JP2018500595A - 薄いガラス板の光弾性の補償 - Google Patents
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Abstract
Description
を有する材料が、ポリメチルメタクリレート以外のアクリレートポリマー(例えば、ポリ(ベンジルメタクリレート))及びコポリマー、フッ素及び塩素などのハロゲン原子を含むアクリレートポリマー、ポリ(ビニルナフタレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、スチレンコポリマー、スチレンアクリロニトリルコポリマー、スチレン無水マレイン酸共重合体、マレイミド−スチレンコポリマー、ポリエステル、環状オレフィンコポリマー、環状オレフィンポリマー、及びセルロース系ポリマーからなる群から選択される。大きい正の光弾性定数を有する好ましい材料が、ポリカーボネート、ポリエステル、及びアクリレートポリマーを含む。好ましくは、正の光弾性定数を有する層の形成に使用されたアクリレートポリマーは、メチルメタクリレートの60wt%重合単位以下、好ましくは50wt%以下、好ましくは40wt%以下、好ましくは30wt%以下、好ましくは20wt%以下、好ましくは10wt%以下、好ましくは5wt%以下を有する。好ましくは、ガラス基板に塗布された光学層の形成に使用され得る、負の光弾性定数を有する材料が、ポリメチルメタクリレート、完全に水素化されたビニル芳香族ポリマー及び共重合体(例えば、完全に水素化されたスチレン−イソプレンブロックコポリマーを含む環状ブロックコポリマー)、ポリ(α−メチルスチレン)、ポリ(トリフルオロエチルメタクリレート)及びポリ(トリクロロエチルメタクリレート)からなる群から選択される。負の光弾性定数を有する好ましい材料が、環状ブロックコポリマー及びポリメチルメタクリレートを含む。好ましくは、環状ブロックコポリマーが、水素化前の少なくとも50,000g/モルのポリスチレン換算重量平均分子量、好ましくは少なくとも60wt%、好ましくは少なくとも70wt%、好ましくは少なくとも75wt%重合単位のスチレンを有するものを含む、完全に水素化されたスチレン−イソプレンブロックコポリマーである。当業者に一般に知られているように、ガラス基板への塗布に好適なポリマーは、機械的靭性を有し、かつ脆弱でない程度の十分な分子量を有している必要がある。典型的な非晶質ポリマーでは、ポリスチレン換算重量平均分子量は、その絡み分子量の少なくとも8〜10倍である必要がある。加えて、それらは、可視光波長範囲(380〜780nm)での優れた光透過性を示す必要がある。
0.5mmの厚さ及び2インチ×5インチの大きさを有するガラス基板(EAGLE Glass社、Corning Glass社(ニューヨーク州コーニング))を、その位相差を測定することによって試験した。任意の機械的変形のないガラスの位相差を、Hinds Instrument社(オレゴン州ヒルズバロ)によって作製された複屈折性測定システム、Exicor 150ATSによって測定した。その後の位相差の測定をガラス上で行い、50cmの半径の曲げ固定具に対してガラスの2つの長い縁を加圧することによってそれを曲げた。曲げによるガラスの位相差を測定し、位相差の最大値が3nmであることを発見した。機械的変形を被らない素ガラスが、0.1nm未満である測定領域全体に渡って測定された位相差を有する略完全に等方性であることを発見した。しかしながら、ガラスを曲げ固定具によって変形すると、位相差の実質的な増加が観察された。最大位相差がガラスの中央領域近くに生じ、これはガラス基板の応力に起因した複屈折性効果に対する明確な証明である。
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)内のポリ(ベンジルメタクリレート)の40wt%溶液及びシクロヘキサン内のCBC−1の20wt%溶液を、ガラス基板を塗布するために調製した。実施例1で使用された2片の薄いガラスに、それぞれ、ポリ(ベンジルメタクリレート)及び環状ブロックコポリマーのPBMA溶液及びCBC溶液を塗布し、続いて乾燥させた。各塗布の厚さを測定すると、それぞれ、75μm及び92μmであった。
実施例1で使用されたものと同一の薄いガラス基板に、実施例2と同じ手段で正の光弾性定数を有するポリ(ベンジルメタクリレート)を塗布した。それを乾燥させた後の塗布の厚さを測定すると、約95μmであった。塗布ガラスを、2つの異なる方法で曲げ固定具に対してそれを加圧することによって変形させた。第1の事例では、ガラス基板の非塗布側面が曲げ固定具に直接接触したため、塗布層は引張変形下にあり、ガラス基板は主に圧縮変形下にあった。第2の事例では、ガラス基板の塗布側面が曲げ固定具に直接接触し、それが塗布層の圧縮変形を生じさせた。塗布ガラスの中央領域内の位相差を、これらの2つの変形モード下で測定し、素ガラスのそれと比較した。結果を表3に要約する。
