JP2018199291A - 圧電デバイス、液体吐出ヘッド、液体吐出装置 - Google Patents

圧電デバイス、液体吐出ヘッド、液体吐出装置 Download PDF

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Abstract

【課題】振動板の変位効率を向上させる。【解決手段】圧力室と、圧電素子と、圧力室と圧電素子との間に配置される振動板と、を具備し、振動板は、結晶面内の方向によってヤング率が異なる異方性の単結晶シリコン基材の結晶面を有し、振動板のうち圧力室に平面視で重なる振動領域において、結晶面内のヤング率のうち第1方向のヤング率は、第1方向に交差する第2方向の結晶面内の第2ヤング率よりも大きく、第1方向に沿った圧電素子の幅は、第2方向に沿った圧電素子の幅よりも大きい圧電デバイス。【選択図】図4

Description

本発明は、圧電デバイスによって圧力変動を発生させる技術に関する。
圧電デバイスによって圧力室に圧力変動を発生させることで、圧力室に供給されるインク等の液体をノズルから吐出する液体吐出ヘッドが従来から提案されている。例えば特許文献1には、圧力室の壁面(上面)を構成する振動板と振動板を振動させる圧電素子とを備えた圧電デバイスを圧力室毎に設ける技術が開示されている。この振動板の活性層基板(振動により変形する部分)は、結晶面内の方向に応じてヤング率が変化するシリコン基材で振動板の活性層基板を構成される。特許文献1では、上記結晶面内において振動板の短手方向のヤング率の方が長手方向のヤング率よりも小さくなるような方向に振動板の短手方向を合わせることで、振動板の短手方向を変形し易くするようにしている。
特開2002−67307号公報
ところが、特許文献1のように、結晶面内の方向に応じてヤング率が変化するシリコン基材で振動板を構成する場合、ヤング率の大きい結晶方位では、振動板が変位し難くなるため、全体として振動板の変位が阻害される虞がある。例えば結晶面が(100)面のシリコン基板では、ヤング率が最小となる角度から45度の角度で最大となる。このため、特許文献1のように、短手方向と長手方向のヤング率によって振動板の方向を合わせるだけでは、振動板にヤング率の大きい結晶方位が含まれていると、振動板全体の変位を十分に向上させることができない。以上の事情を考慮して、本発明は、振動板の変位効率を向上させることを目的とする。
以上の課題を解決するために、本発明の圧電デバイスは、圧力室と、圧電素子と、圧力室と圧電素子との間に配置される振動板と、を具備し、振動板は、結晶面内の方向によってヤング率が異なる異方性の単結晶シリコン基材の結晶面を有し、振動板のうち圧力室に平面視で重なる振動領域において、結晶面内のヤング率のうち第1方向のヤング率は、第1方向に交差する第2方向の結晶面内の第2ヤング率よりも大きく、第1方向に沿った圧電素子の幅は、第2方向に沿った圧電素子の幅よりも大きい。以上の態様によれば、結晶面内のヤング率の大きい第1方向に沿った圧電素子の幅は、結晶面内のヤング率の小さい第2方向に沿った圧電素子の幅よりも大きいから、振動板の変位の妨げになり易いヤング率の大きい方向において圧電素子が駆動する範囲を、ヤング率の小さい方向よりも広げることができる。これにより、ヤング率の大きい面内方向で撓み量を増やすことができるので、ヤング率の低い面内方向と同じ撓み量を付与できる。このことによって、振動板全体に均等な歪みを発生させることができるから、振動板全体を変位させ易くなり、振動板の変位効率を向上させることができる。
本発明の好適な態様において、圧電素子の幅は、圧電素子のうち圧力室に平面視で重なる部分の幅である。以上の態様によれば、結晶面内のヤング率の大きい方向の方がヤング率の小さい方向よりも、圧電素子のうち圧力室に平面視で重なる部分の幅が大きくなるようにすることができるから、振動板において圧電素子と共に変位する振動領域の面内方向の撓み量を増やすことができるので、振動板全体の変位効率を向上することができる。
本発明の好適な態様において、圧電素子の幅は、圧電素子のうち圧力室の側壁に平面視で重なる部分の幅である。以上の態様によれば、結晶面内のヤング率の大きい方向の方がヤング率の小さい方向よりも、圧電素子のうち圧力室の側壁に平面視で重なる部分の幅が大きくなるようにすることができるから、振動板のうち圧力室の側壁に近い振動領域の面内方向の撓み量を増やすことができるので、振動板全体の変位効率を向上することができる。
以上の課題を解決するために、本発明の圧電デバイスは、圧力室と、圧電素子と、圧力室と圧電素子との間に配置される振動板と、を具備し、振動板は、圧力室に平面視で重なる振動領域を有し、振動領域を内包する最小の長方形の短い軸の方向に沿った圧電素子の幅は、長方形の長い軸の方向に沿った圧力室の幅よりも大きい。以上の態様によれば、振動領域を内包する最小の長方形の短軸方向に沿った圧電素子の幅は、長方形の長い軸の方向に沿った圧力室の幅よりも大きいから、振動板の変位の妨げになり易い短い軸の方向において圧電素子が駆動する範囲を、長い軸の方向よりも広げることができる。これにより、短軸方向で撓み量を増やすことができるので、長軸方向と同じ撓み量を付与できる。このことによって、振動板全体に均等な歪みを発生させることができる。したがって、振動板全体を変位させ易くなり、振動板の変位効率を向上させることができる。
本発明の好適な態様において、圧電素子の幅は、圧電素子のうち圧力室に平面視で重なる部分の幅である。以上の態様によれば、振動領域の短い軸の方向の方が長い軸の方向よりも、圧電素子のうち圧力室に平面視で重なる部分の幅が大きくなるようにすることができるから、振動板において圧電素子と共に変位する振動領域の面内方向の撓み量を増やすことができるので、振動板全体の変位効率を向上することができる。
本発明の好適な態様において、圧電素子の幅は、圧電素子のうち圧力室の側壁に平面視で重なる部分の幅である。以上の態様によれば、振動領域の短い軸の方向の方が長い軸の方向よりも、圧電素子のうち圧力室の側壁に平面視で重なる部分の幅が大きくなるようにすることができるから、振動板のうち圧力室の側壁に近い振動領域の面内方向の撓み量を増やすことができるので、振動板全体の変位効率を向上することができる。
以上の課題を解決するために、本発明の圧電デバイスは、圧電素子と、圧力室と圧電素子との間に配置される振動板と、を具備し、振動板は、結晶面内の方向によってヤング率が異なる異方性の単結晶シリコン基材の結晶面を有し、振動板のうち圧力室に平面視で重なる振動領域において、結晶面内のヤング率のうち第1方向のヤング率は、第1方向に交差する第2方向の結晶面内の第2ヤング率よりも大きく、第1方向に沿った圧電素子の第1幅は、第2方向に沿った圧電素子の第2幅よりも大きく、振動領域を内包する最小の長方形の短い軸の方向に沿った圧電素子の幅は、長方形の長い軸の方向に沿った圧力室の幅よりも大きく、第1幅と第2幅は、長い軸の方向に沿った圧電素子の幅よりも大きい。以上の態様によれば、結晶面内のヤング率の大きい方向の方がヤング率の小さい方向よりも圧電素子の幅が大きく、振動領域の短い軸の方向の方が長い軸の方向よりも圧電素子の幅が大きいから、振動板の変位の妨げになり易い方向において圧電素子が駆動する範囲を広げることができる。これにより、振動板の変形し難い面内方向で変位量を増やすことができるから、振動板全体に均等な歪みを発生させることができる。したがって、振動板全体を変位させ易くなり、振動板の変位効率を向上させることができる。また、長い軸の方向に沿った圧電素子の幅よりも第1幅と第2幅を大きくすることで、振動領域の軸方向よりもヤング率の方向を優先して圧電素子の幅を大きくできるので、振動板全体の変位効率を向上することができる。
本発明の好適な態様において、圧電素子は、平面視で圧力室の中心に重ならずに圧力室の内周に重なるように振動板に配置され、平面視において圧力室の内周を挟んで、圧力室の中心側に内縁を有すると共に、圧力室の側壁側に外縁を有する。以上の態様によれば、圧力室の内縁の形状と外縁の形状によって、圧電素子の幅を変えることができる。しかも圧力室の中心の周りに圧電素子が配置されるので、方向によって圧電素子の幅を変え易い。
本発明の好適な態様において、圧電素子の全周が、圧力室の内周全周に平面視で重なる。以上の態様によれば、圧電素子の全周が、圧力室の内周全周に平面視で重なるから、方向によって圧電素子の幅を変えることで、振動板全体に均等な歪みを発生させ易い。これにより、振動板全体を変位させ易くなり、振動板の変位効率を向上させることができる。
本発明の好適な態様において、圧電素子の内縁または外縁の形状は、平面視において多角形または円形である。以上の態様によれば、圧電素子の内縁または外縁の形状が、平面視において多角形または円形などの様々な形状の場合においても、振動板全体の変位効率を向上することができる。
本発明の好適な態様において、圧力室の内周の形状は、平面視において多角形または円形である。以上の態様によれば、圧力室の内周の形状が、平面視において多角形または円形などの様々な形状の場合においても、振動板全体の変位効率を向上することができる。
本発明の好適な態様において、単結晶シリコン基材は、結晶面が{100}面の基材であり、第1方向は、結晶面内の結晶方位〈011〉に沿っており、第2方向は、結晶面内の結晶方位〈001〉に沿っている。以上の態様によれば、結晶面{100}面において、ヤング率が最大となる結晶方位〈011〉に沿った第1方向の方が、ヤング率が最小となる結晶方位〈001〉に沿った第2方向よりも、圧電素子の幅を大きくできる。これにより、振動板の変位の妨げになり易いヤング率の大きい方向において圧電素子が駆動する範囲を、ヤング率の小さい方向よりも広げることができる。したがって、ヤング率の大きい面内方向で撓み量を増やすことができるので、ヤング率の低い面内方向と同じ撓み量を付与できる。このことにより、振動板全体に均等な歪みを発生させることができるから、振動板全体を変位させ易くなり、振動板の変位効率を向上させることができる。
