JP2018135269A - オキサゾールジカルボン酸化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】オキサゾールジカルボン酸化合物を工業的に安価で製造することが可能となる化合物、その化合物の製造方法、及びその化合物を用いた、オキサゾールジカルボン酸化合物の製造方法の提供。
【解決手段】下記一般式（１）の化合物。一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子、リチウム原子、ナトリウム原子、又はカリウム原子を表し、環Ａは、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。
【選択図】なし
【解決手段】下記一般式（１）の化合物。一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子、リチウム原子、ナトリウム原子、又はカリウム原子を表し、環Ａは、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。
【選択図】なし
Description
本発明は、新規化合物、その化合物の製造方法、及びその化合物を用いた、オキサゾールジカルボン酸化合物の製造方法に関する。
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等のポリエステル化合物は、柔軟性に富み、ガスバリア性や耐薬品性に優れるため、包装用フィルム、磁気テープ、容器、衣料用繊維等の分野において使用されている。
これらポリエステル化合物の中でも、例えば、特許文献１には、オキサゾールジカルボン酸化合物と、特定の構造を有するジオールとを反応させて得たポリエステル化合物は、耐熱性に優れることが記載されている。
このオキサゾールジカルボン酸化合物は、下記に示したように、ＡＨＢＡ（３−アミノ−４−ヒドロキシ安息香酸）をメチルエステル体とした後に、テレフタルアルデヒド酸メチルと反応させイミン体とし、このイミン体を２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン（ＤＤＱ）により酸化環化することによりオキサゾール環を構築し、最後にエステル加水分解することで得られることが特許文献１に記載されている。
しかしながら、特許文献１に記載のオキサゾールジカルボン酸化合物を工業的に製造するために用いるテレフタルアルデヒド酸メチルは高価であり、大量入手が困難であった。また、環化に使用するＤＤＱも高価なうえに１ｍｏｌ当量必要であり、さらに１ｍｏｌ当量副生するＤＤＱの還元体はシアノ基を含むため廃棄コストが高くなる可能性があった。
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、オキサゾールジカルボン酸化合物を工業的に安価で製造することが可能となる化合物、その化合物の製造方法、及びその化合物を用いた、オキサゾールジカルボン酸化合物の製造方法を提供することを課題とする。
本発明者らは、上記課題につき鋭意検討した結果、新規中間体を介する新規反応経路によりオキサゾールジカルボン酸化合物を工業的に安価で製造することが可能となることを見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は以下の内容を含む。
［１］ 下記一般式（１）の化合物。
（一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子、リチウム原子、ナトリウム原子、又はカリウム原子を表し、環Ａは、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。）
［２］ 一般式（１）のＲ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子又はナトリウム原子を表す、［１］に記載の化合物。
［３］ 一般式（１）のＲ１及びＲ２の一方がナトリウム原子を表し、他方が水素原子を表す、［１］又は［２］に記載の化合物。
［４］ 一般式（１）の環Ａは、置換基を有していてもよいフェニレン基を表す、［１］〜［３］のいずれかに記載の化合物。
［５］ 下記一般式（ａ）の化合物及び下記一般式（ｂ）の化合物を反応させ、下記一般式（１）の化合物を得る工程を含む、一般式（１）の化合物の製造方法。
（一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子、リチウム原子、ナトリウム原子、又はカリウム原子を表し、環Ａは、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。一般式（ｂ）中、環Ａは、一般式（１）のものと同じでよい。）
［６］ 一般式（１）の化合物を得る工程で得られた反応混合物から一般式（１）の化合物を晶析処理し分離する工程をさらに含む、［５］に記載の一般式（１）の化合物の製造方法。
［７］ 晶析温度が、０℃〜１００℃である、［６］に記載の一般式（１）の化合物の製造方法。
［８］ 晶析処理を行う際のｐＨが、２〜７である、［６］又は［７］に記載の一般式（１）の化合物の製造方法。
［９］ 晶析時間が、０．５時間〜３時間である、［６］〜［８］のいずれかに記載の一般式（１）の化合物の製造方法。
［１０］ 下記一般式（１）の化合物を反応させ、下記一般式（２）の化合物を得る工程を含む、一般式（２）の化合物の製造方法。
（一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子、リチウム原子、ナトリウム原子、又はカリウム原子を表し、環Ａは、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。一般式（２）中、環Ａは、一般式（１）のものと同じでよい。）
［１１］ 酸触媒を使用する、［１０］に記載の一般式（２）の化合物の製造方法。
［１２］ 一般式（２）の化合物を得た後、一般式（２）の化合物を非プロトン性極性溶媒で再結晶する、［１０］又は［１１］に記載の一般式（２）の化合物の製造方法。
［１３］ 下記一般式（ａ）の化合物及び下記一般式（ｂ）の化合物を反応させ、一般式（１）の化合物を得る工程をさらに含む、［１０］〜［１２］のいずれかに記載の一般式（２）の化合物の製造方法。
（一般式（ｂ）中、環Ａは、一般式（１）のものと同じでよい。）
［１４］ 一般式（１）の化合物を得る工程で得られた反応混合物から一般式（１）の化合物を晶析処理し分離する工程をさらに含む、［１３］に記載の一般式（２）の化合物の製造方法。
［１５］ 晶析温度が、０℃〜１００℃である、［１４］に記載の一般式（２）の化合物の製造方法。
［１６］ 晶析処理を行う際のｐＨが、２〜７である、［１４］又は［１５］に記載の一般式（２）の化合物の製造方法。
［１７］ 晶析時間が、０．５時間〜３時間である、［１４］〜［１６］のいずれかに記載の一般式（２）の化合物の製造方法。
［１］ 下記一般式（１）の化合物。
（一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子、リチウム原子、ナトリウム原子、又はカリウム原子を表し、環Ａは、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。）
