JP2018159909A - 描画装置、及び描画装置の汚染防止方法 - Google Patents

Abstract

【課題】描画装置が備える光照射ユニットのカバー部材の汚れを低減する。【解決手段】描画装置は、印刷版上の感光材料に露光して印刷版に画像を描画する。具体的には、描画装置は、印刷版を保持する印刷版保持部と、光ビームを感光材料に出射し、前記光ビームの光路上に設けられ前記光ビームを透過するカバー部を有する光照射ユニットと、光照射ユニットと印刷版保持部との間に配置される防汚ユニットとを備える。また、防汚ユニットは、気体を吹き出す吹出部及び気体によるカバー部の防汚効果を増強する増強部を有する。【選択図】図４

Description

本発明は、印刷版上の感光材料に描画を行う描画装置、及び描画装置の汚染防止方法に関する。

コンピュータ上で作成された画像データに基づいて印刷版に画像を出力するＣＴＰ（Computer To Plate）において、印刷版上の感光材料に光を照射して描画を行う描画装置が
用いられる。ドラム型の描画装置の場合、円周に沿った主走査方向に回転可能な記録ドラム上に印刷版が装着され、レーザダイオードを備えた露光ヘッドが記録ドラムの回転軸と平行な副走査方向に移動しつつ露光ヘッドから感光材料にレーザ光を照射し、印刷版に描画する。

従来、感光材料がレーザ光により露光されて蒸発し、発生したガスにより露光ヘッドの内部が汚染されることを抑えるための技術が提案されている（例えば、特許文献１）。当該技術では、記録ドラム上におけるレーザ光の照射位置に向けてエアを供給するエア吹き出し口と、記録ドラム上におけるレーザ光の照射位置に向かって設けられガスを吸引するガス吸引口とが配置される。そして、露光時に、エア吹き出し口から記録ドラム上の感光材料（刷版）にエアが吹き付けられ、エアにより拡散したガスがエアとともにガス吸引口から吸引される。

特開２０００−５６４００号公報

従来、レーザダイオード等の光源は光学系部品とともに筐体に格納され、露光ヘッドのようなユニットが形成される。また、ユニットからレーザ光が出射される部分にはカバーガラスが配置される。ここで、カバーガラスには描画装置内の塵や埃、露光による感光材料のアブレーションにより発生する粒子等が付着し、透過率が低下するという問題があった。

そこで、本発明は、描画装置が備える光照射ユニットのカバー部材の汚れを低減する技術を提供することを目的とする。

本発明に係る描画装置は、印刷版上の感光材料に露光して印刷版に画像を描画する。具体的には、描画装置は、印刷版を保持する印刷版保持部と、光ビームを感光材料に出射し、前記光ビームの光路上に設けられ前記光ビームを透過するカバー部を有する光照射ユニットと、光照射ユニットと印刷版保持部との間に配置され気体を吹き出す吹出部及び気体によるカバー部の防汚効果を増強する増強部を有する防汚ユニットとを備える。

カバー部は、例えば、いわゆる露光ヘッドのような光照射ユニットの内部装置を保護するガラスカバーである。上述のような構成によれば、描画装置内において、気体によりカバー部へ向かう粒子の移動を抑制すると共に、増強部によりカバー部の防汚効果を増強することができ、カバー部への粒子等の付着が低減される。

また、増強部は、カバー部から印刷版保持部に向かう気体流を生成するようにしてもよい。例えばこのような構成により、カバー部へ向かう粒子の移動を抑制することができる。

また、吹出部は、カバー部の表面に沿って気体を吹き出し、増強部は、当該吹出部から吹き出される気体の経路上に配置され、気体の進路を印刷版保持部に向かう方向へ変更する抵抗部であってもよい。カバー部の表面に沿って気体を吹き出す吹出部及び気体の進路を変更する抵抗部であれば、直接カバー部から印刷版保持部に向かう通気路を設ける空間がとりにくい場合であっても比較的容易に追加できる。

また、防汚ユニットは、抵抗部を基準として吹出部の反対側に、周囲の気体を吸引する排気口を備えるようにしてもよい。カバー部から印刷版保持部に向かって流れる空気をさらに描画装置外に誘導することにより、カバー部へ向かう粒子の移動を抑制するエアカーテンを描画装置内に形成することができる。