実施例1で使用されたものと同一のEAGLE Glass社の薄いガラス基板に、実施例2と同じ手段で環状ブロックコポリマーを塗布した。それを乾燥させた後の塗布の厚さを測定すると、約92μmであった。塗布ガラスを、2つの異なる方法で曲げ固定具に対してそれを加圧することによって変形させた。第1の事例では、ガラス基板の非塗布側面が曲げ固定具に直接接触したため、塗布層は引張変形下にあった。第2の事例では、ガラス基板の塗布側面が曲げ固定具に直接接触し、それが塗布層の圧縮変形を生じさせた。塗布ガラスの中央領域内の位相差を、これらの2つの変形モード下で測定し、素ガラスのそれと比較した。結果をまた、表3に要約する。
実施例1で使用されたものと同一の薄いガラス基板に、光学材料を両面で塗布した。
PGMEA溶剤内のPBMAの40wt%溶液及びシクロヘキサン溶剤内のCBC−2の20wt%溶液を使用した。標的の塗布の厚さは、上面及び底面の両方に対して100μmであった。これらの塗布ガラスを、曲げ固定具に対して底面を加圧することによって変形させた。その後の位相差の測定を行い、塗布ガラスは曲げ変形下にあった。塗布材料、変形モード及び測定結果についての詳細を、下の表4に要約する。
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)内のポリ(ベンジルメタクリレート)の40wt%溶液及びシクロヘキサン内のCBC−1の20wt%溶液を、ガラス基板を塗布するために調製した。参考例1で使用された2片の薄いガラスに、それぞれ、ポリ(ベンジルメタクリレート)及び環状ブロックコポリマーのPBMA溶液及びCBC溶液を塗布し、続いて乾燥させた。各塗布の厚さを測定すると、それぞれ、75μm及び92μmであった。
参考例1で使用されたものと同一の薄いガラス基板に、実施例2と同じ手段で正の光弾性定数を有するポリ(ベンジルメタクリレート)を塗布した。それを乾燥させた後の塗布の厚さを測定すると、約95μmであった。塗布ガラスを、2つの異なる方法で曲げ固定具に対してそれを加圧することによって変形させた。第1の事例では、ガラス基板の非塗布側面が曲げ固定具に直接接触したため、塗布層は引張変形下にあり、ガラス基板は主に圧縮変形下にあった。第2の事例では、ガラス基板の塗布側面が曲げ固定具に直接接触し、それが塗布層の圧縮変形を生じさせた。塗布ガラスの中央領域内の位相差を、これらの2つの変形モード下で測定し、素ガラスのそれと比較した。結果を表に要約する。
参考例1で使用されたものと同一のEAGLE Glass社の薄いガラス基板に、実施例2と同じ手段で環状ブロックコポリマーを塗布した。それを乾燥させた後の塗布の厚さを測定すると、約92μmであった。塗布ガラスを、2つの異なる方法で曲げ固定具に対してそれを加圧することによって変形させた。第1の事例では、ガラス基板の非塗布側面が曲げ固定具に直接接触したため、塗布層は引張変形下にあった。第2の事例では、ガラス基板の塗布側面が曲げ固定具に直接接触し、それが塗布層の圧縮変形を生じさせた。塗布ガラスの中央領域内の位相差を、これらの2つの変形モード下で測定し、素ガラスのそれと比較した。結果をまた、表に要約する。
参考例1で使用されたものと同一の薄いガラス基板に、光学材料を両面で塗布した。PGMEA溶剤内のPBMAの40wt%溶液及びシクロヘキサン溶剤内のCBC−2の20wt%溶液を使用した。標的の塗布の厚さは、上面及び底面の両方に対して100μmであった。これらの塗布ガラスを、曲げ固定具に対して底面を加圧することによって変形させた。その後の位相差の測定を行い、塗布ガラスは曲げ変形下にあった。塗布材料、変形モード及び測定結果についての詳細を、下の表4に要約する。
Claims (8)
- 塗布ガラス基板であって、0.1〜0.7mmの厚さを有し、第1の側面が、正の光弾性定数を有する第1の光学層で塗布され、第2の側面が、負の光弾性定数を有する第2の光学層で塗布された、ガラス板を備える、塗布ガラス基板。
- 前記第1の光学層及び前記第2の光学層の各々が、1〜100ミクロンの厚さを有する、請求項1に記載の塗布ガラス基板。
- 前記第1の光学層が、ポリ(ベンジルメタクリレート)、ポリ(ビニルナフタレン)、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスチレン、スチレンコポリマー、スチレンアクリロニトリル、スチレン無水マレイン酸、マレイミド−スチレンコポリマー、環状オレフィンコポリマー、環状オレフィンポリマー、及びセルロース系ポリマーからなる群から選択される、請求項2に記載の塗布ガラス基板。
- 前記第2の光学層が、完全に水素化されたビニル芳香族ポリマー及びコポリマー、環状ブロックコポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリ(α―メチルスチレン)、ポリ(トリフルオロエチルメタクリレート)、及びポリ(トリクロロエチルメタクリレート)からなる群から選択される、請求項3に記載の塗布ガラス基板。
- 前記ガラス板の前記厚さが、0.2〜0.5mmである、請求項4に記載の塗布ガラス基板。
- 前記第1の光学層の前記光弾性定数が、5〜250×10−12Pa−1である、請求項5に記載の塗布ガラス基板。
- 前記第2の光学層の前記光弾性定数が、−5〜−250×10−12Pa−1である、請求項6に記載の塗布ガラス基板。
- 請求項1に記載の少なくとも1つの塗布ガラス基板を備える液晶セル。
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