［２］ 一般式（１）のＲ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子又はナトリウム原子を表す、［１］に記載の化合物。
［３］ 一般式（１）のＲ１及びＲ２の一方がナトリウム原子を表し、他方が水素原子を表す、［１］又は［２］に記載の化合物。
［４］ 一般式（１）の環Ａは、置換基を有していてもよいフェニレン基を表す、［１］〜［３］のいずれかに記載の化合物。
［５］ 下記一般式（ａ）の化合物及び下記一般式（ｂ）の化合物を反応させ、下記一般式（１）の化合物を得る工程を含む、一般式（１）の化合物の製造方法。
（一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子、リチウム原子、ナトリウム原子、又はカリウム原子を表し、環Ａは、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。一般式（ｂ）中、環Ａは、一般式（１）のものと同じでよい。）
［６］ 一般式（１）の化合物を得る工程で得られた反応混合物から一般式（１）の化合物を晶析処理し分離する工程をさらに含む、［５］に記載の一般式（１）の化合物の製造方法。
［７］ 晶析温度が、０℃〜１００℃である、［６］に記載の一般式（１）の化合物の製造方法。
［８］ 晶析処理を行う際のｐＨが、２〜７である、［６］又は［７］に記載の一般式（１）の化合物の製造方法。
［９］ 晶析時間が、０．５時間〜３時間である、［６］〜［８］のいずれかに記載の一般式（１）の化合物の製造方法。
［１０］ 下記一般式（１）の化合物を反応させ、下記一般式（２）の化合物を得る工程を含む、一般式（２）の化合物の製造方法。
（一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子、リチウム原子、ナトリウム原子、又はカリウム原子を表し、環Ａは、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。一般式（２）中、環Ａは、一般式（１）のものと同じでよい。）
［１１］ 酸触媒を使用する、［１０］に記載の一般式（２）の化合物の製造方法。
［１２］ 一般式（２）の化合物を得た後、一般式（２）の化合物を非プロトン性極性溶媒で再結晶する、［１０］又は［１１］に記載の一般式（２）の化合物の製造方法。
［１３］ 下記一般式（ａ）の化合物及び下記一般式（ｂ）の化合物を反応させ、一般式（１）の化合物を得る工程をさらに含む、［１０］〜［１２］のいずれかに記載の一般式（２）の化合物の製造方法。
（一般式（ｂ）中、環Ａは、一般式（１）のものと同じでよい。）
［１４］ 一般式（１）の化合物を得る工程で得られた反応混合物から一般式（１）の化合物を晶析処理し分離する工程をさらに含む、［１３］に記載の一般式（２）の化合物の製造方法。
［１５］ 晶析温度が、０℃〜１００℃である、［１４］に記載の一般式（２）の化合物の製造方法。
［１６］ 晶析処理を行う際のｐＨが、２〜７である、［１４］又は［１５］に記載の一般式（２）の化合物の製造方法。
［１７］ 晶析時間が、０．５時間〜３時間である、［１４］〜［１６］のいずれかに記載の一般式（２）の化合物の製造方法。
本発明によれば、オキサゾールジカルボン酸化合物を工業的に安価で製造することが可能となる化合物、その化合物の製造方法、及びその化合物を用いた、オキサゾールジカルボン酸化合物の製造方法を提供することが可能となった。
以下、本発明の化合物、その化合物の製造方法、及びその化合物を用いた、オキサゾールジカルボン酸化合物の製造方法について詳細に説明する。
本明細書において、基の直前に付されている「置換基を有していてもよい」という用語は、該基の水素原子が置換基で置換されていない場合、及び、該基の水素原子の一部又は全部が置換基で置換されている場合の双方を意味する。
本明細書において、「Ｃｐ〜Ｃｑ」（ｐ及びｑは正の整数であり、ｐ＜ｑを満たす。）という用語は、この用語の直後に記載された有機基の炭素原子数がｐ〜ｑであることを表す。例えば、「Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基」という表現は、炭素原子数１〜１０のアルキル基を示し、「Ｃ１〜Ｃ１０アルキルエステル」という表現は、炭素原子数１〜１０のアルキル基とのエステルを示す。
［オキサゾールジカルボン酸化合物の中間体となり得る化合物］
本発明のオキサゾールジカルボン酸化合物の中間体となり得る化合物は、下記一般式（１）の化合物である。
（一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子、リチウム原子、ナトリウム原子、又はカリウム原子を表し、環Ａは、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。）
本発明のオキサゾールジカルボン酸化合物の中間体となり得る化合物は、下記一般式（１）の化合物である。
（一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子、リチウム原子、ナトリウム原子、又はカリウム原子を表し、環Ａは、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。）
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子、リチウム原子、ナトリウム原子、又はカリウム原子を表す。Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子又はナトリウム原子を表すことが好ましく、Ｒ１及びＲ２の一方がナトリウム原子を表し、他方が水素原子を表すことがより好ましい。すなわち、一般式（１）の化合物は、モノナトリウム塩であることが好ましい。
ＣＯＯＲ１のベンゼン環との結合部位は特に限定されないが、ベンゼン環と結合しているＯＨ基が４位となる位置（ＯＨ基に対してパラ位の位置）に結合していることが好ましい。
環Ａは、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。環Ａが表す２価の芳香族炭化水素基は、芳香族環構造を含む２価の炭化水素基であれば特に限定されないが、炭素原子数６〜２４が好ましく、炭素原子数６〜１４がより好ましく、炭素原子数６〜１０がさらに好ましい。芳香族環構造は、単環、縮合環であってもよく、２つ以上の芳香族環を有していてもよい。２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、アントラセニレン基、ターフェニレン基、フェナントレンジイル基、トリフェニレンジイル基、ピレンジイル基、フルオレンジイル基、ビフェニルフルオレンジイル基等が挙げられ、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基が好ましく、フェニレン基がさらに好ましい。フェニレン基の中でも、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，２−フェニレン基が好ましく、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基がより好ましく、１，４−フェニレン基がさらに好ましい。