また、防汚ユニットは、吹出部に連通する通気路を備え、吹出部において、カバー部の幅にわたって通気路が設けられると共に、通気路の断面積は小さくなるようにしてもよい。このようにすれば、カバー部の表面に均一的な流速で気体を供給することができ、カバー部へ向かう粒子の移動をムラなく抑制できるようになる。

また、増強部は、カバー部の表面と略平行に設けられ、吹出部に連通する複数のスリットであり、吹出部は、カバー部の表面に沿って気体を吹き出すようにしてもよい。スリットを複数設けることにより、カバー部の表面に吹き出す空気の直進性が向上し、気体をカバー部の表面に沿って均一に分布させることができる。

本発明は、印刷版保持部に保持される印刷版上の感光材料に露光して印刷版に画像を描画する描画装置の汚染防止方法として特定することもできる。具体的には、描画装置が備える光照射ユニットを保護するカバー部の表面に沿って気体を供給する。

このような汚染防止方法によれば、装置内においてカバー部の周囲に気体の流れを形成し、カバー部へ向かう粒子の移動を抑制することができ、カバー部への粒子等の付着が低減される。

なお、課題を解決するための手段に記載した構成は、本発明の課題や技術的思想を逸脱しない範囲で可能な限り組み合わせることができる。

本発明によれば、描画装置が備える光照射ユニットのカバー部材の汚れを低減することができる。

描画装置の内部構造の一例を示す平面図である。 描画装置の内部構造の一例を示す斜視図である。 防汚ユニットの一例を示す正面図である。 防汚ユニットの一例を示す模式的な縦断面図である。 防汚ユニットの一例を示す斜視断面図である。 防汚ユニットの一例を示す斜視断面図である。 防汚ユニットの給気系及び排気系の一例を示すブロック図である。 防汚ユニットの変形例を示す縦断面図である。 防汚ユニットの変形例を示す縦断面図である。 防汚ユニットの変形例を示す縦断面図である。 防汚ユニットの一例を示す模式的な縦断面図である。 防汚ユニットの一例を示す斜視断面図である。 防汚ユニットの一例を示す斜視断面図である。 防汚ユニット内における粒子分布のシミュレーション結果を示す図である。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に示す例は、本発明の一態様であり、本発明の技術的範囲を限定するものではない。

＜実施形態＞
（構成）
図１は、描画装置の内部構造の一例を示す平面図である。描画装置１０は、いわゆるＣＴＰ（Computer To Plate）によって印刷版（ＰＳ版（Photo-Sensitive Plate））を作成する装置である。描画装置１０は、印刷版１００を保持するためのドラム１と、印刷版１００に対しレーザ光（本発明に係る「光ビーム」に相当）を照射して画像を描画する光照射ユニット２と、ドラム１を駆動させる駆動装置３と、光照射ユニット２の移動を案内するガイド４と、光照射ユニット２に装着される防汚ユニット５と、各部の動作を制御する制御部６とを備えている。

印刷版１００は、平板印刷に使用するアルミニウム製のいわゆる刷版である。印刷版１００の片面には感光材料が塗布されており、露光及び現像することで、印刷版１００上に画線部と非画線部とを形成することができる。描画装置１０は、印刷版１００上の感光材料に対しレーザ光を照射し、画像を描画する。

ドラム１は、円柱状の構成部材であり、その外周面に印刷版１００を装着することができる。なお、ドラム１は、本発明に係る「印刷版保持部」に相当する。印刷版１００の一端は複数の先端クランプ１１により、また、印刷版１００の他端は複数の後端クランプ１２により、それぞれドラム１の外周面に固定される。また、ドラム１は、その円柱形状の軸を中心（すなわち、回転軸）にしてその円周方向（図１：矢印Ａ）に、駆動装置３によって回転させられる。なお、矢印Ａで示す円周方向を、主走査方向とも呼ぶ。また、ドラム１上の先端クランプ１１又は後端クランプ１２の固定及び解除は、図示していないクランプ駆動装置によって行われるものとする。また、描画装置１０は、ドラム１へ印刷版１００を供給する搬送ユニット（図示せず）をさらに備えていてもよい。

