JP2018177660A - フェノール誘導体の選択的メチル化方法。 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明方法で基質として用いるフェノール誘導体は、オルト位および/またはパラ位へメチル基が導入できるフェノール誘導体であれば特に限定されない。このようなフェノール誘導体としては、例えば、フェノール性水酸基を有するものが好ましく、フェノール性水酸基を有し、更に、フェノール性水酸基のオルト位に置換基を有するものが好ましい。また、フェノール誘導体は縮環していてもよく、フェニル基やアルキル基で置換されていても良い。
本発明方法で用いるパラジウム触媒は、ホルムアルデヒドから炭素を供給し、フェノール誘導体のメチル化が進行するものであれば特に限定されず、例えば、酢酸パラジウム、プロピオン酸パラジウム、ビス(アセチルアセトナト)パラジウム、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム、ビス(ジメチルグリオキシマト)パラジウム、塩化パラジウム、臭化パラジウム等が挙げられ、特に酢酸パラジウムが好ましい。このようなパラジウム触媒は、例えば、エヌ・イー ケムキャット(株)から、酢酸パラジウム(Sタイプ)、酢酸パラジウム(Nタイプ)、プロピオン酸パラジウム、ビス(アセチルアセトナト)パラジウム、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム、ビス(ジメチルグリオキシマト)パラジウム、塩化パラジウム、臭化パラジウム等の商品名で販売されているものを用いることができる。これらパラジウム触媒は1種または2種以上を組み合わせて用いることもできる。なお、このパラジウム触媒は本発明方法を行っている間、系内に存在していれば良いが、例えば、炭素源としてのホルムアルデヒドに対して、1〜50mol%、好ましくは5〜20mol%である。
本発明方法で炭素源として用いるホルムアルデヒドは、本発明方法を行っている間、系内に存在していれば良いが、例えば、フェノール誘導体の置換されるメチル基の数に対して1から10等量、好ましくは2〜5等量である。
本発明方法における反応条件は、ホルムアルデヒドから炭素を供給し、フェノール誘導体のメチル化が進行するものであれば特に限定されないが、例えば、300℃以下で 1時間以上が好ましく、90〜180℃で 1〜48時間がより好ましく、110〜150℃で18〜30時間が特に好ましい。また、反応の際には撹拌を行うことが好ましい。
本発明方法での反応雰囲気は、特に限定されないが、例えば、アルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気または水素等の還元雰囲気で行われることが好ましく、特に不活性ガス雰囲気下が好ましい。また、本発明方法において、反応雰囲気の圧力は特に限定されないが、0.8〜2atmが好ましい。
本発明方法は、フェノール類のベンゼン環の求核性向上のため、更に塩基の存在下で行うことが好ましい。このような塩基としては、特に限定されないが、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、セスキ炭酸ナトリウム等が好ましく、特に炭酸ナトリウムが好ましい。これら塩基は1種または2種以上を組み合わせて用いることもできる。この塩基は、本発明方法を行っている間、系内に存在していれば良いが、例えば、基質に対して1〜10等量が好ましく、1.5〜3等量がより好ましい。
本発明方法は、更に酸の存在下で行うことが好ましい。このような酸としては、特に限定されないが、例えば、トリフルオロ酢酸、酢酸、トリクロロ酢酸等が好ましく、特にトリフルオロ酢酸が好ましい。これら酸は1種または2種以上を組み合わせて用いることもできる。この酸は、本発明方法を行っている間、系内に存在していれば良いが、例えば、基質に対して0.1〜3等量が好ましく、0.3〜2等量がより好ましい。なお、本発明方法においては、系内に上記塩基と、酸を組み合わせて存在させることが好ましい。
本発明方法は、反応が進行した後に還元されているパラジウムを再び酸化するため、更に酸化剤の存在下で行うことが好ましい。このような酸化剤は、パラジウム触媒が反応系中で還元された後、酸化できるものであれば特に限定されないが、例えば、酢酸銀が好ましい。これら酸化剤は1種または2種以上を組み合わせて用いることもできる。この酸化剤は、本発明方法を行っている間、系内に存在していれば良いが、例えば、基質に対して0.5〜3等量が好ましく、1〜2等量がより好ましい。
