JP2018501177A - 種々の炭素源からグラフェン量子ドットを製造する方法 - Google Patents
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Abstract
本開示の様々な態様は、酸化剤を含む溶液に炭素源を曝すことによって炭素源からグラフェン量子ドットを製造する方法に関する。曝すことにより、炭素源からグラフェン量子ドットが形成する。炭素源としては、石炭、コークス、バイオ炭、アスファルト、およびこれらの組み合わせが含まれうる。酸化剤としては硝酸のような酸が含まれうる。幾つかの態様において、酸化剤は硝酸のような単一の酸から本質的に成る。本開示の様々な態様はまた、形成したグラフェン量子ドットを蒸発などの様々な方法によって酸化剤から分離する工程を含む。様々な態様において、本開示の方法はまた、グラフェン量子ドットの量子の収率を向上させる工程、形成したグラフェン量子ドットを還元する工程、および形成されるグラフェン量子ドットの直径を制御する工程も含む。【選択図】図1
Description
関連出願についてのクロス・リファレンス
[0001]本出願は、米国仮特許出願62/076394号(2014年11月6日提出)についての優先権を主張する。本出願はまた、PCT/US2014/036604号(2014年5月2日提出)、PCT/US2015/032209号(2015年5月22日提出)、およびPCT/US2015/036729号(2015年6月19日提出)と関連する。上記出願のそれぞれの内容の全てが、参考文献として本明細書に取り込まれる。
[0001]本出願は、米国仮特許出願62/076394号(2014年11月6日提出)についての優先権を主張する。本出願はまた、PCT/US2014/036604号(2014年5月2日提出)、PCT/US2015/032209号(2015年5月22日提出)、およびPCT/US2015/036729号(2015年6月19日提出)と関連する。上記出願のそれぞれの内容の全てが、参考文献として本明細書に取り込まれる。
連邦政府が後援する研究についての陳述
[0002]本発明は合衆国国防総省によって認められた認可番号FA9550−09−1−0581、および合衆国国防総省によって認められた認可番号N00014−09−1−1066の下での政府の支援を受けて成されたものである。政府は本発明に一定の権利を有する。
[0002]本発明は合衆国国防総省によって認められた認可番号FA9550−09−1−0581、および合衆国国防総省によって認められた認可番号N00014−09−1−1066の下での政府の支援を受けて成されたものである。政府は本発明に一定の権利を有する。
本発明は、種々の炭素源からグラフェン量子ドットを製造する方法に関する。
[0003]グラフェン量子ドット(GQDs)は多くの分野で用途が見いだされる。しかし、グラフェン量子ドットを製造する現在の方法は、出発原料の不足および多数の工程の関与を含めた様々な制限を引き続き受けている。本開示はこれらの制限に対処するものである。
[0004]幾つかの態様において、本開示は、酸化剤を含む溶液に炭素源を曝すことによって炭素源からグラフェン量子ドットを製造する方法に関する。曝すことにより、炭素源からグラフェン量子ドットが形成する。
[0005]幾つかの態様において、炭素源としては、(これらに限定はされないが)石炭、コークス、バイオ炭、アスファルト、およびこれらの組み合わせが挙げられる。幾つかの態様において、炭素源にはバイオ炭が含まれ、例えば、リンゴ材のバイオ炭、メスキート材のバイオ炭、熱分解したバイオ炭、クールテラ(cool terra)バイオ炭、パレット由来のバイオ炭、ランダムな伐採バイオ炭、およびこれらの組み合わせである。幾つかの態様において、炭素源には石炭、コークスまたはアスファルトが含まれる。
[0006]幾つかの態様において、酸化剤としては酸が挙げられ、例えば、硫酸、硝酸、リン酸、次亜リン酸、発煙硫酸、塩酸、オレウム、クロロスルホン酸、およびこれらの組み合わせである。幾つかの態様において、酸化剤は硝酸のような単一の酸から本質的に成る。幾つかの態様において、酸化剤には硫酸が含まれない。
[0007]幾つかの態様において、本開示の方法はまた、形成したグラフェン量子ドットを酸化剤から分離する工程を含む。幾つかの態様において、分離することは溶液を蒸発させることによって行われる。幾つかの態様において、分離することは溶液を中和することなく行われる。
[0008]幾つかの態様において、本開示の方法は、グラフェン量子ドットの量子の収率を向上させる工程も含む。幾つかの態様において、向上させることは、グラフェン量子ドットの水熱処理、1種以上の塩基を用いるグラフェン量子ドットの処理、1種以上の水酸化物を用いるグラフェン量子ドットの処理、1種以上の還元剤を用いるグラフェン量子ドットの処理、およびこれらの組み合わせによって行われる。
[0009]幾つかの態様において、本開示の方法は、形成したグラフェン量子ドットを還元する工程も含む。幾つかの態様において、還元することは、形成したグラフェン量子ドットをヒドラジン、ホウ水素化ナトリウム、熱、光、硫黄、硫化ナトリウム、硫化水素ナトリウム、およびこれらの組み合わせのような還元剤に曝すことによって行われる。
[0010]幾つかの態様において、本開示の方法は、形成されるグラフェン量子ドットの直径を制御する工程も含む。幾つかの態様において、グラフェン量子ドットの直径は炭素源を選択することによって制御される。幾つかの態様において、グラフェン量子ドットの直径は、反応時間や反応温度のような反応条件を選択することによって制御される。幾つかの態様において、グラフェン量子ドットの直径は、形成されるグラフェン量子ドットをサイズに基づいて分離することによって制御される。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約0.5nmから約70nmまで、約10nmから約50nmまで、約2nmから約30nmまで、約1nmから約5nmまで、あるいは約2nmから約10nmまでの範囲の直径を有する。
[0011]幾つかの態様において、グラフェン量子ドットは多ニトロ化アレーンの形成を伴わずに形成される。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは結晶質の六方晶構造を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは単一の層を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは複数の層を有し、例えば、約2層ないし約4層を有する。
[0012]幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは、例えば、非晶質炭素、酸素基、カルボニル基、カルボキシル基、エステル、アミン、アミド、およびこれらの組み合わせのような、複数の官能基で官能化されている。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは端部が複数の官能基で官能化されている。