光照射ユニット２は、光源であるレーザダイオード（図示せず）や結像レンズ（図示せず）等を備え、レーザダイオードから印刷版１００へレーザ光を出射する。また、光照射ユニット２は、描画装置１０内に設けられたガイド４に、移動可能に取り付けられる。ガイド４は、ドラム１の軸方向と略平行に設けられ、光照射ユニット２は、レーザダイオードから出射されるレーザ光の光路（図１：破線の三角形）をドラム１に向けたまま、ドラム１の軸方向（図１：矢印Ｂ）に対して平行に移動できる。なお、図１に矢印Ｂで示す、光照射ユニット２の移動方向を、副走査方向とも呼ぶ。

また、描画装置１０は、光照射ユニット２とドラム１との間に防汚ユニット５を備える。防汚ユニット５は、空気等の気体を用いて描画装置１０内に所定の気体流を形成し、塵、埃等の異物である粒子が描画装置１０内に付着する量を低減させたり、感光材料がレーザ光により露光され、蒸発して発生したガスを拡散させるとともに吸引したりする。

また、光照射ユニット２、駆動装置３等は、制御部６と電気的に接続されており、各々
の動作が制御される。制御部６は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）等のプロセッサ
、入出力インターフェース等を含む。入出力インターフェースは、ユーザが描画装置１０を操作するための操作パネル（図示せず）や、描画装置１０の各動作部と接続される。

図２は、本実施形態に係る描画装置の光照射ユニット及び防汚ユニットをドラム側から見た斜視図である。図３は、防汚ユニットの一例を示す正面図である。なお、便宜上、防汚ユニット５のドラム１側を正面と呼ぶ。防汚ユニット５は、光照射ユニット２の正面側に取り付けられる。防汚ユニット５は、本体５１と、防汚ユニット５へ空気等の気体を供給するための給気路５２と、空気を放出する第１の吹出口５３と、第２の吹出口５４と、周囲の気体を吸引し、描画装置１０の外へ排出するための排気口５５と、気体の流れる進路を所定の方向に変更させる抵抗部５６とを有する。

本体５１は、所定の箇所から描画装置１０内に空気を供給すると共に、他の部分から周囲の気体を吸引し、描画装置１０の内部が汚染されることを抑制する。本実施形態では、本体５１は、第１の部材５１１と第２の部材５１２とを有し、両者を組み合わせることで両者の間に通気路が形成される。また、本実施形態では、給気路５２として、第１の給気路５２１、及び第２の給気路５２２を備える。第１の給気路５２１は、第１の吹出口５３に空気を供給する。第２の給気路５２２は、第２の吹出口５４に空気を供給する。給気路５２には、後述する圧縮機から空気が圧送される。第１の吹出口５３から吹き出す空気の流れを図２に２つの矢印で示す。また、第１の吹出口５３から気体が吹き出す手前には、抵抗部５６が設けられている。抵抗部５６は、空気の流れる方向をドラム１に向かう方向（すなわち、第１の吹出口５３の方向）へ変更する。

図４は、防汚ユニットを副走査方向から見た模式的な縦断面図である。図５は、防汚ユニットの内部構造を説明するための、正面斜め上から見た斜視断面図である。図６は、防汚ユニットの内部構造を説明するための、裏面斜め上から見た斜視断面図である。図４〜図６は、図３に示すＡ−Ａ断面で防汚ユニット５を切断した状態を表す。

図４に示すように、光照射ユニット２がレーザ光を出射する側に防汚ユニット５が装着されている。図４の例では、光照射ユニット２から筒状の出光部２２がドラム１の方向に突出している。出光部２２は、内部に結像レンズ２３を有している。そして、本体５１は、出光部２２と嵌合する凹部を備えている。また、光照射ユニット２は、結像レンズ２３の光軸（図４：破線の円錐）方向であって結像レンズ２３とドラム１との間に、カバー部２１を備える。カバー部２１は、例えばガラスで形成され、レーザ光を透過させる。なお、第１の吹出口５３は、光照射ユニット２が備える結像レンズ２３の光軸上に形成される。また、抵抗部５６は、カバー部２１上であって、光照射ユニット２からのレーザ光の出射位置（すなわち、結像レンズの光軸上）よりも上方へ外れた位置に配置されている。したがって、抵抗部５６が、光照射ユニット２による印刷版１００への描画を妨げることはない。なお、抵抗部５６の材質は特に限定されず、例えばアルミニウム等の金属や、様々な樹脂を用いることができる。