本発明の好適な態様において、単結晶シリコン基材は、結晶面が{110}面の基材であり、第1方向は、結晶面内の結晶方位〈111〉に沿っており、第2方向は、結晶面内の結晶方位〈001〉に沿っている。以上の態様によれば、結晶面{110}面において、ヤング率が最大となる結晶方位〈111〉に沿った第1方向の方が、ヤング率が最小となる結晶方位〈001〉に沿った第2方向よりも、圧電素子の幅を大きくできる。これにより、振動板の変位の妨げになり易いヤング率の大きい方向において圧電素子が駆動する範囲を、ヤング率の小さい方向よりも広げることができる。したがって、ヤング率の大きい面内方向で撓み量を増やすことができるので、ヤング率の低い面内方向と同じ撓み量を付与できる。このことによって、振動板全体に均等な歪みを発生させることができるから、振動板全体を変位させ易くなり、振動板の変位効率を向上させることができる。
本発明の好適な態様において、振動板の表面は、結晶面内の方向によってヤング率が等しい等方性の単結晶シリコン基材の結晶面{111}で構成される。以上の態様によれば、振動板の表面が、結晶面内の方向によってヤング率が等しい等方性の単結晶シリコン基材の結晶面{111}で構成される場合でも、振動領域の短い軸の方向に沿った圧電素子の幅を、長い軸の方向に沿った圧力室の幅よりも大きくすることで、振動板全体を変位させ易くなり、振動板の変位効率を向上させることができる。
以上の課題を解決するために、本発明の液体吐出ヘッドは、上述した各態様の何れかに記載の圧電デバイスを備え、圧電素子によって振動板を振動させることで圧力室の圧力を変動することよって、圧力室に充填された液体をノズルから吐出する。以上の態様によれば、振動板の変位効率を向上させることができる圧電デバイスを備えた液体吐出ヘッドを提供できる。
以上の課題を解決するために、本発明の液体吐出装置は、上述した各態様の何れかに記載の圧電デバイスを備え、圧電素子によって振動板を振動させることで圧力室の圧力を変動することよって、圧力室に充填された液体をノズルから吐出する。以上の態様によれば、振動板の変位効率を向上させることができる圧電デバイスを備えた液体吐出装置を提供できる。
本発明の第1実施形態に係る液体吐出装置の構成図である。 液体吐出ヘッドの分解斜視図である。 図2に示す液体吐出ヘッドのIII−III断面図である。 圧電デバイスの断面図および平面図である。 図4に示す圧電デバイスのV−V断面図である。 単結晶シリコン基材の(100)面内におけるヤング率の異方性の例を示すグラフである。 単結晶シリコン基材の(110)面内におけるヤング率の異方性の例を示すグラフである。 第1実施形態の第1変形例に係る圧電デバイスの平面図である。 第1実施形態の第2変形例に係る圧電デバイスの平面図である。 第1実施形態の第3変形例に係る圧電デバイスの平面図である。 第2実施形態に係る圧電デバイスの断面図および平面図である。 図11に示す圧電デバイスのXII−XII断面図である。 図11に示す圧電デバイスのXIII−XIII断面図である。 第2実施形態の第1変形例に係る圧電デバイスの平面図である。 第2実施形態の第2変形例に係る圧電デバイスの平面図である。 第2実施形態の第3変形例に係る圧電デバイスの平面図である。 第3実施形態に係る圧電デバイスの平面図である。 図17に示す圧電デバイスのXVIII−XVIII断面図である。 第4実施形態に係る圧電デバイスの平面図である。 図19に示す圧電デバイスのXX−XX断面図である。 第4実施形態の変形例に係る圧電デバイスの断面図である。
<第1実施形態>
図1は、本発明の第1実施形態に係る液体吐出装置10を例示する構成図である。第1実施形態の液体吐出装置10は、液体の例示であるインクを媒体12に吐出するインクジェット方式の印刷装置である。媒体12は、典型的には印刷用紙であるが、樹脂フィルムまたは布帛等の任意の印刷対象が媒体12として利用され得る。図1に示すように、液体吐出装置10には、インクを貯留する液体容器14が固定される。例えば液体吐出装置10に着脱可能なカートリッジ、可撓性のフィルムで形成された袋状のインクパック、またはインクを補充可能なインクタンクが液体容器14として利用される。色彩が相違する複数種のインクが液体容器14には貯留される。
図1に示すように、液体吐出装置10は、制御装置20と搬送機構22と移動機構24と複数の液体吐出ヘッド26とを具備する。制御装置20は、例えばCPU(Central Processing Unit)またはFPGA(Field Programmable Gate Array)等の処理回路と半導体メモリー等の記憶回路とを包含し、液体吐出装置10の各要素を統括的に制御する。搬送機構22は、制御装置20による制御のもとで媒体12をY方向に搬送する。
移動機構24は、制御装置20による制御のもとで複数の液体吐出ヘッド26をX方向に往復させる。X方向は、媒体12が搬送されるY方向に交差(典型的には直交)する方向である。移動機構24は、複数の液体吐出ヘッド26を搭載するキャリッジ242と、キャリッジ242が固定された無端ベルト244とを具備する。なお、液体容器14を液体吐出ヘッド26とともにキャリッジ242に搭載することも可能である。
複数の液体吐出ヘッド26の各々は、液体容器14から供給されるインクを制御装置20による制御のもとで複数のノズル(吐出孔)Nから媒体12に吐出する。搬送機構22による媒体12の搬送とキャリッジ242の反復的な往復とに並行して各液体吐出ヘッド26が媒体12にインクを吐出することで媒体12の表面に所望の画像が形成される。なお、X−Y平面(例えば媒体12の表面に平行な平面)に垂直な方向を以下では、Z方向と表記する。各液体吐出ヘッド26によるインクの吐出方向(典型的には鉛直方向)がZ方向に相当する。
(液体吐出ヘッド)
図2は、任意の1個の液体吐出ヘッド26の分解斜視図であり、図3は、図2におけるIII−III断面図である。図2に示すように、液体吐出ヘッド26は、Y方向に配列された複数のノズルNを具備する。第1実施形態の複数のノズルNは、第1列L1と第2列L2とに区分される。第1列L1と第2列L2との間でノズルNのY方向の位置を相違させること(すなわち千鳥配置またはスタガ配置)も可能であるが、第1列L1と第2列L2とでノズルNのY方向の位置を一致させた構成が図3では便宜的に例示されている。図2に示すように液体吐出ヘッド26は、第1列L1の複数のノズルNに関連する要素と第2列L2の複数のノズルNに関連する要素とが略線対称に配置された構造である。
図2および図3に示すように、液体吐出ヘッド26は流路基板32を具備する。流路基板32は、表面F1と表面F2とを含む板状部材である。表面F1はZ方向の正側の表面(媒体12側の表面)であり、表面F2は表面F1とは反対側(Z方向の負側)の表面である。流路基板32の表面F2には、圧力発生部35とケース部材40とが設置され、表面F1にはノズル板52とコンプライアンス基板54とが設置される。液体吐出ヘッド26の各要素は、概略的には流路基板32と同様にY方向に長尺な板状部材であり、例えば接着剤を利用して相互に接合される。なお、流路基板32と圧力室基板34とが積層される方向をZ方向として把握することも可能である。
圧力発生部35は、ノズルNからインクを吐出するための圧力変動を発生させる要素である。本実施形態の圧力発生部35は、圧力室基板34と圧電デバイス39とを含む第1基板Aと、配線接続基板(保護基板)38を含む第2基板Bと、駆動IC62とを接合して構成される。圧電デバイス39は、圧力室基板34に形成される後述の圧力室Cと、圧電素子37と、圧力室Cと圧電素子37との間に配置される振動板36とからなり、振動による圧力変動を圧力室C内に発生させる要素である。なお、圧力発生部35および圧電デバイス39についての詳細は後述する。
ノズル板52は、複数のノズルNが形成された板状部材であり、例えば接着剤を利用して流路基板32の表面F1に設置される。各ノズルNはインクが通過する貫通孔である。第1実施形態のノズル板52は、単結晶シリコン(Si)基材(シリコン基板)を、半導体製造技術を利用して加工することで製造される。ただし、ノズル板52の製造には公知の材料や製法が任意に採用され得る。
流路基板32は、インクの流路を形成するための板状部材である。図2および図3に示すように、流路基板32には、第1列L1および第2列L2の各々について、空間RAと複数の供給流路322と複数の連通流路324とが形成される。空間RAは、平面視で(すなわちZ方向からみて)Y方向に沿う長尺状の開口であり、供給流路322および連通流路324は、ノズルN毎に形成された貫通孔である。複数の供給流路322はY方向に配列され、複数の連通流路324も同様にY方向に配列される。また、図3に示すように、流路基板32の表面F1には、複数の供給流路322にわたる中間流路326が形成される。中間流路326は、空間RAと複数の供給流路322とを連結する流路である。他方、連通流路324はノズルNに連通する。
