JP2018206788A - 電子装置及び電子装置の製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 動作時に発熱する電子部品を搭載した基板を接合材料を介して実装基板に接合した電子装置において、電子部品の発熱による電子装置の信頼性を向上させる。【解決手段】 第1面に凸部を有する第1基板と、第1基板上で凸部を覆って設けられた接合部と、接合部上に設けられた第2基板と、第2基板上または第2基板内に設けられた発熱源と、を備え、凸部は発熱源の直下に設けられていることを特徴とする電子装置により上記課題を解決する。【選択図】 図3B

Description

本発明は、接合材料を用いて、電子機器が設けられた電子装置及び電子装置の製造方法に関する。
トランジスタやキャパシタ等の電子部品を搭載した基板をCu等により形成された実装基板に実装する際、AuSnやAgペースト等の接合材料を用いて実装を行う。図1Aは、Cuにより形成された実装基板901に接合材料903を介して電子部品905を搭載した基板902を接合した上面図である。図1Aに示されるように、接合材料903を用いて基板902を実装基板901などに実装する際、基板902と実装基板901との間の接合材料903中に気泡904が入ることがある。図1Bは図1AのAA’の断面を示す断面図である。図1Bに示されるように、基板902と実装基板901との間の接合材料903中に気泡904が存在する。
基板902に設けられた、例えば、トランジスタやダイオード等の電子部品905は、抵抗を有し、電子部品905は通電可能であるため、電子部品905の動作時において通電して発熱する。図1A、図1Bに示されるように、電子部品905を搭載した基板902と実装基板901との間の接合材料903中の電子部品905に対応する領域に気泡904が存在していると、気泡904の熱抵抗が高いため熱が逃げにくく、電子部品905の動作時の温度が上昇する。電子部品905の温度上昇の結果として、電子部品905の特性劣化や信頼性の低下を引き起こす原因となっている。
図2Aは、実装基板上の基板を移動させた後の上面図である。図2Aに示されるように、基板902と実装基板901との間の接合材料903中に存在する気泡904を追い出すために、基板902を実装基板901に接合する際にピンセット等で基板902を実装基板901に対して水平方向に擦るスクライブと呼ばれる動作を行うことがある。図2Bは図2AのBB’の断面を示す断面図である。
特開2006−344702号公報 特開2008−10545号公報 特開2014−67756号公報
トランジスタやダイオード等の電子部品や整合回路の大型化に伴い、電子部品を搭載した基板の面積も大きくなると、スクライブを行っても電子部品を搭載した基板と実装基板との間の接合材料中の電子部品に対応する領域に気泡が残留することがある。接合材料中において電子部品に対応する領域に気泡を含むと、熱が逃げにくいので、例えば大きい発熱が予想される窒化ガリウム(GaN)等の窒化物半導体を用いた高電子移動度トランジスタ(HEMT:High Electron Mobility Transistor)等の電子部品の温度上昇を引き起こす。電子部品等の温度上昇の結果として、トランジスタ等の出力電力や効率の低下を招いたり、電子部品の破壊といった電子部品の特性劣化を引き起こしたり、電子部品を有する電子装置の信頼性が低下する。
本発明は、上記課題に鑑み、動作時に発熱する電子部品を搭載した基板を接合材料を介して実装基板に接合した電子装置において、電子部品の発熱による電子装置の信頼性を向上させることが可能な電子装置の提供を目的とする。
電子装置の一態様には、第1面に凸部を有する第1基板と、前記第1基板上で前記凸部を覆って設けられた接合部と、前記接合部上に設けられた第2基板と、前記第2基板上または前記第2基板内に設けられた発熱源と、を備え、前記凸部は前記発熱源の直下に設けられていることを特徴とする。