[0024]以上の概括的な説明と以下の詳細な説明は両者とも例証的なものであって説明上のものであり、特許請求の範囲に記載された主題を限定するものではない、ということが理解されるべきである。本願明細書において、特に示さない限り、単数形の語を用いているときは複数形を含み、単数形の語は「少なくとも一つのもの」であることを意味し、そして「または」を用いているときは「および/または」を意味する。さらに、「含む」という用語を用いるとき、限定的ではない。また、「要素」または「構成要素」といった用語は、特に示さない限り、一つのユニットからなる要素または構成要素と一つよりも多いユニットを含む要素または構成要素の両方を包含する。
[0025]本明細書で用いられている各節の表題は構成上の目的のものであって、説明されている主題を限定するものと解釈されるべきではない。(これらに限定されるのではないが)特許、特許出願、記事、著作および論文を含めて本明細書中で挙げられている全ての文献または文献の一部は、それらの全体が何らかの目的でここに参考文献として明白に取り込まれる。包含される一つ以上の文献や同様の資料が本願における用語の定義と矛盾するやり方でその用語を定義している場合、本願に従うものである。
[0026]グラフェン量子ドット(GQDs)は、可視領域においてサイズ依存性のホトルミネセンスを示すナノ結晶質のsp2炭素シートである。GQDsは、燐光物質、光電池および生物適合性の蛍光プローブを含めた様々な用途があると考えられているが、大部分の合成方法は面倒で、また費用がかさむ。
[0027]最近になって、出願人は、GQDsの合成のための黒鉛質の出発材料として石炭とコークスを用いる費用対効果が高い方法を開発した。PCT/US2014/036604号を参照されたい。幾つかの態様において、出願人は、石炭とコークスの出発材料を混合の酸を含む酸化剤に曝した。コークスと石炭は安価な物質ではあるが(例えば、コークスは60ドル/トン)、出願人による混合酸の方法を用いる場合の大規模化は、多ニトロ化アレーンの形成の可能性があることと、濃縮した混合酸の大容量の中和を必要とすることのために限界があった。さらに、炭素源の出発材料の可能性が拡大すれば、出願人の方法を一層利用しやすいものにすることができる。
[0028]従って、制御可能なやり方でグラフェン量子ドットの大量生産を行うための改良された方法が必要とされている。本開示の様々な態様はこれらの必要性に対処するものである。
[0029]幾つかの態様において、本開示は炭素源からグラフェン量子ドットを製造する方法に関する。幾つかの態様において、それらの方法は酸化剤を含む溶液に炭素源を曝すことを含む。幾つかの態様において、そのような曝露によって炭素源からグラフェン量子ドットが形成する。図1に例示する幾つかの態様において、本開示の方法は次の各工程を含む:炭素源を選択すること(工程10)、および酸化剤を含む溶液に炭素源を曝すこと(工程12)、それによりグラフェン量子ドットを形成すること(工程14)。幾つかの態様において、本開示の方法は、形成したグラフェン量子ドットを酸化剤から分離する工程も含むことができる(工程16)。幾つかの態様において、本開示の方法は、グラフェン量子ドットの量子の収率を向上させる工程も含むことができる(工程18)。幾つかの態様において、本開示の方法は、形成したグラフェン量子ドットを還元する工程も含むことができる(工程20)。本明細書中でさらに詳細に示すように、本開示の方法では、様々なタイプとサイズのグラフェン量子ドットを制御可能なやり方で形成するために、様々なタイプの炭素源、酸化剤、量子収率の向上剤、および還元剤を利用することができる。
[0030]炭素源
[0031]グラフェン量子ドットを形成するために様々なタイプの炭素源を利用することができる。幾つかの態様において、炭素源としては、(これらに限定はされないが)石炭、コークス、バイオ炭、アスファルト、およびこれらの組み合わせが挙げられる。
[0031]グラフェン量子ドットを形成するために様々なタイプの炭素源を利用することができる。幾つかの態様において、炭素源としては、(これらに限定はされないが)石炭、コークス、バイオ炭、アスファルト、およびこれらの組み合わせが挙げられる。
[0032]幾つかの態様において、炭素源にはバイオ炭が含まれる。バイオ炭は、バイオマスや肥料を含めた様々な廃棄物から得られる安価で再生可能な炭素源である。幾つかの態様において、バイオ炭は廃棄物を熱分解することによって廃棄物から得られる(例えば、700℃における熱分解)。幾つかの態様において、バイオ炭としては、(これらに限定はされないが)リンゴ材のバイオ炭、メスキート材のバイオ炭、熱分解したバイオ炭、クールテラ(cool terra)バイオ炭、パレット由来のバイオ炭、ランダムな伐採バイオ炭、およびこれらの組み合わせが挙げられる。
[0033]幾つかの態様において、炭素源にはクールテラバイオ炭が含まれる。幾つかの態様において、クールテラバイオ炭は再生利用されたかんなくずから得られて、土壌富化性の微生物をしみ込ませた市販の肥料である。
[0034]幾つかの態様において、炭素源にはコークスが含まれる。幾つかの態様において、炭素源には石炭が含まれる。幾つかの態様において、石炭としては、(これらに限定はされないが)無煙炭、アスファルテン、瀝青炭、亜瀝青炭、変性瀝青炭、泥炭、亜炭、ボイラー用炭、石化油(petrified oil)、およびこれらの組み合わせが挙げられる。幾つかの態様において、炭素源には瀝青炭が含まれる。幾つかの態様において、炭素源には無煙炭が含まれる。
[0035]幾つかの態様において、炭素源にはアスファルト(例えば、天然のアスファルト)が含まれる。さらなる炭素源も想定することができる。
[0036]酸化剤
[0037]幾つかの態様において、グラフェン量子ドットは酸化剤を含む溶液に炭素源を曝すことによって形成する。グラフェン量子ドットを形成するために様々な酸化剤を利用することができる。幾つかの態様において、酸化剤には酸が含まれる。幾つかの態様において、その酸には(これらに限定はされないが)硫酸、硝酸、リン酸、次亜リン酸、発煙硫酸、塩酸、オレウム、硫酸中の三酸化硫黄、クロロスルホン酸、およびこれらの組み合わせが含まれる。
[0036]酸化剤
[0037]幾つかの態様において、グラフェン量子ドットは酸化剤を含む溶液に炭素源を曝すことによって形成する。グラフェン量子ドットを形成するために様々な酸化剤を利用することができる。幾つかの態様において、酸化剤には酸が含まれる。幾つかの態様において、その酸には(これらに限定はされないが)硫酸、硝酸、リン酸、次亜リン酸、発煙硫酸、塩酸、オレウム、硫酸中の三酸化硫黄、クロロスルホン酸、およびこれらの組み合わせが含まれる。
[0038]幾つかの態様において、酸化剤は本質的に単一の酸から成る。幾つかの態様において、単一の酸は硝酸である。幾つかの態様において、酸化剤には硫酸が含まれない。
[0039]幾つかの態様において、グラフェン量子ドットを形成するために利用される酸化剤は硫酸と硝酸の混合物である。幾つかの態様において、酸化剤には(これらに限定はされないが)過マンガン酸カリウム、過マンガン酸ナトリウム、次亜リン酸、硝酸、硫酸、過酸化水素、およびこれらの組み合わせが含まれる。幾つかの態様において、酸化剤は過マンガン酸カリウム、硫酸および次亜リン酸の混合物である。さらなる酸化剤の利用も想定することができる。
[0039]幾つかの態様において、グラフェン量子ドットを形成するために利用される酸化剤は硫酸と硝酸の混合物である。幾つかの態様において、酸化剤には(これらに限定はされないが)過マンガン酸カリウム、過マンガン酸ナトリウム、次亜リン酸、硝酸、硫酸、過酸化水素、およびこれらの組み合わせが含まれる。幾つかの態様において、酸化剤は過マンガン酸カリウム、硫酸および次亜リン酸の混合物である。さらなる酸化剤の利用も想定することができる。