環Ａが表す２価の芳香族炭化水素基は置換基を有していてもよい。置換基としては、特に制限はなく、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、１価の複素環基、アルキリデン基、アミノ基、シリル基、アシル基、アシルオキシ基、カルボキシ基、スルホ基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、オキソ基等が挙げられる。
置換基として用いられるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
置換基として用いられるアルキル基は、直鎖状、又は分岐状のいずれであってもよい。該アルキル基の炭素原子数は、好ましくは１〜１２、より好ましくは１〜６、より好ましくは１〜３である。該アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、及びデシル基が挙げられる。
置換基として用いられるシクロアルキル基の炭素原子数は、好ましくは３〜１２、より好ましくは３〜６である。該シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、及びシクロヘキシル基等が挙げられる。
置換基として用いられるアルコキシ基は、直鎖状又は分岐状のいずれであってもよい。該アルコキシ基の炭素原子数は、好ましくは１〜２０、より好ましくは１〜１２、さらに好ましくは１〜６である。該アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、及びデシルオキシ基が挙げられる。
置換基として用いられるシクロアルキルオキシ基の炭素原子数は、好ましくは３〜２０、より好ましくは３〜１２、さらに好ましくは３〜６である。該シクロアルキルオキシ基としては、例えば、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、及びシクロヘキシルオキシ基が挙げられる。
置換基として用いられるアリール基は、芳香族炭化水素から芳香環上の水素原子を１個除いた基である。置換基として用いられるアリール基の炭素原子数は、好ましくは６〜２４、より好ましくは６〜１８、さらに好ましくは６〜１４、さらにより好ましくは６〜１０である。該アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、及びアントラセニル基が挙げられる。
置換基として用いられるアリールオキシ基の炭素原子数は、好ましくは６〜２４、より好ましくは６〜１８、さらに好ましくは６〜１４、さらにより好ましくは６〜１０である。置換基として用いられるアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、及び２−ナフチルオキシ基が挙げられる。
置換基として用いられるアリールアルキル基の炭素原子数は、好ましくは７〜２５、より好ましくは７〜１９、さらに好ましくは７〜１５、さらにより好ましくは７〜１１である。該アリールアルキル基としては、例えば、フェニル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基、ナフチル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基、及びアントラセニル−Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基が挙げられる。
置換基として用いられるアリールアルコキシ基の炭素原子数は、好ましくは７〜２５、より好ましくは７〜１９、さらに好ましくは７〜１５、さらにより好ましくは７〜１１である。該アリールアルコキシ基としては、例えば、フェニル−Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ基、及びナフチル−Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ基が挙げられる。
置換基として用いられる１価の複素環基とは、複素環式化合物の複素環から水素原子１個を除いた基をいう。該１価の複素環基の炭素原子数は、好ましくは３〜２１、より好ましくは３〜１５、さらに好ましくは３〜９である。該１価の複素環基には、１価の芳香族複素環基（ヘテロアリール基）も含まれる。該１価の複素環としては、例えば、チエニル基、ピロリル基、フラニル基、フリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジニル基、トリアジニル基、ピロリジル基、ピペリジル基、キノリル基、及びイソキノリル基が挙げられる。
置換基として用いられるアルキリデン基とは、アルカンの同一の炭素原子から水素原子を２個除いた基をいう。該アルキリデン基の炭素原子数は、好ましくは１〜２０、より好ましくは１〜１４、さらに好ましくは１〜１２、さらにより好ましくは１〜６、特に好ましくは１〜３である。該アルキリデン基としては、例えば、メチリデン基、エチリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン基、ブチリデン基、ｓ−ブチリデン基、イソブチリデン基、ｔ−ブチリデン基、ペンチリデン基、ヘキシリデン基、ヘプチリデン基、オクチリデン基、ノニリデン基、及びデシリデン基が挙げられる。
置換基として用いられるアシル基は、式：−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒで表される基（式中、Ｒはアルキル基又はアリール基）をいう。Ｒで表されるアルキル基は直鎖状又は分岐状のいずれであってもよい。Ｒで表されるアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、及びアントラセニル基が挙げられる。該アシル基の炭素原子数は、好ましくは２〜２０、より好ましくは２〜１３、さらに好ましくは２〜７である。該アシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバロイル基、及びベンゾイル基が挙げられる。
置換基として用いられるアシルオキシ基は、式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒで表される基（式中、Ｒはアルキル基又はアリール基）をいう。Ｒで表されるアルキル基は直鎖状又は分岐状のいずれであってもよい。Ｒで表されるアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、及びアントラセニル基が挙げられる。該アシルオキシ基の炭素原子数は、好ましくは２〜２０、より好ましくは２〜１３、さらに好ましくは２〜７である。該アシルオキシ基としては、例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、及びベンゾイルオキシ基が挙げられる。
上述の置換基は、さらに置換基（以下、「二次置換基」という場合がある。）を有していてもよい。二次置換基としては、特に記載のない限り、上述の置換基と同じものを用いてよい。
一般式（１）の化合物は、一般式（１−１）の化合物であることが好ましい。
（一般式（１−１）中、Ｒ１及びＲ２は、一般式（１）のものと同じでよい。）
（一般式（１−１）中、Ｒ１及びＲ２は、一般式（１）のものと同じでよい。）
Ｒ１及びＲ２は、一般式（１）中のＲ１及びＲ２と同義であり、好ましい範囲も同様である。
