JP2018122454A - 三次元造形装置 - Google Patents
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Abstract
Description
造形ヘッド20は、フィラメント30を供給するエクストルーダ25、フィラメント30を冷却する冷却ブロック24、フィラメント30を加熱して溶融させる加熱ブロック22、溶融したフィラメント30を吐出するノズル21などを備えている。また、冷却ブロック24と加熱ブロック22との間には、冷却ブロック24を通過したフィラメント30を、加熱ブロック22へ案内するガイドブロック23を有している。加熱ブロック22、ガイドブロック23、冷却ブロック24には、エクストルーダ25から導入されたフィラメント30をノズル21まで移送するための移送路26がそれぞれ形成されている。
制御手段たる制御装置200は、演算手段たるCPU(Central Processing Unit)402、データ記憶手段であるRAM(Random Access Memory)404、ROM(Read Only Memory)406、不揮発メモリー408等から構成される。そして、各種の演算処理や、制御プログラムの実行を行うことができる。
図5、図6に示すように、2つの電極81のうち、ノズル21よりも造形ヘッド移動方向(図中矢印A方向)上流側の電極81からプラズマが照射される。これにより、ノズルから押し出された直後のフィラメントの表面にプラズマが照射され、造形材層(図5、図6では、上層の造形材層m2やs2)の界面の改質がなされる。本実施形態においては、電極81を、ノズルの並び方向において、2つのノズルの間の中央に配置している。これにより、図6に示すように、モデル材のフィラメントにより造形されるモデル材造形材層(m1やm2)の界面と、サポート材のフィラメントにより造形されるサポート材造形材層(s1やs2)の界面とにプラズマを照射することができる。よって、ひとつの電極で、モデル材造形材層の界面と、サポート材造形材層の界面とを改質することができる。サポート材造形材層は、モデル材造形材層を支えるためのものである。よって、このサポート材造形材層の層間の界面における密着力が弱いと、モデル材造形材層を良好に支えることができないおそれがある。本実施形態のように、サポート材造形材層の界面も表面改質して、層間の界面における密着力を高めることで、モデル材造形材層を良好に支えることができ、造形精度を高めることができる。
図12に示すように、造形ヘッド20のノズル21からフィラメントが押し出されてからプラズマ照射されるまでの時間が短いほど、造形層間の界面における強度を向上することができる。造形ヘッド20のノズル21からフィラメントが押し出されてからプラズマ照射されるまでの時間を、50秒以内にすることで、界面強度を0.3N/mm以上にすることができ好ましい。本実施形態のように、電極81を造形ヘッド20が保持された部材(回転テーブル82)に保持し、造形ヘッド20のノズル21の近傍に電極81を配置し、電極81を造形ヘッド20とともに移動させることで、ノズル21と電極81との位置関係が変化することなく、ノズル21から押し出されて所定時間(50秒)以内にフィラメントの表面にプラズマを照射すことができる。これにより、所定時間(50秒)以内に造形材層の界面を改質することができ好ましい。更に、所定時間が20秒以内にすることによって界面強度を0.4N/mmより大きくすることができ、さらに好ましい。なお、上記界面強度は、後述する検証試験1と同様な方法で測定した。
例えば、図7の点線に示すように、X軸方向に対して45°傾斜した方向に長い造形材層mkを造形するときは、X軸駆動モータ51と、Y軸駆動モータ61とを駆動させて、造形モジュール100を図中矢印Cに示すように、X軸方向に対して45°傾斜した方向に移動させる。このように、造形モジュール100を移動させることで、X軸方向に往復移動させて、造形材層mkを造形する場合に比べて、造形精度を高めることができ、かつ、造形時間の短縮化を図ることができる。また、三次元造形装置1の筐体10のX軸またはY軸方向よりも長い部分を、X軸方向に対して45°傾斜した方向に沿って造形することにより、筐体10のX軸またはY軸方向よりも長い部分を有する3次元造形構造物を、筐体10の内部で造形することができる。