[0040]酸化剤への炭素源の曝露
[0041]酸化剤を含む溶液に炭素源を曝すために、様々な方法を利用することができる。酸化剤への炭素源の曝露によってグラフェン量子ドットの形成をもたらすことができる。理論によって拘束されるつもりはないが、酸化剤に炭素源を曝露すると、酸化剤による炭素源の剥落によってグラフェン量子ドットが形成する、と出願人は考えている。特に、炭素源の構造の中の結晶質炭素が酸化によって置換してグラフェン量子ドットが形成する、と出願人は考えている。
[0041]酸化剤を含む溶液に炭素源を曝すために、様々な方法を利用することができる。酸化剤への炭素源の曝露によってグラフェン量子ドットの形成をもたらすことができる。理論によって拘束されるつもりはないが、酸化剤に炭素源を曝露すると、酸化剤による炭素源の剥落によってグラフェン量子ドットが形成する、と出願人は考えている。特に、炭素源の構造の中の結晶質炭素が酸化によって置換してグラフェン量子ドットが形成する、と出願人は考えている。
[0042]幾つかの態様において、曝露することは酸化剤を含む溶液の中で炭素源を音波処理することを含む。幾つかの態様において、曝露することは酸化剤を含む溶液の中で炭素源を攪拌することを含む。
[0043]幾つかの態様において、曝露することは酸化剤を含む溶液の中で炭素源を加熱することを含む。幾つかの態様において、その加熱は少なくとも約100℃の温度において行われる。幾つかの態様において、その加熱は約100℃から約150℃までの範囲の温度において行われる。幾つかの態様において、その加熱はマイクロ波加熱によって行われる。
[0044]幾つかの態様において、2種以上の酸化剤を連続したやり方で炭素源に曝露してもよい。例えば、幾つかの態様において、第一の酸化剤を炭素源と混合する。次いで、第二の酸化剤を炭素源と混合する。
[0045]幾つかの態様において、単一の酸化剤が炭素源に曝される。幾つかの態様において、単一の酸化剤は硝酸である。幾つかの態様において、単一の酸化剤には硫酸が含まれない。炭素源を酸化剤に曝露するためのさらなる方法も考えられる。
[0046]酸化剤からのグラフェン量子ドットの分離
[0047]幾つかの態様において、本開示の方法は、形成したグラフェン量子ドットを溶液中で酸化剤から分離する工程も含む。幾つかの態様において、分離することは、溶液を中和し、その溶液をろ過し、そして溶液を精製することを含む。幾つかの態様において、分離する工程(例えば、精製工程)は溶液を透析することを含む。幾つかの態様において、分離する工程(例えば、精製工程)はクロスフローろ過などのろ過工程を含む。
[0047]幾つかの態様において、本開示の方法は、形成したグラフェン量子ドットを溶液中で酸化剤から分離する工程も含む。幾つかの態様において、分離することは、溶液を中和し、その溶液をろ過し、そして溶液を精製することを含む。幾つかの態様において、分離する工程(例えば、精製工程)は溶液を透析することを含む。幾つかの態様において、分離する工程(例えば、精製工程)はクロスフローろ過などのろ過工程を含む。
[0048]幾つかの態様において、分離する工程は、形成したグラフェン量子ドットと残っている酸化剤を含む溶液の蒸発を含む。幾つかの態様において、分離工程は本質的に蒸発工程からなる。幾つかの態様において、蒸発工程は溶液を室温において蒸発させることによって行われる。幾つかの態様において、蒸発工程は回転蒸発を含む。幾つかの態様において、蒸発工程は蒸留を含む。幾つかの態様において、蒸留は大気圧(例えば、1atm)または減圧(例えば、1atm未満、そしてより一般的には0.1atmないし0.0001atm)において行うことができる。幾つかの態様において、分離工程は溶液を中和することなく行われる。酸化剤からグラフェン量子ドットを分離するためのさらなる方法も想定することができる。
[0049]グラフェン量子ドットの量子の収率を向上させること
[0050]幾つかの態様において、本開示の方法は、グラフェン量子ドットの量子の収率を向上させる工程も含む。幾つかの態様において、向上させることは、グラフェン量子ドットの水熱処理、1種以上の塩基(例えば、水酸化ナトリウム)を用いるグラフェン量子ドットの処理、1種以上の水酸化物を用いるグラフェン量子ドットの処理、1種以上の還元剤(例えば、NaH、NaHSe、NaH2PO3、NaS2、NaSH、NaBH4)を用いるグラフェン量子ドットの処理、およびこれらの処理の組み合わせによって行われる。
[0050]幾つかの態様において、本開示の方法は、グラフェン量子ドットの量子の収率を向上させる工程も含む。幾つかの態様において、向上させることは、グラフェン量子ドットの水熱処理、1種以上の塩基(例えば、水酸化ナトリウム)を用いるグラフェン量子ドットの処理、1種以上の水酸化物を用いるグラフェン量子ドットの処理、1種以上の還元剤(例えば、NaH、NaHSe、NaH2PO3、NaS2、NaSH、NaBH4)を用いるグラフェン量子ドットの処理、およびこれらの処理の組み合わせによって行われる。
[0051]より特定される態様において、グラフェン量子ドットの量子の収率は、それらの量子の収率を増大させるためにグラフェン量子ドットを水中の水酸化物で処理することによって向上させることができる。さらなる態様において、グラフェン量子ドットの量子の収率は、グラフェン量子ドットの水熱処理によって向上させることができる。幾つかの態様において、グラフェン量子ドットの水熱処理は、容器(例えば、密封容器)の中で加圧下で100℃を超える温度(例えば、約180〜200℃の温度)においてグラフェン量子ドットを水で処理することを含む。さらなる態様において、グラフェン量子ドットの量子の収率は、グラフェン量子ドットの水熱処理と水酸化物処理を組み合わせることによって向上させることができる。グラフェン量子ドットの量子の収率を向上させるためのさらなる方法も考えられる。
[0052]幾つかの態様において、その向上させる工程によって、グラフェン量子ドットの量子の収率は向上する。幾つかの態様において、その向上させる工程によってグラフェン量子ドットの量子の収率は約0.5%から約10%まで、約0.5%から約15%まで、約0.5%から約20%まで、あるいは約0.5%から約35%まで向上する。幾つかの態様において、その向上させる工程によってグラフェン量子ドットの量子の収率は約0.5%から約13%まで向上する。
[0053]形成したグラフェン量子ドットの還元
[0054]幾つかの態様において、本開示の方法は、形成したグラフェン量子ドットを還元する工程も含む。幾つかの態様において、還元することは、形成したグラフェン量子ドットの還元剤への曝露を含む。幾つかの態様において、還元剤には(これらに限定はされないが)ヒドラジン、ホウ水素化ナトリウム、熱、光、硫黄、硫化ナトリウム、硫化水素ナトリウム、およびこれらの組み合わせが含まれる。グラフェン量子ドットを還元するためのさらなる方法も考えられる。
[0054]幾つかの態様において、本開示の方法は、形成したグラフェン量子ドットを還元する工程も含む。幾つかの態様において、還元することは、形成したグラフェン量子ドットの還元剤への曝露を含む。幾つかの態様において、還元剤には(これらに限定はされないが)ヒドラジン、ホウ水素化ナトリウム、熱、光、硫黄、硫化ナトリウム、硫化水素ナトリウム、およびこれらの組み合わせが含まれる。グラフェン量子ドットを還元するためのさらなる方法も考えられる。
[0055]幾つかの態様において、グラフェン量子ドットの非還元形のものは水溶性である。幾つかの態様において、グラフェン量子ドットの還元形のものは有機溶媒に溶ける。