電子装置の製造方法の一態様には、第1面に凸部を有する第1基板に前記凸部を覆うように流動性を有する接合材料を前記第1面に形成し、発熱源を有する第2基板を、前記第1面の法線方向から見て前記凸部と前記発熱源とが重なるように位置あわせし、前記第1基板と前記第2基板とで前記接合材料を挟み込み、前記接合材料を硬化させることにより前記第1基板と前記第2基板とを接合することを特徴とする。
本発明によれば、電子部品の動作時の温度上昇を抑制することにより電子部品の破壊を抑制することができ、信頼性の高い電子装置が実現される。
実装基板上に接合材料を用いて基板を接合した上面図である。 図1AにおけるAA’の断面を示す断面図である。 実装基板上の基板を移動させた後の上面図である。 図2AにおけるBB’の断面を示す断面図である。 第1の実施形態に係る電子装置を例示する上面図である。 図3AにおけるCC’の断面を示す断面図である。 第1の実施形態に係る電子装置の製造工程を例示する上面図(その1)である。 第1の実施形態に係る電子装置の製造工程を例示する上面図(その2)である。 第1の実施形態に係る電子装置の製造工程を例示する上面図(その3)である。 第1の実施形態に係る電子装置の凹部周辺の斜視図(その1)である。 第1の実施形態に係る電子装置の凹部周辺の斜視図(その2)である。 図8における面Bを示す断面図(その1)である。 図8における面Bを示す断面図(その2)である。 第2の実施形態に係る電子装置の実装基板を例示する上面図である。 第3の実施形態に係る電子装置の実装基板を例示する上面図である。 第4の実施形態に係る電子装置の実装基板を例示する上面図である。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して具体的に説明する。
(第1の実施形態)
第1の実施形態に係る電子装置の構造について図3A及び図3Bを用いて説明する。図3Aは第1の実施形態に係る電子装置を例示する上面図であり、図3Bは図3AのCC’の断面を示す断面図である。
図3Bに示されるように、第1の実施形態に係る電子装置は、凸部106及び凹部104が設けられた実装基板101と、電子部品105を有する基板102と、基板102と実装基板101とを接合する接合部103と、を有する。凹部104の近傍には実装基板101の平坦な領域が存在する。ここで、平坦な領域とは実装基板101の凹部104が設けられていない領域を指す。図3Aにおいて実装基板101上に設けられた凹部104の形状全体を俯瞰できるよう、点線で示された基板102と点線で示された接合部103とを透過して実装基板101が示されている。図3Bに示されるように、凹部104は実装基板101に設けられている。凹部104は接合部103の接合材料を含んでいる。実装基板101の凸部106が設けられている面の法線方向から見て、凸部106と基板102の電子部品105とが重なる。
実装基板101はCu(銅)により形成されている。実装基板101は、電子部品105で発生した熱を効率よく逃がすために、基板102よりも熱伝導率が高い金属を含む基板であることが好ましい。実装基板101として、上記Cu基板の他に、例えば、Al(アルミニウム)により形成された基板、Al板に樹脂やフィラーを含む絶縁層とCu箔とを順に載せたAlベース基板等を用いることができる。
基板102は、例えば、SiC、Si、GaN、GaAs、InP等を含む材料により形成されたトランジスタやキャパシタ、ダイオード、抵抗素子、インダクタ等の電子部品105を有するモノリシックマイクロ波集積回路(MMIC:Monolithic Microwave Integrated Circuit)用基板である。本実施の形態では、基板102はSiCにより形成されており、基板102上には電子部品105が設けられている。
