JP2018132310A - 機能素子、センサー素子、電子機器、および機能素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の機能素子10は、主面16を有する基板12と、主面16上に配置された溝部24,26,28と、基板12上の溝部24,26,28を跨いで配置された固定部76と、を有し、溝部24,26,28の内部には、固定部76に平面視で重複する位置に基板12の一部である凸部54,56,58が設けられ、凸部54,56,58は、第1面82と、第1面82と交差する方向に沿った側面84と、を有し、側面84は、第1面82に向けて傾斜し、第1面82と側面84には、電気的に接続されている配線30,36,42を有し、配線30,36,42と固定部76とは、電気的に接続されている。
【選択図】図5
Description
[機能素子]
先ず、本実施形態に係る機能素子10について、図1および図2を参照して説明する。
図1に、本実施形態に係る機能素子の平面図を示し、図2に本実施形態に係る機能素子の斜視図を示す。本実施形態の機能素子10は、基板12上に半導体基板66(図5、図7参照)を積層し、この積層された半導体基板66から、可動部68と、固定部76(第1の固定電極指78、第2の固定電極指80)と、をエッチングにより型抜きしたのち、リッド64で封止した構成を有している。
基板12の絶縁材料としては、具体的には、高抵抗なシリコン材料、ガラス材料を用いるのが好ましく、特に、半導体基板66がシリコン材料を主材料として構成されている場合、アルカリ金属イオン(可動イオン)を含むガラス材料(例えば、パイレックス(登録商標)のような硼珪酸ガラス)を用いるのが好ましい。これにより、半導体基板66がシリコンを主原料として構成されている場合、基板12と半導体基板66とを陽極接合することができる。
次に、本実施形態に係る機能素子10の製造工程について、図6A〜図7を参照して説明する。
図6A〜図6Jは、本実施形態の機能素子の製造工程を示し、図6Aは、溝部および凸部を形成する工程、図6Bは、凸部をエッチングする工程、図6Cは、基板に配線材料を積層する工程、図6Dは、エッチングにより配線を形成する工程、図6Eは、基板に接点層材料を積層する工程、図6Fは、エッチングにより接点層を形成する工程、図6Gは、基板に絶縁膜を積層する工程、図6Hは、エッチングにより接点層および配線を露出させる工程、図6Iは、基板と半導体基板とを接合する工程、図6Jは、半導体基板を薄膜化する工程を示す。そして、図7は、本実施形態の機能素子の製造工程を示す図であり、半導体基板の薄膜化後エッチング前の平面図を示す。
いずれの実施形態に係る機能素子10においても、機能素子10を駆動する集積回路(IC)等に接続して物理量センサーを構築することが可能である。例えばICを角速度検出回路や加速検出回路、圧力検出回路として形成することにより、ジャイロセンサー、加速度センサー、圧力センサーとして構成することができる。またいずれの実施形態に係る機能素子10を、デジタルカメラ、パーソナルコンピューター、携帯電話機、医療機器、各種測定機器等に搭載した電子機器を構築することができる。
Claims (9)
- 主面を有する基板と、
前記主面上に配置された溝部と、
前記基板上の前記溝部を跨いで配置された固定部と、を有し、
前記溝部の内部には、前記固定部に平面視で重複する位置に前記基板の一部である凸部が設けられ、
前記凸部は、第1面と、前記第1面と交差する方向に沿った側面と、を有し、
前記側面は、前記第1面に向けて傾斜し、
前記第1面と前記側面には、電気的に接続されている配線を有し、
前記配線と前記固定部とは、電気的に接続されていることを特徴とする機能素子。 - 前記第1面は、平面視で、4隅に切欠き部を有する矩形状であることを特徴とする請求項1に記載の機能素子。
- 前記基板の断面視にて、前記凸部の前記第1面は、前記基板の前記主面よりも高さが低いことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の機能素子。
- 前記基板は、絶縁材料で構成され、
前記固定部は、半導体材料で構成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の機能素子。 - 請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の機能素子を備えていることを特徴とするセンサー素子。
- 請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の機能素子を備えていることを特徴とする電子機器。
- 基板の主面上に溝部と、前記溝部の内部の少なくとも一部に凸部と、を形成する工程と、
前記凸部をエッチングする工程と、
前記凸部の側面および前記凸部の第1面に配線を形成する工程と、
前記第1面の上方に前記配線を介して固定部を接合する工程と、を含み、
前記配線を形成する工程後において、前記凸部の前記第1面上に形成された前記配線の表面は、前記基板の前記主面よりも突出していることを特徴とする機能素子の製造方法。 - 前記凸部を形成する工程において、4隅に切欠き部を有する矩形状のマスクを用いることを特徴とする請求項7に記載の機能素子の製造方法。
- 前記基板は、アルカリ金属イオンを含む材料で構成され、
前記固定部は、半導体材料で構成され、
前記固定部を接合する工程は、前記基板と前記固定部とを陽極接合により接合することを特徴とする請求項7又は請求項8に記載の機能素子の製造方法。
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