また、図５、図６等に示すように、本体５１の内部では、通気路５２３、スリット５２４、第１の吹出口５３の順に空気の経路が接続されている。通気路５２３は、給気路５２から供給された空気をカバー部２１の表面側へ誘導する経路である。また、通気路５２３の先には、流路断面積が小さくなるスリット５２４が設けられている。スリット５２４は、カバー部２１の表面と略平行に空気が流れるように、カバー部２１の表面へ空気を誘導する。また、スリット５２４は、その出口近傍においてカバー部２１の幅にわたって広がると共に、スリット５２４の断面積は通気路５２３の断面積よりも小さくなっている。これにより、スリット５２４を通過する空気の流速は通気路５２３を通過する空気の流速よりも速くなるとともに、スリット５２４内における流速の分布のムラを少なくすることが
できる。すなわち、スリット５２４は、流速を均一化する形状になっている。なお、図５等ではスリット５２４の幅は、カバー部２１の幅とほぼ同じであるが、スリット５２４の幅は、少なくともカバー部２１内に複数並ぶレーザダイオードの幅程度あればよい。

また、スリット５２４の端部から吹き出される空気は、図４の太い実線の矢印Ｃで示すように、カバー部２１の表面に沿って流れ、カバー部２１上に設けられた抵抗部５６によって流れる方向がドラム１側へ変更される。換言すれば、抵抗部５６は、第１の吹出口５３から吹き出される気体の経路上に配置され、気体の進路をドラム１に向かう方向へ変更する。これにより、光照射ユニット２から出射されるレーザ光の光路に沿って流れる空気流を生成し、ドラム１側からカバー部２１に向かう粒子の移動を抑制する。なお、空気を吹き出すスリット５２４の端部は、本発明に係る「吹出部」に相当する。

図４等に示すように、抵抗部５６は、カバー部２１上に配置されており、第１の吹出口５３から吹き出された空気は、進行方向を抵抗部５６によって遮られる。また、抵抗部５６のうち、第１の吹出口から吹き出す空気の進行方向に対向する面５６１は、カバー部２１側からドラム１へ向かうにつれて、空気の進行方向とは反対側へせり出すようになっている。断面視上、カバー部２１の表面と、空気の進行方向に対向する面５６１とのなす角は、例えば４５度程度の鋭角になっているが、角度は特に限定されない。なお、図４の例では、第１の吹出口５３を挟んで抵抗部５６と反対側に位置する、第２の部材５１２の端部もカバー部２１に対して鋭角になっているが、このような形状には限定されない。

なお、カバー部２１は、少なくとも光照射ユニット２からのレーザ光の出射位置（すなわち、レーザダイオードの光路上）に存在すればよい。したがって、レーザ光の出射位置から外れた位置に配置される抵抗部５６は、気体流をカバー部２１からドラム１へ向かう方向へ誘導することができれば、必ずしもカバー部２１上に設けられなくてもよい。

進行方向を抵抗部５６によって遮られた空気は、カバー部２１側には空気の逃げる隙間がないため、カバー部２１と空気の進行方向に対向する面５６１との間に渦流（図４：矢印Ｄ）を形成する。そして、当該部分の空気圧が高まるため、その後スリット５２４から吹き出される空気は、カバー部２１と空気の進行方向に対向する面５６１との間には進入することができず、ドラム１側に設けられた抵抗部５６と第２の部材５１２との間の間隙５３１の方向へ進行方向を変えることになる。

なお、ドラム１の外周には先端クランプ１１、後端クランプ１２も設けられており、これらが回転することで、描画装置１０の内部においては主走査方向に沿った気流が生じる。例えば２３０ｒｐｍ程度でドラム１が回転する場合、ドラム１の周囲には４ｍ／ｓ程度の気流が生じることになる。この影響により、カバー部２１の周囲にも粒子が運ばれてくるため、第１の吹出口５３から供給される空気は、ドラム１の方向へ気体の流れを押し返すために十分な流速を適宜設定するものとする。