電子部品105は、たとえば、トランジスタ、キャパシタ、ダイオード、抵抗素子、インダクタ等であり、抵抗を有し通電可能な材料により形成されている。また、電子部品105は抵抗を有し電子部品105に通電可能な材料により形成されているため、電子部品105は動作時において通電することで、発熱し温度が上昇する。その結果、電子部品105は通電時において基板102の電子部品105以外の領域よりも相対的に高温である。本実施の形態において、電子部品105は窒化物半導体材料により形成されたHEMTである。本実施形態では図3Bに示されるように、電子部品105は基板102上に設けられている。変形例として、電子部品105は基板102中に埋め込まれていても良い。
図3Bに示されるように、電子部品105を搭載した基板102は接合部103を介して実装基板101に接合されている。電子部品105の直下の実装基板101の領域には凸部106が設けられている。接合部103は実装基板101と基板102とを接合する。接合部103は気泡(空隙)110A〜Cを含む。接合部103に用いられる材料は、電子部品105で発生した熱を効率よく逃がすために、基板102よりも熱伝導性の高い材料を用いることが好ましい。本実施の形態では、接合部103はAuSnにより形成されている。接合部103の接合材料として、上記AuSnの他に、例えば、Agペースト等の金属ペーストの硬化物を用いることができる。
図3Aにおいて破線で囲まれた領域Xは、実装基板101上で基板102上の電子部品105に対応する領域を表す。領域Xは平坦な領域であり、上面視で実装基板101に設けられた凸部106が設けられている領域と重なる領域である。図3Aにおいて、実装基板101に領域Xから放射状に延びる複数の凹部104が設けられている。凹部としては、リセス、溝等が含まれる。本実施の形態では、実装基板101上に凹部104A〜Hが8本設けられている。隣り合う凹部がなす角度は45度である。ここで、隣り合う凹部104のなす角度とは、例えば、凹部104Aの長手方向S1と凹部104Bの長手方向S2とがなす角度Aを指す。
本実施形態における電子装置では、実装基板101の主面の法線方向から見て、基板102と実装基板101の凹部104との間の接合部中の気泡の含有量より基板102の発熱源である電子部品105と実装基板101の平坦な領域との間の接合部中の気泡の含有量の方が少ない。従って、電子部品105の通電時に生じる熱を接合部を介して実装基板101へ効率よく排熱することができ、電子部品105の動作効率の低下や出力電力の低下を抑制した電子装置を得ることができる。
本実施の形態において、凹部104は8本設けられているが、凹部104の数はこれに限られるものではない。実装基板101上に凹部がn本(nは自然数)設けられている場合、凹部の互いになす角度は(360/n)度であることが好ましい。例えば、実装基板101上に凹部104が2本設けられている場合は、凹部104が互いになす角度が180度であることが好ましい。実装基板101上に凹部104が3本設けられている場合は、凹部104が互いになす角度が120度であることが好ましい。実装基板101上に凹部104が4本設けられている場合は、凹部104が互いになす角度が90度であることが好ましい。凹部が互いに(360/n)度の角度をなして離間していることで、凹部間の間隔が狭く設けられている場合と比較して凹部間の間隔に粗密がなくなる。このため、気泡を凹部に漏れが少なく取り込むことができ、基板と実装基板との接合強度が高く電子装置の信頼性が高い。
図3Aに示されるように、長手方向S1及びS2は凹部104内において最も離れた位置同士を結ぶ方向であり、短手方向T1及びT2は夫々長手方向S1及びS2と直交する方向である。例えば、凹部104Aにおいて短手方向T1の長さは、0.05mm以上0.2mm以下の範囲で設けられていることが好ましい。短手方向T1の長さが0.05mm未満のとき、気泡が凹部104Aに入りにくくなり気泡が領域Xに残留する可能性がある。凹部104Aの短手方向T1の長さが0.2mmよりも大きいとき、基板と実装基板の接触面積が小さくなり、基板と実装基板の接合強度が低下する可能性がある。凹部104Aが、短手方向T1の長さにおいて0.05mm以上0.2mm以下の範囲で設けられていることにより、効率的に気泡を凹部104Aの内部へと追い出すことができ、基板と実装基板との間の熱伝導特性が高く電子装置の信頼性が高い。