好適な一実施形態において、一般式（１）の化合物は、下記式（１−２）〜（１−５）で表される化合物であり、下記式（１−３）〜（１−５）で表される化合物がより好ましく、下記式（１−３）〜（１−４）で表される化合物がさらに好ましい。
［一般式（１）の化合物の製造方法］
本発明の一般式（１）の化合物の製造方法は、下記一般式（ａ）の化合物及び下記一般式（ｂ）の化合物を反応させ、下記一般式（１）の化合物を得る工程を含むことを特徴とする。
（一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子、リチウム原子、ナトリウム原子、又はカリウム原子を表し、環Ａは、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。一般式（ｂ）中、環Ａは、一般式（１）のものと同じでよい。）
本発明の一般式（１）の化合物の製造方法は、下記一般式（ａ）の化合物及び下記一般式（ｂ）の化合物を反応させ、下記一般式（１）の化合物を得る工程を含むことを特徴とする。
（一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子、リチウム原子、ナトリウム原子、又はカリウム原子を表し、環Ａは、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。一般式（ｂ）中、環Ａは、一般式（１）のものと同じでよい。）
一般式（１）の化合物は、上記［オキサゾールジカルボン酸化合物の中間体となり得る化合物］において説明したとおりである。
一般式（ａ）中、ＣＯＯＨのベンゼン環との結合部位は特に限定されないが、ベンゼン環と結合しているＯＨ基が４位となる位置（ＯＨ基に対してパラ位の位置）に結合していることが好ましい。一般式（ａ）の化合物の好適な一実施形態は、下記式（ａ−１）で表される、３−アミノ−４−ヒドロキシ安息香酸である。
一般式（ｂ）中、環Ａは、一般式（１）のものと同じでよく、好ましい範囲も同様である。
一般式（ｂ）の化合物の好適な一実施形態は、下記式（ｂ−１）で表される、テレフタル酸クロライド（以下、「ＴＰＣ」ともいう）である。
本発明の一般式（１）の化合物の製造方法の好適な一実施形態は、一般式（ａ−１）で表される３−アミノ−４−ヒドロキシ安息香酸及び一般式（ｂ−１）で表されるテレフタル酸クロライドを反応させ、一般式（１−１）の化合物を得る工程を含む。
一般式（ａ）の化合物及び一般式（ｂ）の化合物は、市販品を用いてもよく、公知の合成方法を用いて合成してもよい。
一般式（ａ）の化合物と一般式（ｂ）の化合物とのモル比（一般式（ａ）の化合物／一般式（ｂ）の化合物）としては、一般式（１）のＲ１、Ｒ２、及び環Ａの種類に応じて適宜変更することができ、特に限定されないが、１／１〜１／５が好ましく、１／１〜１／２がより好ましく、１／１．３〜１／１．７、１／１．４〜１／１．６、又は１／１．５がさらに好ましい。
反応雰囲気としては、特に限定されないが、大気圧（常圧）下、アルゴンや窒素などの不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。ここで大気圧とは、１気圧（約０．１ＭＰａ）をいう。
溶媒を使用する場合、使用する溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、テトラヒドロフラン、メチルシクロペンチルエーテル等が挙げられ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフランが好ましい。溶媒は１種単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
反応温度は、反応を効率的に進行させる観点から−７８℃〜１００℃が好ましく、−４０℃〜０℃がより好ましく、−３０℃〜−１０℃、−２５℃〜−１５℃、又は−２０℃がさらに好ましい。
反応時間は、一般式（１）のＲ１、Ｒ２、及び環Ａの種類に応じて適宜変更することができ、特に限定されないが、０．１時間〜１２時間が好ましく、０．２時間〜６時間がより好ましく、０．５時間〜１時間がさらに好ましい。
反応後、反応混合物を有機層及び水層に分液（例えば、反応混合物を水／酢酸エチルにより分液）し、塩基成分をさらに加えて処理し、一般式（１）のモノ金属塩及び／又はジ金属塩、すなわち一般式（１）のＲ１及び／又はＲ２がリチウム原子、ナトリウム原子、又はカリウム原子である化合物を得てもよい。この処理は複数回行ってもよい。
塩基成分としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等が挙げられ、水酸化ナトリウムが好ましい。塩基成分を水溶液として使用する場合、塩基成分の水溶液濃度としては、特に限定されないが１０ｗ／ｗ％〜４８ｗ／ｗ％が好ましく、１５ｗ／ｖ％〜４８ｗ／ｗ％がより好ましく、２０ｗ／ｖ％〜４８ｗ／ｗ％がさらに好ましい。
塩基成分は、ｐＨが８〜１４となるように添加することが好ましく、９〜１３となるように添加することがより好ましく、１０〜１２となるように添加することがさらに好ましい。
一般式（１）の化合物は、公知の種々の分離方法にしたがって反応混合物から精製され得る。これら分離方法の中でも、好適な一実施形態は、反応混合物から一般式（１）の化合物を晶析処理し分離する工程である。所定の晶析処理を行うことで結晶形が大きくなる。これにより、反応混合物を短時間で効率よく分離することができ、高純度で一般式（１）の化合物を単離することが可能となる。本発明の一般式（１）の化合物の製造方法においては、必要に応じて分離する工程を省略してもよく、一般式（１）の化合物を反応混合物から分離することなく後述する一般式（２）の化合物の製造方法に提供してもよい。
晶析処理に用いる溶媒としては、特に限定されないが、水が好ましい。なお、水は、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、メタノール、及び酢酸エチルのいずれかが５ｖ／ｖ％以下含んでいてもよい。
晶析処理は、一般式（１）の化合物の析出効率を高めるために、熟成操作を行うことが好ましい。
晶析温度（熟成温度）としては、晶析処理に用いる溶媒の種類に応じて適宜変更することができ、特に限定されないが０℃〜１００℃が好ましく、２５℃〜８０℃がより好ましく、５０℃〜７０℃、５５℃〜６５℃、又は６０℃がさらに好ましい。
晶析処理を行う際のｐＨとしては、２〜７が好ましく、４〜６がより好ましく、４．５〜５．５、又は５がさらに好ましい。ｐＨを調製するには酸を添加すればよく、添加する酸としては、例えば、塩酸、硫酸、酢酸、リン酸が挙げられ、塩酸が好ましい。特に、ｐＨを４．５以上とすることで結晶形が大きいモノ金属塩を得ることができ、反応混合物と分離しやすくなり、ｐＨを５．５以下とすることでモノ金属塩の収率を向上させることができる。
晶析時間（熟成時間）としては、特に限定されないが、０．５時間〜３時間が好ましく、０．５時間〜２時間がより好ましく、０．５時間〜１．５時間、０．７５時間〜１，２５時間、又は１時間がさらに好ましい。
晶析時間終了後、一般式（１）の化合物と反応混合物との溶解度差を利用し、一般式（１）の化合物の回収効率を向上させる観点から、１０℃〜３０℃（好ましくは室温（約２０℃））まで温度を低くすることが好ましい。温度を低くした後、濾過等の公知の分離手段により一般式（１）の化合物と反応混合物とを分離する。