[0056]グラフェン量子ドットの形成の制御
[0057]幾つかの態様において、本開示の方法は、形成されるグラフェン量子ドットの形状またはサイズを制御する一つ以上の工程も含む。例えば、幾つかの態様において、本開示の方法は、形成されるグラフェン量子ドットの直径を制御する工程も含んでもよい。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットの直径を制御する工程は、炭素源を選択することを含む。例えば、幾つかの態様において、選択される炭素源は瀝青炭であり、そして形成されるグラフェン量子ドットは約1nmから約5nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、選択される炭素源は無煙炭であり、そして形成されるグラフェン量子ドットは約10nmから約50nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、選択される炭素源はコークスであり、そして形成されるグラフェン量子ドットは約2nmから約10nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、選択される炭素源はバイオ炭であり、そして形成されるグラフェン量子ドットは約1nmから約10nmまでの範囲の直径を有する。
[0056]グラフェン量子ドットの形成の制御
[0057]幾つかの態様において、本開示の方法は、形成されるグラフェン量子ドットの形状またはサイズを制御する一つ以上の工程も含む。例えば、幾つかの態様において、本開示の方法は、形成されるグラフェン量子ドットの直径を制御する工程も含んでもよい。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットの直径を制御する工程は、炭素源を選択することを含む。例えば、幾つかの態様において、選択される炭素源は瀝青炭であり、そして形成されるグラフェン量子ドットは約1nmから約5nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、選択される炭素源は無煙炭であり、そして形成されるグラフェン量子ドットは約10nmから約50nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、選択される炭素源はコークスであり、そして形成されるグラフェン量子ドットは約2nmから約10nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、選択される炭素源はバイオ炭であり、そして形成されるグラフェン量子ドットは約1nmから約10nmまでの範囲の直径を有する。
[0058]幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットの直径を制御する工程は、反応条件を選択することを含む。幾つかの態様において、反応条件には(これらに限定はされないが)反応時間、反応温度、およびこれらの組み合わせが含まれる。例えば、PCT/US2015/036729号を参照されたい。また、YeらのACS Appl. Mater. Interfaces 2015, 7, 7041-7048. DOI: 10.1021/acsami.5b01419も参照されたい。
[0059]幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットの直径を制御する工程は、形成されるグラフェン量子ドットをサイズに基づいて分離することを含む。様々なサイズ分離工程を利用することができる。例えば、幾つかの態様において、グラフェン量子ドットをサイズに基づいて分離するために、透析またはろ過(例えば、クロスフローろ過)を利用することができる。幾つかの態様において、ろ過は、様々な細孔のサイズを有する複数の多孔質膜を通して連続して行うことができる。幾つかの態様において、分離は透析または繰り返しの透析によって行われる。
[0060]幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットの直径を制御する工程は行われない。幾つかの態様において、制御する工程が行われないことによって、様々なサイズのグラフェン量子ドットの混合物が形成される。幾つかの態様において、様々なサイズのグラフェン量子ドットは、広帯域白色発光(broad white emission)を得るために利用することができる。例えば、PCT/US2015/032209号を参照されたい。
[0061]形成したグラフェン量子ドット
[0062]本開示の方法は、様々なサイズを有する様々なタイプのグラフェン量子ドットを形成するために利用することができる。例えば、幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約0.5nmから約70nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約10nmから約50nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約2nmから約30nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約18nmから約40nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約1nmから約20nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約1nmから約10nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約2nmから約10nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約1nmから約7.5nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約4nmから約7.5nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約1nmから約5nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約1.5nmから約3nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約2nmから約4nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約3nmの直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約2nmの直径を有する。