図2および図3の配線接続基板38は、複数の圧電素子37を保護するための板状部材であり、振動板36の表面(圧力室Cとは反対側の表面)に設置される。配線接続基板38の材料や製法は任意であるが、流路基板32や圧力室基板34と同様に、単結晶シリコン(Si)基材(シリコン基板)を、半導体製造技術を利用して加工することで、配線接続基板38は形成され得る。図2および図3に示すように、配線接続基板38のうち振動板36側の表面(以下「接合面」という)とは反対側の表面(以下「実装面」という)には駆動IC62が設置される。駆動IC62は、制御装置20による制御のもとで駆動信号を生成および供給することで各圧電素子37を駆動する駆動回路が搭載された略矩形状のICチップである。配線接続基板38の実装面には、駆動IC62の駆動信号(駆動電圧)の出力端子に接続される配線384が圧電素子37毎に形成される。また配線接続基板38の実装面には、駆動IC62のベース電圧(圧電素子37の駆動信号のベース電圧)の出力端子に接続される配線385が圧電素子37の配置に沿ってY方向に連続して形成される。
図2および図3に示すケース部材40は、複数の圧力室C(さらには複数のノズルN)に供給されるインクを貯留するためのケースである。ケース部材40のうちZ方向の正側の表面が例えば接着剤で流路基板32の表面F2に固定される。図2および図3に示すように、ケース部材40のうちZ方向の正側の表面にはY方向に延在する溝状の凹部42が形成される。配線接続基板38および駆動IC62は凹部42の内側に収容される。ケース部材40は、流路基板32や圧力室基板34とは別個の材料で形成される。例えば樹脂材料の射出成形でケース部材40を製造することが可能である。ただし、ケース部材40の製造には公知の材料や製法が任意に採用され得る。ケース部材40の材料としては、例えば合成繊維や樹脂材料が好適である。
図3に示すように、ケース部材40には、第1列L1および第2列L2の各々について空間RBが形成される。ケース部材40の空間RBと流路基板32の空間RAとは相互に連通する。空間RAと空間RBとで構成される空間は、複数の圧力室Cに供給されるインクを貯留する液体貯留室(リザーバー)Rとして機能する。液体貯留室Rは、複数のノズルNにわたる共通液室である。ケース部材40のうち流路基板32とは反対側の表面には、液体容器14から供給されるインクを液体貯留室Rに導入するための導入口43が第1列L1および第2列L2の各々について形成される。
液体容器14から導入口43に供給されたインクは、液体貯留室Rの空間RBと空間RAに貯留される。液体貯留室Rに貯留されたインクは、中間流路326から複数の供給流路322に分岐して各圧力室Cに並列に供給および充填される。
図2に示すように、表面F1にはコンプライアンス基板54が設置される。コンプライアンス基板54は、液体貯留室R内のインクの圧力変動を吸収する可撓性のフィルムである。図3に示すように、コンプライアンス基板54は、流路基板32の空間RAと中間流路326と複数の供給流路322とを閉塞するように流路基板32の表面F1に設置されて液体貯留室Rの壁面(具体的には底面)を構成する。
図3に示す圧力発生部35は、第1基板Aと第2基板Bと駆動IC62とを積層して構成される。第1基板Aは圧力室基板34と振動板36と複数の圧電素子37とを含む基板であり、第2基板Bは配線接続基板38を含む基板である。
圧力室基板34は、圧力室Cを構成する複数の開口342が第1列L1および第2列L2の各々について形成された板状部材であり、例えば接着剤を利用して流路基板32の表面F2に設置される。複数の開口342は、Y方向に配列される。各開口342は、ノズルN毎に形成されて平面視でX方向に沿う長尺状の貫通孔である。流路基板32および圧力室基板34は、前述のノズル板52と同様に、単結晶シリコン(Si)基材(シリコン基板)を、半導体製造技術を利用して加工することで製造される。ただし、流路基板32および圧力室基板34の製造には公知の材料や製法が任意に採用され得る。圧力室基板34のうち流路基板32とは反対側の表面に、圧電デバイス39が設置される。
(圧電デバイス)
図4は、圧電デバイス39を拡大した断面図および平面図である。図4の断面図(図4の上側の図)は、圧電デバイス39をX−Z平面で切断したものであり、図4の平面図(図4の下側の図)は、圧電デバイス39をZ方向から見たものである。図5は、図4に示す圧電デバイス39のV−V断面図である。図4および図5のW方向は、X方向から反時計回りに45度の角度をなす方向であり、後述する軸Gwに沿った方向である。
図4および図5に示すように、圧電デバイス39は、圧力室Cと圧電素子37と振動板36とからなり、圧電素子37によって振動板36を振動させることで、各圧力室Cに圧力変動を発生させる。図4の圧力室Cの内周345の形状は、正方形である。具体的には圧力室Cの内周345の形状は、平面視において正方形である。圧力室Cの内周345の形状は、Z方向から平面視したときの圧力室Cの側壁344の内周345の形状であり、振動板36の振動領域Pを画定する。振動板36の振動領域Pは、振動板36のうち圧力室Cに平面視で重なる領域であり、圧力室Cの壁面(上面)を構成する領域である。
図4の圧電素子37は、平面視において(Z方向から見て)内縁37Aの形状が正方形で、外縁37Bの形状が内縁37Aの正方形よりも大きな正方形の環状の素子である。具体的には、圧電素子37は、平面視で圧力室Cの中心Oに重ならずに圧力室Cの内周345に重なるように振動板36に配置され、圧力室Cの内周345を挟んで、圧力室Cの中心O側に内縁37Aを有し、圧力室Cの側壁344側に外縁37Bを有する。図4では、圧電素子37の全周が、圧力室Cの内周345の全周に平面視で重なるように、環状に形成された場合を例示する。ただし、圧電素子37が、圧力室Cの内周345の全周ではなく、内周345の一部に重なる構成であってもよい。
図2および図3に示すように、流路基板32の表面F2と振動板36とは、各開口342の内側で相互に間隔をあけて対向する。開口342の内側で流路基板32の表面F2と振動板36との間に位置する空間が、当該空間に充填されたインクに圧力を付与するための圧力室Cとして機能する。圧力室CはノズルN毎に個別に形成される。図2に示すように、第1列L1および第2列L2の各々について、複数の圧力室C(開口342)がY方向に配列される。任意の1個の圧力室Cは、供給流路322と中間流路326とを介して空間RAに連通するとともに、連通流路324を介してノズルNに連通する。
図2乃至図5に示すように、振動板36のうち圧力室Cとは反対側の表面には、相異なるノズルNに対応する複数の圧電素子37が第1列L1および第2列L2の各々について設置される。圧電素子37は、駆動信号の供給により変形して圧力室Cに圧力を発生させる圧力発生素子である。複数の圧電素子37は、各圧力室Cに対応するようにY方向に配列する。
圧電素子37は、相互に対向する第1電極と第2電極との間に圧電体層を介在させた積層体である。第1電極と第2電極との間に電圧を印加することで、第1電極と第2電極とで挟まれる圧電体層に圧電歪みが生じて変位する。したがって、圧電素子37は、第1電極と第2電極と圧電体層が重なる部分である。この圧電体層373の圧電歪みに連動して振動板36が振動することで、圧力室C内の圧力が変動する。なお、圧電素子37と振動板36との間に、密着力を確保するための密着層が設けられていてもよい。すなわち、圧電素子37は、振動板36の表面上に直接設けられている必要はなく、振動板36の表面に密着層を介して設けられていてもよい。密着層としては、ジルコニウム、酸化ジルコニウム、チタン、酸化チタン、酸化シリコンなどを用いることができる。
図4および図5に示すように、振動板36は、弾性的に振動可能な板状部材である。本実施形態の振動板36は、結晶面内の方向によってヤング率が異なる異方性の単結晶シリコン基材で構成されており、振動板36の表面は、単結晶シリコン基材の結晶面で構成される。ただし、上記単結晶シリコン基材の結晶は、振動板36の表面にあることに限られず、少なくとも振動板36が有していればよい。例えば振動板36が複数の材料を積層して成る場合には、積層される材料に単結晶シリコン基材の結晶が含まれていればよい。振動板36は、圧力室Cの側壁344(圧力室基板34)に積層して接合され、圧力室Cの側壁344に交差する壁面(具体的には上面)を構成する。上述したように、振動板36のうち圧力室Cに平面視で重なる領域(圧力室Cの上面を構成する領域)は、圧電素子37によって振動する振動領域Pである。
本実施形態の圧電素子37は、平面視で(Z方向から見て)重なる内周部372aと、圧力室Cの側壁344に平面視で重なる外周部372bと、を備える。内周部372aは、圧電体層373の圧電歪みに連動してZ方向に変位する部分である。外周部372bは、圧力室Cの側壁344によってZ方向の変位が規制される部分(Z方向には変位しない部分)である。
本実施形態の振動領域Pは、平面視において圧力室Cと同じ大きさの正方形であり、X方向に沿って中心Oを通る軸Gxと、Y方向に沿って中心Oを通る軸Gyを有する。本実施形態の振動領域Pは、正方形であるから、振動領域Pの軸Gxの方向の長さと軸Gyの方向の長さは等しい。なお、振動領域Pが、軸Gyの方向の長さと軸Gxの方向の長さが異なる形状の場合には、振動領域Pを内包する最小の長方形の短軸を振動領域Pの軸Gyとし、振動領域Pを内包する最小の長方形の長軸を振動領域Pの軸Gxとする。
このような構成の圧電デバイス39においては、図4および図5の点線に示すように、圧電素子37の圧電歪みによって振動板36の振動領域PにZ方向への変位Hが生じる。この場合、例えばシリコン基材の結晶面によっては、結晶面内の方向に応じてヤング率が変化するので、振動板36の一方の辺を結晶面内のヤング率の低い方向に合わせることで、振動板36のその辺に沿った方向において、Z方向に変形し易くすることができるので、このようにすることで振動板36の変位効率を向上させることができるとも考えられる。