一般式（１）の化合物の結晶形としては、特に限定されないが、副生成物等の反応混合物との分離性を向上させる観点から針状結晶が好ましい。針状結晶とは、幾何学的な形状が針のように先が尖った結晶のみならず、円柱状、角柱状及び楕円柱状の結晶も含むものとする。
［一般式（２）の化合物の製造方法］
本発明の一般式（２）の化合物（オキサゾールジカルボン酸化合物）の製造方法は、一般式（１）の化合物を反応させ、一般式（２）の化合物を得る工程を含むことを特徴とする。
（一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子、リチウム原子、ナトリウム原子、又はカリウム原子を表し、環Ａは、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。一般式（２）中、環Ａは、一般式（１）のものと同じでよい。）
本発明の一般式（２）の化合物（オキサゾールジカルボン酸化合物）の製造方法は、一般式（１）の化合物を反応させ、一般式（２）の化合物を得る工程を含むことを特徴とする。
（一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子、リチウム原子、ナトリウム原子、又はカリウム原子を表し、環Ａは、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。一般式（２）中、環Ａは、一般式（１）のものと同じでよい。）
一般式（１）の化合物は、上記［オキサゾールジカルボン酸化合物の中間体となり得る化合物］において説明したとおりである。
一般式（２）中、環Ａは、一般式（１）のものと同じでよく、好ましい範囲も同様である。
一般式（２）中、ＣＯＯＨのベンゼン環との結合部位は特に限定されないが、ベンゼン環と結合しているＯＨ基が４位となる位置（ＯＨ基に対してパラ位の位置）に結合していることが好ましい。すなわち、一般式（２）の化合物は、一般式（２−１）の化合物であることが好ましい。
一般式（２）の化合物の好適な一実施形態は、下記式（２−２）で表される、２−（４−カルボキシフェニル）ベンゾ［ｄ］オキサゾール−５−カルボン酸である。したがって、本発明の一般式（２）の化合物の製造方法の好適な一実施形態は、一般式（１−１）の化合物を反応させ、一般式（２−２）で表される、２−（４−カルボキシフェニル）ベンゾ［ｄ］オキサゾール−５−カルボン酸を得る工程を含む。
反応雰囲気としては、特に限定されないが、大気圧（常圧）下、アルゴンや窒素などの不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。ここで大気圧とは、１気圧（約０．１ＭＰａ）をいう。
溶媒を使用する場合、使用する溶媒としては、例えば、トルエン、ｐ−キシレン、ｏ−キシレン、テトラヒドロフラン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等が挙げられ、ｐ−キシレン、ｏ−キシレンが好ましい。溶媒は１種単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明の一般式（２）の化合物の合成方法は、環形成（閉環）反応を促進させるために酸触媒を使用することが好ましい。酸触媒としては、例えば、ｐ−トルエンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジン塩、メタンスルホン酸、メタンスルホン酸とピリジンの混合物、硫酸等が挙げられ、メタンスルホン酸とピリジンの混合物が好ましい。酸触媒は１種単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
一般式（１）の化合物中のＲ１及びＲ２がともに水素原子を表す場合、酸触媒は、反応時間の短縮及び副生成物等の反応混合物の発生を低下させる観点から、１ｍｏｌの一般式（１）の化合物に対して０．１ｍｏｌ〜２ｍｏｌ用いることが好ましく、０．２ｍｏｌ〜１．５ｍｏｌ用いることがより好ましく、０．３ｍｏｌ〜１ｍｏｌ用いることがさらに好ましい。２種以上の酸触媒を用いる場合や酸触媒が混合物である場合、各酸触媒のモル数の合計値が上記範囲内であればよい。
一般式（１）の化合物がモノ金属塩又はジ金属塩である場合、酸触媒は、反応時間の短縮及び副生成物等の反応混合物の発生を低下させる観点の他に、金属塩を中和する観点から、１ｍｏｌの一般式（１）の化合物に対して０．５ｍｏｌ〜１０ｍｏｌ用いることが好ましく、０．５ｍｏｌ〜８ｍｏｌ用いることがより好ましく、１ｍｏｌ〜５ｍｏｌ用いることがさらに好ましい。２種以上の酸触媒を用いる場合や酸触媒が混合物である場合、各酸触媒のモル数の合計値が上記範囲内であればよい。
反応温度は、閉環反応を効率的に進行させる観点から５０℃〜２５０℃が好ましく、１００℃〜２００℃がより好ましく、１５０℃〜１７０℃、１５５℃〜１６５℃、又は１６０℃がさらに好ましい。
反応時間は、一般式（２）の環Ａの種類に応じて適宜変更することができ、特に限定されないが、６時間〜４８時間が好ましく、１２時間〜３６時間がより好ましく、１８時間〜２４時間がさらに好ましい。
反応終了後、一般式（２）の化合物は、公知の種々の分離方法に従って反応混合物から単離され得る。例えば、一般式（２）の化合物は、必要に応じて濾過により不要物を濾去し、トルエン等の溶媒を加えて洗浄、抽出し、必要に応じて乾燥させることによって得られる。
本発明の一般式（２）の化合物の製造方法では、必要に応じて一般式（２）の化合物を非プロトン性極性溶媒で再結晶することが好ましい。非プロトン性極性溶媒で再結晶を行うことで反応混合物と分離、精製しやすくなるとともに分離時間を短縮することができる。また、本発明の一般式（２）の化合物の製造方法は、再結晶を行う前に再結晶溶媒で洗浄、濾過を行ってもよい。
再結晶溶媒は、非プロトン性極性溶媒であれば特に限定されないが、窒素原子を有する非プロトン性極性溶媒であることが好ましい。非プロトン性極性溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等が挙げられ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンが好ましい。再結晶溶媒は１種単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
溶解温度としては、再結晶溶媒の種類に応じて適宜変更することができ、特に限定されないが、０℃〜１５０℃が好ましく、２５℃〜１２０℃がより好ましく、６０℃〜１００℃がさらに好ましい。
溶解させる際の熟成時間（溶解時間）としては、０．５時間〜３時間が好ましく、０．７５時間〜２時間がより好ましく、０．７５時間〜１．５時間、又は１時間がさらに好ましい。
晶析温度としては、−２０℃〜１００℃が好ましく、０℃〜５０℃がより好ましく、１５℃〜３０℃、２０℃〜２８℃、２０℃、又は２５℃がさらに好ましい。最終的な晶析温度としては、１５℃〜２５℃が好ましく、１７℃〜２２℃がより好ましく、１８℃〜２１℃、又は２０℃がより好ましい。
溶解温度から晶析温度までの冷却時間としては、４時間〜３６時間が好ましく、８時間〜２４時間がより好ましく、１２時間〜１６時間がさらに好ましい。