[0062]本開示の方法は、様々なサイズを有する様々なタイプのグラフェン量子ドットを形成するために利用することができる。例えば、幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約0.5nmから約70nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約10nmから約50nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約2nmから約30nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約18nmから約40nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約1nmから約20nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約1nmから約10nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約2nmから約10nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約1nmから約7.5nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約4nmから約7.5nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約1nmから約5nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約1.5nmから約3nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約2nmから約4nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約3nmの直径を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約2nmの直径を有する。
[0063]より特定される態様において、グラフェン量子ドットを形成するために用いられる炭素源は瀝青炭であり、そして形成されるグラフェン量子ドットは約1nmから約5nmまでの範囲の直径、約2nmから4nmまでの範囲の直径、または約1.5nmから約3nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、グラフェン量子ドットを形成するために用いられる炭素源は瀝青炭であり、そして形成されるグラフェン量子ドットは約3nmの直径を有する。幾つかの態様において、グラフェン量子ドットを形成するために用いられる炭素源は瀝青炭であり、そして形成されるグラフェン量子ドットは約2nmの直径を有する。
[0064]幾つかの態様において、グラフェン量子ドットを形成するために用いられる炭素源は無煙炭であり、そして形成されるグラフェン量子ドットは約10nmから約70nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、グラフェン量子ドットを形成するために用いられる炭素源は無煙炭であり、そして形成されるグラフェン量子ドットは約18nmから約40nmまでの範囲の直径を有する。
[0065]幾つかの態様において、グラフェン量子ドットを形成するために用いられる炭素源はコークスであり、そして形成されるグラフェン量子ドットは約2nmから約10nmまでの範囲の直径、約4nmから8nmまでの範囲の直径、または約4nmから約7.5nmまでの範囲の直径を有する。幾つかの態様において、グラフェン量子ドットを形成するために用いられる炭素源はコークスであり、そして形成されるグラフェン量子ドットは約6nmの直径を有する。幾つかの態様において、グラフェン量子ドットを形成するために用いられる炭素源はコークスであり、そして形成されるグラフェン量子ドットは約7.5nmの直径を有する。
[0066]幾つかの態様において、グラフェン量子ドットを形成するために用いられる炭素源はバイオ炭であり、そして形成されるグラフェン量子ドットは約1nmから約10nmまでの範囲の直径、約1nmから7.5nmまでの範囲の直径、または約1nmから約5nmまでの範囲の直径を有する。本開示の形成されるグラフェンドットはまた、様々な構造を有することができる。例えば、幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは結晶質の六方晶構造を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは単一の層を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは複数の層を有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約2の層から約4の層までを有する。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは約1nmから約5nmまでの範囲の高さを有する。
[0067]幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは複数の官能基で官能化されている。幾つかの態様において、それらの官能基には、(これらに限定はされないが)非晶質炭素の付加物(addends)、酸素基、カルボニル基、カルボキシル基、エステル、アミン、アミド、およびこれらの組み合わせが含まれる。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは端部で官能化されている。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは、それらの端部に酸素の付加物を含む。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは、それらの端部に非晶質炭素の付加物を含む。幾つかの態様において、付加物はアミド結合またはエステル結合によってグラフェン量子ドットに付加することができる。
[0068]幾つかの態様において、グラフェン量子ドットの上の官能基を他の官能基に転化することができる。例えば、幾つかの態様において、グラフェン量子ドットをアルコールまたはフェノールで加熱して、それによりグラフェン量子ドットのカルボキシル基をエステルに転化することができる。幾つかの態様において、グラフェン量子ドットをアルキルアミンまたはアニリンで加熱して、それによりグラフェン量子ドットのカルボキシル基をアミドに転化することができる。幾つかの態様において、グラフェン量子ドットを塩化チオニルまたは塩化オキサリルで処理することによってグラフェン量子ドットのカルボキシル基を酸塩化物に転化し、次いで、それぞれアルコールまたはアミンで処理して、エステルまたはアミドを形成することができる。用いるアルコールまたはアミンの長さに応じて、これらの工程によってグラフェン量子ドットに様々な溶解特性を与えることができる。例えば、付加物の脂肪族性または芳香族性が高いほど、グラフェン量子ドットは水への溶解性がより低く、また有機溶解性がより高いものになるだろう。
[0069]本開示の方法は、炭素源から様々な量のグラフェン量子ドットを形成するために用いることができる。幾つかの態様において、炭素源から単離したグラフェン量子ドットの収率は約10重量%から約50重量%までの範囲である。幾つかの態様において、炭素源から単離したグラフェン量子ドットの収率は約10重量%から約20重量%までの範囲である。幾つかの態様において、炭素源から単離したグラフェン量子ドットの収率は約20重量%を超える。幾つかの態様において、炭素源から単離したグラフェン量子ドットの収率は約30重量%である。