凹部104の深さは、0.01mm以上0.2mm以下の範囲で設けられていることが好ましい。凹部104の深さが0.01mm未満のとき、気泡が凹部104に入りにくくなり気泡が領域Xに残留する可能性がある。凹部104の深さが0.2mmよりも大きいとき、凹部104内に溶融した接合材料が入りにくくなり気泡が領域Xに残留する可能性がある。0.01mm以上0.2mm以下の範囲で凹部104の深さを設けることにより、効率的に気泡を凹部104の内部へと追い出すことができ、基板と実装基板との間に熱伝導特性が高く電子装置の信頼性が高い。本実施の形態では、凹部104の短手方向の長さは例えば0.2mm、凹部104の深さは例えば0.2mmで設けられている。
凹部104は、基板102を実装基板101へ実装した後の基板102が設けられる領域の外側まで延伸されているものが好ましい。凹部104を基板102の外側まで設けることで、多くの気泡が発生した場合においても気泡を凹部104の内部へと追い出すことができる。
実装基板上で基板に設けられた電子部品に対応する領域と実装基板上の凹部が一部重なっていると、接合材料中の気泡が電子部品直下の凹部の内部へ追い出されて電子部品直下の領域に気泡が存在することになる。電子部品直下に気泡が存在すると、気泡の熱抵抗が高いために電子部品の温度が上昇して電子部品の出力電力の低下等のデバイス特性の低下や配線の断線等の信頼性の低下を引き起こす。
第1の実施形態に係る電子装置は、実装基板の表面に設けられた凸部を覆った接合部と、接合部上に設けられた基板と、基板上または基板内に設けられた発熱源とを備え、凸部は発熱源の直下に設けられている。このような構成を採ることで、電子部品の熱引きがよく、電子部品の動作時の温度上昇を抑制することができる。このため、デバイス特性の低下が抑制された、信頼性の高い電子装置が実現する。
(第1の実施形態に係る電子装置の製造方法)
第1の実施形態に係る電子装置の製造方法を図4〜図10を用いて説明する。図4〜6は第1の実施形態に係る電子装置の製造工程を例示する上面図である。図4に示されるように、凹部104A〜Hを有するCuの実装基板101をホットプレート上に置き、実装基板101の温度が後の工程で用いる接合材料の融点以上の温度になるように加熱する。接合材料はAuSnである。AuSnの融点は約280℃であるため、ホットプレートの温度を280℃以上の温度、例えば、320℃にする。実装基板101に対して凹部104を設ける方法としては、Cuの基板において凹部104を設ける領域に対応した領域を切削する方法が挙げられる。その他、Cuの基板に凹部104を設ける領域に対応したマスクを設けて、Cu等の熱伝導性の大きい金属を蒸着した後にマスクを除去することにより、Cuの基板に対しての凸部を設けることにより凹部104を有するCuの実装基板101を形成してもよい。
次に、図5に示されるように、後の工程で基板102を実装基板101へ実装する領域上に、例えば、AuSnやAg等の接合材料103aを配置し溶融させる。
図5の工程の後、図6に示されるように、電子部品105が設けられた基板102を接合材料103aにより実装基板101へと接合する。この際、実装基板101の凹部104が設けられている面の法線方向から見て、実装基板101上の領域X(凸部106に対応する領域)と電子部品105とが少なくとも一部重なるように位置あわせする。その後、実装基板101と基板102との距離を近づけることにより接合材料103aを実装基板101と基板102とで挟み込み、気泡を実装基板101の凸部106と基板102との間から押し出す。実装基板101と基板102との距離の近づけ方としては、実装基板101の凸部106を基板102に押し付けるようにして接合しても良いし、基板102を実装基板101の凸部106へと押し付けるようにして接合しても良い。次に、接合材料103aを硬化させることにより実装基板101と基板102とが接合されて電子装置を完成させる。