ところが、振動板36のうちヤング率の大きい結晶方位では、振動板36が変位し難くなるため、全体として振動板36のZ方向の変位が阻害される虞がある。このため、振動板36の方向をヤング率の大きさに応じた結晶方位に合わせるだけでは、振動板36にヤング率の大きい結晶方位が含まれていると、振動板36全体のZ方向の変位を十分に向上させることができない場合がある。
図6は、結晶面が(100)面(結晶面に垂直な結晶面方位が[100])の単結晶シリコン基材の(100)面内におけるヤング率の異方性の例を示すグラフである。図6は、極座標であり、中心から離れるほどヤング率が大きくなる。結晶面が(100)面の単結晶シリコン基材の(100)面内におけるヤング率は、略正方形の異方性を有している。図6において、ヤング率が最小となるのは、4つの結晶方位[010]、[001]、[0−10]、[00−1]であり、これらの方位をDmとすると、方位Dmから例えば反時計回りに45度の角度を有する方位Dnでヤング率が最大となる。したがって、例えばヤング率を小さくして振動板36を変位し易くするために、振動領域Pの軸Gxの方向を方位Dm(例えば結晶方位[010])に合わせても、それただけではヤング率が最大となる方位DnでZ方向に変位し難くなってしまう。このため、全体として振動板36のZ方向の変位が阻害されてしまい、振動板36全体の変位を十分に向上させることができない。
そこで、第1実施形態では、結晶面内において第1方向(例えばW方向)のヤング率の方が第2方向(例えばX方向またはY方向)のヤング率よりも大きい場合に、第1方向に沿った圧電素子37の幅は、第2方向に沿った圧電素子37の幅よりも大きくする。この構成によれば、振動板36の変位Hの妨げになり易いヤング率の大きい方向において圧電素子37が駆動する範囲を、ヤング率の小さい方向よりも広げることができる。
例えば図4に示すように、圧力室Cの形状(振動領域Pの形状)が正方形である場合には、圧電素子37の内縁(内周)37Aの形状を圧力室Cよりも小さい正方形とし、外縁(外周)37Bの形状を圧力室Cよりも大きい正方形とする。これにより、ヤング率の大きい方向の圧電素子37の幅を、ヤング率の小さい方向の圧電素子37の幅よりも大きくすることができる。
ここで、このような図4および図5の圧電素子37の構成をより具体的に説明する。結晶面(100)において、ヤング率が最大となる結晶方位[011]に沿った方向を第1方向とし、ヤング率が最小となる結晶方位[010]に沿った方向を第2方向とする。軸Gxから反時計回りに45度の角度をなす方向(W方向に沿った軸をGwとすれば、振動領域Pの軸Gxは第2方向に沿っており、軸Gwは第1方向に沿っている。
図4の圧電素子37は、圧電素子37の内縁37Aの形状が圧力室Cよりも小さい正方形であり、外縁37Bの形状が圧力室Cよりも大きい正方形である。したがって、ヤング率が最大となる軸Gwの方向(第1方向)の圧電素子37の幅Tw(図4の平面図の右上の幅または左下の幅)は、ヤング率が最小となる軸Gxの方向(第2方向)の圧電素子37の幅Tx(図4の平面図の左側の幅または右側の幅)よりも大きい。
なお、図4の振動領域Pでは、互いに直交する軸Gwと軸Gw’の方向が、図6のヤング率が最大となる4つの方位Dnに相当し、振動領域Pの軸Gxと軸Gyの方向が、図6のヤング率が最小となる4つの方位Dmに相当する。したがって、軸Gwに沿った幅Twと軸Gw’に沿った幅Tw’は等しく、軸Gxに沿った幅Txと軸Gyに沿った幅Tyは等しい。幅Twと幅Tw’は、幅Txと幅Tyよりも大きい。
このような構成によれば、振動板36の変位の妨げになり易いヤング率の大きい方向において圧電素子37が駆動する範囲を、ヤング率の小さい方向よりも広げることができる。これにより、ヤング率の大きい面内方向で撓み量を増やすことができるので、ヤング率の低い面内方向と同じ撓み量を付与できるから、振動板36全体に均等な歪みを発生させることができる。したがって、仮に図5の一点鎖線で示すように、圧電素子37の軸Gwに沿った方向の幅を軸Gxに沿った方向の幅Txと同じにした場合の変位H’よりも大きな変位Hにすることができる。このように、振動板36全体を変位させ易くなり、振動板36の変位効率を向上させることができる。
なお、本実施形態では、単結晶シリコン基材の結晶面(100)を振動板36の表面(上面)にする場合を例示したが、単結晶シリコンは立方晶系であるため、結晶面(100)と等価の結晶面である(010)面または(001)面を振動板36の表面(上面)にする場合にも、本実施形態の構成を適用可能である。結晶面が(010)面または(001)面であっても、ヤング率は、図6のような形状になる。ただし、結晶面が(010)面の場合は、図6で基準となる3つの結晶方位[010]、[011]、[001]をそれぞれ、結晶方位[−100]、[−101]、[001]と読み替えて適用する。また、結晶面が(001)面の場合は、図6の結晶方位[010]、[011]、[001]をそれぞれ、結晶方位[010]、[−110]、[−100]と読み替えて適用する。このように、結晶面(100)、(010)、(001)は、いずれも等価であり、これらの面群を結晶面{100}と包括的に表記できる。また、(100)面内の結晶方位[010]、(010)面内の[−100]、(001)面内の[010]は、いずれも等価であるから、[010]およびこれと等価の方向群を結晶方位〈010〉と包括的に表記できる。同様に、結晶方向[011]およびこれに等価の方向郡を結晶方位〈011〉と包括的に表記でき、結晶方向[010]およびこれに等価の方向郡を結晶方位〈001〉と包括的に表記できる。
また、図7に示すように、結晶面が(110)面(結晶面に垂直な結晶面方位が[110])の単結晶シリコン基材で振動板36を形成するようにしてもよい。図7は、結晶面が(110)面の単結晶シリコン基材の(110)面内におけるヤング率の異方性の例を示すグラフである。図7では、図7は、極座標であり、中心から離れるほどヤング率が大きくなる。
図7に示すように、単結晶シリコン基材の(110)面内におけるヤング率は、略長方形の異方性を有している。図7において、(110)面内では、例えば結晶方位[001]でヤング率が最小となり、結晶方位[001]から例えば反時計回りに55度の結晶方位[1−11]でヤング率が最大となる。したがって、ヤング率が最小となる方位をDmとし、ヤング率が最大となる方位をDnとしたときに、ヤング率を小さくして振動板36を変位し易くするために、振動領域Pの軸Gxの方向を結晶方位[001]に合わせても、それただけではヤング率が最大となる方位DnでZ方向に変位し難くなってしまう。このため、全体として振動板36のZ方向の変位が阻害されてしまい、振動板36全体の変位を十分に向上させることができない。
そこで、図4の振動板36を、結晶面が(110)面の単結晶シリコン基材で構成する場合においても、結晶面内において第1方向のヤング率の方が第2方向のヤング率よりも大きい場合に、第1方向に沿った圧電素子37の幅は、第2方向に沿った圧電素子37の幅よりも大きくする。この構成によれば、振動板36の変位の妨げになり易いヤング率の大きい方向において圧電素子37が駆動する範囲を、ヤング率の小さい方向よりも広げることができる。なお、第1方向は、必ずしもヤング率が最大となる結晶方位でなくてもよく、第2方向についても、必ずしもヤング率が最小となる結晶方位でなくてもよい。例えば図7に示すように、ヤング率が最小となるDm(例えば結晶方位[001])に対して45度の角度を有する方位Dn’は、ヤング率が最大ではないが、最小よりも大きくなる。したがって、第2方向をヤング率が最小となる方位Dmとし、第1方向を方位Dn’としても、振動板36の変位の妨げになり易いヤング率の大きい方向において圧電素子37が駆動する範囲を、ヤング率の小さい方向よりも広げることができる。
図4に示す振動領域Pの軸Gwは第1方向に沿っており、軸Gxは第2方向に沿っている。したがって、図4に示す振動領域Pの軸Gxの方向を方位Dm(例えば結晶方位[001])に沿うようにすれば、軸Gwは、軸Gxに対して45度の角度を有するため、方位Dmよりもヤング率の大きい方位Dn’に沿ことになるので、圧電素子37を図4に示す形状にすることで、ヤング率が大きい軸Gwの方向の圧電素子37の幅Twは、ヤング率が小さい軸Gxの圧電素子37の幅Txよりも大きくすることができる。このような構成によれば、図4の振動板36を、結晶面が(110)面の単結晶シリコン基材で構成する場合においても、ヤング率の大きい面内方向で撓み量を増やすことができるので、ヤング率の低い面内方向と同じ撓み量を付与できる。このことによって、振動板36全体に均等な歪みを発生させることができるから、振動板36全体を変位させ易くなり、振動板36の変位効率を向上させることができる。
なお、ここでは単結晶シリコン基材の結晶面(110)を振動板36の表面(上面)にする場合を例示したが、単結晶シリコンは立方晶系であるため、結晶面(110)と等価の結晶面である(011)面または(101)面を振動板36の表面(上面)にする場合にも、上記構成を適用可能である。結晶面が(011)面または(101)面であっても、ヤング率は、図7のような形状になる。ただし、結晶面が(011)面の場合は、図7で基準となる7つの結晶方位[−111],[−112],[001],[1−12],[1−11],[1−10],[1−1−1]をそれぞれ、結晶方位[1−11],[1−12],[100],[21−1],[11−1],[01−1],[−11−1]と読み替えて適用する。また、結晶面が(101)面の場合は、図7の結晶方位[−111],[−112],[001],[1−12],[1−11],[1−10],[1−1−1]をそれぞれ、結晶方位[11−1],[12−1],[010],[−121],[−1−11],[−101],[−1−11]と読み替えて適用する。このように、結晶面(110)、(011)、(101)は、いずれも等価であり、これらの面群を結晶面{110}と包括的に表記できる。また、結晶方位[−111]、[1−11]、[11−1]は、いずれも結晶方位[111]と等価であるから、これらの方向群を結晶方位〈111〉と包括的に表記できる。同様に、結晶方位[001]およびこれと等価の方向群を〈001〉と包括的に表記できる。