また、抵抗部５６の上部には、排気口５５が設けられている。排気口５５の先には気体を描画装置１０の外へ排気するためのダクト及び送風機が設けられており、排気口５５から周囲の気体を吸い込む。そして、抵抗部５６によってカバー部２１からドラム１へ向かうように流れる方向が変更された空気は、上述したドラム１の周囲の気流の影響と排気口５５への吸気の影響とによって、さらに図４の矢印Ｅに示すように流れる方向が変更され、最終的に排気口５５へ吸い込まれる。

以上のように、スリット５２４からカバー部２１の表面に沿って吹き出された空気は、抵抗部５６によってカバー部２１からドラム１へ向かう方向へ流れが変更され、さらに排気口５５吸い込まれる。このように、描画装置１０の内部には、図４の矢印Ｃ及び矢印Ｅ
の方向に流れる空気によって、エアカーテンが形成される。このような抵抗部５６を設けることにより、単にカバー部２１の表面に沿って空気の流れを生成する場合よりも、カバー部２１の表面に粒子が付着する量を減少させることができる。

また、第２の吹出口５４は、ドラム１上のレーザ光の照射位置に向けて空気を吹き出すように設けられている。そして、吹き出された空気は、露光時に感光材料が蒸発して発生するガスを拡散させるとともに、拡散されたガスとともに排気口５５から吸引される。

以上のように、防汚ユニット５によれば、粒子が描画装置１０内の光照射ユニット２のカバー部２１に付着する量を低減させたり、感光材料が蒸発して発生するガスを拡散させるとともに吸引したりすることができる。

図７は防汚ユニット５に接続される給気系及び排気系の構成を示すブロック図である。防汚ユニット５の給気路５２は、フィルタ７１を介して圧縮機（コンプレッサ）７２に接続されている。圧縮機７２の下流側には減圧弁７３が接続されている。また、防汚ユニット５の排気口５５は、フィルタ７４を介して送風機（ブロア）７５に接続されている。また、送風機７５の上流側には減圧弁７６が接続されている。フィルタ７１及びフィルタ７４は、例えばＨＥＰＡ（High Efficiency Particulate Air）フィルタであるが、ＵＬＰ
Ａ（Ultra Low Penetration Air）フィルタ他の様々なエアフィルタを採用してもよい。

圧縮機７２からフィルタ７１を介して防汚ユニット５の給気路５２に清浄な空気が供給される。これにより、防汚ユニット５の第１の吹出口５３及び第２の吹出口５４から空気が吹き出される。第１の吹出口５３から供給された空気は、抵抗部５６によってカバー部２１の表面からドラム１に向かう方向の気体流を形成し、排気口５５から吸引される。また、露光時に印刷版１００において発生したガスは、第２の吹出口５４から供給された空気とともに排気口５５から吸引される。そして、排気口５５からフィルタ７４を通して送風機７５に送られる。

減圧弁７３及び減圧弁７６は、制御部６と電気的に接続され、制御部６により制御される。減圧弁７３を制御することにより、給気路５２から吹き出される空気の流量を調整することができる。なお、第１の給気路５２１及び第２の給気路５２２の各々に対して、個別に圧縮機７２及び減圧弁７３を接続するようにしてもよい。また、減圧弁７６を制御することにより、排気口５５から吸引される気体の流量を調整することができる。流量は、適宜設定するものとする。ドラム１の回転速度に応じて空気の供給量及び気体の吸引量を増減させるようにしてもよい。また、複数のレーザダイオードの個々の光量の増減や、稼動させるレーザダイオードの数に応じて空気の供給量及び気体の吸引量を増減させるようにしてもよいし、印刷版１００に描画する画像に応じて空気の供給量及び気体の吸引量を増減させるようにしてもよい。

＜実施例＞
図１〜図７に示した実施形態に係る描画装置１０と、従来の描画装置とを用いて、カバー部２１の表面に対する防塵効果を確認する試験を行った。従来の描画装置は、実施形態に係る描画装置１０と比較すると、抵抗部５６、第２の部材５１２及びこれらによって形成される第１の吹出口５３に相当する構成を備えていない点が異なる。なお、カバー部２１は、板ガラスにより形成した。また、実施形態に係る描画装置１０の抵抗部５６の厚み（カバー部２１の法線方向の大きさ）は３．０ｍｍとし、断面視上におけるカバー部２１と、抵抗部５６の空気の進行方向に対向する面５６１とのなす角は、４５度とした。また、スリット５２４の厚み（カバー部２１の法線方向の大きさ）は、０．５ｍｍとした。