一般式（２）の化合物を得るための再結晶は、貧溶媒をさらに添加して一般式（２）の化合物を析出させる方法を用いてもよい。貧溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、アセトン等が挙げられ、水、メタノールが好ましい。貧溶媒は１種単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
貧溶媒を添加する場合、貧溶媒の添加時間としては０．５時間〜２時間が好ましく、０．７５時間〜１．５時間、又は１時間がさらに好ましい。
一般式（２）の化合物の結晶形としては、副生成物等の反応混合物との分離性を向上させる観点から板状結晶が好ましい。板状結晶とは、板状径が厚みに対してアスペクト比が２．０以上のものをいう。
本発明の一般式（２）の化合物の製造方法は、下記一般式（ａ）の化合物及び下記一般式（ｂ）の化合物を反応させ、一般式（１）の化合物を得る工程をさらに含むことが好ましい。
（一般式（ｂ）中、環Ａは、一般式（１）のものと同じでよい。）
（一般式（ｂ）中、環Ａは、一般式（１）のものと同じでよい。）
一般式（ａ）の化合物及び一般式（ｂ）の化合物を反応させ、一般式（１）の化合物を得る工程は、上記［一般式（１）の化合物の製造方法］において説明したとおりである。
上記一般式（１）の化合物を得る工程終了後、得られた反応混合物から一般式（１）の化合物を晶析処理し分離する工程をさらに含むことが好ましい。一般式（１）の化合物を得る工程で得られた反応混合物から一般式（１）の化合物を晶析処理し分離する工程は、上記［一般式（１）の化合物の製造方法］において説明したとおりである。
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。合成された化合物の構造は、核磁気共鳴装置（Ｂｒｕｋｅｒ社製「ＡＶＡＮＣＥ４００」（４００ＭＨｚ））を用い、プロトン核磁気共鳴（１Ｈ−ＮＭＲ）スペクトルによって同定した化学シフト（δ）はｐｐｍを表す。
［実施例１］
＜３−（４−カルボキシベンゾイルアミノ）−４−ヒドロキシ安息香酸モノナトリウム塩の合成＞
３０．４５ｇ（１５０ｍｍｏｌ）のテレフタル酸クロライドを７６．６ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドと７６．６ｍｌのテトラヒドロフランの混合溶媒に溶解し、−２０℃に冷却した後、１５．３１ｇの３−アミノ−４−ヒドロキシ安息香酸（１００ｍｍｏｌ）を加え、−２０℃で１時間、冷却撹拌した。５５ｍｌのメタノールを加えてクエンチした後、２０℃まで昇温し、３５２ｍｌの酢酸エチルと５０５ｍｌの水を加え、２５ｗ／ｖ％水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ８．５に調整し、分層にて水層（下層）を取得した。得られた水層を５０℃に加熱し、２５ｗ／ｖ％水酸化ナトリウム水溶液を加えｐＨ１１．５に調整した後、６０℃まで加熱し、塩酸を加えてｐＨ５に調整し晶析を１時間実施した。スラリーを室温まで冷却し分離（分離にかかった時間は２５分間）を行い、淡褐色固体を得た。これを４０℃、減圧下で終夜乾燥し、表題化合物３１．７９ｇ（含量８４．１ｗ％（質量％）、８２．７３ｍｍｏｌ、針状結晶）を得た（収率８２．７％）。表題化合物のＨＰＬＣ純度は（表題化合物：不純物）、１：０．００５であった。
＜３−（４−カルボキシベンゾイルアミノ）−４−ヒドロキシ安息香酸モノナトリウム塩の合成＞
３０．４５ｇ（１５０ｍｍｏｌ）のテレフタル酸クロライドを７６．６ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドと７６．６ｍｌのテトラヒドロフランの混合溶媒に溶解し、−２０℃に冷却した後、１５．３１ｇの３−アミノ−４−ヒドロキシ安息香酸（１００ｍｍｏｌ）を加え、−２０℃で１時間、冷却撹拌した。５５ｍｌのメタノールを加えてクエンチした後、２０℃まで昇温し、３５２ｍｌの酢酸エチルと５０５ｍｌの水を加え、２５ｗ／ｖ％水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ８．５に調整し、分層にて水層（下層）を取得した。得られた水層を５０℃に加熱し、２５ｗ／ｖ％水酸化ナトリウム水溶液を加えｐＨ１１．５に調整した後、６０℃まで加熱し、塩酸を加えてｐＨ５に調整し晶析を１時間実施した。スラリーを室温まで冷却し分離（分離にかかった時間は２５分間）を行い、淡褐色固体を得た。これを４０℃、減圧下で終夜乾燥し、表題化合物３１．７９ｇ（含量８４．１ｗ％（質量％）、８２．７３ｍｍｏｌ、針状結晶）を得た（収率８２．７％）。表題化合物のＨＰＬＣ純度は（表題化合物：不純物）、１：０．００５であった。
＜３−（４−カルボキシベンゾイルアミノ）−４−ヒドロキシ安息香酸モノナトリウム塩の１Ｈ−ＮＭＲ＞
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：６．９６−７．０４（１Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．２Ｈｚ），７．８８−８．０１（４Ｈ，ｍ），８．３６−８．４５（１Ｈ，ｍ），９．６９（ｓ，１Ｈ）．
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：６．９６−７．０４（１Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．２Ｈｚ），７．８８−８．０１（４Ｈ，ｍ），８．３６−８．４５（１Ｈ，ｍ），９．６９（ｓ，１Ｈ）．
＜２−（４−カルボキシフェニル）ベンゾ［ｄ］オキサゾール−５−カルボン酸の合成＞
８．４５ｇ（２２ｍｍｏｌ）の３−（４−カルボキシベンゾイルアミノ）−４−ヒドロキシ安息香酸モノナトリウム塩を１２７ｍｌのｐ−キシレンに懸濁し、ここに３．１４ｇ（４８．４ｍｍｏｌ）のメタンスルホン酸と、１．２２ｇ（１５．４ｍｍｏｌ）のピリジンを加え、１６０℃で終夜、加熱撹拌した。室温まで冷却した後に濾過分離を行い１２．７ｍｌのトルエンで洗浄し、褐色固体を得た。これを４０℃、減圧下で終夜乾燥し表題化合物１２．８ｇ（含量４５．６ｗ％、２０．６１ｍｍｏｌ）の粗結晶を得た（収率９３．７％）。
８．４５ｇ（２２ｍｍｏｌ）の３−（４−カルボキシベンゾイルアミノ）−４−ヒドロキシ安息香酸モノナトリウム塩を１２７ｍｌのｐ−キシレンに懸濁し、ここに３．１４ｇ（４８．４ｍｍｏｌ）のメタンスルホン酸と、１．２２ｇ（１５．４ｍｍｏｌ）のピリジンを加え、１６０℃で終夜、加熱撹拌した。室温まで冷却した後に濾過分離を行い１２．７ｍｌのトルエンで洗浄し、褐色固体を得た。これを４０℃、減圧下で終夜乾燥し表題化合物１２．８ｇ（含量４５．６ｗ％、２０．６１ｍｍｏｌ）の粗結晶を得た（収率９３．７％）。
＜２−（４−カルボキシフェニル）ベンゾ［ｄ］オキサゾール−５−カルボン酸の再結晶＞
９．０３ｇ（含量４７．１ｗ％、１５ｍｍｏｌ）の２−（４−カルボキシフェニル）ベンゾ［ｄ］オキサゾール−５−カルボン酸の粗結晶を８５ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドに加え、６０℃で１時間、加熱撹拌した。不溶物を除去するため濾過し、４．２５ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドで洗浄し、赤茶色濾過液を得た。これを６０℃から室温まで１４時間かけて冷却し、３８．２５ｍｌの水を１時間かけて加え、濾過分離（濾過分離にかかった時間は９分間）し、１２．７５ｍｌの水で洗浄し、淡黄色の固体を得た。これを８０℃、減圧下で終夜乾燥し、表題化合物４．２０ｇ（含量９１．９ｗ％、１３．６２ｍｍｏｌ、板状結晶）を得た（収率９０．８％）。表題化合物のＨＰＬＣ純度は（表題化合物：不純物）、１：０．０７５であった。