なお、本実施形態では、圧力室Cの形状と、圧電素子37の内縁37Aの形状と、圧電素子37の外縁37Bの形状とがそれぞれ正方形である場合を例示したが、これに限られない。圧力室Cの形状とは、圧力室Cの内周345を平面視した(Z方向から見た)ときの形状であり、振動領域Pの形状と同じ形状である。圧電素子37の内縁37Aの形状とは、圧電素子37の内縁37Aを平面視した(Z方向から見た)ときの形状であり、圧電素子37の外縁37Bの形状とは、圧電素子37の外縁37Bを平面視した(Z方向から見た)ときの形状である。
圧力室Cの形状(振動領域Pの形状)と、圧電素子37の内縁37Aの形状と、圧電素子37の外縁37Bとの形状はそれぞれ、正方形以外の多角形や円形であってもよい。ここでの多角形には、長方形、ひし形、六角形、八角形などの他、角丸正方形や角丸長方形のような角丸多角形も含まれる。円形には、真円形、楕円形などの他、略円形(半円形や扇形など)も含まれる。また、圧力室Cの形状(振動領域Pの形状)と、圧電素子37の内縁37Aの形状と、圧電素子37の外縁37Bとの形状とはそれぞれ、異なっていてもよい。圧力室Cと圧電素子37が正方形以外の場合でも、第1方向のヤング率の方が第2方向のヤング率よりも大きい場合に、第1方向に沿った圧電素子37の幅は、第2方向に沿った圧電素子37の幅よりも大きくなるように、圧力室Cの形状に合わせて、圧電素子37の内縁37Aの形状と、圧電素子37の外縁37Bとの形状を決定する。
例えば図8に示す第1実施形態の第1変形例では、圧力室Cの形状(振動領域Pの形状)が真円形の場合である。この場合、圧電素子37の内縁37Aの形状は、圧力室Cよりも小さく、正方形を45度回転させたひし形であり、圧電素子37の外縁37Bの形状は、圧力室Cよりも大きい真円形である。また、図9に示す第1実施形態の第2変形例では、圧力室Cの形状(振動領域Pの形状)が図4の正方形を45度回転させたひし形の場合である。この場合、圧電素子37の内縁37Aの形状は、圧力室Cよりも小さく、軸Gxと軸Gyの方向が凸で、軸GwとGw’の方向が凹の八角形であり、圧電素子37の外縁37Bの形状は、圧力室Cよりも大きいひし形である。圧力室Cの形状(振動領域Pの形状)によって、圧電素子37を図8、図9のような形状にすることで、ヤング率の大きい方向の圧電素子37の幅を、ヤング率の小さい方向の圧電素子37の幅よりも大きくすることができる。
図8および図9の構成においても、図4と同様に、振動領域Pの軸Gxの方向をヤング率の最小の方向とすると、振動領域Pの軸Gwの方向はヤング率の最大の方向となる。このような図8および図9の圧電素子37では、ヤング率が最大となる軸Gwの方向の幅Tw(図8および図9の平面図の右上の幅と左下の幅)は、ヤング率が最小となる軸Gxの圧電素子37の幅Tx(図8の平面図の左右の幅)よりも大きい。
図8および図9の振動領域Pと圧電素子37も、軸Gxの方向の長さと軸Gyの方向の長さが同じであり、軸Gxに対して線対称で、軸Gyに対しても線対称である。したがって、振動領域Pでは、軸Gwに直交する軸Gw’の方向もヤング率が最大となり、軸Gxに直交する軸Gyもヤング率が最小となる。したがって、ヤング率が最大となる軸Gwと軸Gw’のいずれかの方向(第1方向)の圧電素子37の幅は、ヤング率が最小となる軸Gxと軸Gyのいずれかの方向(第2方向)の圧電素子37の幅よりも大きい。ただし、図8および図9においても、第1方向のヤング率の方が、第2方向のヤング率よりも大きければ、第1方向は、必ずしもヤング率が最大となる結晶方位でなくてもよく、第2方向についても、必ずしもヤング率が最小となる結晶方位でなくてもよい。
このような構成によれば、図8および図9においても、振動板36の変位の妨げになり易いヤング率の大きい方向において圧電素子37が駆動する範囲を、ヤング率の小さい方向よりも広げることができる。これにより、ヤング率の大きい面内方向で撓み量を増やすことができるので、ヤング率の低い面内方向と同じ撓み量を付与できる。このことによって、振動板36全体に均等な歪みを発生させることができるから、振動板36の変位効率を向上させることができる。
このように、振動領域Pの形状(Z方向から見た圧力室Cの形状)に応じて圧電素子37の内縁37Aと外縁37Bの形状を変えることで、圧電素子37の幅Tを変えることができる。ここでの圧電素子37の幅Tは、内縁37Aと外縁37Bとの間の幅であり、各方向の幅Tx、Ty、Tw、Tw’を含む。例えば図4に示すように、圧電素子37の幅Tは、圧力室Cに平面視で重なる部分の幅Taと、圧力室Cの側壁344に平面視で重なる部分の幅Tbとに分けることができる。圧電素子37の幅Taは内周部372aの幅であり、幅Tbは外周部372bの幅である。
圧電素子37において各方向の幅Tx、Ty、Tw、Tw’を変える場合は、圧電素子37の内縁37Aと外縁37Bの形状によって、圧電素子37の幅Taと幅Tbの両方を変えるようにしもよいし、幅Taと幅Tbのうちのいずれか一方を変えるようにしてもよい。圧電素子37の内縁37Aの形状を変えることによって幅Taを変えることができ、圧電素子37の外縁37Bの形状を変えることによって幅Tbを変えることができる。
図4の構成では、圧電素子37の幅Tbをほぼ一定にし、圧電素子37の内縁37Aの形状によって、結晶面内のヤング率の大きい方向の方がヤング率の小さい方向よりも、圧電素子37のうち圧力室Cに平面視で重なる部分の幅Taが大きくなるようにしている。ただし、圧電素子37の幅Tbは一定でなくてもよい。この構成によれば、振動板36において圧電素子37と共に変位する振動領域Pの面内方向の撓み量を増やすことができるので、振動板36全体を変位させ易くすることができる。図8および図9の場合も同様に、圧電素子37の幅Tbをほぼ一定にして、圧電素子37の幅Taを変える場合を例示している。
他方、圧電素子37の外縁37Bの形状によって、結晶面内のヤング率の大きい方向の方がヤング率の小さい方向よりも、圧電素子37のうち圧力室Cの側壁344に平面視で重なる部分の幅Tbが大きくなるようにすることができる。例えば図10に示す第1実施形態の第3変形例は、圧力室Cの形状が図8と同様のひし形である場合に、圧電素子37の内縁37Aの形状を圧力室Cよりも小さいひし形とし、外縁37Bを圧力室Cよりも大きい真円形としたものである。図10の構成では、圧電素子37の幅Taをほぼ一定にし、圧電素子37の外縁37Bの形状によって、結晶面内のヤング率の大きい方向の方がヤング率の小さい方向よりも、圧電素子37のうち圧力室Cの側壁344に平面視で重なる部分の幅Tbが大きくなるようにしている。ただし、圧電素子37の幅Taは一定でなくてもよい。この構成によれば、振動板36のうち圧力室Cの側壁344に近い振動領域Pの面内方向の撓み量を増やすことができるので、振動板全体を変位させ易くすることができる。
なお、本実施形態では、振動領域Pの軸Gxの方向がヤング率が最大となる方位Dnまたはそれに近い方位Dn’に沿う場合を例示したが、これに限られるものではない。例えば図6または図7の結晶面を有する単結晶シリコン基材で振動板36を構成する場合には、振動領域Pの軸Gyの方向をヤング率が最大となる方位Dnまたは軸Gwの方向よりもヤング率が大きい方位に合わせるようにしてもよい。このようにしても、図4および図8乃至図10と同様の形状で圧電素子37を形成することで、上記実施形態と同様の効果を得られる。
<第2実施形態>
本発明の第2実施形態について説明する。以下に例示する各形態において作用や機能が第1実施形態と同様である要素については、第1実施形態の説明で使用した符号を流用して各々の詳細な説明を適宜に省略する。第1実施形態では、軸Gxの方向の長さと軸Gyの方向の長さが同じ圧力室Cの形状(振動領域Pの形状)である場合を例示した、第2実施形態では、軸Gxの方向の長さと軸Gyの方向の長さが異なる圧力室Cの形状(振動領域Pの形状)である場合を例示する。
図11は、第2実施形態の圧電デバイス39を拡大した断面図および平面図である。図11の断面図(図11の上側の図)は、圧電デバイス39をX−Z平面で切断したものであり、図11の平面図(図11の下側の図)は、圧電デバイス39をZ方向から見たものである。図12は、図11に示す圧電デバイス39のXII−XII断面図であり、図13は、図11に示す圧電デバイス39のXIII−XIII断面図である。圧力室Cの形状(振動領域Pの形状)は、平面視においてX方向に沿った長軸と、長軸よりも短くY方向に沿った短軸からなる長方形である。長方形である。以下、X方向に沿った長軸を軸Gxとし、Y方向に沿った短軸を軸Gyとする。なお、振動領域Pの形状は、長方形以外の形状であってもよい。振動領域Pが長方形以外の形状の場合は、振動領域Pを内包する最小の長方形の短い方の軸が振動領域Pの軸Gyとなり、振動領域Pを内包する最小の長方形の長い方の軸が振動領域Pの軸Gxとなる。第2実施形態では、振動領域Pの形状が、振動領域Pを内包する最小の長方形に一致する場合である。
