルフタル酸無水物（３）の^１ＨＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ、アセトン−ｄ_６）を示す。

Claims

４−スルホフタル酸三ナトリウム塩（１）を、溶媒反応条件下で塩素化して、溶解４−クロロスルホニルフタル酸無水物（２）及び不溶性塩化ナトリウムを形成することと、
第１に、前記溶解４−クロロスルホニルフタル酸無水物から前記不溶性塩化ナトリウムを除去して、単離された４−クロロスルホニルフタル酸無水物を形成することと、
溶媒反応条件下で、前記単離された４−クロロスルホニルフタル酸無水物とアジ化ナトリウムとを反応させて、溶解４−アジドスルホニルフタル酸無水物及び不溶性塩化ナトリウムを形成することと、
第２に、前記溶解４−アジドスルホニルフタル酸無水物から前記不溶性塩化ナトリウムを除去して、単離された４−アジドスルホニルフタル酸無水物を形成することと、
前記単離された４−アジドスルホニルフタル酸無水物から固体４−アジドスルホニルフタル酸無水物（３）を回収することと、を含む、方法。
前記塩素化の前に、４−スルホフタル酸三ナトリウム塩と三ナトリウム塩異性体との混合物から、残留水を除去することと、
前記４−スルホフタル酸三ナトリウム塩（１）を形成することと、を含む、請求項１に記載の方法。
前記塩素化が、前記４−スルホフタル酸三ナトリウム塩と塩素化剤とを、トルエン溶媒中で、かつジメチルホルムアミドの存在下で、反応させることを含む、請求項１または請求項２のいずれかに記載の方法。
前記第１の除去が、前記溶解４−クロロスルホニル無水物から前記不溶性塩化ナトリウムを濾過することを含む、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
トルエン溶媒中の前記溶解４−クロロスルホニルフタル酸無水物（２）が液体非水相であり、前記第１の除去が、
水を添加して、前記不溶性塩化ナトリウムを液体水相中に溶解することと、
前記液体非水相から前記液体水相を分離することと、を含む、請求項３に記載の方法。
前記反応工程が、前記アジ化ナトリウムを前記単離された４−クロロスルホニルフタル酸無水物に直接添加することを含む、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
前記方法を単一の反応槽内で行うことを含む、請求項１〜６のいずれかに記載の方法。