そして、実施形態に係る描画装置１０、及び第１の吹出口５３を有しない描画装置の各
々の内部に、工業粉塵とほぼ同様の粒径分布の粉体を所定時間、ドラム１を挟んで光照射ユニット２の反対側から吹き付ける加速試験を行った。試験後、カバー部２１の表面に付着した粒子を顕微鏡で撮像した画像を解析し、付着した粒子の総面積を比較した。結果として、実施形態に係る描画装置の場合は、第１の吹出口５３を有しない描画装置の場合よりも、付着した粒子の面積が４分の１程度に減少した。

以上のように、実施形態に係る描画装置１０は、従来の描画装置よりも、光照射ユニット２の結像レンズを保護するカバー部２１に付着する粒子の量を低減させることができた。カバー部２１への粒子の付着によりレーザ光の透過率が低下し、露光が阻害されるおそれもあるところ、カバー部２１の汚染速度を遅らせることで、カバー部２１の清掃等のようなメンテナンスの頻度を減少させることができるといえる。

＜変形例１＞
図８は、変形例１に係る防汚ユニット５の断面図である。変形例においても、上述した実施形態に対応する構成要件には同一の符号を付し、各々の詳細な説明は省略する。抵抗部５６のうち特に空気の進行方向に対向する面５６１の形状は、図４〜図６に示したものには限定されない。例えば、断面視上の、カバー部２１の第１の吹出口５３側と、空気の進行方向に対向する面５６１とのなす角は、４５度以外であってもよい。図８の例では、空気の進行方向に対向する面５６１の角度は、カバー部２１の表面の法線方向と略同一になっている。このような構成の抵抗部５６であっても、第１の吹出口５３から吹き出された空気の流れる方向を、カバー部２１からドラム１へ向かう方向へ変更することができる。

＜変形例２＞
図９は、変形例２に係る防汚ユニット５の断面図である。図９に示す抵抗部５６の、空気の進行方向に対向する面５６１は、曲面になっている。本変形例に係る空気の進行方向に対向する面５６１は、カバー部２１側からドラム１へ向かうにつれて、空気の進行方向とは反対側へせり出すようになっている。このような構成の抵抗部５６であっても、第１の吹出口５３から吹き出された空気の流れる方向を、カバー部２１からドラム１へ向かう方向へ変更することができる。

＜変形例３＞
図１０は、変形例３に係る防汚ユニット５の正面図である。本変形例では、第１の吹出口５３から吹き出される空気の進行方向を変える抵抗部５６の代わりに、反対方向に空気を吹き出す第３の吹出口５７が設けられている。なお、第３の吹出口５７には、所定の経路で圧縮機から空気が圧送されるものとする。すなわち、カバー部２１上において互いに対向する２つの方向からの空気流を衝突させ、カバー部２１からドラム１へ向かう方向の空気流を生成する。このような第３の吹出口５７を備える構成であっても、第１の吹出口５３から吹き出された空気の流れる方向を、カバー部２１からドラム１へ向かう方向へ変更することができる。

＜その他＞
上述の実施例及び変形例に記載した内容は、可能な限り組み合わせて実施することができる。また、実施例及び変形例に記載した内容は、描画装置１０が実行する方法として提供することもできる。すなわち、描画装置１０の光照射ユニット２が印刷版１００に対してレーザ光による描画を行うと共に、上述した防汚ユニット５の処理を並行して実行するようにしてもよい。

以上のように、実施形態及び変形例に係る描画装置１０は、カバー部２１からドラム１へ向かう空気流を生成することにより、カバー部２１へ向かう粒子の移動を抑制すること
ができる。なお、カバー部２１の周囲から直接ドラム１に向けて空気を吹き出す吹出口を設けるようにしてもよいが、光照射ユニット２の周囲には通気路を設ける空間がとりにくいという問題がある。上述した実施形態や変形例のように、カバー部２１の表面に沿って空気を吹き出す方向を向く吹出口であれば、光照射ユニット２に追加することが比較的容易になる。この場合、例えば抵抗部５６を設けることで、カバー部２１からドラム１へ向かう空気流を生成することができる。