電子部品105が設けられた基板102と実装基板101とを接合する様子を図7〜図10を用いて説明する。図7は、実装基板101の上方から実装基板101に向かって基板102を近付ける前の様子を示した、凹部104周辺の斜視図である。凸部106及び凹部104を有する実装基板101に不図示の接合材料が塗布されている。実装基板101と基板102との間の不図示の接合材料中には気泡110が存在している。
図8は、実装基板101の凹部104に存在する不図示の接合材料を介して基板102を実装基板101に接触させた状態を示す凹部104周辺の斜視図である。図9は、図8における断面Bを示す断面図である。図9に示されるように、実装基板101は基板102に向かい合う面において凹部104と凸部106の平坦な領域111とを有する。基板102と実装基板101の平坦な領域111との距離よりも基板102と凹部104の底面との距離の方が大きい。基板102には下からの押圧が加えられ、基板102と実装基板101の平坦な領域111との間の距離が次第に縮まる。その結果、基板102と平坦な領域111との間にある接合材料103aに働く内部圧力が、基板102と凹部104の底面との間にある接合材料103aに働く内部圧力よりも大きくなる。また、実装基板101から基板102に向かう力も作用し、図9に示された気泡110は右側の凸部106と基板102との間から左の凹部104側へと移動する。図10に示されるように、気泡110は凸部106の平坦な領域111により凹部104へと押し出され、気泡110は凹部104に収容される。その結果、図10に示されるように、基板102と実装基板101の凸部106との間に存在していた気泡110は、凹部104内に存在していた接合材料103aと入れ替わり、凹部104内へと移動する。以上が、第1の実施形態に係る電子装置の製造方法である。
(第2の実施形態)
第2の実施形態に係る電子装置の構造について図11を用いて説明する。図11は、凹部が設けられたCuの実装基板を示す。第1の実施形態とは凹部の形状が異なる。実装基板上に設けられた凹部の形状以外の構造は第1の実施形態と同様であるため、実装基板以外の詳しい説明は省略する。
図11に示されるように、実装基板201に設けられた凹部204の形状は実装基板上で電子部品に対応する領域Xから放射状に延びる形状で設けられている。実装基板201上には8本の凹部204が領域Xを中心として等角度で設けられている。隣り合う凹部204のなす角度は45度である。ここで、隣り合う凹部204のなす角度とは、凹部の長手方向における凹部の線対称の対称軸同士がなす角度を指す。
本実施形態では、各凹部204は領域Xから離れるにつれて凹部の幅が太くなるように設けられている。具体的には、領域Xの近傍では凹部の幅は例えば0.2mm、深さは0.2mmで設けられており、領域Xから最も離れた位置の凹部の幅は例えば0.4mm、深さは0.2mmで設けられている。領域Xの近傍から領域Xから最も離れた位置にかけて、凹部の幅は図11のように連続的に変化してもよいし、或いは、階段状に段階的に変化してもよい。
接合材料は高い粘性を有しており、接合材料中に気泡を内包している。実装基板上を接合材料が移動すると、接合材料の移動に伴い内包されている気泡も移動する。本実施形態の電子装置において、領域Xから離れるにつれて各凹部の幅を大きくすることにより、領域Xから離れるにつれて凹部の容量が大きく、多くの接合材料を収容できる。領域Xから離れるにつれて各凹部の幅を大きくすることで、多くの接合材料が領域Xから離れるように移動し、接合材料に内包された多くの気泡も基板の外側に向かって移動する。結果、基板と実装基板とが接合した電子装置の電子部品直下の領域における接合材料中の気泡を効率的に凹部の内部へと追い出すことができ、電子部品直下の領域に熱抵抗の高い気泡の存在確率を効率的に減らすことができる。本実施形態の電子装置は、発熱による電子部品の効率の低下や出力電力の低下を効率的に抑制することができ電子装置の信頼性が高い。
凹部204は上面視で領域Xから500μm以内の領域に設けられていることが好ましい。そうすることで、効率的に接合材料中の気泡を実装基板201に設けられた凹部204へと追い出すことができることが実験から分かっている。