このような構成の圧電デバイス39においては、図11乃至図13の点線に示すように、圧電素子37の圧電歪みによって振動板36の振動領域Pの中央部にZ方向への変位Hが生じる。この場合、中央部に同じ変位Hが生じても、図12の断面図に示すY方向(軸Gyの方向)の側壁344に近い部分は、図11の断面図に示すX方向(軸Gxの方向)の側壁344に近い部分よりも急なカーブを描くように変形している。したがって、短軸Gyの方向は、長軸Gxの方向に対して、振動板36全体の変位の妨げになり易く、もし短軸Gyの方向の撓み量を増やすことができれば、振動板36全体に均等な歪みを発生させることができる。
そこで、第2実施形態では、振動領域Pを内包する最小の長方形の短い軸Gyの方向に沿った圧電素子37の幅Tyは、上記長方形の長い軸Gxの方向に沿った圧力室Cの幅Txよりも大きい。この構成によれば、振動板36の変位の妨げになり易い短軸Gyの方向において圧電素子36が駆動する範囲を、長軸Gxの方向よりも広げることができる。
例えば図11に示すように、圧力室Cの形状(振動領域Pの形状)が長方形である場合には、圧電素子37の内縁37Aを圧力室Cよりも小さい長方形とし、外縁37Bを圧力室Cよりも大きい長方形とする。このとき、軸Gyの方向の幅Tyが軸Gxの方向の幅Txよりも大きくなるようにする。この構成によれば、振動板36の変位Hの妨げになり易い短い軸Gyの方向において圧電素子37が駆動する範囲を、長い軸Gxの方向よりも広げることができる。これにより、短軸Gyの方向で撓み量を増やすことができるので、長軸Gxの方向と同じ撓み量を付与できる。このことによって、振動板36の面内方向の撓み量を増やすことができるから、振動板36全体に均等な歪みを発生させることができる。したがって、振動板36全体を変位させ易くなり、振動板36の変位効率を向上させることができる。
なお、第2実施形態においても、第1実施形態と同様に、結晶面内において第1方向のヤング率の方が第2方向のヤング率よりも大きい場合に、第1方向に沿った圧電素子37の幅は、第2方向に沿った圧電素子37の幅よりも大きくなるようにしている。例えば図11の構成においても、図6または図7の結晶面を有する単結晶シリコン基材で振動板36を構成し、ヤング率が大きい方位Dnまたは方位Dn’に沿った方向を第1方向とし、ヤング率が最小となる方位Dmに沿った方向を第2方向とすることができる。軸Gxから反時計回りに45度の角度をなす方向(W方向)に沿った軸をGwとすれば、振動領域Pの軸Gwは第1方向に沿っており、軸Gyは第2方向に沿っている。図11の圧電素子37によれば、ヤング率が大きい軸Gwの方向(第1方向)の圧電素子37の幅Tw(図11の平面図の右上の幅または左下の幅)は、ヤング率が最小となる軸Gyの方向(第2方向)の圧電素子37の幅Ty(図11の平面図の上側の幅または下側の幅)よりも大きい。また、図11の振動領域Pでは、軸Gw’の方向も軸Gyの方向よりもヤング率が大きいので、軸Gw’の方向の幅Tw’(図11の平面図の左上の幅と右下の幅)は、ヤング率が最小となる軸Gyの圧電素子37の幅Ty(図11の平面図の上側の幅または下側の幅)よりも大きい。
このような構成によれば、振動板36の変位の妨げになり易いヤング率の大きい方向において圧電素子が駆動する範囲を広げることができる。このように、ヤング率の大きい方向においても振動板36の面内方向の撓み量を増やすことができる。したがって、軸Gxの方向の長さと軸Gyの方向の長さが異なる振動領域Pにおいて、振動板36の変位効率を向上させる効果を高めることができる。
また、圧電素子37のうち軸Gwに沿ったヤング率の大きい方向(第1方向)の幅Twを第1幅とし、軸Gyに沿ったヤング率が低い方向(第2方向)の幅Tyを第2幅とすれば、第1幅と第2幅は、長い軸Gxの方向に沿った圧電素子37の幅Txよりも大きい。この構成によれば、振動領域Pの軸方向よりもヤング率の方向を優先して圧電素子37の幅を大きくできるので、振動板36全体の変位効率を向上することができる。
また、第2実施形態では、圧力室Cの形状(振動領域Pの形状)と、圧電素子37の内縁37Aの形状と、圧電素子37の外縁37Bの形状とがそれぞれ、軸Gxの方向の長さと軸Gyの方向の長さが異なる長方形である場合を例示したが、これに限られない。軸Gxの方向の長さと軸Gyの方向の長さが異なる形状であれば、長方形以外の多角形や円形であってもよい。ここでの多角形には、ひし形、六角形、八角形などの他、角丸正方形や角丸長方形のような角丸多角形も含まれる。円形には、楕円形などの他、略円形(半円形や扇形など)も含まれる。また、圧力室Cの形状(振動領域Pの形状)と、圧電素子37の内縁37Aの形状と、圧電素子37の外縁37Bの形状とはそれぞれ、異なっていてもよい。これらの形状が長方形以外の場合は、振動領域Pを内包する最小の長方形の短い軸Gyの方向に沿った圧電素子37の幅Tyは、上記長方形の長い軸Gxの方向に沿った圧力室Cの幅Txよりも大きくなるように、圧力室Cの形状に応じて、圧電素子37の内縁37Aの形状と、圧電素子37の外縁37Bの形状とを決定する。
例えば図14に示す第2実施形態の第1変形例では、振動領域Pは楕円形であるから、振動領域Pを内包する図14に二点鎖線で示すような最小の長方形Qの短軸(楕円形の短軸)が振動領域Pの軸Gyとなり、上記長方形Qの長軸(楕円形の長軸)が振動領域Pの軸Gxとなる。このような圧力室Cの形状に対して、図14の圧電素子37の内縁37Aの形状は、圧力室Cよりも小さく、軸Gxに沿った軸の方が軸Gyに沿った軸よりも長いひし形であり、圧電素子37の外縁37Bの形状は、圧力室Cよりも大きく、圧力室Cと同様の楕円形である。
また図14の構成においても、図6または図7の結晶面を有する単結晶シリコン基材で振動板36を構成し、ヤング率が大きい方位Dnまたは方位Dn’に沿った方向を第1方向とし、ヤング率が最小となる方位Dmに沿った方向を第2方向とすることができる。軸Gxから反時計回りに45度の角度をなす方向(W方向)に沿った軸をGwとすれば、振動領域Pの軸Gwは第1方向に沿っており、軸Gyは第2方向に沿っている。図14の圧電素子37によれば、ヤング率が大きい軸Gwの方向(第1方向)の圧電素子37の幅Tw(図14の平面図の右上の幅または左下の幅)は、ヤング率が最小となる軸Gyの方向(第2方向)の圧電素子37の幅Ty(図14の平面図の上側の幅または下側の幅)よりも大きい。また、図14の振動領域Pでは、軸Gw’の方向も軸Gyの方向よりもヤング率が大きいので、軸Gw’の方向の幅Tw’(図14の平面図の左上の幅と右下の幅)は、ヤング率が最小となる軸Gyの圧電素子37の幅Ty(図14の平面図の上側の幅または下側の幅)よりも大きい。
このような構成によれば、振動板36の変位の妨げになり易いヤング率の大きい方向において圧電素子37が駆動する範囲を広げることができる。このように、ヤング率の観点からも、振動板36の面内方向の撓み量を増やすことができる。したがって、軸Gxの方向の長さと軸Gyの方向の長さが異なる振動領域Pにおいて、振動板36の変位効率を向上させる効果を高めることができる。
また、圧電素子37のうち軸Gwに沿ったヤング率の大きい方向(第1方向)の幅Twを第1幅とし、軸Gyに沿ったヤング率が低い方向(第2方向)の幅Tyを第2幅とすれば、第1幅と第2幅は、長い軸Gxの方向に沿った圧電素子37の幅Txよりも大きい。この構成によれば、振動領域Pの軸方向よりもヤング率の方向を優先して圧電素子37の幅を大きくできるので、振動板36全体の変位効率を向上することができる。
なお、第2実施形態においても、振動領域Pの形状(Z方向から見た圧力室Cの形状)に応じて圧電素子37の内縁37Aと外縁37Bの形状を変えることで、圧電素子37の幅Tを変えることができる。圧電素子37において各方向の幅Tx、Ty、Tw、Tw’を変える場合は、圧電素子37の内縁37Aと外縁37Bの形状によって、圧電素子37の幅Taと幅Tbの両方を変えるようにしもよいし、幅Taと幅Tbのうちのいずれか一方を変えるようにしてもよい。圧電素子37の内縁37Aの形状を変えることによって幅Taを変えることができ、圧電素子37の外縁37Bの形状を変えることによって幅Tbを変えることができる。
図11および図14の構成では、圧電素子37の幅Tbをほぼ一定にして、圧電素子37の幅Taを変えることで、結晶面内のヤング率の大きい方向の方がヤング率の小さい方向よりも、圧電素子37のうち圧力室Cに平面視で重なる部分の幅が大きくなるようにしている。なお、圧電素子37の幅Taをほぼ一定にして、圧電素子37の幅Tbを変えるようにしてもよい。
ところで、以上の説明においては、結晶面内の方向によってヤング率が異なる異方性の単結晶シリコン基材の結晶面で振動板36の表面を構成した場合を例示したが、これに限られるものではない。結晶面内の方向によってヤング率が等しい等方性の単結晶シリコン基材の結晶面{111}で振動板36の表面を構成して、振動領域Pを内包する最小の長方形の短い軸Gyの方向に沿った圧電素子37の幅Tyを、上記長方形の長い軸Gxの方向に沿った圧力室Cの幅Txよりも大きくするようにしてもよい。
例えば図15に示す第2実施形態の第2変形例では、図14と同様に、圧力室Cの形状(振動領域Pの形状)が軸Gxの方が軸Gyよりも長い楕円形の場合である。図15の圧電素子37では、外縁37Bの形状は、図14と同様の楕円形であるが、内縁37Aの形状は、図14と異なり、軸Gxに沿った軸の方が軸Gyに沿った軸よりも長い楕円形である。図14では、結晶面内の方向によってヤング率が変わらないので、軸Gxと軸Gyに着目して、圧電素子37の幅Txと幅Tyを決めれば足りるからである。