[0070]幾つかの態様において、本開示の方法は大容量(bulk amounts)のグラフェン量子ドットを製造するために用いることができる。幾つかの態様において、製造されるグラフェン量子ドットについての大容量とは、約1gから1トン以上までの範囲である。幾つかの態様において、製造されるグラフェン量子ドットについての大容量とは、約1gから1トンまでの範囲である。幾つかの態様において、製造されるグラフェン量子ドットについての大容量とは、約10kgから1トン以上までの範囲である。幾つかの態様において、製造されるグラフェン量子ドットについての大容量とは、約1gから約10kgまでの範囲である。幾つかの態様において、製造されるグラフェン量子ドットについての大容量とは、約1gから約1kgまでの範囲である。幾つかの態様において、製造されるグラフェン量子ドットについての大容量とは、約1gから約500gまでの範囲である。
[0071]本開示のグラフェン量子ドットは様々な量子収率を有することもできる。例えば、幾つかの態様において、グラフェン量子ドットの量子の収率は約1%未満であり、そして約0.1%よりも大きい。幾つかの態様において、グラフェン量子ドットの量子の収率は約0.1%と約35%の間である。幾つかの態様において、グラフェン量子ドットの量子の収率は約0.1%と約25%の間である。幾つかの態様において、グラフェン量子ドットの量子の収率は約0.1%と約10%の間である。幾つかの態様において、グラフェン量子ドットの量子の収率は約1%と約10%の間である。幾つかの態様において、グラフェン量子ドットの量子の収率は約0.4%と約5%の間である。幾つかの態様において、グラフェン量子ドットの量子の収率は約0.4%である。幾つかの態様において、グラフェン量子ドットの量子の収率は約2%である。幾つかの態様において、グラフェン量子ドットの量子の収率は約5%である。幾つかの態様において、グラフェン量子ドットの量子の収率は50%程にも高い。幾つかの態様において、グラフェン量子ドットの量子の収率はほぼ100%であろう。
[0072]有利な点
[0073]本開示の方法は様々な炭素源から容易かつ再生可能なやり方で大容量のグラフェン量子ドットを製造することができることを出願人は確証した。そのような炭素源として、石炭、コークス、バイオ炭、アスファルト、およびこれらの組み合わせを挙げることができる。例えば、バイオ炭はかんなくずやその他のセルロース質の廃棄物を含めた物質を含むあらゆる有機炭素から得ることができて、このことがバイオ炭を比類なく安価な炭素源にしている。加えて、本開示の安価な炭素源からGQDsを製造するための低コストは、大容量のグラフェン量子ドットを必要とする技術の開発を可能にするだろう。
[0073]本開示の方法は様々な炭素源から容易かつ再生可能なやり方で大容量のグラフェン量子ドットを製造することができることを出願人は確証した。そのような炭素源として、石炭、コークス、バイオ炭、アスファルト、およびこれらの組み合わせを挙げることができる。例えば、バイオ炭はかんなくずやその他のセルロース質の廃棄物を含めた物質を含むあらゆる有機炭素から得ることができて、このことがバイオ炭を比類なく安価な炭素源にしている。加えて、本開示の安価な炭素源からGQDsを製造するための低コストは、大容量のグラフェン量子ドットを必要とする技術の開発を可能にするだろう。
[0074]さらに、幾つかの態様において(例えば、単独の酸化剤として硝酸が用いられる態様において)、本開示の方法は多ニトロ化アレーンの形成を伴わずにグラフェン量子ドットを形成するために利用することができる。このような方法はまた、回転蒸発または蒸留などの単純な蒸発方法によって酸を取り除くことを可能にする。
[0075]さらなる態様
[0076]本開示のより具体的な態様およびそれらの態様についての裏付けを与える実験結果について以下で論及を行う。しかし、以下の開示は例示の目的だけのためのものであり、特許請求の範囲の主題の範囲をいかなる形でも限定する意図はないことを出願人は特筆しておく。
[0076]本開示のより具体的な態様およびそれらの態様についての裏付けを与える実験結果について以下で論及を行う。しかし、以下の開示は例示の目的だけのためのものであり、特許請求の範囲の主題の範囲をいかなる形でも限定する意図はないことを出願人は特筆しておく。
[0077]実施例1.炭素材料からのグラフェン量子ドットの改良された酸化合成
[0078]本実施例において、出願人は、硫酸の必要性を無くして硝酸だけを用いることによってグラフェン量子ドット(GQDs)を合成するための迅速で大規模化が可能な方法について報告する。このやり方は多ニトロ化アレーンの形成を最小限にする。このやり方はまた、単純な回転蒸発によって、反応後に硝酸を容易に取り除くことを可能にする。さらに、水熱処理の後には、GQDsは10%の量子収率(QY)を達成する。
[0078]本実施例において、出願人は、硫酸の必要性を無くして硝酸だけを用いることによってグラフェン量子ドット(GQDs)を合成するための迅速で大規模化が可能な方法について報告する。このやり方は多ニトロ化アレーンの形成を最小限にする。このやり方はまた、単純な回転蒸発によって、反応後に硝酸を容易に取り除くことを可能にする。さらに、水熱処理の後には、GQDsは10%の量子収率(QY)を達成する。
[0079]特に、出願人は、安全で(すなわち、低反応性またはニトロ化しにくい)、費用対効果が高く(すなわち、再生利用可能な試薬の使用)、そして迅速な(すなわち、加工処理時間が短く、濃酸を中和する必要がない)、入手しやすい炭素材料(例えば、無煙炭およびバイオ炭)を酸化することによってGQDsを合成するための、改良されて単純化された方法を開発した。
[0080]実施例1.1.無煙炭由来のGQDsの合成および分析
[0081]攪拌棒を備えた丸底フラスコに無煙炭(5g)を添加し、そして90mLの70%HNO3と混合した。次に、反応混合物を攪拌しながら17時間にわたって還流(120℃)になるまで加熱し、次いで、室温になるまで冷却させた。その後、微細なガラスフリットによって混合物をろ過し、そしておよそ0.01atmにおいて回転蒸発を用いてHNO3を除去した。1kDaの膜に対向させて水透析を1日間実施した。保持された溶液を蒸発させることによって、1.5gの赤褐色の粉末が生じた(30%の収率)。前に説明したようにクロスフローろ過によってサイズ選択を実施した。PCT/US2014/036604号を参照されたい。
[0081]攪拌棒を備えた丸底フラスコに無煙炭(5g)を添加し、そして90mLの70%HNO3と混合した。次に、反応混合物を攪拌しながら17時間にわたって還流(120℃)になるまで加熱し、次いで、室温になるまで冷却させた。その後、微細なガラスフリットによって混合物をろ過し、そしておよそ0.01atmにおいて回転蒸発を用いてHNO3を除去した。1kDaの膜に対向させて水透析を1日間実施した。保持された溶液を蒸発させることによって、1.5gの赤褐色の粉末が生じた(30%の収率)。前に説明したようにクロスフローろ過によってサイズ選択を実施した。PCT/US2014/036604号を参照されたい。
[0082]400mgの調製したGQDsを20mLの0.5M NaOHとともにステンレス鋼のオートクレーブに添加することによって、水熱NaOH処理を実施した。溶液を200℃において24時間加熱し、そして室温になるまで冷却させた。次いで、NaOH溶液の中でGQDsに1.2gのNaBH4を添加することによってGQDsをさらに還元し、そして周囲条件の下で2時間にわたって反応を起こさせた。0.1MHClで中和する前に沈殿した固体を取り除くために溶液をろ過し、次いで蒸留水で希釈し、そして最後にクロスフローろ過を用いて脱塩した。