本発明方法は、均一系触媒を用いた反応のため、更に溶媒の存在下で行うことが好ましい。このような溶媒は、特に限定されないが、例えば、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、アセトン、アセトニトリル等の非プロトン性極性溶媒が好ましく、特にN−メチルピロリドンが好ましい。これら溶媒は1種または2種以上を組み合わせて用いることもできる。この溶媒は、本発明方法を行っている間、系内に存在している試薬を適度に溶解させるだけの量を用いれば良いが、例えば、基質に対して1〜100等量が好ましく、20〜60等量がより好ましい。
フェノール誘導体のメチル化:
内容量17mLの試験管中で、基質であるオルトフェニルフェノール(250μmol)、酢酸パラジウム(Pd(OAc)2)(エヌ・イー ケムキャット(株)製:酢酸パラジウム(Sタイプ))(5.3mg:25.0μmol)、酢酸銀(AgOAc)(46mg:275μmol)及び炭酸ナトリウム(Na2CO3)(53.0mg:500μmol)をN−メチルピロリドン(NMP)(1.0mL)に懸濁し、ホルムアルデヒド水溶液(37wt%:0.5mL:1.60mmol)とトリフルオロ酢酸(TFA)(28.7μL:375μmol)を添加後、アルゴン(Ar)雰囲気下、120℃で加熱し、攪拌した。24時間後、酢酸エチル(AcOEt)(30mL)と水(25mL)を加え二層に分離後、有機層を水(10mL×2)で洗浄し、合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=20:1)で精製すると、水酸基のオルト位とパラ位にメチル基が導入された、2,4−ジメチル5−フェニルフェノールが表1の収率で得られた。なお、反応式は以下の式で示される。
フェノール誘導体のメチル化:
溶媒を表2に記載のものに変更する以外は、実施例1の例1と同様にしてフェノール誘導体のメチル化を行った。なお、反応式は以下の式で示される。
フェノール誘導体のメチル化:
雰囲気を表3に記載のものに変更する以外は、実施例1の例1と同様にしてフェノール誘導体のメチル化を行った。なお、反応式は以下の式で示される。
フェノール誘導体のメチル化:
基質溶媒を表4に記載のものに変更する以外は、実施例1の例1と同様にしてフェノール誘導体のメチル化を行った。なお、反応式は以下の式で示される。
以 上
Claims (11)
- フェノール誘導体を、パラジウム触媒の存在下でホルムアルデヒドと反応させることを特徴とするフェノール誘導体のオルト位および/またはパラ位を選択的にメチル化する方法。
- フェノール誘導体が、フェノール性水酸基を有するものである請求項1に記載のフェノール誘導体のオルト位および/またはパラ位を選択的にメチル化する方法。
- フェノール誘導体が、更にフェノール性水酸基のオルト位に置換基を有するものである請求項2に記載のフェノール誘導体のオルト位および/またはパラ位を選択的にメチル化する方法。
- 300℃以下で反応させるものである請求項1〜3の何れかに記載のフェノール誘導体のオルト位および/またはパラ位を選択的にメチル化する方法。
- 更に、塩基の存在下で反応させるものである請求項1〜4の何れかに記載のフェノール誘導体のオルト位および/またはパラ位を選択的にメチル化する方法。
- 更に、酸の存在下で反応させるものである請求項1〜5の何れかに記載のフェノール誘導体のオルト位および/またはパラ位を選択的にメチル化する方法。
- 反応を不活性ガス雰囲気下で行うものである請求項1〜6の何れかに記載のフェノール誘導体のオルト位および/またはパラ位を選択的にメチル化する方法。
- 更に、酸化剤の存在下で反応させるものである請求項1〜7の何れかに記載のフェノール誘導体のオルト位および/またはパラ位を選択的にメチル化する方法。
- 酸化剤が、酢酸銀である請求項8記載のフェノール誘導体のオルト位および/またはパラ位を選択的にメチル化する方法。
- 更に、N−メチルピロリドンの存在下で反応させるものである請求項1〜9の何れかに記載のフェノール誘導体のオルト位および/またはパラ位を選択的にメチル化する方法。
- フェノール誘導体を、請求項1〜10の何れかに記載のフェノール誘導体のオルト位および/またはパラ位を選択的にメチル化する方法でメチル化することを特徴とするフェノール誘導体のオルト位および/またはパラ位がメチル化された化合物の製造方法。
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2017
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