図8(a)に示すように、回転テーブル82を回転させずに、X軸方向に対して傾斜した造形材層mkを造形すると、一方のノズルから吐出したサポート材の一部と、他方のノズルから吐出したモデル材の一部とが重なってしまう。その結果、三次元造形物を造形後、サポート材をうまく除去できなかったり、三次元造形物に凹部ができたりするおそれがある。そのため、サポート材とモデル材とを同時に吐出することができず、造形時間が長くなる。また、X軸方向に対して傾斜した造形材層mkを造形しながら、プラズマ照射を行う場合、モデル材の造形材層mkの界面全体に、プラズマを照射することができず、モデル材の造形材層mkの界面全体を改質することができない。
UVランプ181は、長尺の直管タイプであり、回転テーブル82に設けられたブラケット182に保持されている。UVランプ181としては、主として254nmの波長が出るオゾンフリータイプ、低圧水銀ランプ、エキシマランプをはじめとするオゾン発生タイプのいずれも用いることができる。回転テーブル82は、造形ヘッド20に取り付けられており、造形ヘッド20は、支持部材28に回転自在に取り付けられている。
検証試験1は、表面改質処理した場合と、しない場合との層間の界面強度について検証した。
比較例1は、造形材料であるフィラメント30にABS樹脂を用いた。フィラメント30の寸法形状としては、φ2.0mmの棒状とした。造形ヘッド20のエクストルーダ25としては、φ12mmのSUS304製の対となる送りローラを有するエクストルーダを用いた。ノズル21は真鍮で作製し、先端の開口径を0.5mmとした。移送路26となる部分はφ2.5mmの空洞となるようにした。冷却ブロック24はSUS304製とし、水冷管を通しておき、チラーに接続した。チラーの設定温度は10℃とした。加熱ブロック22も冷却ブロック24と同様にSUS304製とし、熱源となるカードリッジヒータを通しておき、フィラメントと対称となる側に熱電対を配置し、温度制御を行った。カードリッジヒータの設定温度は230℃とした。造形する3次元造形物は図10に示すような2層の造形材層からなる直線造形品Msとし、造形時のノズルの走査速度は10mm/secとした。加えて、載置台7の設定温度130℃とした。造形物の積層方向の解像度に直接影響する造形材層の厚み(Z軸方向の長さ)は0.3mmとした。
比較例2は、造形時のノズルの走査速度を50mm/secとした以外は、比較例1と同じ構成・設定とした。
実施例1においては、表面処理装置として大気圧プラズマ放射装置のペン型の電極を回転テーブルに保持し、ノズルから押し出された直後の造形材層の界面にプラズマ照射した以外は、比較例1と同様の構成・設定にした。照射対象となる造形材層の界面までのギャップが2.5mmとなるようにペン先となる電極の位置出しを行った。電極に電圧を印加する表面処理装置電源としての高周波電源については、20KHzの周波数設定とした。ツールパス(予め設定されたノズルが移動する道筋)をノズルが走査する際に電極が、ノズルよりもノズル移動方向上流側に位置するように回転テーブルを回転させようにプログラムし、ノズルから押し出された直後の造形材層の界面にプラズマ照射できるようにした。
実施例2においては、造形時のノズルの走査速度を50mm/secとした以外は、実施例1と同じ構成・設定とした。
実施例3は、先の図9に示す構成とし、表面処理装置として主として254nmの波長が出るオゾンフリータイプの円筒形状のUVランプを回転テーブルに取り付け、ノズルから押し出された直後の造形材層の界面に紫外線を照射した以外は、比較例1と同じ構成・設定とした。照射対象となる下層までのGapは8mmとなるように設定した。
実施例4は、UVランプを、主として185nmの波長が出るオゾン発生タイプのランプに変更した以外は、実施例3と同じ構成・設定とした。
図11は、界面強度の測定について説明する図である。
図11に示すように2層の造形材層からなる直線造形品Msの一端を予め物理的に引き剥がして、下層の造形材層m1と上層の造形材層m2とに分離する。そして、上層の造形材層m2の一端を上部チャック110aにチャッキングし、下層の造形材層m1の一端を下部チャックにチャッキングする。次に、図中矢印に示すように、図中上部チャックを200mm/minで上方へ移動させ、上層の造形材層m2と下層の造形材層m1との界面Kの強度プロファイルを取得する。取得した強度プロファイルにおいて、中央部に相当する10mm区間においての極大値と極小値から平均値を求め、その平均値を、界面強度とした。その結果を、表1に示す。