[0083]JEOL JEM 2100Fを用いて透過型電子顕微鏡写真(TEM)を収集した。Phi QuanteraX線光電子分光計を用いて元素分析を行った。Jobin-Yvon Horiba Nanolog分光計を用いてホトルミネセンススペクトルを収集した。0.5M H2SO4の中でのキニーネ硫酸塩との比較で量子収率を得た(350nmの励起)。514nmの励起を用いるレニショー顕微鏡を用いてラマンスペクトルを得た。
[0084]無煙炭由来のGQDs(a−GQDs)の画像を図3に示す。画像に示されているように、形成したa−GQDsは様々なサイズを有しうる。例えば、図3Aに示す未改質のa−GQDsは、直径が2nmから30nmまでの範囲のサイズを有することができる。同様に、図3Cに示す塩基処理したa−GQDsは、直径が2nmから10nmまでの範囲のサイズを有する。さらに、NaOHの処理とNaBH4の処理は形成するa−GQDsのサイズを変化させないことが認められた。
[0085]a−GQDsのサンプルの励起・発光ホトルミネセンスを図4に示す。図4Aに示すように、未改質のa−GQDs(混合物)は黄色い光を放射する。図4Bに示すように、a−GQDsのNaOH処理は発光を青色にシフトさせる(青色と緑色の小点)。加えて、図4Cに示すように、a−GQDsのNaBH4処理は発光を青色にさらにシフトさせる(青色)。
[0086]a−GQDsのサンプルのX線光電子分光法(XPS)による分析を図5に示す。生成したa−GQDsのラマンスペクトルを図6に示す。加えて、a−GQDsのサンプルにおける官能基のパーセントの組成の分析を表1に要約する。
[0087]この結果は、未処理のa−GQDsは多くの数の酸素官能基を含んでいることを示す。しかし、NaOH処理したa−GQDsは酸素官能基の減少を示す。さらに、NaBH4で引き続いて処理したa−GQDsは酸素官能基のさらなる減少を示す。
[0088]実施例1.2.天然アスファルト由来のGQDsの合成および分析
[0089]天然アスファルトからGQDsを製造するために、実施例1.1で概説したのと同様の実施手順を用いた。天然アスファルト由来のGQDsのTEM画像を図7に示す。
[0089]天然アスファルトからGQDsを製造するために、実施例1.1で概説したのと同様の実施手順を用いた。天然アスファルト由来のGQDsのTEM画像を図7に示す。
[0090]実施例1.3.バイオ炭由来のGQDsの合成および分析
[0091]バイオ炭からGQDsを製造するために、実施例1.1で概説したのと同様の実施手順を用いた。バイオ炭由来のGQDsのTEM画像を図8に示す。
[0091]バイオ炭からGQDsを製造するために、実施例1.1で概説したのと同様の実施手順を用いた。バイオ炭由来のGQDsのTEM画像を図8に示す。
[0092]バイオ炭由来のGQDsサンプルの励起・発光ホトルミネセンスを図9に示す。その結果は、a−GQDsについて図4で示した結果と類似している。例えば、未改質のGQDsは青色に放射している(図9A)。上の測定から得られた量子収率は0.4%(図9A)、2%(図9B)、および5%(図9C)であった。
[0093]実施例1.4.検討
[0094]反応からの硫酸の排除は形成したGQDsの精製を単純にする、ということを出願人は認めた。例えば、硝酸を蒸発させることができるので、中和することは必要でない。さらに、酸化剤を再生利用することができるので、この方法は環境上および経済上の利益をもたらす。さらに、(酸の中和による結果として)必要な塩が少なくなるので、透析と脱塩が速くなる。加えて、GQDsの収率は以前の方法よりも50%高い。
[0094]反応からの硫酸の排除は形成したGQDsの精製を単純にする、ということを出願人は認めた。例えば、硝酸を蒸発させることができるので、中和することは必要でない。さらに、酸化剤を再生利用することができるので、この方法は環境上および経済上の利益をもたらす。さらに、(酸の中和による結果として)必要な塩が少なくなるので、透析と脱塩が速くなる。加えて、GQDsの収率は以前の方法よりも50%高い。
[0095]以前に説明した混酸の方法では、未改質のGQDsが20%の質量収率で生成し、改質したGQDsが10%の質量収率で生成する。PCT/US2014/036604号を参照されたい。本実施例における方法では、硝酸を単独の酸化剤として利用するが、未改質のGQDsが30%の質量収率で生成し、改質したGQDsが13%の質量収率で生成する。さらに、本実施例における方法では、より広い範囲の色彩が生じる。例えば、短い反応時間でオレンジ色を得ることができる。
[0096]実施例2.バイオ炭からのグラフェン量子ドットの調製
[0097]本実施例において、リンゴ材のバイオ炭、メスキート材のバイオ炭、およびクールテラバイオ炭を含めたバイオ炭の様々な資源からGQDsが誘導されうることを、出願人は証明する。濃硫酸(60mL)および濃硝酸(20mL)の中にバイオ炭の資源(1g)を浮遊させ、続いて、浴中音波処理(Cole Parmer、モデル08849-00)を2時間行った。次いで、反応物を攪拌し、そして油浴中で100℃において24時間加熱した。次いで、溶液を4倍に希釈し、そして水を用いて1kDのバッグの中で5日間にわたって透析した。回転蒸発によって溶媒を除去した。水中でpH1および7において、反応生成物の蛍光スペクトルを得た。蛍光スペクトルを図10A〜Dに示す。
[0097]本実施例において、リンゴ材のバイオ炭、メスキート材のバイオ炭、およびクールテラバイオ炭を含めたバイオ炭の様々な資源からGQDsが誘導されうることを、出願人は証明する。濃硫酸(60mL)および濃硝酸(20mL)の中にバイオ炭の資源(1g)を浮遊させ、続いて、浴中音波処理(Cole Parmer、モデル08849-00)を2時間行った。次いで、反応物を攪拌し、そして油浴中で100℃において24時間加熱した。次いで、溶液を4倍に希釈し、そして水を用いて1kDのバッグの中で5日間にわたって透析した。回転蒸発によって溶媒を除去した。水中でpH1および7において、反応生成物の蛍光スペクトルを得た。蛍光スペクトルを図10A〜Dに示す。
[0098]実施例3.延長した反応によるグラフェン量子ドットの調製
[0099]本実施例において、長くした反応時間の下で無煙炭とバイオ炭からGQDsを形成することができることを、出願人は証明する。実施例1で要約した反応条件を繰り返し、そして約3日間まで延ばした。結果を図11に要約する。無煙炭(図11A、B)およびバイオ炭(図11C、D)から合成されたGQDsのTEM画像が示されている。
[0099]本実施例において、長くした反応時間の下で無煙炭とバイオ炭からGQDsを形成することができることを、出願人は証明する。実施例1で要約した反応条件を繰り返し、そして約3日間まで延ばした。結果を図11に要約する。無煙炭(図11A、B)およびバイオ炭(図11C、D)から合成されたGQDsのTEM画像が示されている。
[00100]さらに詳しく説明しなくても、当業者であれば、本明細書の説明を用いて本発明を最大限に利用することができると考える。ここで説明した態様は例示のものであると解釈され、この開示の残りのものをいかなるやり方でも制限しないと解釈されるべきである。好ましい態様が示され、そして説明されたが、それらの多くの変形や修正が、本発明の精神と教示から逸脱することなく当業者によって成され得る。従って、保護の範囲は上で示した記載によっては制限されず、それは特許請求の範囲によってのみ制限され、その保護の範囲には特許請求の範囲の主題の全ての同等物も含まれる。ここで挙げた全ての特許、特許出願および刊行物の開示は、本明細書で示したものと一致してそれを補足する手順上の詳細またはその他の詳細を提供する限り、本明細書に参考文献として取り込まれる。