なお、図15の場合においても、圧電素子37の内縁37Aと外縁37Bの形状によって、圧電素子37の幅Taと幅Tbの両方を変えるようにしもよいし、幅Taと幅Tbのうちのいずれか一方を変えるようにしてもよい。図15では、圧電素子37の幅Tbをほぼ一定にして、圧電素子37の幅Taを変える場合を例示している。図16に示す第2実施形態の第3変形例のように、圧電素子37の幅Taをほぼ一定にして、圧電素子37の幅Tbを変えるようにしてもよい。なお、図16の圧力室Cの形状は、図15と同様の楕円形である。
<第3実施形態>
本発明の第3実施形態について説明する。第3実施形態では、第1実施形態に係る圧電デバイス39の圧電素子37についての具体的な構成例を説明する。図17および図18は、図4の圧電素子37の具体的な構成例である。図17は、第3実施形態に係る圧電デバイス39をZ方向から見た場合の平面図である。図18は、図17に示す圧電デバイス39のXVIII−XVIII断面図である。
図17および図18に示すように、第3実施形態の圧電素子37は、平面視で圧力室Cの中心Oに重ならずに圧力室Cの内周345に重なるように振動板36に配置され、平面視において圧力室Cの内周345を挟んで、圧力室Cの中心O側に内縁37Aを有すると共に、圧力室Cの側壁344側に外縁37Bを有する。このような構成によれば、圧力室Cの内縁37Aの形状と外縁37Bの形状によって、圧電素子37の幅を変えることができる。しかも、圧力室Cの中心Oの周りに圧電素子37が配置されるので、方向によって圧電素子37の幅を変え易い。また、圧電素子37の全周が、圧力室Cの内周345の全周に平面視で重なるから、方向によって圧電素子37の幅を変えることで、振動板36全体に均等な歪みを発生させ易い。これにより、振動板36全体を変位させ易くなり、振動板36の変位効率を向上させることができる。
図17の圧電素子37は、相互に対向する第1電極371と第2電極372との間に圧電体層373を介在させた積層体である。この圧電素子37は、第1電極371と第2電極372との間に電圧を印加することで、第1電極371と第2電極372とで挟まれる圧電体層373に圧電歪みが生じて変位する。したがって、図17の構成では、第1電極371と第2電極372と圧電体層373とが平面視で重なる部分が、圧電素子37に相当する。
図17に示す第1電極371と圧電体層373は、各圧力室Cの部分においては、各圧力室Cの内周345の全周に平面視で重なるように、振動板36の表面に形成される。第1電極371と圧電体層373は、圧力室Cの中心Oには形成されない。第1電極371と圧電体層373は、各圧力室Cの部分以外においては、振動板36の表面全面に形成されている。ただし、各圧力室Cの部分以外においては、第1電極371と圧電体層373が形成されないようにしてもよい。平面視において第1電極371と圧電体層373の内周の形状は正方形である。
第1電極371には、圧電体層373の外側に引き出されたリード電極371Aを介して駆動IC62に接続される。第1電極371は複数の圧電素子37の共通電極になっている。第1電極371の材料は、圧電体層373を成膜する際に酸化せず、導電性を維持できる材料が好ましく、例えば、白金(Pt)、イリジウム(Ir)等の貴金属、またはランタンニッケル酸化物(LNO)などに代表される導電性酸化物が好適に用いられる。
圧電体層373は、例えばペロブスカイト構造の結晶膜(ペロブスカイト型結晶)などの電気機械変換作用を示す強誘電性セラミックス材料である。なお、圧電体層373の材料としては、上述したものに限られず、例えばチタン酸ジルコン酸鉛(PZT)等の強誘電性圧電材料や、これに酸化ニオブ、酸化ニッケル又は酸化マグネシウム等の金属酸化物を添加したもの他、鉛を含む鉛系の圧電材料に限定されず、鉛を含まない非鉛系の圧電材料を用いることができる。
第2電極372は、圧電素子37毎(ノズルN毎)に個別に、第1電極371に対して振動板36とは反対側に積層され、複数の圧電素子37に対応する個別電極を構成する。各第2電極372には、圧電体層373の外側に引き出されたリード電極372Aを介して駆動IC62に個別に接続される。なお、第2電極372は、圧電体層373に直接設けられていてもよく、また圧電体層373と第2電極372との間に他の部材が介在していてもよい。第2電極372としては、圧電体層373との界面を良好に形成でき、絶縁性及び圧電特性を発揮できる材料が望ましく、例えばイリジウム(Ir)、白金 (Pt)、パラジウム(Pd)、金(Au)等の貴金属材料、及びランタンニッケル酸化物(LNO)に代表される導電性酸化物が好適に用いられる。また、第2電極372は、複数材料を積層したものであってもよい。
第2電極372は、各圧力室Cの内周345の全周に平面視で重なるように配置される。平面視において、各第2電極372の内周と外周の形状は正方形である。本実施形態の構成では、第2電極372の内周から外周までが、第1電極371と圧電体層373に重なる。したがって、第2電極372の内周の形状が、圧電素子37の内縁37Aの形状に相当し、第2電極372の外周の形状が、圧電素子37の内縁37Aの形状に相当する。第3実施形態の振動板36は、第1実施形態や第2実施形態と同様の単結晶シリコン基材であり、圧力室基板34と一体で構成される。
なお、本実施形態の圧電素子37は、第1電極371を複数の圧電素子37の共通電極にして、第2電極372を複数の圧電素子37に対応する個別電極にした場合を例示したが、この構成に限られず、第2電極372を複数の圧電素子37の共通電極にして、第1電極371を複数の圧電素子37に対応する個別電極にしてもよい。また、上記実施形態では、振動板36を単一層で構成した場合を例示したが、これに限られず、複数層で構成してもよい。
このような構成の第3実施形態の圧電デバイス39によれば、第1電極371と第2電極372との間に電圧を印加することで、第1電極371と第2電極372とで挟まれる圧電体層373に圧電歪みが生じて変位する。この圧電体層373の圧電歪みに連動して振動板36が振動することで、圧力室C内の圧力が変動する。振動板36のうち圧力室Cに重なる部分が振動領域Pとなる。図17の振動板36は、図6または図7の結晶面を有する単結晶シリコン基板で構成される。図17の圧電素子37は、図4の構成と同様に、結晶面内において第1方向(例えばW方向)のヤング率の方が第2方向(例えばX方向またはY方向)のヤング率よりも大きい場合に、第1方向に沿った圧電素子37の幅は、第2方向に沿った圧電素子37の幅よりも大きい。図17において図示は省略するが、軸Gx、軸Gy、軸Gw、Gw’の各方向の圧電素子37の幅Tx、Ty、Tw、Tw’は、図4の構成と同様である。このような構成によって、振動板36の変位の妨げになり易いヤング率の大きい方向において振動板36の面内方向の撓み量を増やすことができるので、振動板36の変位効率を向上させることができる。なお、上述した他の実施形態や変形例においても、第3実施形態と同様に、第1電極371と第2電極372と圧電体層373で構成することができる。
<第4実施形態>
本発明の第4実施形態について説明する。上記実施形態では、圧電素子37を圧力室Cの周縁部に配置する場合を例示したが、第4実施形態では、圧電素子37を圧力室Cの中心部に配置する場合を例示する。図19は、第4実施形態に係る圧電デバイス39をZ方向から見た場合の平面図である。図20は、図19に示す圧電デバイス39のXX−XX断面図である。
図19および図20に示すように、第4実施形態の圧電素子37は、相互に対向する第1電極371と第2電極372との間に圧電体層373を介在させた積層体である。図19の圧電素子37は、第1電極371と第2電極372との間に電圧を印加することで、第1電極371と第2電極372とで挟まれる圧電体層373に圧電歪みが生じて変位する。したがって、図8の構成では、第1電極371と第2電極372と圧電体層373とが平面視で重なる部分が、圧電素子37に相当する。
第1電極371は、圧電素子37毎(ノズルN毎)に個別に、振動板36の表面に形成される。各第1電極371は、Y方向に沿って延在する電極である。各第1電極371には、圧電体層373の外側に引き出されたリード電極371Aを介して駆動IC62に接続される。各リード電極371A同士は電気的に接続されており、各第1電極371は複数の圧電素子37の共通電極になっている。
各第1電極371の表面(振動板36とは反対側の表面)には、圧電素子37毎(ノズルN毎)に個別に、圧電体層373と第2電極372とが形成される。図8に示すように、各第2電極372は、第1電極371に対して振動板36とは反対側に積層され、各圧電体層373は、第1電極371と第2電極372とに挟まれるように積層される。各第2電極372は、Y方向に沿って延在する電極である。各第2電極372には、圧電体層373の外側に引き出されたリード電極372Aを介して駆動IC62に個別に接続される。
圧電体層373は、圧力室Cごとにパターニングされて形成される。第2電極372は、圧電体層373の第1電極371とは反対側の面に設けられており、複数の圧電素子37に対応する個別電極を構成する。なお、第2電極372は、圧電体層373に直接設けられていてもよく、また圧電体層373と第2電極372との間に他の部材が介在していてもよい。本実施形態の第1電極371、第2電極372、圧電体層373の材料は、第3実施形態と同様である。
なお、本実施形態の圧電素子37は、第1電極371を複数の圧電素子37の共通電極にして、第2電極372を複数の圧電素子37に対応する個別電極にした場合を例示したが、この構成に限られず、第2電極372を複数の圧電素子37の共通電極にして、第1電極371を複数の圧電素子37に対応する個別電極にしてもよい。また、上記実施形態では、振動板36を単一層で構成した場合を例示したが、これに限られず、複数層で構成してもよい。