7:載置台
10:筐体
20:造形ヘッド
21:ノズル
22:加熱ブロック
22a:熱源
22b:熱電対
23:ガイドブロック
24:冷却ブロック
24a:流路
25:エクストルーダ
25a:送りローラ
26:移送路
28:支持部材
30:フィラメント
30a:溶融フィラメント
31:リール
41:Z軸駆動モータ
42:Z軸送りネジ
43:Z軸座標検知機構
44:載置台ガイド軸
51:X軸駆動モータ
52:X軸送りネジ
53:X軸軸座標検知機構
54:X軸ガイド軸
61:Y軸駆動モータ
61a:送りネジ保持部
62:Y軸送りネジ
63:Y軸座標検知機構
64:Y軸ガイド軸
65:移動部材
66:被ガイド部材
70:ノズル清掃部
71:ブラシ
72:ブラシモータ
73:回収ボックス
80:大気圧プラズマ放射装置
81:電極
82:回転テーブル
83:テーブル回転モータ
83a:モータギヤ
85:表面処理装置電源
90:駆動部
100:造形モジュール
110a:上部チャック
181:UVランプ
182:ブラケット
200:制御装置
201:データ生成部
202:加熱温度制御部
203:押し出し量制御部
204:駆動制御部
205:表面処理制御部
K:界面
M:三次元造形物
Mb:造形モデル
Ms:直線造形品
S:プラズマ照射領域
Claims (12)
- 載置台と、
造形材料を押し出しながら前記載置台に対して相対的に移動することで、載置台上に造形材層を造形する造形手段と、
前記造形材層の表面を改質する表面改質手段と、
前記表面改質手段を、前記造形手段とともに前記載置台に対して相対的に移動させる手段と、を備えることを特徴とする三次元造形装置。 - 前記造形手段により一層の前記造形材層を造形する単位層造形動作中に、前記表面改質手段による表面改質処理を行うことを特徴とする請求項1に記載の三次元造形装置。
- 前記造形手段の近傍に前記表面改質手段が配置され、
前記表面改質手段は、前記造形手段から押し出された前記造形材料の表面を前記造形材料が前記造形手段から押し出されてから所定時間以内に改質することを特徴とする請求項1または2に記載の三次元造形装置。 - 前記所定時間が50秒以内であることを特徴とする請求項3に記載の三次元造形装置。
- 前記表面改質手段は、前記造形手段を保持する保持手段に設けたことを特徴とする請求項1乃至4いずれか一項に記載の三次元造形装置。
- 前記表面改質手段は、前記造形手段に対して、前記造形手段の前記載置台に対する相対的移動方向上流側に位置するように、前記保持手段に保持されることを特徴とする請求項5に記載の三次元造形装置。
- 前記保持手段を、水平面内で回転可能に設けたことを特徴とする請求項6に記載の三次元造形装置。
- 前記表面改質手段を、前記保持手段の回転方向に複数設けたことを特徴とする請求項7に記載の三次元造形装置。
- 前記表面改質手段は、前記造形材料の分子鎖を切断して前記造形材層の表面を改質することを特徴とする請求項1乃至8いずれか一項に記載の三次元造形装置。
- 前記表面改質手段は、前記造形材層の表面にプラズマを放射するプラズマ放射手段であることを特徴とする請求項9に記載の三次元造形装置。
- 前記表面改質手段は、前記造形材層の表面に紫外線を照射する紫外線照射手段であることを特徴とする請求項9に記載の三次元造形装置。
- 前記造形手段は、前記造形材料を導入する導入部と、前記造形材料を押し出す押し出し部と、前記導入部から導入された前記造形材料を前記押し出し部まで移送するための移送路と、前記移送路内の前記造形材料を加熱する加熱部と、前記導入部と前記加熱部との間に設けられ、前記移送路内の前記造形材料を冷却する冷却部と、前記加熱部により加熱された前記造形材料の温度を検知する温度検知部と、前記温度検知部に基づいて、前記造形材料の温度を一定に保つように、前記造形手段を制御する制御手段とを備えることを特徴とする請求項1乃至11いずれか一項に記載の三次元造形装置において、三次元造形装置。
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