また、本実施形態及び変形例のように描画装置１０の内部に空気を供給する場合、描画装置１０内から排気するための排気口５５を設けることが望ましい。排気口５５は、抵抗部５６を挟んで第１の吹出口５３とは反対側に設けることで、第１の吹出口５３から供給された空気をスムーズに吸引することができるため好ましい。

また、カバー部２１からドラム１へ向かう空気流を生成する第１の吹出口５３及び抵抗部５６に加え、ドラム１上のレーザ光の照射位置に向けて空気を吹き出す第２の吹出口５４をさらに設けるようにしてもよい。このようにすれば、露光による感光材料のアブレーションにより発生するガスや粒子を効率的に拡散及び吸引することができるため、カバー部２１の周辺に移動する粒子の量を低減することができ、間接的にカバー部２１への粒子の付着を抑制する効果がある。

上述した実施形態では、防汚ユニット５のうち第１の部材５１１を光照射ユニット２に装着し、第２の給気路５２２を接続することで、第２の吹出口５４を機能させることができ、さらに第２の部材５１２を第１の部材５１１に装着し、第１の給気路５２１を接続することにより、第１の吹出口５３を機能させることができるようになっている。しかしながら、このような例には限定されず、本体５１を一体に形成するようにしてもよい。

＜実施形態２＞
図１１は、第２の実施形態に係る防汚ユニットを副走査方向から見た模式的な縦断面図である。図１２は、第２の実施形態に係る防汚ユニットを正面斜め上から見た斜視断面図である。図１３は、第２の実施形態に係る防汚ユニットを裏面斜め上から見た斜視断面図である。本実施形態においても、上述した実施形態及び変形例に対応する構成要件には同一の符号を付し、各々の詳細な説明は省略する。

本実施形態に係る本体５１の内部には、スリット５２４が、カバー部２１の表面と略平行に複数設けられている。図１１〜図１３においては４つのスリットが設けられているが、スリットの数は４には限定されない。また、例えば、各スリット５２４の厚さは０．５ｍｍ程度、幅が２０．０ｍｍ程度、高さが２０．０ｍｍ程度であるが、これらの大きさには限定されない。

複数のスリット５２４は、カバー部２１の表面と略平行に設けられた平板状の壁部５２５によって区画されている。そして、スリット５２４の各々は、カバー部２１の表面と略平行に空気が流れるように、カバー部２１の表面へ空気を誘導する。本実施形態においても、スリット５２４は、その出口近傍においてカバー部２１の幅にわたって広がると共に、スリット５２４の断面積は通気路５２３の断面積よりも小さくなっている。また、スリット５２４の端部から吹き出される空気は、図１１において太い実線の矢印で示すように、カバー部２１の表面に沿って流れる。なお、空気を吹き出すスリット５２４の端部は、本発明に係る「吹出部」に相当する。

本実施形態ではスリット５２４を複数設けることにより、スリット５２４が１つの場合よりも、カバー部２１の表面に流出する空気の流量の分布を均一化することができる。ここで、スリット５２４の断面積を小さくすると、ある流速で流出させられる空気量も少な
くなる。スリット５２４を複数設けることにより、複数のスリット５２４全体から流出させられる空気量を増やすことができる。このとき、断面積の大きな１つのスリット５２４を設けるよりも、断面積の小さなスリット５２４を複数設ける方が、カバー部２１の表面に流出した空気の直進性が向上し、カバー部２１の表面に沿って均一に分布するようになる。

図１４は、カバー部２１の周囲の外部粒子の分布を解析したシミュレーション結果を示す図である。図１４の下部の凡例に示すように、外部粒子が存在する一般的な環境の空気をスカラー値０で表し、フィルタを通過した清浄な空気をスカラー値１で表している。また、図１４の左側は、スリット５２４が４層の場合における、カバー部２１の正面（表面）及び断面の周辺の粒子の分布を表している。図１４の右側は、スリット５２５が単相の場合における、カバー部２１の正面及び中心断面の周辺の粒子の分布を表している。図１４からわかるように、４層の場合は単層の場合よりも、カバー部２１の表面に清浄な空気の層を厚く形成することができ、４層の場合はカバー部２１の表面全体にわたって外部粒子が侵入していない。