また、基板を実装基板201へ接合した後の基板が設けられる領域の外側まで凹部204を延伸して設けてもよい。凹部204を基板の外側まで設けることで、多くの気泡が発生した場合においても気泡を凹部204の内部へと追い出すことができる。
本実施形態では、領域Xから離れるにつれて全ての凹部の幅を太く設けているが、本発明はかかる態様に限定されない。例えば、領域Xから離れるにつれて幅が太くなる凹部は一つだけでもよい。
(第3の実施形態)
第3の実施形態に係る電子装置の構造について図12を用いて説明する。図12は、凹部が設けられたCuの実装基板301を示す。実装基板上に設けられた凹部の形状以外の構造は第1の実施形態と同様であるため、実装基板以外の詳しい説明は省略する。
図12に示されるように、実装基板301に設けられた凹部304の形状は基板の電子部品が設けられる領域Xから放射状に延びる形状で設けられている。各凹部の位置関係は、例えば領域Xを中心にして等角に8つ、隣接している凹部間の角度が45度となるように設けられている。ここで、隣り合う凹部のなす角度とは、凹部の長手方向における凹部の線対称の対称軸同士がなす角度を指す。本実施の形態では、幹となる幹凹部304aのある点から枝となる分枝凹部304bを2つに分岐させている。幹凹部304aと分枝凹部304bとのなす角度は22.5度である。凹部の幅は例えば0.2mm、深さは0.2mmで設けられている。
領域Xから離れるにつれて各幹凹部304aから分岐させた複数の分枝凹部304bを設けることで、領域Xから離れるにつれて凹部が多く設けられており、多くの接合材料を収容できる。よって、領域X近傍よりも領域Xから離れた領域のほうが気泡を内包した接合材料を収容する容量が多くなり、気泡を領域Xから遠ざける確率を高めることができ、電子部品直下の領域の放熱性が高く、電子部品の発熱による効率の低下や出力電力の低下を抑制することができる。
実装基板301上に設ける凹部は上面視で領域Xから500μm以内の領域に設けることが好ましい。そうすることで、効率的に接合材料中の気泡を実装基板301に設けられた凹部へと追い出すことができることが実験から分かっている。
また、基板を実装基板へ実装した後の基板が設けられる領域の外側まで幹凹部304a或いは分枝凹部304bを延伸して設けてもよい。幹凹部304a或いは分枝凹部304bを基板の外側まで設けることで、多くの気泡が発生した場合においても気泡を幹凹部304a或いは分枝凹部304bの内部へと追い出すことができる。
本実施形態では、領域Xから離れる方向に延び、幹凹部から分岐する分枝凹部の数を2つとして説明したが、本発明はかかる態様に限定されない。例えば、分枝凹部の数は1つでも良いし、3つ以上に分岐して設けられてもよい。分枝凹部の数が多いほど、気泡を内包する接合材料の収容する容量が大きく、電子部品直下の領域における接合材料中の気泡の存在確率を効率的に減らすことができる。
本実施形態は、第2の実施形態の電子装置においても、同様に適用することができる。つまり、分岐させた分枝凹部は領域Xから離れるにつれて凹部の幅が連続的或いは段階的に太くなるよう設けてもよい。また、幹凹部も、領域Xから離れるにつれて凹部の幅が連続的或いは段階的に太くなるよう設けてもよい。
(第4の実施形態)
第4の実施形態に係る電子装置の構造について図13を用いて説明する。図13は、凹部が設けられたCuの実装基板401を示す。
図13に示されるように実装基板401に設けられた凹部404の形状は実装される電子部品が設けられる領域Xを除く領域において、各々の凹部404は平行に設けられている。凹部404の幅は例えば0.2mm、深さは0.2mmで設けられている。