図19に示すように、本実施形態の圧力室Cの形状は、図17の圧力室Cと同様に正方形である。本実施形態の圧電素子37は、平面視において圧力室Cの中心Oに重なり、外周が圧力室Cよりも小さい正方形の素子である。図19の振動板36は、図6または図7の結晶面を有する単結晶シリコン基板で構成される。図19の圧電素子37は、図4の構成と同様に、結晶面内において第1方向(例えばW方向)のヤング率の方が第2方向(例えばX方向またはY方向)のヤング率よりも大きい場合に、第1方向に沿った圧電素子37の幅は、第2方向に沿った圧電素子37の幅よりも大きい。軸Gx、軸Gy、軸Gw、Gw’に沿った各方向の圧電素子37の幅をTx、Ty、Tw、Tw’とすると、図4の構成と同様に、軸Gwに沿った幅Twと軸Gw’に沿った幅Tw’は等しく、軸Gxに沿った幅Txと軸Gyに沿った幅Tyは等しい。幅Twと幅Tw’は、幅Txと幅Tyよりも大きい。このように構成することによって、圧力室Cの中心部に配置される圧電素子37によっても、振動板36の変位の妨げになり易いヤング率の大きい方向において振動板36の面内方向の撓み量を増やすことができる。したがって、振動板36の変位効率を向上させることができる。
上記実施形態では、圧力室基板34と振動板36とを別体で構成した場合を例示したが、これに限られず、例えば図21に示す第4実施形態の変形例のように、圧力室基板34と振動板36とを一体にして、圧力室Cと振動板36を一度に形成してもよい。図21の構成では、所定の厚みの単結晶シリコン基材のうち圧力室Cに対応する領域について厚み方向の一部を、上記結晶方位に合わせて選択的に除去することで、圧力室Cと振動板36とを一度に形成することができる。
また、図21の構成では、圧電素子37と振動板36との間に、密着力を確保するための密着層376を設けている。図21の密着層376は、酸化シリコン膜376Aと酸化ジルコニア膜376Bとから成る。酸化シリコン膜376Aと酸化ジルコニア膜376Bとはこの順に振動板36に積層される。密着層376は、振動板36を構成する単結晶シリコンよりも靱性の高いので、出来る限り薄くするとともに、図21に示すように短軸Gyの方向の内周345に近い部分には形成されないようにしている。このように構成することで、振動領域Pの全体に渡って密着層376を形成する場合に比較して、圧力室Cの内周345に近い部分が変形し易くなるので、圧電デバイス39の変位効率を向上させることができる。
<変形例>
以上に例示した態様および実施形態は多様に変形され得る。具体的な変形の態様を以下に例示する。以下の例示や上述の態様から任意に選択された2以上の態様は、相互に矛盾しない範囲で適宜に併合され得る。
(1)上述した実施形態では、液体吐出ヘッド26を搭載したキャリッジ242をX方向に沿って反復的に往復させるシリアルヘッドを例示したが、液体吐出ヘッド26を媒体12の全幅にわたり配列したラインヘッドにも本発明を適用可能である。
(2)上述した実施形態では、圧力室に機械的な振動を付与する圧電素子を利用した圧電方式の液体吐出ヘッド26を例示したが、加熱により圧力室の内部に気泡を発生させる発熱素子を利用した熱方式の液体吐出ヘッドを採用することも可能である。
(3)上述した実施形態で例示した液体吐出装置10は、印刷に専用される機器のほか、ファクシミリ装置やコピー機等の各種の機器に採用され得る。もっとも、本発明の液体吐出装置10の用途は印刷に限定されない。例えば、色材の溶液を吐出する液体吐出装置は、液晶表示装置のカラーフィルターや有機EL(Electro Luminescence)ディスプレイ、FED(面発光ディスプレイ)等を形成する製造装置として利用される。また、導電材料の溶液を吐出する液体吐出装置は、配線基板の配線や電極を形成する製造装置として利用される。また、液体の一種として生体有機物の溶液を吐出するチップ製造装置としても利用される。
10…液体吐出装置、12…媒体、14…液体容器、20…制御装置、22…搬送機構、24…移動機構、242…キャリッジ、244…無端ベルト、26…液体吐出ヘッド、32…流路基板、322…供給流路、324…連通流路、326…中間流路、34…圧力室基板、342…開口、344…側壁、345…内周、35…圧力発生部、36…振動板、37…圧電素子、37A…内縁、37B…外縁、371…第1電極、371A…リード電極、372…第2電極、372a…内周部、372b…外周部、372A…リード電極、373…圧電体層、376…密着層、376A…酸化シリコン膜、376B…酸化ジルコニア膜、38…配線接続基板、384…配線、385…配線、39…圧電デバイス、40…ケース部材、42…凹部、43…導入口、52…ノズル板、54…コンプライアンス基板、62…駆動IC、A…第1基板、B…第2基板、C…圧力室、F1…表面、F2…表面、L1…第1列、L2…第2列、N…ノズル、O…中心、P…振動領域、Q…長方形、R…液体貯留室、RA…空間、RB…空間、T(Tx、Ty、Tw、Tw’)…圧電素子の幅。

Claims (16)

  1. 圧力室と、
    圧電素子と、
    前記圧力室と前記圧電素子との間に配置される振動板と、を具備し、
    前記振動板は、結晶面内の方向によってヤング率が異なる異方性の単結晶シリコン基材の結晶面を有し、
    前記振動板のうち前記圧力室に平面視で重なる振動領域において、前記結晶面内のヤング率のうち第1方向のヤング率は、前記第1方向に交差する第2方向の前記結晶面内の第2ヤング率よりも大きく、
    前記第1方向に沿った前記圧電素子の幅は、前記第2方向に沿った前記圧電素子の幅よりも大きい
    圧電デバイス。
  2. 前記圧電素子の幅は、前記圧電素子のうち前記圧力室に平面視で重なる部分の幅である
    請求項1に記載の圧電デバイス。
  3. 前記圧電素子の幅は、前記圧電素子のうち前記圧力室の側壁に平面視で重なる部分の幅である
    請求項1に記載の圧電デバイス。
  4. 圧力室と、
    圧電素子と、
    前記圧力室と前記圧電素子との間に配置される振動板と、を具備し、
    前記振動板は、前記圧力室に平面視で重なる振動領域を有し、
    前記振動領域を内包する最小の長方形の短い軸の方向に沿った前記圧電素子の幅は、前記長方形の長い軸の方向に沿った前記圧力室の幅よりも大きい
    圧電デバイス。
  5. 前記圧電素子の幅は、前記圧電素子のうち前記圧力室に平面視で重なる部分の幅である
    請求項4に記載の圧電デバイス。
  6. 前記圧電素子の幅は、前記圧電素子のうち前記圧力室の側壁に平面視で重なる部分の幅である
    請求項4に記載の圧電デバイス。
  7. 圧力室と、
    圧電素子と、
    前記圧力室と前記圧電素子との間に配置される振動板と、を具備し、
    前記振動板は、結晶面内の方向によってヤング率が異なる異方性の単結晶シリコン基材の結晶面を有し、
    前記振動板のうち前記圧力室に平面視で重なる振動領域において、前記結晶面内のヤング率のうち第1方向のヤング率は、前記第1方向に交差する第2方向の前記結晶面内の第2ヤング率よりも大きく、
    前記第1方向に沿った前記圧電素子の第1幅は、前記第2方向に沿った前記圧電素子の第2幅よりも大きく、
    前記振動領域を内包する最小の長方形の短い軸の方向に沿った前記圧電素子の幅は、前記長方形の長い軸の方向に沿った前記圧力室の幅よりも大きく、
    前記第1幅と前記第2幅は、前記長い軸の方向に沿った前記圧電素子の幅よりも大きい
    圧電デバイス。
  8. 前記圧電素子は、平面視で前記圧力室の中心に重ならずに前記圧力室の内周に重なるように前記振動板に配置され、
    平面視において前記圧力室の内周を挟んで、前記圧力室の中心側に内縁を有すると共に、前記圧力室の側壁側に外縁を有する
    請求項1から請求項7の何れかに記載の圧電デバイス。
  9. 前記圧電素子の全周が、前記圧力室の内周全周に平面視で重なる
    請求項8に記載の圧電デバイス。
  10. 前記圧電素子の内縁または外縁の形状は、平面視において多角形または円形である
    請求項9に記載の圧電デバイス。
  11. 前記圧力室の内周の形状は、平面視において多角形または円形である
    請求項9に記載の圧電デバイス。
  12. 前記単結晶シリコン基材は、結晶面が{100}面の基材であり、
    前記第1方向は、前記結晶面内の結晶方位〈011〉に沿っており、
    前記第2方向は、前記結晶面内の結晶方位〈001〉に沿っている
    請求項1から請求項3の何れかに記載の圧電デバイス。
  13. 前記単結晶シリコン基材は、結晶面が{110}面の基材であり、
    前記第1方向は、前記結晶面内の結晶方位〈111〉に沿っており、
    前記第2方向は、前記結晶面内の結晶方位〈001〉に沿っている
    請求項1から請求項3の何れかに記載の圧電デバイス。
  14. 前記振動板の表面は、結晶面内の方向によってヤング率が等しい等方性の単結晶シリコン基材の結晶面{111}で構成される
    請求項4から請求項6の何れかに記載の圧電デバイス。
  15. 請求項1から請求項14の何れかに記載の圧電デバイスを備え、
    前記圧電素子によって前記振動板を振動させることで前記圧力室の圧力を変動することよって、前記圧力室に充填された前記液体をノズルから吐出する
    液体吐出ヘッド。
  16. 請求項1から請求項14の何れかに記載の圧電デバイスを備え、
    前記圧電素子によって前記振動板を振動させることで前記圧力室の圧力を変動することよって、前記圧力室に充填された前記液体をノズルから吐出する
    液体吐出装置。
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