９．０３ｇ（含量４７．１ｗ％、１５ｍｍｏｌ）の２−（４−カルボキシフェニル）ベンゾ［ｄ］オキサゾール−５−カルボン酸の粗結晶を８５ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドに加え、６０℃で１時間、加熱撹拌した。不溶物を除去するため濾過し、４．２５ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドで洗浄し、赤茶色濾過液を得た。これを６０℃から室温まで１４時間かけて冷却し、３８．２５ｍｌの水を１時間かけて加え、濾過分離（濾過分離にかかった時間は９分間）し、１２．７５ｍｌの水で洗浄し、淡黄色の固体を得た。これを８０℃、減圧下で終夜乾燥し、表題化合物４．２０ｇ（含量９１．９ｗ％、１３．６２ｍｍｏｌ、板状結晶）を得た（収率９０．８％）。表題化合物のＨＰＬＣ純度は（表題化合物：不純物）、１：０．０７５であった。
［実施例２］
実施例１において、２−（４−カルボキシフェニル）ベンゾ［ｄ］オキサゾール−５−カルボン酸の再結晶を以下のように行った以外は実施例１と同様にして２−（４−カルボキシフェニル）ベンゾ［ｄ］オキサゾール−５−カルボン酸を合成した。
実施例１において、２−（４−カルボキシフェニル）ベンゾ［ｄ］オキサゾール−５−カルボン酸の再結晶を以下のように行った以外は実施例１と同様にして２−（４−カルボキシフェニル）ベンゾ［ｄ］オキサゾール−５−カルボン酸を合成した。
＜２−（４−カルボキシフェニル）ベンゾ［ｄ］オキサゾール−５−カルボン酸の再結晶＞
９．０３ｇ（含量４７．１ｗ％，１５ｍｍｏｌ）の２−（４−カルボキシフェニル）ベンゾ［ｄ］オキサゾール−５−カルボン酸の粗結晶を５５．２５ｍｌのＮ−メチル−２−ピロリドンに加え、６０℃で１時間、加熱撹拌した。不溶物を除去するため濾過し、４．２５ｍｌのＮ−メチル−２−ピロリドンで洗浄し、赤茶色濾過液を得た。これを６０℃から室温（２０℃）まで１４時間かけて冷却し、２５．５ｍｌの水を１時間かけて加え、濾過分離し、１２．７５ｍｌの水で洗浄して得られた固体を、２４ｍｌのメタノールに加え、室温で１時間撹拌した。これを濾過分離（濾過分離にかかった時間は３分間）し、７．２ｍｌのメタノールで洗浄し、淡黄色の固体を得た。これを４０℃、減圧下で終夜乾燥し、表題化合物３．９５ｇ（含量９５．８ｗ％、１３．３６ｍｍｏｌ、板状結晶）を得た（収率８９．２％）。表題化合物のＨＰＬＣ純度は（表題化合物：不純物）、１：０．０５３であった。
９．０３ｇ（含量４７．１ｗ％，１５ｍｍｏｌ）の２−（４−カルボキシフェニル）ベンゾ［ｄ］オキサゾール−５−カルボン酸の粗結晶を５５．２５ｍｌのＮ−メチル−２−ピロリドンに加え、６０℃で１時間、加熱撹拌した。不溶物を除去するため濾過し、４．２５ｍｌのＮ−メチル−２−ピロリドンで洗浄し、赤茶色濾過液を得た。これを６０℃から室温（２０℃）まで１４時間かけて冷却し、２５．５ｍｌの水を１時間かけて加え、濾過分離し、１２．７５ｍｌの水で洗浄して得られた固体を、２４ｍｌのメタノールに加え、室温で１時間撹拌した。これを濾過分離（濾過分離にかかった時間は３分間）し、７．２ｍｌのメタノールで洗浄し、淡黄色の固体を得た。これを４０℃、減圧下で終夜乾燥し、表題化合物３．９５ｇ（含量９５．８ｗ％、１３．３６ｍｍｏｌ、板状結晶）を得た（収率８９．２％）。表題化合物のＨＰＬＣ純度は（表題化合物：不純物）、１：０．０５３であった。
［実施例３］
実施例１において、以下のように３−（４−カルボキシベンゾイルアミノ）−４−ヒドロキシ安息香酸を合成した以外は実施例１と同様にして２−（４−カルボキシフェニル）ベンゾ［ｄ］オキサゾール−５−カルボン酸を合成した。
実施例１において、以下のように３−（４−カルボキシベンゾイルアミノ）−４−ヒドロキシ安息香酸を合成した以外は実施例１と同様にして２−（４−カルボキシフェニル）ベンゾ［ｄ］オキサゾール−５−カルボン酸を合成した。
＜３−（４−カルボキシベンゾイルアミノ）−４−ヒドロキシ安息香酸の合成＞
３．０５ｇ（１５ｍｍｏｌ）のテレフタル酸クロライドを７．５ｍｌのＮ’，Ｎ−ジメチルアセトアミドと７．５ｍｌのテトラヒドロフランの混合溶媒に溶解し、−２０℃に冷却した後、１．５３ｇの３−アミノ−４−ヒドロキシ安息香酸（１０ｍｍｏｌ）を加え、−２０℃で１時間、冷却撹拌した。５ｍｌのメタノールを加えてクエンチした後、２０℃まで昇温し、３５ｍｌの酢酸エチルと５０ｍｌの水を加え、２５ｗ／ｖ％水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ８．５に調整し、分層にて水層（下層）を取得した。ここに３０ｍｌの酢酸エチルを加え撹拌洗浄した後、分層にて水層（下層）を取得し、この洗浄操作を２回実施した。得られた水層を５０℃に加熱し、２５ｗ／ｖ％水酸化ナトリウム水溶液を加えｐＨ１１．５に調整し加水分解を実施した後、室温まで冷却し、塩酸を加えてｐＨ２に調整し晶析を１８時間実施した。スラリーの濾過分離（濾過分離にかかった時間は１８０分間）を行い、淡褐色固体を得た。これを４０℃、減圧下で終夜乾燥し、表題化合物３．１９ｇ（含量８０．３ｗ％、８．５１ｍｍｏｌ、微細結晶）を得た（収率８５．１％）。表題化合物のＨＰＬＣ純度は（表題化合物：不純物）、１：０．１７７であった。
３．０５ｇ（１５ｍｍｏｌ）のテレフタル酸クロライドを７．５ｍｌのＮ’，Ｎ−ジメチルアセトアミドと７．５ｍｌのテトラヒドロフランの混合溶媒に溶解し、−２０℃に冷却した後、１．５３ｇの３−アミノ−４−ヒドロキシ安息香酸（１０ｍｍｏｌ）を加え、−２０℃で１時間、冷却撹拌した。５ｍｌのメタノールを加えてクエンチした後、２０℃まで昇温し、３５ｍｌの酢酸エチルと５０ｍｌの水を加え、２５ｗ／ｖ％水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ８．５に調整し、分層にて水層（下層）を取得した。ここに３０ｍｌの酢酸エチルを加え撹拌洗浄した後、分層にて水層（下層）を取得し、この洗浄操作を２回実施した。得られた水層を５０℃に加熱し、２５ｗ／ｖ％水酸化ナトリウム水溶液を加えｐＨ１１．５に調整し加水分解を実施した後、室温まで冷却し、塩酸を加えてｐＨ２に調整し晶析を１８時間実施した。スラリーの濾過分離（濾過分離にかかった時間は１８０分間）を行い、淡褐色固体を得た。これを４０℃、減圧下で終夜乾燥し、表題化合物３．１９ｇ（含量８０．３ｗ％、８．５１ｍｍｏｌ、微細結晶）を得た（収率８５．１％）。表題化合物のＨＰＬＣ純度は（表題化合物：不純物）、１：０．１７７であった。
＜３−（４−カルボキシベンゾイルアミノ）−４−ヒドロキシ安息香酸の１Ｈ−ＮＭＲ＞
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．２Ｈｚ），８．０４（１Ｈ，ｓ），８．０７（３Ｈ，ｓ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），９．７２（ｓ，１Ｈ）．