Claims (51)
- 炭素源からグラフェン量子ドットを製造する方法であって、この方法は酸化剤を含む溶液に炭素源を曝すことを含み、炭素源は石炭、コークス、バイオ炭、アスファルト、およびこれらの組み合わせからなる群から選択され、曝すことによって炭素源からグラフェン量子ドットが形成される、前記方法。
- 炭素源にはバイオ炭が含まれる、請求項1に記載の方法。
- バイオ炭はリンゴ材のバイオ炭、メスキート材のバイオ炭、熱分解したバイオ炭、クールテラバイオ炭、パレット由来のバイオ炭、ランダムな伐採バイオ炭、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項2に記載の方法。
- 炭素源には石炭が含まれる、請求項1に記載の方法。
- 石炭は無煙炭、アスファルテン、瀝青炭、亜瀝青炭、変性瀝青炭、泥炭、亜炭、ボイラー用炭、石化油、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項4に記載の方法。
- 炭素源にはコークスが含まれる、請求項1に記載の方法。
- 炭素源にはアスファルトが含まれる、請求項1に記載の方法。
- 酸化剤には酸が含まれる、請求項1に記載の方法。
- 酸は硫酸、硝酸、リン酸、次亜リン酸、発煙硫酸、塩酸、オレウム、クロロスルホン酸、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項8に記載の方法。
- 酸化剤は単一の酸から本質的に成る、請求項1に記載の方法。
- 単一の酸は硝酸である、請求項10に記載の方法。
- 酸化剤には硫酸が含まれない、請求項1に記載の方法。
- 酸化剤は硫酸と硝酸の混合物である、請求項1に記載の方法。
- 酸化剤は硝酸である、請求項1に記載の方法。
- 酸化剤は過マンガン酸塩、酸化マンガン、オゾン、過酸化水素、有機過酸化物、過硫酸塩、過ヨウ素酸塩、過塩素酸塩、分子状酸素、臭素、塩素、ヨウ素、フッ素、窒素の酸化物、過マンガン酸カリウム、過マンガン酸ナトリウム、次亜リン酸、硝酸、硫酸、過酸化水素、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項1に記載の方法。
- 酸化剤は過マンガン酸カリウム、硫酸および次亜リン酸の混合物である、請求項1に記載の方法。
- 曝すことは、酸化剤を含む溶液の中で炭素源を音波処理することを含む、請求項1に記載の方法。
- 曝すことは、酸化剤を含む溶液の中で炭素源を加熱することを含む、請求項1に記載の方法。
- 加熱することは少なくとも約100℃の温度において行われる、請求項18に記載の方法。
- 加熱することは約100℃から約150℃までの範囲の温度において行われる、請求項18に記載の方法。
- 加熱することはマイクロ波加熱を含む、請求項18に記載の方法。
- 形成したグラフェン量子ドットを酸化剤から分離する工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 分離することは、溶液を中和すること、溶液をろ過すること、および溶液を精製することを含む、請求項22に記載の方法。
- 分離することは溶液を蒸発させることを含む、請求項22に記載の方法。
- 分離することは溶液を中和することなく行われる、請求項22に記載の方法。
- グラフェン量子ドットの量子の収率を向上させる工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 向上させることは、グラフェン量子ドットの水熱処理、1種以上の塩基を用いるグラフェン量子ドットの処理、1種以上の水酸化物を用いるグラフェン量子ドットの処理、1種以上の還元剤を用いるグラフェン量子ドットの処理、およびこれらの組み合わせによって行われる、請求項26に記載の方法。
- 向上させることはグラフェン量子ドットの水熱処理によって行われる、請求項26に記載の方法。
- 形成したグラフェン量子ドットを還元する工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 還元することは形成したグラフェン量子ドットを還元剤に曝すことを含む、請求項29に記載の方法。
- 還元剤はヒドラジン、ホウ水素化ナトリウム、熱、光、硫黄、硫化ナトリウム、硫化水素ナトリウム、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項29に記載の方法。
- 形成されるグラフェン量子ドットの直径を制御する工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 制御する工程は、炭素源を選択すること、反応条件を選択すること、形成されるグラフェン量子ドットをサイズに基づいて分離すること、およびこれらの組み合わせのうちの少なくとも1つを含む、請求項32に記載の方法。
- 制御する工程は、形成されるグラフェン量子ドットをサイズに基づいて分離することを含む、請求項32に記載の方法。
- 分離することは、透析、ろ過、クロスフローろ過、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される方法によって行われる、請求項34に記載の方法。
- グラフェン量子ドットは多ニトロ化アレーンの形成を伴わずに形成される、請求項1に記載の方法。
- 形成されるグラフェン量子ドットは約0.5nmから約70nmまでの範囲の直径を有する、請求項1に記載の方法。
- 形成されるグラフェン量子ドットは約10nmから約50nmまでの範囲の直径を有する、請求項1に記載の方法。
- 形成されるグラフェン量子ドットは約2nmから約30nmまでの範囲の直径を有する、請求項1に記載の方法。
- 形成されるグラフェン量子ドットは約0.5nmから約5nmまでの範囲の直径を有する、請求項1に記載の方法。
- 形成されるグラフェン量子ドットは約2nmから約10nmまでの範囲の直径を有する、請求項1に記載の方法。
- 形成されるグラフェン量子ドットは結晶質の六方晶構造を有する、請求項1に記載の方法。
- 形成されるグラフェン量子ドットは単一の層を有する、請求項1に記載の方法。
- 形成されるグラフェン量子ドットは複数の層を有する、請求項1に記載の方法。
- 形成されるグラフェン量子ドットは約2の層から約4の層までを有する、請求項44に記載の方法。
- 形成されるグラフェン量子ドットは複数の官能基で官能化されている、請求項1に記載の方法。
- 官能基は非晶質炭素、酸素基、カルボニル基、カルボキシル基、エステル、アミン、アミド、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項46に記載の方法。
- 形成されるグラフェン量子ドットは端部が複数の官能基で官能化されている、請求項1に記載の方法。
- 形成されるグラフェン量子ドットは、それらの端部に酸素の付加物を含む、請求項48に記載の方法。
- 形成されるグラフェン量子ドットは、それらの端部に非晶質炭素の付加物を含む、請求項48に記載の方法。
- 形成されるグラフェン量子ドットは約0.1%から約35%までの範囲の量子収率を有する、請求項1に記載の方法。
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