本実施の形態では、電子部品が設けられる領域が、上面視で、矩形であれば正方形ではない形状の場合において、円形であれば真円ではない場合において特に効率的に接合材料中の気泡を実装基板401に設けられた凹部404へ追い出すことが出来る。領域Xの形状をより具体的にいうと、矩形であれば各辺の長さが異なるような形状を指し、円形であれば、長軸の長さと短軸の長さとが異なるような形状を指す。本実施形態の構成を採ることにより、実装基板401において電子部品に対応した領域周辺の密度を上げることができ、電子部品直下の気泡を効率的に凹部の内部へと追い出すことができる。このように、電子部品直下の領域において接合材料中の気泡を効率的に凹部404へと追い出すことで、電子部品直下の領域の放熱性が高く、電子部品の発熱による効率の低下や出力電力の低下を抑制することができる。
実装基板401上に設ける凹部404は上面視で領域Xから500μm以内の領域に設けることが好ましい。そうすることで、効率的に接合材料中の気泡を実装基板401に設けられた凹部404へと追い出すことができることが実験から分かっている。
また、基板を実装基板へ実装した後の基板が設けられる領域の外側まで凹部を延伸して設けてもよい。凹部404を基板の外側まで設けることで、多くの気泡が発生した場合においても気泡を凹部404の内部へと追い出すことができる。
なお、本発明は、上述した各特定の実施形態に記載した構成に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形及び変更が可能である。例えば、実装基板に設けられた各凹部の向きは実装基板の辺とは並行ではなく、例えば斜めの方向に設けられていてもよい。また、実装基板において電子部品が設けられる領域を除く領域は全て凹部であってもよい。
101 実装基板
102 基板
103 接合部
103a 接合材料
104A〜H 凹部
105 電子部品
106 凸部
110A〜C 気泡(空隙)
111 平坦な領域
201 実装基板
204 凹部
301 実装基板
304 凹部
304a 幹凹部
304b 分岐凹部
401 実装基板
404 凹部
901 実装基板
902 基板
903 接合材料
904 気泡
905 電子部品

Claims (9)

  1. 第1面に凸部を有する第1基板と、
    前記第1基板上で前記凸部を覆って設けられた接合部と、
    前記接合部上に設けられた第2基板と、
    前記第2基板上または前記第2基板内に設けられた発熱源と、
    を備え、
    前記凸部は前記発熱源の直下に設けられていることを特徴とする電子装置。
  2. 前記接合部は前記第2基板よりも高い熱伝導率を有することを特徴とする、請求項1に記載の電子装置。
  3. 前記発熱源は、トランジスタ、キャパシタ、ダイオード、抵抗素子、インダクタの何れかを含むことを特徴とする、請求項1又は2に記載の電子装置。
  4. 前記発熱源はトランジスタであり、
    前記トランジスタは、窒化物半導体を用いた高電子移動度トランジスタであることを特徴とする、請求項1乃至3の何れか1項に記載の電子装置。
  5. 前記第1面に凹部が設けられていることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の電子装置。
  6. 前記第1基板は前記第1面に他の凹部を有することを特徴とする、請求項5に記載の電子装置。
  7. 前記第1面の法線方向から見て、前記凹部及び前記他の凹部は前記発熱源から遠ざかる方向に延びて設けられていることを特徴とする、請求項5または6に記載の電子装置。
  8. 前記接合部はAuSn或いはAgを含むことを特徴とする、請求項1乃至7の何れか1項に記載の電子装置。
  9. 第1面に凸部を有する第1基板に前記凸部を覆うように流動性を有する接合材料を前記第1面に形成し、
    発熱源を有する第2基板を、前記第1面の法線方向から見て前記凸部と前記発熱源とが重なるように位置あわせし、
    前記第1基板と前記第2基板とで前記接合材料を挟み込み、
    前記接合材料を硬化させることにより前記第1基板と前記第2基板とを接合することを特徴とする電子装置の製造方法。
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