また、カバー部２１の表面に吹き出された空気は、排気口５５への吸気によって、図１１の矢印に示すように流れる方向が変更され、排気口５５へ吸い込まれる。

このように、複数のスリット５２４によってカバー部２１の表面に沿って空気の流れを生成することにより、１つのスリット５２４を設ける場合よりも、カバー部２１の表面に粒子が付着する量を減少させることができる。また、本実施形態に係る構成によれば、カバー部２１の周辺の清掃等のメンテナンスが容易になる。

上述した抵抗部５６及び複数のスリット５２４は、空気等の気体によるカバー部２１の防汚効果を増強する。すなわち、抵抗部５６は、カバー部２１の表面に沿って吹き出された気体の進路をカバー部２１からドラム１に向かう方向に変更することにより、単にカバー部２１の表面に沿って気体を吹き出す構成よりもカバー部へ向かう粒子の移動を抑制する効果を向上させることができる。また、複数のスリット５２４は、カバー部２１の表面に沿って吹き出された気体をカバー部２１の表面に沿って均一に分布させ、１つのスリット５２４から気体を吹き出す構成よりもカバー部へ向かう粒子の移動を抑制する効果を向上させることができる。抵抗部５６及び複数のスリット５２４を本発明に係る「増強部」とも呼ぶ。なお、防汚ユニット５は、抵抗部５６と複数のスリット５２４とを備えるようにしてもよい。

１０ ：描画装置
１ ：ドラム
２ ：光照射ユニット
２１ ：カバー部
５ ：防汚ユニット
５１（５１１、５１２）：本体
５２（５２１、５２２）：給気路
５２３ ：通気路
５２４ ：スリット
５３ ：第１の吹出口
５４ ：第２の吹出口
５５ ：排気口
５６ ：抵抗部
６ ：制御部
１００ ：印刷版

Claims (8)

1. 印刷版上の感光材料に露光して前記印刷版に画像を描画する描画装置であって、
   前記印刷版を保持する印刷版保持部と、
   光ビームを前記感光材料に出射し、前記光ビームの光路上に設けられ前記光ビームを透過するカバー部を有する光照射ユニットと、
   前記光照射ユニットと前記印刷版保持部との間に配置され気体を吹き出す吹出部、及び前記気体による前記カバー部の防汚効果を増強する増強部を有する防汚ユニットと、
   を備える描画装置。
2. 前記増強部は、前記カバー部から前記印刷版保持部に向かう気体流を生成する
   請求項１に記載の描画装置。
3. 前記吹出部は、前記カバー部の表面に沿って気体を吹き出し、
   前記増強部は、当該吹出部から吹き出される気体の経路上に配置され、気体の進路を前記印刷版保持部に向かう方向へ変更する抵抗部である、
   請求項２に記載の描画装置。
4. 前記防汚ユニットは、前記抵抗部を基準として前記吹出部の反対側に、周囲の気体を吸引する排気口を備える
   請求項３に記載の描画装置。
5. 前記防汚ユニットは、前記吹出部に連通する通気路を備え、
   前記吹出部において、前記カバー部の幅にわたって前記通気路が設けられると共に、前記通気路の断面積は小さくなる
   請求項３又は４に記載の描画装置。
6. 前記増強部は、前記カバー部の表面と略平行に設けられ、前記吹出部に連通する複数のスリットであり、
   前記吹出部は、前記カバー部の表面に沿って気体を吹き出す
   請求項１に記載の描画装置。
7. 印刷版保持部に保持される印刷版上の感光材料に露光して前記印刷版に画像を描画する描画装置の汚染防止方法であって、
   前記描画装置が、
   前記印刷版に光ビームを出射する光照射ユニットを保護するカバー部の表面に沿って気体を供給し、
   供給される前記気体の進路上に配置された抵抗部によって、前記気体の進路を前記印刷版保持部に向かう方向に変更する
   汚染防止方法。
8. 印刷版保持部に保持される印刷版上の感光材料に露光して前記印刷版に画像を描画する描画装置の汚染防止方法であって、
   前記描画装置が、前記印刷版に光ビームを出射する光照射ユニットを保護するカバー部の表面と略平行に設けられる複数のスリットから、カバー部の表面に沿って気体を供給する汚染防止方法。