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．２Ｈｚ），８．０４（１Ｈ，ｓ），８．０７（３Ｈ，ｓ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），９．７２（ｓ，１Ｈ）．
［実施例４］
実施例１において、以下のように２−（４−カルボキシフェニル）ベンゾ［ｄ］オキサゾール−５−カルボン酸を合成した以外は実施例１と同様にして２−（４−カルボキシフェニル）ベンゾ［ｄ］オキサゾール−５−カルボン酸を合成した。
実施例１において、以下のように２−（４−カルボキシフェニル）ベンゾ［ｄ］オキサゾール−５−カルボン酸を合成した以外は実施例１と同様にして２−（４−カルボキシフェニル）ベンゾ［ｄ］オキサゾール−５−カルボン酸を合成した。
＜２−（４−カルボキシフェニル）ベンゾ［ｄ］オキサゾール−５−カルボン酸の合成＞
２．８２ｇ（含量７８．４ｗ％、７．３３ｍｍｏｌ）の３−（４−カルボキシベンゾイルアミノ）−４−ヒドロキシ安息香酸モノナトリウム塩を４２．３ｍｌのキシレンに懸濁し、ここに１．５５ｇ（１６．１ｍｍｏｌ）のメタンスルホン酸と、０．４１ｇ（５．１ｍｍｏｌ）のピリジンを加え、１６０℃で終夜、加熱撹拌した。室温まで冷却した後に濾過分離（濾過分離にかかった時間は１分間）した。このときの表題化合物のＨＰＬＣ純度は（表題化合物：不純物）、１：０．３３３であった。４．２ｍｌのトルエンで洗浄して得られた固体を１７．１ｍｌのメタノールに加え、６０℃で１時間撹拌した。これを濾過分離（濾過分離にかかった時間は２０分間）した。このときの表題化合物のＨＰＬＣ純度は（表題化合物：不純物）、１：０．０６４であった。６ｍｌのメタノールで洗浄して得られた固体を１１．５ｍｌの水に加え、室温で１時間撹拌した。これを濾過分離（濾過分離にかかった時間は８５分間）し６ｍｌの水で洗浄し、淡黄色の固体を得た。このときの表題化合物のＨＰＬＣ純度は（表題化合物：不純物）、１：０．０６４であった。これを６０℃、減圧下で終夜乾燥し、表題化合物２．１４ｇ（含量８７．７ｗ％、６．６３ｍｍｏｌ、微細結晶）を得た（収率９０．４％）。
２．８２ｇ（含量７８．４ｗ％、７．３３ｍｍｏｌ）の３−（４−カルボキシベンゾイルアミノ）−４−ヒドロキシ安息香酸モノナトリウム塩を４２．３ｍｌのキシレンに懸濁し、ここに１．５５ｇ（１６．１ｍｍｏｌ）のメタンスルホン酸と、０．４１ｇ（５．１ｍｍｏｌ）のピリジンを加え、１６０℃で終夜、加熱撹拌した。室温まで冷却した後に濾過分離（濾過分離にかかった時間は１分間）した。このときの表題化合物のＨＰＬＣ純度は（表題化合物：不純物）、１：０．３３３であった。４．２ｍｌのトルエンで洗浄して得られた固体を１７．１ｍｌのメタノールに加え、６０℃で１時間撹拌した。これを濾過分離（濾過分離にかかった時間は２０分間）した。このときの表題化合物のＨＰＬＣ純度は（表題化合物：不純物）、１：０．０６４であった。６ｍｌのメタノールで洗浄して得られた固体を１１．５ｍｌの水に加え、室温で１時間撹拌した。これを濾過分離（濾過分離にかかった時間は８５分間）し６ｍｌの水で洗浄し、淡黄色の固体を得た。このときの表題化合物のＨＰＬＣ純度は（表題化合物：不純物）、１：０．０６４であった。これを６０℃、減圧下で終夜乾燥し、表題化合物２．１４ｇ（含量８７．７ｗ％、６．６３ｍｍｏｌ、微細結晶）を得た（収率９０．４％）。
Claims (17)
- 下記一般式（１）の化合物。
（一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子、リチウム原子、ナトリウム原子、又はカリウム原子を表し、環Ａは、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。） - 一般式（１）のＲ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子又はナトリウム原子を表す、請求項１に記載の化合物。
- 一般式（１）のＲ１及びＲ２の一方がナトリウム原子を表し、他方が水素原子を表す、請求項１又は２に記載の化合物。
- 一般式（１）の環Ａは、置換基を有していてもよいフェニレン基を表す、請求項１〜３のいずれか１項に記載の化合物。
- 下記一般式（ａ）の化合物及び下記一般式（ｂ）の化合物を反応させ、下記一般式（１）の化合物を得る工程を含む、一般式（１）の化合物の製造方法。
（一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子、リチウム原子、ナトリウム原子、又はカリウム原子を表し、環Ａは、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。一般式（ｂ）中、環Ａは、一般式（１）のものと同じでよい。） - 一般式（１）の化合物を得る工程で得られた反応混合物から一般式（１）の化合物を晶析処理し分離する工程をさらに含む、請求項５に記載の一般式（１）の化合物の製造方法。
- 晶析温度が、０℃〜１００℃である、請求項６に記載の一般式（１）の化合物の製造方法。
- 晶析処理を行う際のｐＨが、２〜７である、請求項６又は７に記載の一般式（１）の化合物の製造方法。
- 晶析時間が、０．５時間〜３時間である、請求項６〜８のいずれか１項に記載の一般式（１）の化合物の製造方法。
- 下記一般式（１）の化合物を反応させ、下記一般式（２）の化合物を得る工程を含む、一般式（２）の化合物の製造方法。
（一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子、リチウム原子、ナトリウム原子、又はカリウム原子を表し、環Ａは、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。一般式（２）中、環Ａは、一般式（１）のものと同じでよい。） - 酸触媒を使用する、請求項１０に記載の一般式（２）の化合物の製造方法。
- 一般式（２）の化合物を得た後、一般式（２）の化合物を非プロトン性極性溶媒で再結晶する、請求項１０又は１１に記載の一般式（２）の化合物の製造方法。
- 下記一般式（ａ）の化合物及び下記一般式（ｂ）の化合物を反応させ、一般式（１）の化合物を得る工程をさらに含む、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の一般式（２）の化合物の製造方法。
（一般式（ｂ）中、環Ａは、一般式（１）のものと同じでよい。） - 一般式（１）の化合物を得る工程で得られた反応混合物から一般式（１）の化合物を晶析処理し分離する工程をさらに含む、請求項１３に記載の一般式（２）の化合物の製造方法。
- 晶析温度が、０℃〜１００℃である、請求項１４に記載の一般式（２）の化合物の製造方法。
- 晶析処理を行う際のｐＨが、２〜７である、請求項１４又は１５に記載の一般式（２）の化合物の製造方法。
- 晶析時間が、０．５時間〜３時間である、請求項１４〜１６のいずれか１項に記載の一般式（２）の化合物の製造方法。
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| JP2015126853A JP2018135269A (ja) | 2015-06-24 | 2015-06-24 | オキサゾールジカルボン酸化合物の製造方法 |
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